JP2020507419A - 放射線撮像モダリティ用の散乱線除去コリメータ - Google Patents

Abstract

とりわけ、第１の表面に第１の保持部材を画定する第１の層を含む、散乱線除去コリメータが提供される。第２の層は、第１の層の第１の表面に面する第１の表面で第２の保持部材を画定する。セプタムは、第１の層と第２の層との間に配置され、第１の保持部材及び第２の保持部材に物理的に接触する。第１の保持部材及び第２の保持部材は、第１の層及び第２の層に対するセプタムの位置を維持する。セプタムは、第１の層の第１の減衰係数及び第２の層の第２の減衰係数よりも大きい第３の減衰係数を有する。端部支持体は、第１の層及び第２の層に取り付けられる。端部支持体は、セプタムの端部に境界を接する。

Description

本出願は、放射線撮像モダリティ用の散乱線除去コリメータ（例えば、対象物を検査するために放射線を利用する撮像モダリティ）に関する。コンピュータ断層撮影（ＣＴ）スキャナのコンテキストにおける特定の適用が見出される。しかしながら、本明細書に記載される特徴は、ＣＴ用途に限定されることを意図するものではなく、ラインスキャンシステム及びトモシンセシスシステム（例えば、マンモグラフィーシステム）などの他の放射線撮像用途に使用されてもよい。

今日、ＣＴ及び他の放射線撮像モダリティ（例えば、マンモグラフィー、デジタルＸ線撮影、単光子放出コンピュータ断層撮影法など）は、検査中の対象物の内側態様の情報又は画像を提供するのに有用である。一般に、対象物は放射線（例えば、Ｘ線、ガンマ線など）に曝露され、画像（複数可）は、対象物の内側態様によって吸収及び／若しくは減衰された放射線、又はむしろ対象物を通過できる放射線の光子の量に基づいて形成される。典型的には、対象物の高密度の態様（又は、より原子番号の高い元素からなる組成物を有する対象物の態様）は、より低密度の態様よりも多くの放射線を吸収及び／又は減衰させ、したがって、例えば、骨又は金属などのより高い密度（及び／若しくはより原子番号の高い元素）を有する態様は、筋肉又は衣類などのより低密度の態様によって囲まれたときに明らかとなるであろう。

一般に、放射線撮像モダリティは、とりわけ、一つ以上の放射線源（例えば、Ｘ線源、γ線源など）と、対象物を横断した放射線を、画像（複数可）を生成するために処理することができる信号に変換するようにそれぞれ構成された複数の画素（セルとも呼ばれる）からなる検出器アレイと、を含む。対象物が放射線源（複数可）と検出器アレイとの間を通過すると、放射線は対象物によって吸収／減衰され、検出された放射線の量／エネルギーの変化を引き起こす。検出された放射線に由来する情報を使用して、放射線撮像モダリティは、特定の関心対象（例えば、身体特性、脅威項目など）であり得る対象物内の事柄を検出するために使用することができる画像を生成するように構成される。これらの画像は、二次元画像又は三次元画像であり得る。

理想的な環境では、画素によって検出される放射線は、放射線源の焦点から直線軸上の画素を打つ一次放射線に対応する。しかしながら、物体に衝突する放射線の一部は散乱し、直線経路から逸脱する。画素によって検出される、二次放射線とも呼ばれる散乱放射線は、ノイズを増加させ、検出器信号に基づいて生成される画像の品質を低下させる。

散乱放射線が検出器アレイの画素に衝突する可能性を低減するために、散乱線除去コリメータを検査領域と検出器アレイとの間に挿入することができる。これらの散乱線除去コリメータは、散乱放射線を吸収する一方で、一次放射線がコリメータを通過し、検出器アレイの画素によって検出されることを可能にするように構成された、セプタムとも呼ばれる散乱線除去板を含む。セプタムは、二次放射線を吸収しながら一次放射線が通過することを可能にするために、放射線源及び検出器アレイに対して位置合わせされる。大きなセプタムを有するシステムは、セプタムを定位置に維持するために固定構造を利用する。これらの固定構造の使用にもかかわらず、セプタムの意図されない振動及び動きが発生する可能性があり、その結果、画質が低下する。更に、セプタムと固定構造との組み立ては、資源集約的（例えば、時間集約的）であり得、製造コストを増加させる。

本出願の態様は、上記の事項、及び他の事項に対処する。一態様によれば、散乱線除去コリメータは、第１の表面で第１の保持部材を画定する第１の層を備える。第１の層は、第１の減衰係数を有する。散乱線除去コリメータは、第１の層の第１の表面に面する第１の表面で第２の保持部材を画定する第２の層を備える。第２の層は、第２の減衰係数を有する。セプタムは、第１の層と第２の層との間に配置され、第１の保持部材及び第２の保持部材に物理的に接触する。第１の保持部材及び第２の保持部材は、第１の層及び第２の層に対するセプタムの位置を維持する。セプタムは、第１の減衰係数及び第２の減衰係数よりも大きい第３の減衰係数を有する。端部支持体は、第１の層及び第２の層に取り付けられる。端部支持体は、セプタムの端部に境界を接する。

別の態様によれば、散乱線除去コリメータは、第１の表面で第１の保持部材を画定する第１の層を備える。第１の層は、第１の減衰係数を有する。第２の層は、第１の層の第１の表面に面する第１の表面で第２の保持部材を画定する。第２の層は、第２の減衰係数を有する。複数のセプタムは、第１の層と第２の層との間に配置され、第１の保持部材及び第２の保持部材に物理的に接触する。第１の保持部材及び第２の保持部材は、第１の層及び第２の層に対する複数のセプタムのそれぞれの位置を維持する。第１の層の近くの複数のセプタムの第１のセプタムと複数のセプタムの第２のセプタムとの間のピッチは、第２の層の近くの複数のセプタムの第１のセプタムと第２のセプタムとの間の第２のピッチとは異なる。

別の態様によれば、コンピュータ断層撮影（ＣＴ）撮像モダリティは、放射線を放射するように構成された放射線源を含む。検出器アレイは、放射線の少なくとも一部を検出するように構成されている。散乱線除去コリメータは、放射線源と検出器アレイとの間に配置される。散乱線除去コリメータは、第１の表面で第１の保持部材を画定する第１の層を備える。第１の層は、第１の減衰係数を有する。第２の層は、第１の層の第１の表面に面する第１の表面で第２の保持部材を画定する。第２の層は、第２の減衰係数を有する。セプタムは、第１の層と第２の層との間に配置され、第１の保持部材及び第２の保持部材に物理的に接触する。第１の保持部材及び第２の保持部材は、第１の層及び第２の層に対するセプタムの位置を維持する。セプタムは、第１の減衰係数及び第２の減衰係数よりも大きい第３の減衰係数を有する。端部支持体は、第１の層及び第２の層に取り付けられる。端部支持体は、セプタムの端部に境界を接する。

