JP2020508231A - 銅張積層基板およびこれを含む印刷回路基板 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明において、前記銅層は、粗化処理された面を含むことができ、これは、低粗度の特性を有するようにベース銅層(base copper layer)の少なくとも一面を粗化処理することにより形成されたものであってもよい。
本発明では、前記のような粗化処理工程によって銅箔の表面に粗化粒子が形成され、これは突起物を形成することができる。
1.10点平均粗さ(Sz)
本発明において、前記粗化処理工程は、前記のようなベース銅層のいずれか一表面に対して行うことができるが、好ましくは、銅層のマット面または両表面に対して行うことができる。
本発明では、前記銅層と樹脂層との間の接着強度を特定の範囲に調節することにより、延性および加工性の物性を著しく向上させることができる。
挿入損失が小さい場合、高周波で信号伝送を行う時の信号の減衰が抑制されるため、高周波で信号伝送を行う回路において安定した信号伝送を行うことができる。そのため、挿入損失の値が小さい方が、高周波で信号伝送を行う回路用途への使用に適するので、好ましい。
本発明において、前記挿入損失は、本発明に係る銅張積層基板に特定の周波数の電気的信号を加えた時、その入力電圧対比の出力電圧の比を意味するもので、具体的には、下記式によって測定される。
挿入損失(dB)=−20log10|S21|
本発明において、前記樹脂層が銅層の少なくとも一表面に積層される。
本発明に係る熱硬化性樹脂組成物は、ポリフェニレンエーテル(PPE)またはそのオリゴマーを含む。前記PPEまたはそのオリゴマーは、分子鎖の両末端に2個以上のビニル基、アリル基、またはこれらのすべてを有するものであって、その構造に特に限定なく使用可能である。
本発明に係る熱硬化性樹脂組成物は、3種以上の互いに異なる架橋結合性硬化剤を含む。
本発明において、前記熱硬化性樹脂組成物は、難燃剤(c)を含むことができる。
本発明に係る熱硬化性樹脂組成物は、ビニル基−含有シランカップリング剤で表面処理された無機フィラーをさらに含んでもよい。
本発明において、前記銅張積層基板の構造は特に限定されないが、前記銅箔と樹脂層とが結合した形態を基本として様々な構造からなる。
本発明の他の実施形態によれば、本発明に係る銅張積層基板を含む印刷回路基板(printed circuit board)に関する。
表面粗さRaが0.25μm以下のチタン材質のドラムを用いて電解銅箔を製造し、電解浸漬(electrolytic deposition)により総厚さが9μm、12μm、18μm、および35μmとなるようにした。その後、下記表1に示した組成を有する電解液を準備し、銅箔のマット面に対して粗化処理(roughening)を施した。電解銅箔の厚さが35μm未満の場合、同じ組成を有する銅めっき層を銅箔のシャイニー面に形成させて、総厚さが35μmとなるようにした。下記表2の組成を有する熱硬化性樹脂組成物を銅箔のマット面に積層し、製造物を165℃の温度で約3分〜10分間乾燥させた。
1.10点平均粗さの測定
前記実施例で得られた銅層中の、外部に露出する電解銅箔のマット面に対して、10点平均粗さを測定した。ただし、前記10点平均粗さはISO25178によって測定された。
前記実施例で得られた電解銅箔に対して粗化処理を行うに先立ち、前記電解銅箔のマット面とシャイニー面に対して算術平均粗さを測定し、また、前記電解銅箔に対して粗化処理後に前記銅箔上に銅めっき層を形成するに先立ち、前記銅箔のマット面に対して算術平均粗さを測定した。ただし、前記算術平均粗さもISO25178によって測定された。
常態ピール強度(normal peel strength)をIPC−TM−650に準拠して、ピール強度引張試験機Instron5543を用いて測定した。
熱可塑性樹脂層を形成するに先立ち、B&D Technology Co.,Ltd.(上海、中国)が製造したBD−622挿入損失および回収損失(return loss)試験機を用いて、前記銅層に対する挿入損失を測定した。
銅張積層基板から幅12.7mmの短冊状(narrow−shaped)の引張試験片を複数作製した。その後、引張試験機を用いて、JIS−Z2241によって、25℃の温度下で引張強度を測定した。
