JP2020516496A - 耐久性のある低放射性窓用フィルム構造体 - Google Patents
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Abstract
Description
基材と、
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
3nm〜9nmの厚さを有する、第1の金属、合金、金属酸化物、又は金属窒化物含有層と、
金属層と、
3nm〜9nmの厚さを有する、第2の金属、合金、金属酸化物、又は金属窒化物含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含み、
フィルムは0.2未満の放射率を有する。他の実施形態において、フィルムは、25%未満の可視光反射率を更に有し、60%超の可視光透過率を有し、透過及び反射の両方において実質的に無彩色である。この種の例示的なフィルムを図5に示す。任意に、フィルムは、(第1の放射線硬化アクリレート層に直接隣接している表面の反対側の基材の表面上で)基材に直接隣接している感圧接着剤を有してもよい。
基材と、
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
3nm〜9nmの厚さを有する、第1の金属酸化物、好ましくは酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
3nm〜9nmの厚さを有する、第2の金属酸化物、好ましくは酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含み、
フィルムは0.2未満の放射率を有する。他の実施形態において、フィルムは、25%未満の可視光反射率を更に有し、60%超の可視光透過率を有し、透過及び反射の両方において実質的に無彩色である。この種の例示的なフィルムを図5に示す。任意に、フィルムは、(第1の放射線硬化アクリレート層に直接隣接している表面の反対側の基材の表面上で)基材に直接隣接している感圧接着剤を有してもよい。
一実施形態において、基材はポリエステルを含む。他の実施形態において、ポリエステルはポリエチレンテレフタレート(polyethylene terephthalate、PET)である。当業者であれば、本発明の低放射性フィルムの基材として様々な種類のポリエステルを使用できることを理解するであろう。例えば、有用なポリエステルポリマーとしては、テレフタレート又はナフタレートコモノマー単位、例えば、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、並びにこれらのコポリマー及びブレンドを有するポリマーが挙げられる。他の好適なポリエステルコポリマーの例は、例えば、国際公開第99/36262号パンフレット及び国際公開第99/36248号パンフレットに記載され、これらの両方は、ポリエステルコポリマーについてのその開示内容を参照することにより本明細書に組み込まれる。他の好適な基材材料としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、並びに他のナフタレート及びテレフタレート含有ポリマーが挙げられ、例えば、ポリブチレンナフタレート(polybutylene naphthalate、PBN)、ポリプロピレンナフタレート(naphthalate)(polypropylene naphthalate、PPN)、並びに上記の物質と相互又は非ポリエステルポリマーとのブレンド及びコポリマーが挙げられる。
第1の放射線硬化アクリレート層は、1種以上のアクリレートポリマーのブレンドを含む。本明細書で使用される場合、アクリレートポリマーは、アクリレート、メタクリレート、及びそれらのコポリマーを含む。本明細書で使用するとき、アクリレートポリマーはまた、単独で又は他の多官能性若しくは単官能性(メタ)アクリレートと組み合わせて使用することができる、アクリレート、メタクリレート、及びそれらのコポリマーの官能化化合物も含む。好適なアクリレートポリマーの例としては、ホモポリマー又はコポリマーのいずれかとしての、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、例えばポリ(メチルメタクリレート)(PMMA)も挙げられる。
灰色金属層は任意のものであり、フィルム内の任意の場所に配置することができる。特定の実施形態において、灰色金属層は、第1の放射線硬化アクリレート層と、第1のケイ素化合物含有層との間に位置し、好ましくはそれらの層の両方に直接隣接している。他の実施形態において、灰色金属層は、第1のケイ素化合物含有層と、第1の金属、合金、金属酸化物、又は金属窒化物含有層との間に位置し、好ましくは、それらの層の両方に直接隣接している。
本明細書で使用するとき、第1のケイ素化合物含有層は、減圧プロセス(1atm未満)下で堆積されたケイ素を含む層を指し、単にシリカナノ粒子の一部としてケイ素を含む層を指すものではない。特定の実施形態において、この層内のケイ素化合物は、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される。