当業者は、添付の説明を読んで理解すると、本出願の更に他の態様を理解するであろう。

本出願は、例として図示されており、添付図面の図面に限定されるものではなく、同様の参照指示は、一般に類似の要素を示す。

撮像モダリティの例示的な環境を示す。 例示的な散乱線除去コリメータを示す。 例示的な散乱線除去コリメータの分解組立図を示す。 セプタムが第１の層又は第２の層に取り付けられておらず、互いに平行に延在する、例示的な散乱線除去コリメータの分解断面図を示す。 セプタムが第１の層又は第２の層に取り付けられておらず、互いに非平行に延在する、例示的な散乱線除去コリメータの分解断面図を示す。 セプタムが第１の層又は第２の層に取り付けられている例示的な散乱線除去コリメータの断面図を示す。 端部支持体が第１の層及び第２の層に取り付けられている例示的な散乱線除去コリメータを示す。 保持部材を備える例示的な散乱線除去コリメータを示す。 保持部材を備える例示的な散乱線除去コリメータを示す。 保持部材を備える例示的な散乱線除去コリメータを示す。 散乱線除去コリメータの例示的な第１の層を示す。 散乱線除去コリメータの例示的な第１の層を示す。 散乱線除去コリメータの例示的な第１の層を示す。 散乱線除去コリメータの例示的な第１の層を示す。 散乱線除去コリメータの例示的な第１の層を示す。

特許請求される主題は、図面を参照して説明され、同様の参照番号は、一般的に全体を通して同様の要素を指すために使用される。以下の説明では、説明を目的として、特許請求される主題の完全な理解を提供するために、数多くの具体的な詳細が記載される。しかしながら、特許請求される主題は、これらの具体的な詳細を伴わずに実践することができることは明白であり得る。他の例では、特許請求される主題の説明を容易にするために、構造及び装置がブロック図の形態で示されている。

本開示は、放射線源と検出器アレイとの間に配置され得る、散乱線除去コリメータに関する。散乱線除去コリメータは、第１層と、第２層と、第１層と第２層との間に配置された複数のセプタムを有する。第１の層は、第１の層に対するセプタムの位置を維持するための第１の保持部材を有し、一方、第２の層は、第２の層に対するセプタムの位置を維持するための第２の保持部材を有する。このようにして、複数のセプタムの各セプタムは、第１の層と第２の層との間に（例えば、放射源と検出器アレイとの間の移動方向に）挟まれて、各セプタムの位置をしっかりと固定する。

複数のセプタムは、一次放射線が実質的に妨げられないように進むことができる伝送チャネルを画定するように離間され得る。放射線源と検出器アレイとの間に配置されることにより、放射線源から伝送された放射線は、検出器アレイによって受光される前に、散乱線除去コリメータを通過する。放射線源及び検出器アレイに対する散乱線除去コリメータの配向により、セプタムは、散乱（又は二次）放射線を吸収又は減衰させることができ、一方、一次放射線は、伝送チャネルを通って検出器アレイへと通過することができる。

図１は、検査中の対象物１０２又はその態様（複数可）を表すデータ（例えば、画像）を生成するように構成することができる例示的な放射線撮像モダリティを含む例示的な環境１００の図である。本明細書に記載される特徴は、図１に示す例示的コンピュータ断層撮影（ＣＴ）スキャナ以外の他の撮像モダリティへの適用性を見出すことができることが理解されるであろう。更に、例示的な環境１００に含まれる構成要素の配置及び／又は構成要素の種類は、例示目的のみのためである。例えば、回転構造体１０４（例えば、回転ガントリ）は、冷却ユニット、電源ユニットなどの放射源１１８及び／又は検出器アレイ１０６の動作を支持するための追加の構成要素を備えることができる。別の例として、データ取得構成要素１２２は、検出器アレイ１０６内に含まれ得、かつ／又は検出器アレイ１０６に取り付けられ得る。

例示的な環境１００において、撮像モダリティの検査ユニット１０８は、一つ以上の対象物１０２を検査するように構成されている。検査ユニット１０８は、回転構造体１０４と、本明細書においてフレームとも呼ばれる（静止）支持構造体１１０とを備え得、フレームは、（例えば、内側の回転リングの外側縁部を囲む外側の静止リングで示されるように）回転構造体１０４の少なくとも一部を包むかつ／又は取り囲むことができる。対象物（複数可）１０２の検査中、対象物（複数可）１０２は、検査領域１１４内に選択的に配置されたベッド又はコンベヤーベルトなどの対象物支持体１１２上に配置することができ（例えば、回転構造体１０４内の中空穴）、回転構造体１０４は、ベアリング、モータ、ベルト駆動ユニット、駆動シャフト、チェーン、ローラートラックなどの回転子１１６によって、対象物（複数可）１０２の周りで回転及び／又は支持され得る。

回転構造体１０４は、検査領域１１４の一部分を取り囲むことができ、一つ以上の放射線源１１８（例えば、電離Ｘ線源、ガンマ線源など）と、放射源（複数可）１１８に対して回転構造体１０４の実質的に正反対の側に取り付けられた検出器アレイ１０６とを含むことができる。

対象物（複数可）１０２の検査中、放射線源（複数可）１１８は、放射線源（複数可）１１８の焦点（複数可）（例えば、放射線１２０が出る放射線源（複数可）１１８内の領域）から、検査領域１１４へと扇又は円錐形状の放射線１２０を放射する。このような放射線１２０は、実質的に連続的に放射されてもよく、かつ／又は断続的に放射されてもよい（例えば、放射線の短いパルスが放射され、その後、放射線源１１８が活性化されていない休止期間が続く）。

放射された放射線１２０が対象物（複数可）１０２を通過すると、放射線１２０は、対象物（複数可）１０２の異なる態様によって異なるように減衰し得る。異なる態様は異なるパーセンテージの放射線１２０を減衰させるため、画像（複数可）は、検出器アレイ１０６によって検出される光子の数の減衰、又は変動に基づいて生成され得る。例えば、骨又は金属プレートなどの対象物（複数可）１０２のより高密度な態様は、皮膚又は衣類などのより低密度の態様よりも、放射線１２０のより多くを減衰させることができる（例えば、検出器アレイ１０６に衝突する光子をより少なくする）。

検出器アレイ１０６は、例えば、典型的には放射線源（複数可）１１８の焦点に曲率中心を有する、球弧の形で単一の列又は複数の列として配置された画素（セル又は要素と呼ばれることもある）の線形（例えば、１次元）又は２次元アレイを含むことができる。回転構造体１０４が回転すると、検出器アレイ１０６は、検出された放射線を電気信号へと、（例えば、非晶質セレン及び／又は他の直接変換材料を使用して）直接変換し、かつ／又は（例えば、ヨウ化セシウム（ＣｓＩ）及び／又は他の間接変換材料を使用して）間接的に変換するように構成される。

検出器アレイ１０６によって生成される信号は、検出器アレイ１０６と動作可能に通信するデータ取得構成要素１２２に送信することができる。典型的には、データ取得構成要素１２２は、検出器アレイ１０６によって出力された電気信号をデジタルデータに変換し、かつ／又は測定間隔中に取得されたデジタルデータを組み合わせるように構成される。測定間隔のためのデジタル出力信号の収集は、「投影」又は「ビュー」と呼ばれることがある。