カップ試験装置を用いて加工性の評価を実施した。カップ試験装置は、台座とパンチを備えており、台座は円錐台状の傾斜面を有し、円錐台は上から下へ向かって先が細くなっていて、円錐台の傾斜面の角度は水平面から60゜をなしている。また、円錐台の下側には、直径15mmで深さ7mmの円孔が連通している。一方、パンチは先端が直径14mmの半球状の円周をなし、円錐台の円孔にパンチの先端の半球部が挿入可能になっている。
◎:銅箔が割れず、銅箔にシワもない。
○:銅箔が割れなかったものの、銅箔に若干のシワがある。
×:銅箔が割れた。
前記実施例11および15で表面処理された銅箔上に、前記表2の組成の熱硬化性樹脂組成物を塗布し、165℃で約3分〜10分間乾燥した。この後、樹脂層が形成された銅箔に対して、IPC TM−650 2.4.13の評価規格によって、Solder288℃でフローティング(floating)して、樹脂層と銅箔との間の分離現象が起こる時点までの時間を測定して評価した。その結果は、下記表5で示した。
Claims (21)
- 銅張積層基板であって、
低(low)プロファイルを有するようにベース銅層の少なくとも1つの表面を粗化処理して得られた、粗化処理された表面を有する少なくとも1つの銅層を含み、
5μm〜70μmの厚さを有する銅層と、前記銅層上に形成された樹脂層とを含み、
銅層の厚さが5μm超過の場合、銅層および樹脂層の間のピール強度(peel strength)が0.6N/mm超過であり、
粗化処理された表面の10点(ten−point)平均粗さSzがベース銅層の10点平均粗さより低い、銅張積層基板。 - 前記銅層が銅箔を含む、請求項1に記載の銅張積層基板。
- 前記銅箔の1つの表面に銅めっき層を含む、請求項2に記載の銅張積層基板。
- 前記銅層の粗化処理された表面の10点平均粗さSzは、2.0μm未満である、請求項1に記載の銅張積層基板。
- 前記銅層の粗化処理された表面の算術平均粗さSaは、0.4μm未満である、請求項1に記載の銅張積層基板。
- 前記ベース銅層は、マット面(matte side)と、これと反対側のシャイニー面(shiny side)とを有する、請求項1に記載の銅張積層基板。
- 前記粗化処理は、ベース銅層のマット面に対して行われる、請求項6に記載の銅張積層基板。
- 前記銅層の粗化処理されたマット面の算術平均粗さSaは、前記銅層のシャイニー面の算術平均粗さSaより低い、請求項7に記載の銅張積層基板。
- 前記銅層の粗化処理されたマット面の算術平均粗さSaは、0.4μm未満である、請求項7に記載の銅張積層基板。
- 前記銅層の挿入損失は、5GHzの振動数で測定する時、−3.60dB〜−2.50dBである、請求項1に記載の銅張積層基板。
- 前記銅層の挿入損失は、10GHzの振動数で測定する時、−6.50dB〜−5.00dBである、請求項1に記載の銅張積層基板。
- 前記銅層の挿入損失は、15GHzの振動数で測定する時、−8.50dB〜−6.75dBである、請求項1に記載の銅張積層基板。
- 前記銅層の挿入損失は、20GHzの振動数で測定する時、−11.70dB〜−8.55dBである、請求項1に記載の銅張積層基板。
- 前記銅層の粗化処理された表面の粗化処理された粒子の大きさは、0.1μm〜2.0μmである、請求項1に記載の銅張積層基板。
- 前記粗化処理された表面の粗化処理された粒子で形成された突起物の高さは、1.0μm〜5.0μmである、請求項14に記載の銅張積層基板。
- 前記樹脂層は、(a)分子鎖の両末端にビニル基およびアリル基から構成された群より選択された不飽和置換基を2個以上有するポリフェニレンエーテルまたはそのオリゴマー;(b)3種以上の架橋結合性硬化剤;および(c)難燃剤を含む熱硬化性樹脂組成物を含む、請求項1に記載の銅張積層基板。
- 前記架橋結合性硬化剤は、炭化水素系架橋剤(b1)、3個以上の官能基を含む架橋剤(b2)、およびブロック構造のゴムを含む組成物を含む、請求項16に記載の銅張積層基板。
- 前記銅層は、前記樹脂層上に耐熱層、耐腐食層、クロム酸塩層、およびシランカップリング層からなる群より選択される1つ以上の層を追加的に含む、請求項1に記載の銅張積層基板。
- 前記銅箔は、電解銅箔である、請求項2に記載の銅張積層基板。
- 請求項1〜20のいずれか1項に記載の銅張積層基板を含む、印刷回路基板。
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