第1の金属(合金を含む)、金属酸化物、又は金属窒化物含有層は、一般に、金属層のための基材層又は「シード」層である。この層は、以下の構成要素、金属(合金を含む)、金属酸化物、又は金属窒化物のうちの1つを含んでもよい。本明細書では、これらの構成要素のいずれかの組み合わせが想定されるが、この層は、1種類の構成要素(金属(若しくは金属合金)、金属酸化物、又は金属窒化物のいずれか)を含むことが好ましい。金属又は金属合金は、クロム、ニッケル、銅、クロム及びニッケルを含む合金、又はこれらの組み合わせから選択されてもよい。金属酸化物は、酸化アルミニウム亜鉛、酸化スズ、酸化亜鉛、及び酸化亜鉛スズから選択されてよい。特定の好ましい実施形態において、金属酸化物は、酸化亜鉛スズである。
いくつかの実施形態において、金属層は、銀、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、亜鉛、並びに金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、及び亜鉛から選択される1種以上の合金から選択される1種以上の金属成分を含む。他の実施形態において、金属層は、80%以上の銀、例えば、85%の銀を含む銀合金などの、銀合金を含む。特定の好ましい実施形態では、金属層は銀−金合金を含む。
第2の金属(合金を含む)、金属酸化物、又は金属窒化物含有層は、一般に、第1の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層と同様の構成要素及び特性を有する。好ましい実施形態では、この層は、第2の酸化亜鉛スズ含有層である。ただし、第2の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層の構成要素は、第1の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層において使用されるものと同じ種類の構成要素から選択されてもよく、第1及び第2の金属、金属酸化物、又は金属窒化物含有層の構成要素及び厚さは、互いに独立して選択される。
本明細書で使用するとき、第2のケイ素化合物含有層は、減圧プロセス(1atm未満)下で堆積されたケイ素を含む層を指し、単にシリカナノ粒子の一部としてケイ素を含む層を指すものではない。特定の実施形態において、この層内のケイ素化合物は、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される。
特定の好ましい実施形態において、第2の放射線硬化アクリレート層は、1種以上のアクリレートポリマーのブレンドを含む。上記のとおり、アクリレートポリマーは、アクリレート、メタクリレート、及びそれらのコポリマーを含む。アクリレートポリマーはまた、単独で又は他の多官能性若しくは単官能性(メタ)アクリレートと組み合わせて使用することができる、アクリレート、メタクリレート、及びそれらのコポリマーの官能化化合物も含む。好適なアクリレートポリマーの例としては、ホモポリマー又はコポリマーのいずれかとしての、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、例えばポリ(メチルメタクリレート)(PMMA)も挙げられる。
任意の好適なアクリレートポリマーに加えて、第2の放射線硬化アクリレート層はまた、フルオロポリマーを含むこともできる。特定の実施形態において、第2の放射線硬化アクリレート層に使用されるフルオロポリマーは、押出し可能な材料である。いくつかの実施形態では、フルオロポリマーは、部分フッ化ポリマーであってもよい。例えば、フルオロポリマーは、フッ化ポリビニリデン(polyvinylidene fluoride、PVDF)、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンとフッ化ビニリデン(vinylidene fluoride、THV)のターポリマー、及び他の溶融加工性フッ素樹脂の場合のように、溶融加工性であってもよく、又は、TFEと低レベルのフッ素化ビニルエーテルとフルオロエラストマーとのコポリマーなどの、変性PTFEコポリマーの場合のように、非溶融加工性であってもよい。フルオロエラストマーは、射出若しくは圧縮成形、又は通常の熱可塑性樹脂に関連する他の方法によって硬化する前に加工してもよい。フルオロエラストマーは、硬化又は架橋の後に更に加工することができない場合がある。フルオロエラストマーはまた、それらの未架橋形態で溶媒からコーティングされてもよい。一実施形態では、アクリルポリマーと混合されたフルオロポリマーはPVDFである。
フィルムはまた、1つ以上の保護層を有してもよい。保護層は任意のものである。特定の実施形態において、多層光学フィルムを保護するために、フィルムの曝露表面を、最外層上にコーティング、共押出し、又は積層し得る追加の層で保護することができる。いくつかの実施形態において、存在する場合、保護層は最外層になる。一実施形態において、保護層は、コーティングされ得、掻き傷耐性及び摩耗耐性ハードコートを含むことができる。保護層は、加工中及び最終製品の使用中のフィルムの耐久性及び耐候性を改善することができる。ハードコート層としては、アクリルハードコート、シリカ系ハードコート、シロキサンハードコート、メラミンハードコート等の、任意の有用な材料を挙げることができる。アクリルハードコートの場合、保護層は1種以上のアクリルポリマーを含有し得る。ハードコートは、例えば、1〜200nm、又は1〜100nm、又は1〜50nm、又は5〜10nmなどの、フィルムの低放射率を維持し得る任意の有用な厚さであってよい。