例示的な環境１００はまた、データ取得構成要素１２２に動作可能に結合され、好適な分析、反復、及び／又は他の再構成技術（例えば、トモシンセシス再構築、逆投影、反復再構築など）を使用して、データ取得構成要素１２２から出力された信号に少なくとも部分的に基づいて、検査中の対象物１０２を表す一つ以上の画像を生成するように構成された画像再構成装置１２４を示す。

例示的な環境１００はまた、画像再構成装置１２４から画像（複数可）を受信するように構成された端末１２６、又はワークステーション（例えば、コンピュータ）を含み、画像（複数可）は、ユーザ１３０（例えば、セキュリティ担当者、医療関係者など）に対してモニタ１２８上に表示することができる。このようにして、ユーザ１３０は、対象物（複数可）１０２内の関心領域を特定するために画像（複数可）を検査することができる。端末１２６はまた、検査ユニット１０８の動作（例えば、回転構造体１０４の回転速度、放射線のエネルギーレベルなど）を指示することができるユーザ入力を受信するように構成することができる。

例示的な環境１００では、コントローラ１３２は、端末１２６に動作可能に結合されている。一例では、コントローラ１３２は、端末１２６からユーザ入力を受信し、実行される動作を示す検査ユニット１０８への指示を生成するように構成されている。

例示的な構成要素図は、一つのタイプの撮像モダリティの一実施形態を例示することを意図するものであり、限定的な方法で解釈されることを意図するものではないことが理解されるであろう。例えば、本明細書に記載される一つ以上の構成要素の機能は、複数の構成要素に分離することができ、かつ／又は本明細書に記載される二つ以上の構成要素の機能は、単に単一の構成要素に統合することができる。更に、撮像モダリティは、追加の特徴、機能などを実行するための追加の構成要素（例えば、自動脅威検出など）を備えることができる。

図２は、例示的な散乱線除去コリメータ２００を示す。散乱線除去コリメータ２００は、放射線源１１８と検出器アレイ１０６との間に配置することができる。いくつかの実施形態では、散乱線除去コリメータ２００は、放射線源１１８と対象物１０２との間（例えば、放射線源１１８の基部など）に配置された、プリオブジェクト（プリペイシェントとも呼ばれる）散乱線除去コリメータである。他の実施形態では、散乱線除去コリメータ２００は、対象物１０２と検出器アレイ１０６との間に配置された、ポストオブジェクト（ポストペイシェントとも呼ばれる）散乱線除去コリメータである。例えば、その他であるが、いくつかの実施形態では、散乱線除去コリメータ２００は、放射線源１１８に面する検出器アレイ１０６の上面に取り付けられる。散乱線除去コリメータ２００は、一次放射線が（例えば、ｙ方向に沿って）通過することを可能にしながら、検出器アレイ１０６のチャネルによって検出されないように、二次放射線を吸収するか、ないしは別の方法で変更するように構成されている。

図３を参照すると、散乱線除去コリメータ２００の分解図が示されている。散乱線除去コリメータ２００は、第１の層３００及び第２の層３０２を含む。第１の層３００及び第２の層３０２は、互いに略平行に延在することができ、放射線が散乱線除去コリメータ２００に衝突する方向に（例えば、ｙ方向に沿って）略垂直に延在するように配置することができる。第１の層３００は、第１の減衰係数を有し得る。第２の層３０２は、第２の減衰係数を有し得る。一例では、第１の減衰係数は、第２の減衰係数と等しくてもよく、そのため、一次放射線は、減衰、吸収などされることなく、第１の層３００及び第２の層３０２を通過することができる。

一例では、第１の層３００及び／又は第２の層３０２は、約０．５ミリメートル（ｍｍ）〜約１．５ｍｍ、又は約０．７５ｍｍ〜約１．２５ｍｍ、又は約１ｍｍの厚さを有する炭素繊維材料を含んでもよいが、他の材料及び／又は厚さも想到される。第１の層３００及び第２の層の材料及び厚さは、典型的には、放射線の減衰を最小化するように選択される。例えば、第１の層３００及び／又は第２の層３０２の材料及び厚さは、１層当たり約１％未満〜３％減衰するように選択されてもよい。したがって、第１の層３００及び第２の層３０２の総減衰（ｔｏｔａｌ ｃｏｍｂｉｎｅｄ ａｔｔｅｎｕａｔｉｏｎ）は、約２％〜約６％であるか、又は更には少なくてもよい。約５０キロ電子ボルト（ｋｅＶ）〜約１６０ｋｅＶの範囲において、第１の層３００は、第１の減衰係数を有し得、かつ／又は第２の層３０２は、約０．２センチメートル（ｃｍ）^−１〜約０．３ｃｍ^−１である第２の減衰係数を有し得る。

散乱線除去コリメータ２００は、複数の散乱線除去板、又はセプタムのセット３０４を備える。セプタムのセット３０４は、検出器アレイのチャネルによって検出されないように、二次放射線を吸収、減衰、ないしは別の方法で変化させるように構成される。セプタムのセット３０４は、例えば、モリブデン、タングステン、及び／又は、セプタムのセット３０４に照射する放射線の吸収ないしは別の方法での変更を可能にする特性を有する任意の他の材料を備え得る。

一例では、セプタム３１０及び複数の他のセプタム３１２は、セプタムのセット３０４を一緒に画定することができる。セプタムのセット３０４は、第１の層３００と第２の層３０２との間に配置され得る。一例では、セプタムは、第１の減衰係数及び第２の減衰係数よりも大きい第３の減衰係数を有し得る。第１の減衰係数及び第２の減衰係数は、一次放射線及び二次放射線が第１の層３００及び第２の層３０２を通過できるようなものである。第３の減衰係数は、セット３０４のセプタムに衝突する放射線が吸収及び／又は減衰されるようなものである。

一例では、セプタム３１２は、約５０マイクロメートル（μｍ）〜約１５０μｍ、又は約７５μｍ〜約１２５μｍ、又は約１００μｍの厚さを有するタングステン材料（例えば、タングステンエポキシ）を含んでもよい。一例では、約５０ｋｅＶ〜約１６０ｋｅＶで、セプタム３１２は、約５０ｃｍ^−１〜約１５０ｃｍ^−１、又は約７５ｃｍ^−１〜約１２５ｃｍ^−１、又は約１００ｃｍ^−１の減衰係数を有し得る。タングステン材料に加えて又はこれに代えて、セプタム３１２は、モリブデン、金、タリウム、鉛などのうちの一つ以上などの他の材料を含んでもよい。

