JP2020513111A - アレイ基板、液晶表示パネル及び液晶表示装置 - Google Patents

アレイ基板、液晶表示パネル及び液晶表示装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2020513111A
JP2020513111A JP2019548984A JP2019548984A JP2020513111A JP 2020513111 A JP2020513111 A JP 2020513111A JP 2019548984 A JP2019548984 A JP 2019548984A JP 2019548984 A JP2019548984 A JP 2019548984A JP 2020513111 A JP2020513111 A JP 2020513111A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode layer
array substrate
liquid crystal
branches
crystal display
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019548984A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7004734B2 (ja
Inventor
ファンユー ワン
ファンユー ワン
シービン シャオ
シービン シャオ
ジェンユー ジャン
ジェンユー ジャン
ドンチュアン チェン
ドンチュアン チェン
シュエチャン チエン
シュエチャン チエン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Display Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Beijing BOE Display Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Publication of JP2020513111A publication Critical patent/JP2020513111A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7004734B2 publication Critical patent/JP7004734B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343Electrodes
    • G02F1/134309Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343Electrodes
    • G02F1/134309Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134372Electrodes characterised by their geometrical arrangement for fringe field switching [FFS] where the common electrode is not patterned
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/12Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
    • G02F2201/121Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode common or background
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/12Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
    • G02F2201/123Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode pixel

Abstract

複数のサブ画素領域を有するアレイ基板(1)であって、前記アレイ基板(1)は、前記複数のサブ画素領域の各々において、液晶分子を駆動するためのフリンジフィールドを形成するように配置される第1電極層(11)、第2電極層(12)、及び第1電極層(11)と第2電極層(12)との間に位置する絶縁層(13)を備え、第2電極層(12)は、複数のブランチ(12B)を含み、前記複数のブランチ(12B)は、複数の歯部にグループ化され;前記複数の歯部のうち隣接する歯部は、第1スリット(S)によって離間されており、前記第1スリット(S)は、実質的に前記複数のサブ画素領域のうちの一つの第2電極層(12)の一つの次元にわたって延在し、且つ、隣接する歯部は、第1端部(E1)で互いに分離されると共に第2端部(E2)で互いに接続される。【選択図】図5