いくつかの実施形態では、最外層はスリップ粒子を含む。別の実施形態において、スリップ粒子は、SiO2、CaCO3及び有機スリップ粒子から選択される。一実施形態では、外層は、染料及び/又は微粒子顔料を含まない。
窓用フィルムと共に又は窓用フィルム中で使用するのに好適な接着剤組成物は、当業者にとって周知である。特定の実施形態において、本開示のフィルムに使用される接着剤は、熱活性化接着剤及び感圧接着剤(pressure sensitive adhesive、PSA)を含む。熱活性化接着剤は、室温で非粘着性であるが、高温で粘着性になり、基材に結合できるようになる。これらの接着剤は、通常、室温よりも高いガラス転移温度(Tg)又は融点(Tm)を有する。温度がTg又はTmより高くなったとき、貯蔵弾性率は通常、低下し、接着剤は粘着性になる。
いくつかの実施形態において、本開示のフィルムは、低放射率特性を有する窓又はグレージング物品などの物品を提供するためにグレージング基材に取り付けられてよい窓用フィルムである。例又は好適なグレージング基材は、例えば、多様な種類のガラス、又はポリオレフィン、ポリイミド、ポリカーボネート、若しくはポリメチルメタクリレートなどのポリマー材料を含む、多様な材料から調製することができる。いくつかの実施形態では、ガラス基材はまた、追加の層又は処理を含んでもよい。更なる層の例としては、例えば、グレア(ぎらつき)の低減、色付け、耐破砕性等を提供するように設計された追加のフィルム層が挙げられる。グレージング基材上に存在し得る追加の処理の例としては、例えば、コーティング、又はハードコートなどの様々な種類、及び装飾エッチングなどのエッチングが挙げられる。
以下の実施形態は、本質的に例示的なものであり、本明細書に記載されている本発明の範囲を限定することを意図するものではない。本開示の実施形態の他の必然的な変形例は、当業者には明らかであろう。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含み、
0.2未満の放射率を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満である、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmである、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmである、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmである、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmである、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmである、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmである、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、5未満の反射Δb*値、5未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に、3未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELAB a*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−10〜3、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、5未満の反射Δb*値、5未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に、3未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、5未満の反射Δb*値、5未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に、3未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、5未満の反射Δb*値、5未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に、3未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、5未満の反射Δb*値、5未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に、3未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、5未満の反射Δb*値、5未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