セプタム３１０、３１２は、隣接するセプタム３１０、３１２間に伝送チャネル３１４（例えば、図４Ａにも図示される）を画定するように離間されている。一例では、伝送チャネル３１４は、一次放射線が、（例えば、ｙ方向に沿って）散乱線除去コリメータ２００を通過することを可能にするように構成され、その際、一次放射線は、下にある検出器アレイ１０６によって検出され得る。このようにして、一次放射線は、散乱線除去コリメータ２００を通過することができ、その一方、二次放射線は、セプタム３１０、３１２によって吸収及び／又は減衰される。したがって、二次放射線は、下にある検出器アレイ１０６によって検出されない。

散乱線除去コリメータ２００は、端部支持体３１６及び第２の端部支持体３１８などのセプタムのセット３０４を支持するための一つ以上の端部支持体を備える。端部支持体３１６は、第１の層３００及び第２の層３０２に取り付けることができる。端部支持体３１６は、機械的締結具（例えば、ボルト、ねじなど）、接着剤などを用いるような様々な方法で、第１の層３００及び第２の層３０２に取り付けることができる。第１の層３００及び第２の層３０２に取り付けられることにより、端部支持体３１６は、第１の層３００及び第２の層３０２の相対位置を維持することができる。端部支持体３１６及び第２の端部支持体３１８は、例えば、金属、プラスチックなどの実質的に剛性の材料を含んでもよい。

第２の端部支持体３１８は、機械的締結具（例えば、ボルト、ねじなど）、接着剤などを用いるような様々な方法で、第１の層３００及び第２の層３０２に取り付けることができる。第１の層３００及び第２の層３０２に取り付けられることにより、第２の端部支持体３１８は、第１の層３００及び第２の層３０２の相対位置を維持することができる。例えば、端部支持体３１６及び第２の端部支持体３１８は、互いから一定の距離で第１の層３００及び第２の層３０２を保持し、第１の層３００及び第２の層３０２の不注意による移動を制限することができる。

一例では、端部支持体３１６は、セプタムのセット３０４の端部３２０に境界を接してもよく、一方、第２の端部支持体３１８は、セプタムのセット３０４の第２の端部３２２に境界を接してもよい。このようにして、セプタムのセット３０４は、端部支持体３１６と第２の端部支持体３１８との間に配置され得る。したがって、端部支持体３１６及び第２の端部支持体３１８は、端部支持体３１６、３１８に対するセプタムのセット３０４の相対位置を維持することができる。

第１の層３００は、色々な方法で端部支持体３１６に取り付けることができる。一例では、第１の層３００は、第１の層３００の端部に第１の層開口部３５０を画定する。端部支持体３１６は、第１の支持体開口部３５２を画定する。一例では、第１の層３００の第１の層開口部３５０は、端部支持体３１６の第１の支持体開口部３５２と位置合わせされ得る。このようにして、締結具は、第１の層開口部３５０及び第１の支持体開口部３５２を通じて受容されて、第１の層３００及び端部支持体３１６を取り付けることができる。更に、この第１の層開口部３５０及び第１の支持体開口部３５２は、端部支持体３１６及び第１の層の位置合わせを確実にするために使用することができる。

第２の層３０２は、色々な方法で端部支持体３１６に取り付けることができる。一例では、第２の層３０２は、第２の層３０２の端部に第２の層開口部３６０を画定する。端部支持体３１６は、第２の支持体開口部３６２を画定する。一例では、第２の層３０２の第２の層開口部３６０は、端部支持体３１６の第２の支持体開口部３６２と位置合わせされ得る。このようにして、締結具は、第２の層開口部３６０及び第２の支持体開口部３６２を通じて受容されて、第２の層３０２及び端部支持体３１６を取り付けることができる。更に、この第２の層開口部３６０及び第２の支持体開口部３６２は、端部支持体３１６及び第２の層の位置合わせを確実にするために使用することができる。

第１の層３００は、色々な方法で第２の端部支持体３１８に取り付けることができる。一例では、第１の層３００は、第１の層３００の端部に第３の層開口部３７０を画定する。第２の端部支持体３１８は、第３の支持体開口部３７２を画定する。一例では、第１の層３００の第３の層開口部３７０は、第２の端部支持体３１８の第３の支持体開口部３７２と位置合わせされ得る。このようにして、締結具は、第３の層開口部３７０及び第３の支持体開口部３７２を通じて受容されて、第１の層３００及び第２の端部支持体３１８を取り付けることができる。更に、この第３の層開口部３７０及び第３の支持体開口部３７２は、端部支持体３１６及び第１の層の位置合わせを更に確実にするために使用することができる。

第２の層３０２は、色々な方法で第２の端部支持体３１８に取り付けることができる。一例では、第２の層３０２は、第２の層３０２の端部に第４の層開口部３８０を画定する。第２の端部支持体３１８は、第４の支持体開口部３８２を画定する。一例では、第２の層３０２の第４の層開口部３８０は、第２の端部支持体３１８の第４の支持体開口部３８２と位置合わせされ得る。このようにして、締結具は、第４の層開口部３８０及び第４の支持体開口部３８２を通じて受容されて、第２の層３０２及び第２の端部支持体３１８を取り付けることができる。更に、この第４の層開口部３８０及び第３の支持体開口部３８２は、端部支持体３１６及び第１の層の位置合わせを更に確実にするために使用することができる。

図４Ａを参照すると、図３の線４−４に沿った散乱線除去コリメータ２００の分解断面図が示されている。第１の層３００は、第１の表面４０２に一つ以上の保持部材を画定する。例えば、第１の層３００は、第１の表面４０２に第１の保持部材４００を画定し得る。一例では、第１の表面４０２は、セプタム３１０及び第２の層３０２に向かって面している。

第１の保持部材４００は、第１の層３００の一対の第１の側壁４０４を備える。第１の側壁４０４は、第１の溝４０６を画定することができる。したがって、第１の溝４０６は、第１の層３００内に画定され得、第１の表面４０２から、第１の層３００の第１の表面４０２の反対側の第２の表面４０８に向かって延在し得る。複数の第１の溝４１０は、第１の層３００の第１の表面４０２内に画定され得る。第１の溝４１０は、互いに略平行に延在し得る。一例では、各第１の溝の間の第１の表面４０２におけるピッチ４１２は、実質的に一定であり得る。別の例では、各第１の溝の間の第１の表面４０２におけるピッチ４１２は、非一定である、かつ／又は異なる場合がある。

第２の層３０２は、第１の表面４２２に一つ以上の第２の保持部材を画定する。例えば、第２の層３０２は、第１の表面４２２に第２の保持部材４２０を画定し得る。一例では、第１の表面４２２は、セプタム３１０、３１２及び第１の層３００に向かって面している。

第２の保持部材４２０は、第２の層３０２の一対の第２の側壁４２４を備える。第２の側壁４２４は、第２の溝４２６を画定することができる。したがって、第２の溝４２６は、第２の層３０２内に画定され得、第１の表面４２２から、第２の層３０２の第１の表面４２２の反対側の第２の表面４２８に向かって延在し得る。複数の第２の溝４２９は、第２の層３０２の第１の表面４２２内に画定され得る。第２の溝は、互いに略平行に、かつ第１の溝まで延在することができる。一例では、各第２の溝の間の第１の表面４２２におけるピッチ４３２は、実質的に一定であり得る。別の例では、各第２の溝の間の第１の表面４０２におけるピッチ４３２は、非一定である、かつ／又は異なる場合がある。