Description

本開示は、表示技術分野に関し、特にアレイ基板、液晶表示パネル及び液晶表示装置に関するものである。
フリンジフィールド駆動液晶表示パネルにおいて、液晶層はフリンジ電界により駆動される。フリンジフィールド駆動液晶表示パネルの例には、高級超次元スイッチング(Advanced super Dimension Switching:ADS)液晶表示パネルが含まれる。例えば、ADS方式の液晶表示パネルでは、同一平面内の複数のスリット電極のエッジで発生する電界、及びスリット電極層とプレート電極層とで発生する電界によって多次元電界が形成される。上述した電界によって、スリット電極の間及びスリット電極の上に位置する液晶分子を回転させる。ADS方式の液晶表示パネルでは、液晶表示パネルの操作効率及び光透過率が大幅に向上される。
本発明の一つの態様では、複数のサブ画素領域を有するアレイ基板を提供する。前記アレイ基板は、前記複数のサブ画素領域の各々において、液晶分子を駆動するためのフリンジフィールドを形成するように配置される第1電極層、第2電極層、及び前記第1電極層と前記第2電極層との間に位置する絶縁層を備え、前記第2電極層は、複数のブランチを含み、前記複数のブランチは、複数の歯部にグループ化され、前記複数の歯部のうち隣接する歯部は、第1スリットによって離間されており、前記第1スリットは、実質的に前記複数のサブ画素領域のうちの一つのサブ画素領域における前記第2電極層の一つの次元にわたって延在し、且つ、隣接する歯部は、第1端部で互いに分離されると共に、第2端部で互いに接続される。
選択的には、前記複数の歯部の各々は、前記複数のブランチのうちの一つのみを備える。
選択的には、前記第2電極層は、第2端部で前記複数の歯部のうち隣接する歯部を接続するバーをさらに備える櫛歯状電極層である。
選択的には、前記バーは、前記第2電極層の周辺領域に位置する。
選択的には、前記アレイ基板は、共通電極信号線をさらに備え、前記共通電極信号線の前記アレイ基板における投影は、前記バーの前記アレイ基板における投影と少なくとも部分的に重なる。
選択的には、前記共通電極信号線の前記アレイ基板における投影は、前記バーの前記アレイ基板における投影と実質的に重なる。
選択的には、前記共通電極信号線の前記アレイ基板における投影は、前記バーの前記アレイ基板における投影を完全に覆う。
選択的には、前記アレイ基板は、共通電極信号線をさらに備え、前記共通電極信号線の前記アレイ基板における投影は、前記第1端部で前記複数の歯部の前記アレイ基板における投影と少なくとも部分的に重なる。
選択的には、前記複数の歯部の各々は、前記複数のブランチのうちの第1ブランチと第2ブランチとを備え、さらに、第1ブランチと第2ブランチとは、第2スリットによって離間されており、前記第2スリットは、実質的に前記第2電極層の前記一つの次元にわたって延在する。
選択的には、第2スリットは第1スリットと実質的に平行であり、第1ブランチと第2ブランチは、第3端部で互いに接続されると共に、第4端部で互いに分離され;第3端部は、第1端部に接近すると共に、第2端部から離れており、第4端部は、第2端部に接近すると共に、第1端部から離れる。
選択的には、第2電極層はジグザグ形状(zig-zag shaped)の電極層である。
選択的には、第1電極層は、実質的に前記複数のサブ画素領域のうちの一つにわたって延在するプレート電極層である。
選択的には、前記複数のブランチの各々は、実質的に第2電極層の前記一つの次元にわたって延在する。
選択的には、隣接する歯部を接続する如何なる構造も、第2電極層の周辺領域に位置付けられる。
選択的には、前記第1端部及び前記第2端部は、第2電極層の周辺領域に位置する。
選択的には、第2電極層は、第1ドメインと第2ドメインとを備え、第1ドメインにおけるブランチ及びスリットは、実質的に第1方向に沿って延在し、そして第2ドメインにおけるブランチ及びスリットは、実質的に第2方向に沿って延在する。
選択的には、前記複数のブランチは、実質的にサブ画素領域の長手方向に沿って延在する。
選択的には、前記複数のブランチは、実質的にサブ画素領域の横方向に沿って延在する。
選択的には、第1電極層は共通電極層であり、第2電極層は画素電極層である。
選択的には、第2電極層は共通電極層であり、第1電極層は画素電極層である。
別の態様では、本発明は、本明細書に記載のアレイ基板を備える液晶表示パネルを提供する。
選択的には、液晶表示パネルは、液晶層中の液晶分子がフリンジ電界によって駆動されるフリンジフィールド駆動液晶表示パネルである。
選択的には、液晶表示パネルは、高級超次元スイッチング型液晶表示パネルである。
もう一つの態様では、本発明は、本明細書に記載の液晶表示パネルを備える液晶表示装置を提供する。
以下の図面は、開示された様々な実施形態を示すための例示のみであり、本発明の範囲を限定することを意図するものではない。
従来の液晶表示パネルの構造を示す概略図である。 図1における液晶表示パネルの線A−A’線に沿う断面図である。 本開示の幾つかの実施例に係る液晶表示パネルの構造を示す概略図である。 図3における液晶表示パネルの線B−B’線に沿う断面図である。 本開示の幾つかの実施例に係る液晶表示パネルの構造を示す概略図である。 本開示の幾つかの実施例に係る液晶表示パネルの構造を示す概略図である。 図6における液晶表示パネルの線C−C’線に沿う断面図である。 図6における液晶表示パネルの線D−D’線に沿う断面図である。 従来の液晶表示パネルの構造を示す概略図である。 本開示の幾つかの実施例に係る液晶表示パネルの構造を示す概略図である。 本開示の幾つかの実施例に係る液晶表示パネルの構造を示す概略図である。 本開示の幾つかの実施例に係る液晶表示パネルの構造を示す概略図である。
以下の実施例を参照して、本開示をさらに詳細に説明する。なお、本明細書において、幾つかの実施例に係る以下の説明は、例示及び説明のみを目的として提示されるものである。網羅的であること、又は開示された精確な形態に限定されることを意図するものではない。
図1は従来の液晶表示パネルの構造を示す概略図である。図2は、図1における液晶表示パネルのA−A’線に沿う断面図である。図1及び図2に示すように、従来の液晶表示パネルは、アレイ基板1と、アレイ基板1に対向する対向基板2と、アレイ基板1と対向基板2との間に位置する液晶層3とを備える。液晶表示パネルは、第1電極層11、第2電極層12、及び第1電極層11と第2電極層12との間に位置する絶縁層13を含む。第2電極層は、例えば、画素電極層とすることができる。図1に示すように、画素電極層は、複数のスリットSによって離間された複数のブランチ12Bを含む。複数のブランチ12Bは、第2電極層12の底部に位置する第1バー12−1と第2電極層12の頂部に位置する第2バー12−2とによって互いに接続される。複数のスリットSの各々は、第1端部と第2端部とを有しており、この両端部は、いずれも閉合端である。例えば、第1バー12−1及び第2バー12−2は、当該スリットの第1端部及び第2端部において前記複数のスリットSの各々を閉合させる。第1電極層11は、サブ画素領域のエッジまで延在する。図1に示すように、第1電極層11のベース基板10における投影は、サブ画素領域のエッジに沿って第1電極層11の幅にわたって第2電極層12の第1バー12−1のベース基板10における投影と重なる。第1電極層11と第2電極層12との間(例えば、第1バー12−1と第2バー12−2に対応する領域内)の重なり領域が大きいので、第1電極層11と第2電極層12との間には一つの大きな蓄積容量が形成される。その蓄積容量は、以下の式によって決定され得る。
Figure 2020513111
ここで、εは誘電率、Sは第1電極層11と第2電極層12との重なり面積、dは第1電極層11と第2電極層12との間の距離である。
通常、第1電極層11及び第2電極層12は、インジウム錫酸化物、又は他の類似の金属酸化物又は透明導電材料から作製される。光は、サブ画素領域のエッジに沿って、2つの電極層を通過するようになる、例えば、まず第1電極層11を通過し、そして第1バー12−1又は第2バー12−2を通過する。従って、第1バー12−1及び第2バー12−2に対応する領域の光透過率は、例えば20%減少され、サブ画素領域のエッジに沿って暗領域が形成される。