48v未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が10nm〜20nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に、3未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、5未満の反射Δb*値、5未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に、3未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、5未満の反射Δb*値、5未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度3.6MJ/m2に曝露した後に、2未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3未満の反射Δb*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔE*値を有する、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされ側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に3%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
フィルムが0.2未満の放射率を有し、
風化前に反射CIELABパラメータa*が−1〜4、b*が0〜3であり、L*が48未満であり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
第2のケイ素化合物含有層の厚さと第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmであり、
第1のケイ素化合物含有層の厚さと、第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、第2のケイ素化合物含有層の厚さと、第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmであり、
コーティングされた側面を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度7.2MJ/m2に曝露した後に、3未満の反射ΔL*値、2未満の反射Δa*値、2未満の反射Δb*値、2未満の反射ΔE*値、0.02未満の放射率の増加、及び2%未満の可視光透過率の変化を示す、フィルム。
放射率は、モデルAE1放射率計を使用して、ASTM C1371に従って測定し、モデルRD1スケーリングデジタル電圧計から直接読み取った(両モデルともDevices and Services Company,Dallas,TXから入手可能である)。
Perkin Elmer Lambda 1050分光光度計において、ASTM E903に従って、フィルムのスペクトル特性を測定した。透過率及び反射率スペクトルを、ソフトウェア互換性のためにフォーマットし、Lawrence Berkeley National Laboratories,Berkeley,CA(http://windows.lbl.gov/software/Optics/optics.html、最終アクセス:2017年4月14日)から一般に入手可能であるグレージング分析ソフトウェア、Optics 6に、データをインポートした。NFRC_300_2003を、可視光透過率の計算のための標準として選択した。
Perkin Elmer Lambda 1050分光光度計において、ASTM E903に従って、フィルムのスペクトル特性を測定した。透過率及び反射率スペクトルを、ソフトウェア互換性のためにフォーマットし、Lawrence Berkeley National Laboratories,Berkeley,CA(http://windows.lbl.gov/software/Optics/optics.html、最終アクセス:2017年2月2日)から一般に入手可能であるグレージング分析ソフトウェア、Optics 6に、データをインポートした。NFRC_300_2003を、可視光反射の計算のための標準として選択した。
アルゴンイオンスパッタエッチングと併せて、X線光電子分光法(X-ray photoelectron spectroscopy、XPS)を介して、組成深度プロファイルを得た。単色アルミニウムK−α X線及び2keVのAr+イオンビーム(Physical Electronics,Inc.,Chanhassen,MN)を利用して、Physical Electronics Quantera II計器によりデータを得た。測定した光電子ピークの強度を積分し、計器製造者のソフトウェア(Physical Electronics Multipak)に提供されている相対感度係数を使用して原子濃度に変換した。分析条件は以下のとおりであった。
層厚は全般に、電子顕微鏡を使用して測定した。走査型電子顕微鏡(scanning electron microscopy、SEM)又は透過電子顕微鏡(transmission electron microscopy、TEM)を適宜使用した。TEM研究用試料を、凍結超薄切片法によって調製した。最初にフィルム試料をウェブから切り出した(およそ1”×1”)。対象側をAu−Pd薄層でスパッタコーティングして表面に印を付け、次いで、「家形」(標準的Leica UC7超ミクロトームに最適なサイズ及び形状)をメス刃で切り出し、Scotchcast Electrical Resin #5に埋め込んだ。埋め込んだ試料を室温で一晩硬化させた後、組織切片作製法により薄切りにした。−35℃〜−50℃で凍結超薄切片法を実施し、DMSO:H2O(60:40)溶液上又は乾燥状態のいずれかで切断を行った。凍結チャンバー内で、標準的な炭素/ホルムバール200メッシュCu TEMグリッド上に薄片を収集した。乾燥N2パージ下で試料を室温まで加温させた。