セプタム３１０、３１２は、第１の層３００と第２の層３０２との間に配置され得る。一例では、セプタム３１０、３１２は、第１の層３００及び第２の層３０２に略垂直に延在し得る。セプタム３１０、３１２は、第１の層３００の第１の減衰係数及び第２の層３０２の第２の減衰係数よりも大きい第３の減衰係数を有することができる。一例では、セプタム３１０、３１２の第１の端部４４０は、第１の層３００に近接して位置付けられ得る一方で、第２の端部４４２は、第２の層３０２に近接して位置付けられ得る。一例では、セプタム３１０、３１２の第１の端部４４０は、第１の端部４４０が第１の層３００の第１の表面４０２と第１の層３００の第２の表面４０８との間に位置付けられるように、第１の溝４０６内に受容され得る。一例では、セプタム３１０、３１２の第２の端部４４２は、第２の端部４４２が第２の層３０２の第１の表面４２２と第２の層３０２の第２の表面４２８との間に位置付けられるように、第２の溝４２６内に受容され得る。

図４Ｂを参照すると、散乱線除去コリメータ２００の別の例の分解断面図が示されている。互いに略平行に延在する図４Ａのセプタム３１０、３１２とは対照的に、図４Ｂのセプタム３１０、３１２の少なくとも一部は、互いに非平行に延在することができる。このようにして、図４Ｂのセプタム３１０、３１２は、共通の焦点に向かって収束することができ、これにより、セプタム３１０、３１２は、非一定のピッチによって互いに分離され得る。

一例では、セプタム３１０は、第２のセプタム４９０から離間していてもよく、一方、第２のセプタム４９０は、第３のセプタム４９１から離間していてもよい。したがって、第２のセプタム４９０は、セプタム３１０と第３のセプタム４９１との間に位置付けられる。第１のピッチ４８０は、セプタム３１０と第２のセプタム４９０とを第１の層３００の第１の表面４０２で分離することができる。第２のピッチ４８２は、セプタム３１０と第２のセプタム４９０とを第２の層３０２の第１の表面４２２で分離することができる。一例では、セプタム３１０と第２のセプタム４９０との間の第１のピッチ４８０は、セプタム３１０と第２のセプタム４９０との間の第２のピッチ４８２と異なっていてもよい。例えば、第１のピッチ４８０は第２のピッチ４８２よりも小さくてもよい。このようにして、第１の層３００の第１の表面４０２又は第２の層３０２の第１の表面４２２における、セプタム３１０と第２のセプタム４９０との間のピッチは、セプタム３１０、４９０の端部（例えば、４４０又は４４２）からセプタム３１０、４９０の中心に向かって移動するとき、非一定であってもよい。例えば、セプタム３１０と第２のセプタム４９０との間のピッチは、第２の層３０２の第１の表面４２２から第１の層３００の第１の表面４０２に向かって移動するときに減少し得る。

一例では、第３のピッチ４８１は、第２のセプタム４９０と第３のセプタム４９１とを第１の層３００の第１の表面４０２で分離することができる。第４のピッチ４８３は、第２のセプタム４９０と第３のセプタム４９１とを第２の層３０２の第１の表面４２２で分離することができる。一例では、第２のセプタム４９０と第３のセプタム４９１との間の第３のピッチ４８１は、第２のセプタム４９０と第３のセプタム４９１との間の第４のピッチ４８３と異なっていてもよい。例えば、第３のピッチ４８１は第４のピッチ４８３よりも小さくてもよい。このようにして、第１の層３００の第１の表面４０２又は第２の層３０２の第１の表面４２２における、第２のセプタム４９０と第３のセプタム４９１との間のピッチは、セプタム４９０、４９１の端部からセプタム４９０、４９１の中心に向かって移動するとき、非一定であってもよい。例えば、第２のセプタム４９０と第３のセプタム４９１との間のピッチは、第２の層３０２の第１の表面４２２から第１の層３００の第１の表面４０２に向かって移動するときに減少し得る。

一例では、セプタムのセット３０４の各セプタム間の第１の層３００の第１の表面４０２又は第２の層３０２の第１の表面４２２のうちの一つにおけるピッチは、実質的に一定であり得る。例えば、第２の層３０２の第１の表面４２２におけるセプタムのセット３０４の各セプタム間のピッチは、実質的に一定であってもよい。しかしながら、第１の層３００の第１の表面４０２におけるセプタムのセット３０４の各セプタム間のピッチは、非一定であってもよい。このような例では、外側セプタム間（例えば、図４Ｂの左側及び右側に向かう）の第１の層３００の第１の表面４０２におけるピッチは、中央セプタム間（例えば、図４Ｂの中心に向かう）のピッチよりも小さくてもよい。例えば、第２のピッチ４８２及び第４のピッチ４８３は、実質的に同じであってもよく、一方、第１のピッチ４８０は、第３のピッチ４８１よりも小さくてもよい（また、第２のピッチ４８２及び第４のピッチ４８３よりも小さくてもよい）。

図５を参照すると、図２の線５−５に沿った図４Ａの散乱線除去コリメータ２００の断面図が示されている。一例では、セプタム３１０、３１２は、第１の保持部材４００及び第２の保持部材４２０と物理的に接触することによって、第１の層３００及び第２の層３０２に対して適所に維持され得る。例えば、セプタム３１０は、第１の溝４０６及び第２の溝４２６内に受容され得る。一例では、セプタム３１０の第１の端部４４０は、第１の溝４０６内に受容され得る一方で、セプタム３１０の第２の端部４４２は、第２の溝４２６内に受容され得る。このようにして、第１の保持部材４００及び第２の保持部材４２０は、第１の層３００及び第２の層３０２に対するセプタム３１０の位置を維持し得る。

一例では、セプタムのセット３０４の各セプタム３１０、３１２間の第１の層３００の第１の表面４０２におけるピッチ５００は、実質的に一定であり得る。一例では、セプタムの第１のサブセット５１０とセプタムの第２のサブセット５１２との間の第２の層３０２の第１の表面４２２におけるピッチ５０２、５０４は、異なり得る。例えば、第２のピッチ５０２は、セプタムの第１のサブセット５１０間に画定され得る。第３のピッチ５０４は、セプタムの第２のサブセット５１２間に画定され得る。一例では、第２のピッチ５０２は第３のピッチ５０４と異なり得る。例えば、第２のピッチ５０２は第３のピッチ５０４より大きくてもよい。このようにして、第２の層３０２の第１の表面４２２におけるセプタム３１０、３１２間のピッチ５０２、５０４は、非一定であり得る一方、第１の層３００の第１の表面４０２におけるセプタム３１０、３１２間のピッチ５００は一定であり得る。