よって、本開示は特に、関連技術の制限及び欠点による不具合の一つ又は複数を実質的に回避できるアレイ基板、液晶表示パネル及び液晶表示装置を提供する。一つの態様では、本開示は液晶表示パネルを提供する。幾つかの実施例において、液晶表示パネルは、アレイ基板と、アレイ基板に対向する対向基板と、複数のサブ画素とを有する液晶表示パネルである。液晶表示パネルは、各サブ画素において、アレイ基板と対向基板との間に位置する液晶層と、液晶層内に液晶分子を駆動するためのフリンジフィールドを形成するように配置される第1電極層、第2電極層と、前記第1電極層と前記第2電極層との間に位置する絶縁層とを備え;前記第2電極層は、複数のブランチを含み;前記複数のブランチは、複数の歯部にグループ化されることができ;前記複数の歯部のうち隣接する歯部は、一つの第1スリットによって離間されており、第1スリットは、第1端部E1で開放されると共に、第2端部E2で閉合され、且つ実質的に第2電極層の一つの次元にわたって延在しており、第1端部E1は第2端部E2に互いに対向し、隣接する歯部は、第1端部E1で互いに分離されると共に、第2端部E2で互いに接続される。選択的には、第1電極層は共通電極層であり、第2電極層は画素電極層である。選択的には、第2電極層は共通電極層であり、且つ第1電極層は画素電極層である。本開示の記述においては、前記複数の歯部の各々は、一つ又は複数の隣接するブランチを備えることができる。選択的には、前記複数の歯部の各々は、一つのブランチのみを備える。選択的には、前記複数の歯部の各々は、2つの隣接するブランチを備える。選択的には、前記複数の歯部の各々は、2つ以上の隣接するブランチを備える。
図3は、本開示の幾つかの実施形態に係る液晶表示パネルの構造を示す概略図である。図4は、図3における液晶表示パネルの線B−B’線に沿う断面図である。図3及び図4に示すように、幾つかの実施例に係る液晶表示パネルは、アレイ基板1と、アレイ基板1に対向する対向基板2と、アレイ基板1と対向基板2との間に位置する液晶層3とを備える。液晶表示パネルは、複数のサブ画素を有する。サブ画素の各々において、液晶表示パネルは、第1電極層11、第2電極層12、及び第1電極層11と第2電極層12との間に位置する絶縁層13を含む。第1電極層11及び第2電極層12は、液晶層3内の液晶分子を駆動するためのフリンジフィールドを形成するように配置される。液晶表示パネルは、さらに互いに交差する複数のゲート線GLと複数のデータ線DLとを備え、これによって、複数のサブ画素を限定する。サブ画素の各々は、さらにサブ画素内の画像表示を駆動するためのゲートGを有するスイッチング薄膜トランジスタを含む。第2電極層12は画素電極層である場合(図3に示すように)、第2電極層12がこのスイッチング薄膜トランジスタのドレインに接続され、且つ複数のデータ線DLのうちの一つは、このスイッチング薄膜トランジスタのソースに接続される。選択的には、第2電極層12は共通電極層であり、第1電極層11は画素電極層であり、且つ第1電極層11は、このスイッチング薄膜トランジスタのドレインに接続される。
図3に示すように、第1電極層11(例えば共通電極層)は、実質的にサブ画素にわたって延在し、例えばサブ画素の第1エッジまで延在する(例えば、図3の線B−B’に接近する)プレート電極層である。第2電極層12は複数のブランチ12Bを含み、前記複数のブランチ12Bの各々は、実質的にサブ画素の長手方向に沿って延在する。選択的には、複数のブランチ12Bは、複数のデータ線DLと実質的に平行な方向に沿って延在する。選択的には、複数のブランチ12Bは、複数のゲート線GLと実質的に平行な方向に沿って延在する。複数のブランチ12Bは、複数のスリット(例えば、図3の第1スリットS1)によって離間される。
幾つかの実施例において、複数のブランチ12Bは、複数の歯部Tにグループ化されることができる。図3に示す実施例において、複数のブランチ12Bの各々は、複数の歯部Tのうちの一つに対応し、例えば複数の歯部Tの各々は、複数のブランチ12Bのうちの一つのみを含む。複数の歯部Tのうち隣接する歯部は、第1スリットS1によって離間される。従って、図3に示す実施例において、複数のブランチ12Bのうち隣接するブランチは、第1スリットS1によって離間される。
第1スリットS1は、第1端部E1(例えば、サブ画素の第1エッジに沿う第1信号線に接近する一端)で開放されると共に、第2端部E2(例えば、サブ画素の第1エッジに対向する第2エッジに沿う第2信号線に接近する一端)で閉合される。第1端部E1は第2端部E2に対向する。第1スリットS1は、隣接する歯部(又は図3に示す実施例の隣接するブランチ12B)と実質的に平行な方向に沿って延在し、第1スリットS1の第1端部E1は、複数のブランチ12Bのうちの一つのブランチの第1端部に接近すると共に、複数のブランチ12Bのうちの該一つのブランチの第2端部(複数のブランチ12Bのうちの該一つのブランチの第1端部に対向する)から離れており、さらに、第1スリットS1の第2端部E2は、複数のブランチ12Bのうちの一つのブランチの第2端部に接近すると共に、複数のブランチ12Bのうちの該一つのブランチの第1端部から離れる。第1スリットS1は、実質的に第2電極層12の一つの次元にわたって延在し、例えば、第2電極層12の長手方向の次元にわたって延在する。隣接する歯部は、第1端部E1で互いに分離されると共に、第2端部E2で互いに接続される。図3に示す実施例において、複数のブランチ12Bのうち隣接するブランチは、第1端部E1で互いに分離されると共に、第2端部E2で互いに接続される。
図3に示す実施例において、第2電極層12は、複数の歯部Tと、第2端部E2において複数の歯部Tのうち隣接する歯部を接続するバー(例えば、図3に示す第1バー12−1)とを有する櫛歯状電極層である。従来の液晶表示パネルと比べて、図3に示す液晶表示パネルは、サブ画素の一つのエッジのみに沿った一つのバーを有する、例えば、サブ画素の対向するエッジに沿った第2バーを備えない。図2と図4に示す断面図から明らかなように、本設計は、第1電極層11と第2電極層12との間の重なり面積を大幅に減少した。その結果、第1電極層11と第2電極層12との間の蓄積容量が大幅に減少された。図4に示すように、本液晶表示パネルはサブ画素のエッジに沿った複数のスリットを有し、これらの領域において、光は2つの電極層を通過する必要がない。従って、サブ画素のエッジに沿った光透過率は著しく改善され、サブ画素のエッジ沿いの暗領域発生は回避される。
図3に示すように、複数のブランチ12Bの各々は、実質的に第2電極層12の一つの次元(例えば、長手方向の次元)にわたって延在する。隣接する歯部又は隣接するブランチを接続するための任意の構造は、第2電極層12の周辺領域に配置される。第1スリットS1の第1端部E1及び第2端部E2は、第2電極層12の周辺領域に位置される。複数の歯部のうち隣接する歯部を接続するバーも、第2電極層12の周辺領域に位置する。
図5は、本開示の幾つかの実施例に係る液晶表示パネルの構造を示す概略図である。図3に示す実施例において、隣接する歯部又は隣接するブランチを接続するバーは、サブ画素の発光を制御するためのゲート走査信号をサブ画素に提供するように配置されたゲート線に接近する第1バー12−1である。図5に示す実施例において、隣接する歯部又は隣接するブランチを接続するバーは、サブ画素の第1エッジに沿った第2バー12−2であり、前記第1エッジはサブ画素の第2エッジに対向しており、サブ画素の発光を制御するゲート線は、第2エッジに位置する。図3に示す実施例と同様に、従来の液晶表示パネルに比べて、第1電極層11と第2電極層12との間の重なり面積及び蓄積容量は、著しく減少する。サブ画素のエッジに沿った光透過率が向上され、画像表示における暗いエッジが除去されるようになる。
幾つかの実施例において、液晶表示パネルは、さらに複数の共通電極信号線を備える。図3及び図5に示すように、各サブ画素は共通電極信号線CLと関連付けられる。選択的には、共通電極信号線CLは、サブ画素の発光を制御するゲート線が位置するサブ画素の第2エッジに対向するサブ画素の第1エッジに接近する位置にある。図3に示すように、幾つかの実施例において、共通電極信号線CLのアレイ基板における投影は、第1端部E1において複数の歯部Tのアレイ基板における投影と少なくとも部分的に重なる。