Ultrascan PRO色測定装置(Hunter Associates Laboratory,Reston,VA,USAから入手可能)を使用して、色測定を行った。ASTM E308に記載の標準的実施に続いて、CIELAB空間内の色を計算した。D65光源及び10°観察者を使用して、色を計算した。反射率の場合、正反射含有構成(specular included configuration)を使用した。
試験する試料を、幅約3インチ×長さ5インチのシートに切り出した。次いで、3Mポリエステルテープ8406を使用して、リニア摩耗試験機(Taber Industries 20 Model 5750 Linear Abraser,Tonawanda,NY)の試験アームの下に貼り付けた6mm厚のガラス板に、試料を貼り付けた。8”正方形のニットポリエステル布(Contec,Inc.,Spartanburg,SCから入手可能なPN−99 Polynit Wipe)を水中に浸漬し、次いで、手絞りして過剰な水を除去し、布は湿っていても滴下しないようにした。湿潤布を4分の1に折り畳み、次いで、ホースクランプを使用して、直径12mm jumbo wearaser円形コレット(Taber Industries部品番号131862)を取り付けた試験アームの底部に取り付けた。試験アームの頂部に2kgの重りを置き、試験される試料表面と布が接触するようにアームを下げた。次いで、試験機を、毎分30サイクルの速度、ストローク長さ2.5インチで50サイクルにわたり運転した。試料をガラス板から除去し、任意の過剰な水滴を乾燥布で穏やかに拭い、層損傷/層間剥離の証拠についてサンプルを検査した。白色の背景及び黒色の背景の両方に対して、目視により検査を行った。除去の3つのレベルを、なし、部分及び完全として記録した。試験領域内の掻き傷の存在については、摩耗によるコーティングの除去とは区別し、材料の除去とは考えなかった。完全除去、部分的除去、及び除去なし(ただし、掻き傷は存在する)の代表的な画像を、それぞれ図1、図3及び図2に示す。
試験される試料を、幅約2.75インチ×長さ5.5インチに切断した。風化させる試料を、鋼製試料保持器に取り付け、風化チャンバー(Atlas Material Testing Technology,Mount Prospect,ILから入手可能なモデルCi5000)内に置いた。ASTM G151及びASTM G155に概説される標準的実施要領に従って、風化チャンバーを操作した。試験に使用した曝露条件を表5A及び5Bに列挙した。試験するフィルムを3mm透明ガラスに接着し、金属フレームに固定し、720MJ/m2(295nm〜385nmのTUV)の全積算UV線量に関して表5Aに列挙した条件に従って、風化させた。ガラス表面を光源の方向に向けた。風化前後のフィルムの特性を表8に列挙した。フィルムはまた、金属フレームにクリップで留め、3.6MJ/m2の全積算UV線量に関して表5Aに列挙した条件に従って風化させた。フィルムの低放射率表面(コーティングされた側面)を、光源及び水噴霧の方向に向けた。風化前後のフィルムの特性を表9に示す。加えて、フィルムを金属フレームにクリップで留め、3.6MJ/m2の全積算UV線量について表5Bに列挙した条件に従って風化させた。フィルムの低放射率表面(コーティングされた側面)を、光源及び水噴霧の方向に向けた。風化前後のフィルムの特性を表10に示す。
オーバーヘッド撹拌機を備えた500mL丸底フラスコに、140.52gの3−トリメトキシシリルプロピルイソシアネート及び0.22gのDBTDLを充填し、55℃に加熱した。添加漏斗を使用して、79.48gの2−ヒドロキシエチルアクリレートを約1時間かけて添加した。合計約4時間の時点で、以下に示す生成物を単離し、瓶詰めした。
比較例1の低放射率フィルムは、市販の低放射率窓用フィルムであった。上記のように、X線光電子分光法、走査電子顕微鏡、及び透過電子顕微鏡を使用して、フィルムを分析した。層組成を表1に示す。元素深度プロファイルから推定した層構造を表2に示す。
比較例2の低放射率フィルムは、市販の低放射率窓用フィルムであった。上記のように、X線光電子分光法、走査電子顕微鏡、及び/又は透過電子顕微鏡(TEM)を使用して、フィルムを分析した。層を示す断面TEM像を図4に示す。層組成を表1に示す。元素深度プロファイルから推定した層構造を表3に示す。
比較例3の低放射率フィルムは、市販の低放射率窓用フィルムであった。上記のように、X線光電子分光法、走査電子顕微鏡、及び透過電子顕微鏡を使用して、フィルムを分析した。層組成を表1に示す。元素深度プロファイルから推定した層構造を表4に示す。
PET基材(DuPont Teijin FilmsからのMelinex 454という名称の0.075mm厚フィルム)を、実施例1の真空コーティング装置に充填し、1×10−4torr未満の底面圧までポンプダウンした。以下の層を順次堆積させて、多層光学積層体を作製した。