一例では、セプタムのセット３０４は、第１の方向５２０に積み重ねられて、端部（例えば、第１の端部４４０及び第２の端部４４２）及び中心５２２を有するスタックを画定することができる。端部４４０、４４２は、第１の保持部材４００及び第２の保持部材４２０と接触することができ、一方、中心５２２は、第１の保持部材４００と第２の保持部材４２０との間に位置付けられる。一例では、第２の層３０２（例えば、第２のピッチ５０２、第３のピッチ５０４など）におけるセプタム３１０、３１２間のピッチは、第２の端部４４２から中心５２２に向かって変化する非一定である（例えば、減少し得る）。このようにして、一例では、隣接するセプタム間のピッチは、一方の端部（例えば、第２の端部４４２）から別の端部（例えば、第１の端部４４０）に移動するとき、非一定であり得る。

図６を参照すると、図２の線６−６に沿った散乱線除去コリメータ２００の側面図が示されている。一例では、端部支持体３１６及び第２の端部支持体３１８は、第１の層３００及び第２の層３０２に取り付けることができる。端部支持部３１６は、第１の支持部６００と、第２の支持部６０２と、第３の支持部６０４と、を備える。第１の支持部６００は、第１の層３００に取り付けることができる。一例では、第１の支持部６００は、第１の層３００の第１の表面４０２に略平行に延在する。第１の支持部６００は、第１の表面４０２に隣接して、かつ／又は接触して延在することができる。一例では、第１の支持部６００の第１の支持端部６０６は、第１の層３００の第１の端部６０８と実質的に同一平面であり、かつ位置合わせされ得る。

一例では、端部支持体３１６の第２の支持部６０２は、第２の層３０２に取り付けることができる。第２の支持部６０２は、第２の層３０２の第１の表面４２２に略平行に延在し得る。第２の支持部６０２は、第１の表面４２２に隣接して、かつ／又は接触して延在することができる。このようにして、第２の支持部６０２は、第１の支持部６００から離間され、第１の支持部６００に略平行に延在し得る。一例では、第２の支持部６０２の第１の支持端部６１２は、第２の層３０２の第１の端部６１４と実質的に同一平面であり、かつ位置合わせされ得る。

一例では、端部支持体３１６の第３の支持部６０４は、第１の支持部６００と第２の支持部６０２との間で延在し得る。第３の支持部６０４は、第１の支持部６００及び第２の支持部６０２のうちの少なくとも一つに略垂直に延在し得る。第３の支持部６０４は、第１の支持部６００及び第２の支持部６０２に取り付けることができる。このようにして、第３の支持部６０４は、第２の支持部６０２に対して第１の支持部６００の相対位置を維持することができる。第３の支持部６０４は、機械的締結具、接着剤、又は溶接などにより、単一の複合部品（例えば、図示されるような）を形成することによるなど、色々な方法で第１の支持部６００及び第２の支持部６０２に取り付けることができる。

第３の支持部６０４は、セプタム３１０、３１２の第１の長手方向端部３２０に境界を接することができる。一例では、第３の支持部６０４は、軸６２２に略垂直に延在することができ、セプタム３１０、３１２はこの軸に沿って延在する。このようにして、第３の支持部６０４は、軸６２２に略平行である第１の方向６２４に沿ったセプタム３１０、３１２の移動を制限することができる。一例では、第３の支持部６０４は、窓６２６（例えば、図２及び図３に示される）を画定し、この窓を介してセプタム３１０、３１２が見える。

第２の端部支持体３１８は、端部支持体３１６と構造が類似している。一例では、第２の端部支持体３１８は、第１の支持部６５０と、第２の支持部６５２と、第３の支持部６５４と、を備える。第１の支持部６５０は、第１の層３００に取り付けることができる。一例では、第１の支持部６５０は、第１の層３００の第１の表面４０２に略平行に延在する。第１の支持部６５０は、第１の表面４０２に隣接して、かつ／又は接触して延在することができる。一例では、第１の支持部６００の第２の支持端部６５６は、第１の層３００の第２の端部６５８と実質的に同一平面であり、かつ位置合わせされ得る。第２の端部支持体３１８の第１の支持部６５０は、端部支持体３１６の第１の支持部６００と略平行かつ同一平面上に延在し得る。

一例では、第２の端部支持体３１８の第２の支持部６５２は、第２の層３０２に取り付けることができる。第２の支持部６５２は、第２の層３０２の第１の表面４２２に略平行に延在し得る。第２の支持部６５２は、第１の表面４２２に隣接して、かつ／又は接触して延在することができる。このようにして、第２の支持部６５２は、第１の支持部６５０から離間され、第１の支持部６５０に略平行に延在し得る。一例では、第２の支持部６５２の第２の支持端部６６２は、第２の層３０２の第２の端部６６４と実質的に同一平面であり、かつ位置合わせされ得る。第２の端部支持体３１８の第２の支持部６５２は、第２の端部支持体３１８の第１の支持部６５０と略平行かつ同一平面上に延在し得る。

一例では、第２の端部支持体３１８の第３の支持部６５４は、第１の支持部６５０と第２の支持部６５２との間で延在し得る。第３の支持部６５４は、第１の支持部６５０及び第２の支持部６５２のうちの少なくとも一つに略垂直に延在し得る。第３の支持部６５４は、第１の支持部６５０及び第２の支持部６５２に取り付けることができる。このようにして、第３の支持部６５４は、第２の支持部６５２に対して第１の支持部６５０の相対位置を維持することができる。第３の支持部６５４は、機械的締結具、接着剤、又は溶接などにより、単一の複合部品（例えば、図示されるような）を形成することによるなど、色々な方法で第１の支持部６５０及び第２の支持部６５２に取り付けることができる。一例では、第２の端部支持体３１８の第３の支持部６５４は、端部支持体３１６の第３の支持部６０４と略平行に延在し得る。

第３の支持部６５４は、セプタム３１０、３１２の第２の長手方向端部３２２に境界を接することができる。一例では、第３の支持部６５４は軸６２２に略垂直に延在することができ、セプタム３１０、３１２はこの軸に沿って延在する。このようにして、第３の支持部６５４は、軸６２２に略平行である第２の方向６７４に沿ったセプタム３１０、３１２の移動を制限することができる。一例では、第３の支持部６５４は、窓６７６（例えば、図２及び図３に示される）を画定し、この窓を介してセプタム３１０、３１２が見える。

図７を参照すると、第１の層７００の第２の例が示される。第２の層は、図７に例示される第１の層７００と実質的に同様であってもよいか、又は図２〜図６に示される第２の層３０２と実質的に同様であってもよい。第１の層７００は、第１の保持部材７０２と、第２の保持部材７０４と、第３の保持部材７０６と、を備える。第２の保持部材７０４は、第１の保持部材７０２と第３の保持部材７０６との間に離間され、配置され得る。このようにして、開口部７０８は、第１の保持部材７０２と第２の保持部材７０４との間に画定されてもよく、一方、第２の開口部７１０は、第２の保持部材７０４と第３の保持部材７０６との間に画定されてもよい。