図5に示すように、幾つかの実施例において、共通電極信号線CLのアレイ基板における投影は、第2バー12−2のアレイ基板における投影と少なくとも部分的に重なる。選択的には、共通電極信号線CLのアレイ基板における投影は、第2バー12−2のアレイ基板における投影と実質的に重なる。選択的には、共通電極信号線CLのアレイ基板における投影は、第2バー12−2のアレイ基板における投影を完全に覆う。サブ画素領域内の共通電極信号線CLに対応する領域は、暗領域である。バーを少なくとも部分的に共通電極信号線CLに対応する領域に位置させるように配置することによって、表示パネルの開口率及び光透過率は、バーから最小限の影響を受けるか、又はバーからの影響を受けさせない。
幾つかの実施例において、図3及び図5に示すように、共通電極信号線CLは、複数のゲート線GLと同じ層に位置する。選択的には、共通電極信号線CLと複数のゲート線GLとは、同じ材料からなり、且つ同じマスクプレートによってパターニングされる。幾つかの実施例において、共通電極信号線CLは、複数のゲート線GLと異なる層に位置する。
図6は、本開示の幾つかの実施形態に係る液晶表示パネルの構造を示す概略図である。図7は、図6における液晶表示パネルの線C−C’線に沿う断面図である。図8は、図6における液晶表示パネルの線D−D’線に沿う断面図である。図6〜図8に示すように、サブ画素の各々において、幾つかの実施例に係る液晶表示パネルは、第1電極層11、第2電極層12、及び第1電極層11と第2電極層12との間に位置する絶縁層13を含む。第1電極層11及び第2電極層12は、液晶層3内の液晶分子を駆動するためのフリンジフィールドを形成するように配置される。選択的には、第2電極層12は共通電極層であり、第1電極層11は画素電極層であり、且つ第1電極層11はスイッチング薄膜トランジスタのドレインに接続される。
図6に示すように、第1電極層11(例えば、共通電極層)は、実質的にサブ画素領域にわたって延在し、例えばサブ画素の第1エッジまで延在する(例えば、図6の線C−C’線に接近する)プレート電極層である。第2電極層12は複数のブランチ12B(例えば、図6の第1ブランチ12B1と第2ブランチ12B2)を含み、前記複数のブランチ12Bの各々は、実質的にサブ画素の長手方向に沿って延在する。複数のブランチ12Bは、複数のスリット(例えば、図6の第1スリットS1と第2スリットS2)によって離間される。
幾つかの実施例において、複数のブランチ12Bは、複数の歯部Tにグループ化されることができる。図6に示す実施例において、複数の歯部Tの各々は、複数のブランチ12Bのうちの第1ブランチ12B1と第2ブランチ12B2とを含む。第1ブランチ12B1と第2ブランチ12B2は、図6の線C−C’に接近するサブ画素の第1エッジに沿って互いに接続される。複数の歯部Tのうち隣接する歯部は、第1スリットS1によって離間される。複数の歯部Tの各々における第1ブランチ12B1と第2ブランチ12B2は、第2スリットS2によって離間される。
第1スリットS1は、第1端部E1(例えば、サブ画素の第1エッジに沿った第1信号線に接近する一端)で開放されると共に、第2端部E2(例えば、サブ画素の第1エッジに対向する第2エッジに沿った第2信号線に接近する一端)で閉合される。第1端部E1は第2端部E2に対向する。第1スリットS1は、隣接する歯部(又は図6に示す実施例の隣接するブランチ12B)と実質的に平行な方向に沿って延在し、第1スリットS1の第1端部E1は、複数の歯部Tのうちの一つの歯部の第1端部に接近すると共に、複数の歯部Tのうちの該一つの歯部の第2端部(複数の歯部Tのうちの該一つの歯部の第1端部に対向する)から離れており、且つ、第1スリットS1の第2端部E2は、複数の歯部Tのうちの一つの歯部の第2端部に接近すると共に、複数の歯部Tのうちの該一つの歯部の第1端部から離れる。第1スリットS1は、実質的に第2電極層12の一つの次元にわたって延在する、例えば、第2電極層12の長手方向の次元にわたって延在する。隣接する歯部は、第1端部E1で互いに分離されると共に、第2端部E2で互いに接続される。
第2スリットS2は、第3端部E3(例えば、サブ画素の第1エッジに沿った第1信号線に接近する一端)で閉合され、且つ第4端部E4(例えば、サブ画素の第1エッジに対向する第2エッジに沿った第2信号線に接近する)で開放される。第3端部E3は第4端部E4に対向する。第2スリットS2は、複数の歯部Tのうちの各々における第1ブランチ12B1及び第2ブランチ12B2と実質的に平行な方向に沿って延在し、第2スリットS2の第3端部E3は、複数の歯部Tのうちの一つの歯部の第1端部に接近すると共に、複数の歯部Tのうちの該一つの歯部の第2端部(複数の歯部Tのうちの該一つの歯部の第1端部に対向する)から離れ、且つ、第2スリットS2の第4端部E4は、複数の歯部Tのうちの一つの歯部の第2端部に接近すると共に、複数の歯部Tのうちの該一つの歯部の第1端部から離れる。第2スリットS2は、実質的に第2電極層12の一つの次元にわたって延在し、例えば、第2電極層12の長手方向の次元にわたって延在する。
幾つかの実施例において、第2スリットS2は第1スリットS1と実質的に平行である。選択的には、第3端部E3は、第1端部E1に接近すると共に、第2端部E2から離れており、第4端部E4は、第2端部E2に接近すると共に、第1端部E1から離れる。選択的には、第1ブランチ12B1と第2ブランチ12B2とは、第4端部E4で互いに分離されると共に、第3端部E3で互いに接続される。
幾つかの実施例において、第2電極層12は、ジグザグ形状の電極層である。図6に示すように、液晶表示パネルは、サブ画素の第1エッジと第2エッジの両方に沿って複数の歯部Tを含む。図7及び図8に示すように、本液晶表示パネルはサブ画素の2つのエッジに沿った複数のスリットを有する。従来の液晶表示パネルに比べて、図6〜図8の実施例に示す液晶表示パネルは、第1電極層11と第2電極層12との間の重なり面積が大幅に減少される。第1電極層11と第2電極層12との間の蓄積容量が大幅に減少される。サブ画素の二つのエッジに沿った複数のスリット領域において、光は2つの電極層を通過する必要がない。従って、サブ画素のエッジに沿って光透過率は著しく改善され、サブ画素のエッジ沿いの暗領域発生は回避される。
図3〜図7に示す実施例において、複数のブランチは、実質的にサブ画素の長手方向に沿って延在する。選択的には、複数のブランチは、実質的にサブ画素の横方向に沿って延在する。
選択的には、第1電極層11及び第2電極層12は、両方ともにアレイ基板1内に位置する。
図6に示すように、複数のブランチ12Bの各々は、実質的に第2電極層12の一つの次元(例えば、長手方向の次元)にわたって延在する。隣接する歯部又は隣接するブランチを接続する如何なる構造も、第2電極層12の周辺領域に配置される。第1スリットS1の第1端部E1、第2端部E2及び第2スリットS2の第3端部E3、第4端部E4は、第2電極層12の周辺領域に位置する。
幾つかの実施例において、第2電極層12は、モノドメイン電極層である。幾つかの実施例において、第2電極層12は、マルチドメイン電極層である。選択的には、第2電極層12は、第1ドメインと第2ドメインとを有し、第1ドメインにおけるブランチ及びスリットは、実質的に第1方向に沿って延在し、第2ドメインにおけるブランチ及びスリットは、実質的に第2方向に沿って延在する。
図9は、従来の液晶表示パネルの構造を示す概略図である。図9に示すように、従来の液晶表示パネルは、サブ画素の各々において、第1電極層11と第2電極層12とを有する。幾つかの実施例における第2電極層12は、第1ドメイン(トップドメイン)と第2ドメイン(ボトムドメイン)とを有する。第2電極層12は、複数のスリットSによって離間された複数のブランチ12Bを含む。第1ドメインにおける複数のブランチ12Bは、実質的に第1方向に沿って延在する。第2ドメインにおける複数のブランチ12Bは、実質的に第2方向に沿って延在する。複数のブランチ12Bは、第2電極層12の左側に位置する第1バー12−1と第2電極層12の右側に位置する第2バー12−2とによって互いに接続される。複数のスリットSの各々は、第1端部と第2端部とを有しており、その両方は、いずれも閉合端である。例えば、第1バー12−1及び第2バー12−2は、前記複数のスリットSの各々を該スリットの第1端部及び第2端部で閉合させる。第1電極層11は、サブ画素のエッジまで延在する。第1電極層11のベース基板10における投影は、サブ画素のエッジに沿って第1電極層11の長さにわたって第2電極層12の第1バー12−1のベース基板10における投影と重なる。第1電極層11と第2電極層12との間の重なり面積が大きいため、第1電極層11と第2電極層12との間に大きな蓄積容量が形成され、且つ第1バー12−1及び第2バー12−2に対応する領域の光透過率は減少される。