酸化亜鉛スズ、銀合金、酸化ケイ素又は酸窒化ケイ素、及び放射線硬化アクリレート層を含む多層光学積層体をPETフィルム基材上に堆積させた。真空を遮断することなく、国際公開第2009085741号パンフレットの図3に記載のものと同様の真空コーティング装置を使用して、全ての個々の層を形成した。DuPont Teijin Filmsから商品名Melinex(商標)454で入手可能な厚さ0.075mmのPETフィルムを基材に使用した。コーティングされる基材の側面に関する区別はなされなかった。堆積された層の配列は、以下のとおりである。
実施例1に記載の条件に従って、複数の低放射率フィルムを調製した。堆積条件(スパッタリング電力若しくはウェブ速度又はその両方)を選択して、表11に示すコーティング厚さを得た。
第1のケイ素化合物を省略し、その結果、層6が最外層となったことを除いて、実施例1に記載の低放射率フィルムを調製した。
Claims (15)
- 基材と、
第1の放射線硬化アクリレート層と、
第1のケイ素化合物含有層であって、前記ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第1の酸化亜鉛スズ含有層と、
金属層と、
4nm〜8nmの厚さを有する、第2の酸化亜鉛スズ含有層と、
第2のケイ素化合物含有層であって、前記ケイ素化合物が、酸化ケイ素アルミニウム、酸窒化ケイ素アルミニウム、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ケイ素アルミニウム、及びこれらの組み合わせから選択される、層と、
第2の放射線硬化アクリレート層と
を、列挙された順序で互いに直接隣接して含むフィルムであって、
前記フィルムが0.2未満の放射率を有し、
前記第1のケイ素化合物含有層の厚さと前記第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が15nm〜30nmであり、
前記第2のケイ素化合物含有層の厚さと前記第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が9nm〜15nmである、
フィルム。 - 前記第1のケイ素化合物含有層の厚さと、前記第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さと、前記第2のケイ素化合物含有層の厚さと、前記第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計が、25nm〜40nmである、請求項1に記載のフィルム。
- 前記第1のケイ素化合物含有層の厚さと前記第1の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT1であり、前記第2のケイ素化合物含有層の厚さと前記第2の酸化亜鉛スズ含有層の厚さとの合計がT2であり、T1−T2が5nmより大きい、請求項1又は2に記載のフィルム。
- 前記基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射ΔL*値を有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載のフィルム。
- 前記基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に2未満の反射Δa*値を有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載のフィルム。
- 前記基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射Δb*値を有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載のフィルム。
- 前記基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に5未満の反射ΔE*値を有する、請求項1〜6のいずれか一項に記載のフィルム。
- 前記基材を通して照射を受けたとき、70℃のブラックパネル温度かつ30%の湿度において295nm〜385nmの帯域及び時間にわたる全積算放射照度720MJ/m2に曝露した後に0.02未満の放射率の増加を示す、請求項1〜7のいずれか一項に記載のフィルム。
- 前記第2の放射線硬化アクリレート層が、フルオロアクリレートポリマーを含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載のフィルム。
- CIELAB色値によって定義される透過及び反射の両方において実質的に無彩色である、請求項1〜9のいずれか一項に記載のフィルム。
- 前記第1の放射線硬化アクリレート層の反対側の前記基材に隣接している染色PET層を更に含む、請求項1〜10のいずれか一項に記載のフィルム。
- 前記金属層が、銀−金合金を含む、請求項1〜11のいずれか一項に記載のフィルム。
- 前記第1の放射線硬化アクリレート層が、500nm〜1500nmの厚さを有する、請求項1〜12のいずれか一項に記載のフィルム。
- 前記第1の放射線硬化アクリレート層の反対側の基材に直接隣接している感圧接着剤を含む層を更に含み、前記感圧接着剤を含む層に直接隣接しているライナーを更に含む、請求項1〜13のいずれか一項に記載のフィルム。
- 前記フィルムが窓用フィルムである、請求項1〜14のいずれか一項に記載のフィルム。
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