第１の保持部材７０２は、第１の突出部材７２０及び第２の突出部材７２２を含む複数の突出部材７１８を備える。第１の突出部材７２０及び第２の突出部材７２２は、第１の層７００の第１の表面４０２から第２の層３０２の第１の表面４２２に向かって延在する。一例では、第１の突出部材７２０及び第２の突出部材７２２は、溝７２４が突出部材によって画定されるように離間されてもよい。例えば、溝７２４は、第１の突出部材７２０と第２の突出部材７２２との間に画定され得る。一例では、溝７２４は、第１の突出部材７２０の第１の側壁７２８、第２の突出部材７２２の第２の側壁７３０、及び底面７３２によって画定することができる。一例では、第１の層７００の第１の表面４０２は、底面７３２を備える。別の例では、底面７３２は、第１の表面４０２から突出し、第１の突出部材７２０と第２の突出部材７２２との間に延在する第３の突出部材に沿って画定されてもよい。そのような例では、溝７２４は、第１の突出部材７２０の第１の側壁７２８、第２の突出部材７２２の第２の側壁７３０、及び第３の突出部材の底面７３２によって画定することができる。

追加の溝７３４は、第１の保持部材７０２の隣接する突出部材７１８間に画定され得る。溝７３４は、第１の突出部材７２０及び第２の突出部材７２２によって画定される溝７２４と同様であり得る。一例では、第２の保持部材７０４は、第１の保持部材７０２と構造が類似している。例えば、第２の保持部材７０４は、第１の層７００の第１の表面４０２から第２の層３０２の第１の表面４２２に向かって延在する複数の突出部材７４０を備える。突出部材７４０は、隣接する突出部材７４０間に第２の溝７４２を画定するように離間され得る。一例では、第３の保持部材７０６は、第１の保持部材７０２及び第２の保持部材７０４と構造が類似している。例えば、第３の保持部材７０６は、第１の層７００の第１の表面４０２から第２の層３０２の第１の表面４２２に向かって延在する複数の突出部材７５０を備える。突出部材７５０は、隣接する突出部材７５０間に第３の溝７５２を画定するように離間され得る。

第１の保持部材７０２、第２の保持部材７０４、及び第３の保持部材７０６の溝７２４、７３４、７４２、７５２は、軸方向に整列され得る。例えば、軸７６０は、第１の保持部材７０２の溝７３４のうちの一つ、第２の保持部材７０４の第２の溝７４２のうちの一つ、及び第３の保持部材７０６の第３の溝７５２のうちの一つと交差し得る。残りの溝７３４、７４２、７５２は、軸線７６０と略平行に延在するように、同様に軸７６０と整列され得る。このようにして、溝７３４、７４２、７５２は、第１の層７００に対してセプタム３１０、３１２を維持するように、セプタム３１０、３１２を受容することができる。

図８及び図９を参照すると、第１の層８００の第３の例が示される。第２の層は、図８の第１の層８００、図７に示される第１の層７００、又は図２〜図６に示される第２の層３０２と同様であってもよい。第１の層８００は、第１の保持部材８０２、第２の保持部材８０４、第３の保持部材８０６などの一つ以上の保持部材を備える。第２の保持部材８０４は、第１の保持部材８０２と第３の保持部材８０６との間に離間され、配置され得る。このようにして、開口部８０８は、第１の保持部材８０２と第２の保持部材８０４との間に画定されてもよく、一方、第２の開口部８１０は、第２の保持部材８０４と第３の保持部材８０６との間に画定されてもよい。

第１の保持部材８０２は、第１の突出部材８２０及び第２の突出部材８２２を含む複数の突出部材８１８を備える。第１の突出部材８２０及び第２の突出部材８２２は、第１の層８００の第１の表面４０２から第２の層３０２の第１の表面４２２に向かって延在する。

一例では、第１の突出部材８２０及び第２の突出部材８２２は、溝８２４が突出部材によって画定されるように離間されてもよい。例えば、溝８２４は、第１の突出部材８２０と第２の突出部材８２２との間に画定され得る。一例では、溝８２４は、第１の突出部材８２０の第１の側壁８２８、第２の突出部材８２２の第２の側壁８３０、及び底面８３２によって画定することができる。一例では、第１の層８００の第１の表面４０２は、底面８３２を備える。別の例では、底面８３２は、第１の表面４０２から突出し、第１の突出部材８２０と第２の突出部材８２２との間に延在する第３の突出部材に沿って画定されてもよい。追加の溝８３４は、第１の保持部材８０２の隣接する突出部材８１８間に画定され得る。溝８３４は、第１の突出部材８２０及び第２の突出部材８２２によって画定される溝８２４と同様であり得る。

一例では、第２の保持部材８０４は、第１の保持部材８０２と構造が類似している。例えば、第２の保持部材８０４は、第１の層８００の第１の表面４０２から第２の層３０２の第１の表面４２２に向かって延在する複数の突出部材８４０を備える。突出部材８４０は、隣接する突出部材８４０間に第２の溝８４２を画定するように離間され得る。一例では、第３の保持部材８０６は、第１の保持部材８０２及び第２の保持部材８０４と構造が類似している。例えば、第３の保持部材８０６は、第１の層８００の第１の表面４０２から第２の層３０２の第１の表面４２２に向かって延在する複数の突出部材８５０を備える。突出部材８５０は、隣接する突出部材８５０間に第３の溝８５２を画定するように離間され得る。

一例では、隣接する保持部材の突出部材は、互いからオフセットされ得る。例えば、第１の保持部材８０２の突出部材８１８は、第２の保持部材８０４の突出部材８４０からオフセットされ得る。第２の保持部材８０４の突出部材８４０は、第３の保持部材８０６の突出部材８５０からオフセットされ得る。しかしながら、第１の保持部材８０２の突出部材８１８は、第３の保持部材８０６の突出部材８５０と位置合わせされ得る。一例では、整列させることによって、軸８６０は、第１の保持部材８０２の第１の突出部材８２０と、第３の保持部材８０６の突出部材８５０のうちの一つと交差することができる。一例では、オフセットさせることによって、第１の保持部材８０２の第１の突出部材８２０と、第３の保持部材８０６の突出部材８５０のうちの一つと交差する軸８６０は、第２の保持部材８０４の突出部材８４０と交差しない。

第２の軸８６２は、第２の保持部材８０４の突出部材８４０のうちの一つと交差することができる。一例では、第２の軸８６２は、軸線８６０に対して略平行に延在する。第１の保持部材８０２が第２の保持部材８０４からオフセットされているため、第２の軸８６２は、第１の突出部材８２０、第２の突出部材８２２、又は第１の保持部材８０２の突出部材８１８と交差しない。同様に、第３の保持部材８０６が第２の保持部材８０４からオフセットされているため、第２の軸８６２は、第３の保持部材８０６の突出部材８５０と交差しない。