図10は、本開示の幾つかの実施例に係る液晶表示パネルの構造を示す概略図である。図10に示すように、第1電極層11(例えば、共通電極層)は、実質的にサブ画素領域にわたって延在し、例えばサブ画素の第1エッジまで延在する(例えば、サブ画素の左縦エッジ)プレート電極層である。第2電極層12は複数のブランチ12Bを含み、前記複数のブランチ12Bの各々は、実質的にサブ画素の横方向に沿って延在する。複数のブランチ12Bは、複数のスリット(例えば、図10の第1スリットS1)によって離間される。複数のブランチ12Bは、複数の歯部Tにグループ化されることができる。図10に示す実施例において、複数のブランチ12Bの各々は、複数の歯部Tのうちの一つに対応し、例えば複数の歯部Tの各々は、複数のブランチ12Bのうちの一つのみを含む。複数の歯部Tのうち隣接する歯部は、第1スリットS1によって離間される。従って、図10に示す実施例において、複数のブランチ12Bのうち隣接するブランチは、第1スリットS1によって離間される。
第1スリットS1は、第1端部E1(例えば、サブ画素の第1エッジに沿った第1信号線に接近する一端)で開放されると共に、第2端部E2(例えば、サブ画素の第1エッジに対向する第2エッジに沿った第2信号線に接近する一端)で閉合される。第1端部E1は第2端部E2に対向する。第1スリットS1は、隣接する歯部(又は図10に示す実施例の隣接するブランチ)と実質的に平行な方向に沿って延在し、第1スリットS1の第1端部E1は、複数のブランチ12Bのうちの一つのブランチの第1端部に接近すると共に、複数のブランチ12Bのうちの該一つのブランチの第2端部(複数のブランチ12Bのうちの該一つのブランチの第1端部に対向する)から離れており、且つ、第1スリットS1の第2端部E2は、複数のブランチ12Bのうちの一つのブランチの第2端部に接近すると共に、複数のブランチ12Bのうちの該一つのブランチの第1端部から離れる。第1スリットS1は、実質的に第2電極層12の一つの次元にわたって延在する、例えば、第2電極層12の横方向の次元にわたって延在する。隣接する歯部は、第1端部E1で互いに分離されると共に、第2端部E2で互いに接続される。図10に示す実施例において、複数のブランチ12Bのうち隣接するブランチは、第1端部E1では互いに分離されると共に、第2端部E2で互いに接続される。
図10に示す第2電極層12は、複数の歯部Tと、第2端部E2において複数の歯部Tのうち隣接する歯部を接続するバー(例えば、図10に示す第1バー12−1)とを有する櫛歯状電極層である。複数のブランチ12Bの各々は、実質的に第2電極層12の一つの次元(例えば、横方向の次元)にわたって延在する。隣接する歯部又は隣接するブランチを接続する如何なる構造も、第2電極層12の周辺領域に配置される。第1スリットS1の第1端部E1及び第2端部E2は、第2電極層12の周辺領域に位置される。複数の歯部のうち隣接する歯部を接続するバーも、第2電極層12の周辺領域に位置する。
図11は、本開示の幾つかの実施形態に係る液晶表示パネルの構造を示す概略図である。図11において、隣接する歯部又は隣接するブランチを接続するバーは、サブ画素の右側エッジに沿った第2バー12−2である。図10に示す実施例と同様に、従来の液晶表示パネルに比べて、第1電極層11と第2電極層12との間の重なり面積及び蓄積容量は、著しく減少される。サブ画素のエッジ沿いの光透過率が向上され、画像表示における暗いエッジが除去される。
図12は、本開示の幾つかの実施形態に係る液晶表示パネルの構造を示す概略図である。図12に示すように、第2電極層12は複数のブランチ12B(例えば、図12の第1ブランチ12B1と第2ブランチ12B2)を有し、前記複数のブランチ12Bの各々は、実質的にサブ画素の横方向に沿って延在する。複数のブランチ12Bは、複数のスリット(例えば、図12の第1スリットS1と第2スリットS2)によって離間される。複数のブランチ12Bは、複数の歯部Tにグループ化される、例えば、図12において、複数の歯部Tの各々は、複数のブランチ12Bのうちの第1ブランチ12B1と第2ブランチ12B2とを有する。第1ブランチ12B1と第2ブランチ12B2は、サブ画素の右側エッジに沿って互いに接続される。複数の歯部Tのうち隣接する歯部は、第1スリットS1によって離間される。複数の歯部Tのうちの各々における第1ブランチ12B1と第2ブランチ12B2は、第2スリットS2によって離間される。
第1スリットS1は、第1端部E1で開放されると共に、第2端部E2で閉合されており、第1端部E1は第2端部E2に対向する。第1スリットS1は、隣接する歯部又は隣接するブランチと実質的に平行な方向に沿って延在する。第1スリットS1は、実質的に第2電極層12の一つの次元にわたって延在する、例えば、第2電極層12の横方向の次元にわたって延在する。隣接する歯部は、第1端部E1で互いに分離されると共に、第2端部E2で互いに接続される。第2スリットS2は、第3端部E3で閉合されると共に、第4端部E4で開放されており、第3端部E3は第4端部E4に対向する。第2スリットS2は、複数の歯部Tのうちの各々における第1ブランチ12B1及び第2ブランチ12B2と実質的に平行な方向に沿って延在する。第2スリットS2は、実質的に第2電極層12の一つの次元にわたって延在する、例えば、第2電極層12の横方向の次元にわたって延在する。幾つかの実施例において、第2スリットS2は第1スリットS1と実質的に平行である。選択的には、第3端部E3は、第1端部E1に接近すると共に、第2端部E2から離れており、第4端部E4は、第2端部E2に接近すると共に、第1端部E1から離れる。選択的には、第1ブランチ12B1と第2ブランチ12B2とは、第4端部E4で互いに分離されると共に、第3端部E3で互いに接続される。図12における第2電極層12は、ジグザグ形状の電極層である。液晶表示パネルは、サブ画素の左エッジと右エッジの両者に沿って複数の歯部Tを含む。
図9〜図12に示すように、複数のブランチ12Bの各々は、実質的に第2電極層12の一つの次元(例えば、横方向の次元)にわたって延在する。隣接する歯部又は隣接するブランチを接続する如何なる構造も、第2電極層12の周辺領域に配置される。第1スリットS1の第1端部E1、第2端部E2及び第2スリットS2の第3端部E3、第4端部E4は、第2電極層12の周辺領域に位置される。
幾つかの実施例において、液晶表示パネは、フリンジフィールド駆動液晶表示パネルであり、その中の液晶層はフリンジ電界により駆動される。フリンジフィールド駆動液晶表示パネルの例示としては、高級超次元スイッチング(Advanced super Dimension Switching:ADS)型液晶表示パネル、インプレーンスイッチング(IPS)型液晶表示パネル及びフリンジフィールドスイッチング(FFS)型液晶パネルが挙げられるが、これらに限定されない。
もう一つの態様では、本発明は、本明細書に記載の液晶表示パネルを備える液晶表示装置を提供する。表示装置の好適な例示としては、電子ペーパー、携帯電話、タブレットコンピュータ、テレビ、モニタ、ノートブックコンピュータ、デジタルフォトアルバム、ゲームシステム等が挙げられるが、これらに限定されない。
本発明の実施例の上述した説明は、例示及び説明を目的とする。それらは網羅的であること、又は本発明を開示された精確な形態又は例示的な実施例に限定することを意図していない。従って、上記の説明は、限定的ではなく、例示的と理解されるべきである。種々の変形や変更を行うことができるということは当業者には明らかであろう。これらの実施例を選択して説明するのは、本発明の原理及び最良の実施形態の実際の適用を解釈することにより、当業者に種々の実施例、及び特定用途や構想された実施形態に適した様々な変形例を通じて本発明を理解させるためである。本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲及びそれらの均等の形態によって限定されることを意図しており、特に言及しない限り、全ての用語は、それらの最も広く、合理的な意味で理解されるべきである。従って、「前記発明」、「本発明」などの用語は、必ずしも特許請求の範囲を特定の実施例に限定することを意図するものではなく、本発明の例示的な実施例への言及は、本発明を限定することを意図するものではないし、そのような制限も推断されるべきではない。本発明は、添付の特許請求の範囲の精神及び範囲のみによって限定される。さらに、これらの請求項では、名詞又はエレメントの前に「第1」、「第2」等を付しても良い。これらの用語は命名法として理解されるべきであり、特定の数が与えられていない限り、これらの命名法によって修飾されるエレメントの数を限定するものとして理解されるべきではない。説明された如何なる利点及び効果も、本発明の全ての実施例に適用しなくてもよい。添付の特許請求の範囲によって限定された本発明の範囲から逸脱しない範囲内において、当業者であればここに記載の実施例に対して様々な変形をなし得ると理解されるべきである。さらに、本開示における如何なるエレメント及び構成要素も、添付の特許請求の範囲に明確に記載されているか否かにかかわらず、公衆に捧げることを意図するものではない。
本発明の一つの態様では、複数のサブ画素領域を有するアレイ基板を提供する。前記アレイ基板は、前記複数のサブ画素領域の一つにおいて、液晶分子を駆動するためのフリンジフィールドを形成するように配置される第1電極層、第2電極層、及び前記第1電極層と前記第2電極層との間に位置する絶縁層を備え、前記第2電極層は、複数のブランチを含み、前記複数のブランチは、複数の歯部にグループ化され、前記複数の歯部のうち隣接する歯部は、第1スリットによって離間されており、前記第1スリットは、実質的に前記複数のサブ画素領域のうちの一つのサブ画素領域における前記第2電極層の一つの次元にわたって延在し、且つ、隣接する歯部は、第1端部で互いに分離されると共に、第2端部で互いに接続される。
選択的には、前記複数の歯部の一つは、前記複数のブランチのうちの一つのみを備える。
選択的には、前記アレイ基板は、共通電極信号線をさらに備え、前記共通電極信号線の前記アレイ基板のベース基板における投影は、前記バーの前記アレイ基板の前記ベース基板における投影と少なくとも部分的に重なる。
選択的には、前記共通電極信号線の前記アレイ基板の前記ベース基板における投影は、前記バーの前記アレイ基板の前記ベース基板における投影と実質的に重なる。
選択的には、前記共通電極信号線の前記アレイ基板の前記ベース基板における投影は、前記バーの前記アレイ基板の前記ベース基板における投影を完全に覆う。
選択的には、前記アレイ基板は、共通電極信号線をさらに備え、前記共通電極信号線の前記アレイ基板のベース基板における投影は、前記第1端部で前記複数の歯部の前記アレイ基板の前記ベース基板における投影と少なくとも部分的に重なる。
選択的には、前記複数の歯部の一つは、前記複数のブランチのうちの第1ブランチと第2ブランチとを備え、さらに、第1ブランチと第2ブランチとは、第2スリットによって離間されており、前記第2スリットは、実質的に前記第2電極層の前記一つの次元にわたって延在する。
選択的には、前記複数のブランチの一つは、実質的に第2電極層の前記一つの次元にわたって延在する。
別の態様では、本発明は、本明細書に記載のアレイ基板と、前記アレイ基板に対向する対向基板と、前記アレイ基板1と前記対向基板2との間に位置する液晶層を備える液晶表示パネルを提供する。
幾つかの実施例において、液晶表示パネルは、さらに複数の共通電極信号線を備える。図3及び図5に示すように、各サブ画素は共通電極信号線CLと関連付けられる。選択的には、共通電極信号線CLは、サブ画素の発光を制御するゲート線が位置するサブ画素の第2エッジに対向するサブ画素の第1エッジに接近する位置にある。図3に示すように、幾つかの実施例において、共通電極信号線CLのアレイ基板のベース基板における投影は、第1端部E1において複数の歯部Tのアレイ基板のベース基板における投影と少なくとも部分的に重なる。
図5に示すように、幾つかの実施例において、共通電極信号線CLのアレイ基板のベース基板における投影は、第2バー12−2のアレイ基板のベース基板における投影と少なくとも部分的に重なる。選択的には、共通電極信号線CLのアレイ基板のベース基板における投影は、第2バー12−2のアレイ基板のベース基板における投影と実質的に重なる。選択的には、共通電極信号線CLのアレイ基板のベース基板における投影は、第2バー12−2のアレイ基板のベース基板における投影を完全に覆う。サブ画素領域内の共通電極信号線CLに対応する領域は、暗領域である。バーを少なくとも部分的に共通電極信号線CLに対応する領域に位置させるように配置することによって、表示パネルの開口率及び光透過率は、バーから最小限の影響を受けるか、又はバーからの影響を受けさせない。
第1スリットS1は、第1端部E1(例えば、サブ画素の第1エッジに沿った第1信号線に接近する一端)で開放されると共に、第2端部E2(例えば、サブ画素の第1エッジに対向する第2エッジに沿った第2信号線に接近する一端)で閉合される。第1端部E1は第2端部E2に対向する。第1スリットS1は、隣接する歯部(又は図6に示す実施例の隣接するブランチ12B)と実質的に平行な方向に沿って延在し、第1スリットS1の第1端部E1は、複数の歯部Tのうちの一つの歯部の第1端部に接近すると共に、複数の歯部Tのうちの該一つの歯部の第2端部(複数の歯部Tのうちの該一つの歯部の第1端部に対向する)から離れており、且つ、第1スリットS1の第2端部E2は、複数の歯部Tのうちの一つの歯部の第2端部に接近すると共に、複数の歯部Tのうちの該一つの歯部の第1端部から離れる。第1スリットS1は、実質的に第2電極層12の一つの次元にわたって延在する、例えば、第2電極層12の長手方向の次元にわたって延在する。隣接する歯部は、第1端部E1で互いに分離されると共に、第2端部E2で互いに接続される。ここで、第1スリットS1が実質的に第2電極層12の一つの次元にわたって延在するとは、第1スリットS1のその延在方向に沿った長さが第2の電極層12の対応する一つの次元よりも小さいが、それに近いことを指す。
第2スリットS2は、第3端部E3(例えば、サブ画素の第1エッジに沿った第1信号線に接近する一端)で閉合され、且つ第4端部E4(例えば、サブ画素の第1エッジに対向する第2エッジに沿った第2信号線に接近する)で開放される。第3端部E3は第4端部E4に対向する。第2スリットS2は、複数の歯部Tのうちの各々における第1ブランチ12B1及び第2ブランチ12B2と実質的に平行な方向に沿って延在し、第2スリットS2の第3端部E3は、複数の歯部Tのうちの一つの歯部の第1端部に接近すると共に、複数の歯部Tのうちの該一つの歯部の第2端部(複数の歯部Tのうちの該一つの歯部の第1端部に対向する)から離れ、且つ、第2スリットS2の第4端部E4は、複数の歯部Tのうちの一つの歯部の第2端部に接近すると共に、複数の歯部Tのうちの該一つの歯部の第1端部から離れる。第2スリットS2は、実質的に第2電極層12の一つの次元にわたって延在し、例えば、第2電極層12の長手方向の次元にわたって延在する。ここで、第2スリットS2が実質的に第2電極層12の一つの次元にわたって延在するとは、第2スリットS2のその延在方向に沿った長さが第2の電極層12の一つの次元よりも小さいが、それに近いことを指す。
図10は、本開示の幾つかの実施例に係る液晶表示パネルの構造を示す概略図である。図10に示すように、第1電極層11(例えば、共通電極層)は、実質的にサブ画素領域にわたって延在し、例えばサブ画素の第1エッジまで延在する(例えば、サブ画素の縦エッジ)プレート電極層である。第2電極層12は複数のブランチ12Bを含み、前記複数のブランチ12Bの各々は、実質的にサブ画素の横方向に沿って延在する。複数のブランチ12Bは、複数のスリット(例えば、図10の第1スリットS1)によって離間される。複数のブランチ12Bは、複数の歯部Tにグループ化されることができる。図10に示す実施例において、複数のブランチ12Bの各々は、複数の歯部Tのうちの一つに対応し、例えば複数の歯部Tの各々は、複数のブランチ12Bのうちの一つのみを含む。複数の歯部Tのうち隣接する歯部は、第1スリットS1によって離間される。従って、図10に示す実施例において、複数のブランチ12Bのうち隣接するブランチは、第1スリットS1によって離間される。

Claims (24)

  1. 複数のサブ画素領域を有するアレイ基板であって、
    前記アレイ基板は、前記複数のサブ画素領域の各々のサブ画素領域は、
    液晶分子を駆動するためのフリンジフィールドを形成するように配置される第1電極層、第2電極層と、
    前記第1電極層と前記第2電極層との間に位置する絶縁層とを備え、
    前記第2電極層は、複数のブランチを含み、
    前記複数のブランチは、複数の歯部にグループ化され、
    前記複数の歯部のうち隣接する歯部は、第1スリットによって離間されており、前記第1スリットは、実質的に前記複数のサブ画素領域のうちの一つのサブ画素領域における前記第2電極層の一つの次元にわたって延在し、且つ、
    隣接する歯部は、第1端部で互いに分離されると共に、第2端部で互いに接続される、アレイ基板。
  2. 前記複数の歯部の各々は、前記複数のブランチのうちの一つのみを備える、請求項1に記載のアレイ基板。
  3. 前記第2電極層は、前記第2端部で前記複数の歯部のうち前記隣接する歯部を接続するバーをさらに備える櫛歯状電極層である、請求項2に記載のアレイ基板。
  4. 前記バーは、前記第2電極層の周辺領域に位置する、請求項3に記載のアレイ基板。
  5. 共通電極信号線をさらに備え、
    前記共通電極信号線の前記アレイ基板における投影は、前記バーの前記アレイ基板における投影と少なくとも部分的に重なる、請求項4に記載のアレイ基板。
  6. 前記共通電極信号線の前記アレイ基板における投影は、前記バーの前記アレイ基板における投影と実質的に重なる、請求項5に記載のアレイ基板。
  7. 前記共通電極信号線の前記アレイ基板における投影は、前記バーの前記アレイ基板における投影を完全に覆う、請求項5に記載のアレイ基板。
  8. 共通電極信号線をさらに備え、
    前記共通電極信号線の前記アレイ基板における投影は、前記第1端部において前記複数の歯部の前記アレイ基板における投影と少なくとも部分的に重なる、請求項4に記載のアレイ基板。
  9. 前記複数の歯部の各々は、前記複数のブランチのうちの第1ブランチと第2ブランチとを含み、且つ、
    前記第1ブランチと前記第2ブランチとは、第2スリットによって離間されており、前記第2スリットは、実質的に前記第2電極層の前記一つの次元にわたって延在する、請求項1に記載のアレイ基板。
  10. 前記第2スリットは、前記第1スリットと実質的に平行であり、
    前記第1ブランチと前記第2ブランチは、第3端部で互いに接続され、そして第4端部で互いに分離され、
    前記第3端部は、前記第1端部に接近すると共に前記第2端部から離れており、
    前記第4端部は、前記第2端部に接近すると共に前記第1端部から離れる、請求項9に記載のアレイ基板。
  11. 前記第2電極層はジグザグ形状の電極層である、請求項9に記載のアレイ基板。
  12. 前記第1電極層は、実質的に前記複数のサブ画素領域のうちの一つにわたって延在するプレート電極層である、請求項1に記載のアレイ基板。
  13. 前記複数のブランチの各々は、実質的に前記第2電極層の前記一つの次元にわたって延在する、請求項1に記載のアレイ基板。
  14. 隣接する歯部を接続する如何なる構造も、前記第2電極層の周辺領域に位置する、請求項1に記載のアレイ基板。
  15. 前記第1端部及び前記第2端部は、前記第2電極層の周辺領域に位置する、請求項1に記載のアレイ基板。
  16. 前記第2電極層は、第1ドメインと第2ドメインとを含み、前記第1ドメインにおけるブランチ及びスリットは、実質的に第1方向に沿って延在し、前記第2ドメインにおけるブランチ及びスリットは、実質的に第2方向に沿って延在する、請求項1に記載のアレイ基板。
  17. 前記複数のブランチは、実質的にサブ画素領域の長手方向に沿って延在する、請求項1に記載のアレイ基板。
  18. 前記複数のブランチは、実質的にサブ画素領域の横方向に沿って延在する、請求項1に記載のアレイ基板。
  19. 前記第1電極層は共通電極層であり、前記第2電極層は画素電極層である、請求項1に記載のアレイ基板。
  20. 前記第2電極層は共通電極層であり、前記第1電極層は画素電極層である、請求項1に記載のアレイ基板。
  21. 請求項1から請求項20のいずれかに記載のアレイ基板を備える、液晶表示パネル。
  22. 前記液晶表示パネルは、前記液晶層中の液晶分子がフリンジ電界によって駆動されるフリンジフィールド駆動液晶表示パネルである、請求項21に記載の液晶表示パネル。
  23. 前記液晶表示パネルは、高級超次元スイッチング型液晶表示パネルである、請求項22に記載の液晶表示パネル。
  24. 請求項21から請求項23のいずれかに記載の液晶表示パネルを備える、液晶表示装置。
JP2019548984A 2017-04-01 2017-04-01 アレイ基板、液晶表示パネル及び液晶表示装置 Active JP7004734B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/CN2017/079339 WO2018176483A1 (en) 2017-04-01 2017-04-01 Array substrate, liquid crystal display panel and liquid crystal display apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020513111A true JP2020513111A (ja) 2020-04-30
JP7004734B2 JP7004734B2 (ja) 2022-02-10

Family

ID=63674058

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019548984A Active JP7004734B2 (ja) 2017-04-01 2017-04-01 アレイ基板、液晶表示パネル及び液晶表示装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20200249534A1 (ja)
EP (1) EP3607398B1 (ja)
JP (1) JP7004734B2 (ja)
CN (1) CN109154749A (ja)
WO (1) WO2018176483A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114660856B (zh) * 2022-03-16 2024-02-20 Tcl华星光电技术有限公司 阵列基板及显示装置

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11202356A (ja) * 1997-12-29 1999-07-30 Hyundai Electron Ind Co Ltd 高透過率と高開口率を有する液晶表示装置及びその製造 方法
JP2001059976A (ja) * 1999-06-30 2001-03-06 Hyundai Electronics Ind Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JP2001228493A (ja) * 1999-12-29 2001-08-24 Hynix Semiconductor Inc 薄膜トランジスタ液晶表示装置の製造方法
US6362858B1 (en) * 1998-12-16 2002-03-26 Hyundai Display Technology, Inc. Method of manufacturing liquid crystal display device
US20040227875A1 (en) * 1998-06-30 2004-11-18 Park In Cheol Reflective liquid crystal display of high aperture ratio, high transmittance and wide viewing angle
JP2007327997A (ja) * 2006-06-06 2007-12-20 Epson Imaging Devices Corp 液晶装置、及び電子機器
CN101995700A (zh) * 2009-08-10 2011-03-30 北京京东方光电科技有限公司 液晶面板及其制造方法
CN103185993A (zh) * 2011-12-29 2013-07-03 上海天马微电子有限公司 Ips/ffs型液晶显示装置的阵列基板
JP2014228565A (ja) * 2013-05-17 2014-12-08 パナソニック液晶ディスプレイ株式会社 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法
JP2015520940A (ja) * 2012-04-24 2015-07-23 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 有機薄膜トランジスタアレイ基板及びその製造方法、並びに表示装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4201051B2 (ja) 2006-09-15 2008-12-24 エプソンイメージングデバイス株式会社 液晶表示パネル
CN100565313C (zh) * 2006-09-15 2009-12-02 爱普生映像元器件有限公司 液晶显示板
JP4600463B2 (ja) * 2007-11-21 2010-12-15 ソニー株式会社 液晶表示装置
KR20090116856A (ko) * 2008-05-08 2009-11-12 전북대학교산학협력단 프린지 인플레인 필드 스위칭 액정표시소자
US8953132B2 (en) 2011-03-30 2015-02-10 Au Optronics Corp. Pixel array of fringe field switching liquid crystal display panel and driving method thereof
CN203894515U (zh) * 2014-06-13 2014-10-22 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及显示装置
CN105137680B (zh) * 2015-10-20 2018-11-06 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示用电极、阵列基板、显示面板、显示装置
CN105676550A (zh) * 2016-04-21 2016-06-15 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制造方法、显示装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11202356A (ja) * 1997-12-29 1999-07-30 Hyundai Electron Ind Co Ltd 高透過率と高開口率を有する液晶表示装置及びその製造 方法
US20040227875A1 (en) * 1998-06-30 2004-11-18 Park In Cheol Reflective liquid crystal display of high aperture ratio, high transmittance and wide viewing angle
US6362858B1 (en) * 1998-12-16 2002-03-26 Hyundai Display Technology, Inc. Method of manufacturing liquid crystal display device
JP2001059976A (ja) * 1999-06-30 2001-03-06 Hyundai Electronics Ind Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JP2001228493A (ja) * 1999-12-29 2001-08-24 Hynix Semiconductor Inc 薄膜トランジスタ液晶表示装置の製造方法
JP2007327997A (ja) * 2006-06-06 2007-12-20 Epson Imaging Devices Corp 液晶装置、及び電子機器
CN101995700A (zh) * 2009-08-10 2011-03-30 北京京东方光电科技有限公司 液晶面板及其制造方法
CN103185993A (zh) * 2011-12-29 2013-07-03 上海天马微电子有限公司 Ips/ffs型液晶显示装置的阵列基板
JP2015520940A (ja) * 2012-04-24 2015-07-23 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 有機薄膜トランジスタアレイ基板及びその製造方法、並びに表示装置
JP2014228565A (ja) * 2013-05-17 2014-12-08 パナソニック液晶ディスプレイ株式会社 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2018176483A1 (en) 2018-10-04
EP3607398A4 (en) 2020-09-02
WO2018176483A9 (en) 2018-11-15
CN109154749A (zh) 2019-01-04
US20200249534A1 (en) 2020-08-06
EP3607398B1 (en) 2022-01-12
EP3607398A1 (en) 2020-02-12
JP7004734B2 (ja) 2022-02-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7390895B2 (ja) アレイ基板、表示パネルおよび表示装置
US9196634B2 (en) TFT array substrate, display panel and display device
JP6938312B2 (ja) 表示装置
WO2016107098A1 (zh) 触控基板以及触控装置
TWI468826B (zh) 畫素陣列基板
JP5127485B2 (ja) 液晶表示装置
US10317737B2 (en) Array substrate, display panel and display device
TWI494672B (zh) 液晶顯示面板之畫素結構
US6839117B1 (en) Compensating electrode structure of a display device
JP4057579B2 (ja) 水平配列型(ips)の液晶表示素子及びその製造方法
JP2003207803A (ja) 横電界方式のアクティブマトリクス型液晶表示装置
CN103185993B (zh) Ips/ffs型液晶显示装置的阵列基板
US10877327B2 (en) Pixel structure
JP2009186869A (ja) 液晶表示装置
KR102423435B1 (ko) 액정 표시 장치
JP2009151343A (ja) 多重ドメイン液晶表示装置
US7978271B2 (en) Multi-domain liquid crystal display and array substrate thereof comprising a storage capacitor having an auxiliary electrode controlled by a preceding scan line or signal line
JP2008090265A (ja) 液晶表示装置
US6850304B2 (en) In-plane switching mode liquid crystal display with a compensation electrode structure and method of forming the same
CN111381404B (zh) 液晶显示装置
KR100947271B1 (ko) 광시야각 액정표시장치
JP2020513111A (ja) アレイ基板、液晶表示パネル及び液晶表示装置
KR102537280B1 (ko) 표시 기판 및 이를 포함하는 액정 표시 장치
KR101795549B1 (ko) 프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치용 어레이 기판 및 이의 제조 방법
TWI344031B (en) Liquid crystal display devices

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20191003

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200309

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210322

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210406

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210705

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210824

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211124

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20211214

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220104

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7004734

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150