第１の保持部材８０２、第２の保持部材８０４、及び第３の保持部材８０６の突出部材間に経路８７０を画定することができる。一例では、経路８７０は、軸８６０及び第２の軸８６２に略平行である経路軸８７２に沿って延在することができる。一例では、経路軸８７２は、第１の保持部材８０２の突出部材８１８、８２０、８２２と、第２の保持部材８０４の突出部材８４０と、第３の保持部材８０６の突出部材８５０と、他の保持部材の突出部材の少なくとも一部とは交差しない。一例では、経路８７０は、保持部材の突出部材の側壁間に画定され得る。経路８７０は、セプタム３１０、３１２の厚さ以上の厚さを有することができる。このようにして、セプタム３１０、３１２は、保持部材８０２、８０４、８０６が第１の層８００に対するセプタム３１０、３１２の位置を維持することができるように、経路８７０内に受容され得る。

図２〜図９に関連して本明細書に記載される溝は、色々な方法で形成することができることが理解されるであろう。一例では、溝の一部又は全て（例えば、図２〜図６に関連して説明される溝）は、ダイシング、鋸切断、レーザー切断、水切断、放電加工（ＥＤＭ）などのサブトラクティブな溝技術によって形成することができる。一例では、溝の一部又は全て（例えば、図７〜図９に関連して説明される溝）は、付加製造（例えば、３Ｄ印刷）、成形などの付加的な溝技術によって形成することができる。

図１０を参照すると、第１の層１０００の第４の例が示される。一例では、第１の層１０００は、第１の支持体開口部１００１及び第３の支持体開口部１００２を画定する。第１の層１０００は、第１の支持体開口部１００１及び第３の支持体開口部１００２を介して一つ以上の締結具を受容して、第１の層１０００を端部支持体３１６及び第２の端部支持体３１８に取り付けることができる。一例では、第１の支持体開口部１００１は第１の断面サイズ１００４を有し、第３の支持体開口部１００２は第３の断面サイズ１００６を有する。第１の支持体開口部１００１及び第３の支持体開口部１００２は、第１の層１０００の壁によって完全ではないが部分的に囲まれ得る円形形状を有する。

第１の支持体開口部１００１は、第１のチャネル１００８に隣接して画定される。第１のチャネル１００８は、第１のチャネル断面サイズ１０１２を有する。一例では、第１のチャネル断面サイズ１０１２は、第１の支持体開口部１００１の第１の断面サイズ１００４よりも小さい。第１の層１０００は、締結具を第１の支持体開口部１００１を通して受容するように構成され、締結具は、第１の断面サイズ１００４よりも小さいが第１のチャネル断面サイズ１０１２より大きい断面サイズを有する。このようにして、締結具が、第１のチャネル１００８を介して第１の支持体開口部１００１から不注意に取り外されることを制限する。

第３の支持体開口部１００２は、第３のチャネル１０１０に隣接して画定される。第３のチャネル１０１０は、第３のチャネル断面サイズ１０１４を有する。一例では、第３のチャネル断面サイズ１０１４は、第３の支持体開口部１００２の第３の断面サイズ１００６よりも小さい。第１の層１０００は、締結具を第３の支持体開口部１００２を通して受容するように構成され、締結具は、第３の断面サイズ１００６よりも小さいが第３のチャネル断面サイズ１０１４より大きい断面サイズを有する。このようにして、締結具が、第３のチャネル１０１０を介して第３の支持体開口部１００２から不注意に取り外されることを制限する。

図１１を参照すると、第１の層１１００の第５の例が示される。一例では、第１の層１１００は、第１の支持体開口部１１０１及び第３の支持体開口部１１０２を画定する。第１の層１１００は、第１の支持体開口部１１０１及び第３の支持体開口部１１０２を介して一つ以上の締結具を受容して、第１の層１１００を端部支持体３１６及び第２の端部支持体３１８に取り付けることができる。一例では、第１の支持体開口部１１０１及び第３の支持体開口部１１０２は、実質的に円形の断面形状を有するが、他の形状も想定される。

図１２を参照すると、第１の層１２００の第６の例が示される。一例では、第１の層１２００は、第１の支持体開口部１２０１及び第３の支持体開口部１２０２を備える。第１の層１２００は、第１の支持体開口部１２０１及び第３の支持体開口部１２０２を介して一つ以上の締結具を受容して、第１の層１２００を端部支持体３１６及び第２の端部支持体３１８に取り付けることができる。一例では、第１の支持体開口部１２０１は、長円形状、楕円形状、又は競技場形状（例えば、直線で接合された二つの半円を有する長円形状）などの非円形の形状を有することができる。第３の支持体開口部１２０２は、実質的に円形の断面形状を有することができるが、他の形状も想定される。

図１３を参照すると、第１の層１３００の第７の例が示される。一例では、第１の層１３００は、第１の支持体開口部１３０１及び第３の支持体開口部１３０２を備える。第１の層１３００は、第１の支持体開口部１３０１及び第３の支持体開口部１３０２を介して一つ以上の締結具を受容して、第１の層１３００を端部支持体３１６及び第２の端部支持体３１８に取り付けることができる。一例では、第１の支持体開口部１３０１及び第３の支持体開口部１３０２は、長円形状、楕円形状、又は競技場形状（例えば、直線で接合された二つの半円を有する長円形状）などの非円形の形状を有することができる。

図１４を参照すると、第１の層１４００の第８の例が示される。一例では、第１の層１４００は、第１の支持体開口部１１０１を備え、第１の支持体開口部１１０１は、実質的に円形の形状を有する。第１の層１４００は、第３の支持体開口部１００２及び第３のチャネル１０１０を備え得る。第１の層１４００は、第１の支持体開口部１１０１及び第３の支持体開口部１００２を介して一つ以上の締結具を受容して、第１の層１４００を端部支持体３１６及び第２の端部支持体３１８に取り付けることができる。

動作中に散乱線除去コリメータ２００に及ぼされる比較的大きな慣性力にもかかわらず、セプタムは、振動及び運動が低減された状態で定位置に維持され得る。例えば、第１及び第２の保持部材は、セプタムと接触して、セプタムの位置を第１の層及び第２の層に対して定位置に維持することができる。保持部材は、セプタムをセプタムの長さに少なくとも部分的に沿って支持するように配置することができる。このようにして、セプタムの対向する側面の第１の対は、第１の層及び第２の層に対して定位置に維持され得る。セプタムの対向する側面の第２の対は、端部支持体に対して定位置に維持され得る。したがって、動作中にセプタムの意図しない振動、運動、及び／又は位置ずれが低減されるため、二次放射線がセプタムによって吸収及び／又は減衰されている間、一次放射線がセプタム間で散乱線除去コリメータ２００を通過することを可能にする。

本明細書では、「例」及び／又は「例示的な」は、例（ｅｘａｍｐｌｅ）、例（ｉｎｓｔａｎｃｅ）、又は実例（ｉｌｌｕｓｔｒａｔｉｏｎ）としての役割を果たすことを意味するために使用されることを理解されたい。本明細書で「例」及び／又は「例示的な」として記載される任意の態様、設計などは、必ずしも他の態様、設計などよりも有利であると解釈されるべきではない。むしろ、これらの用語の使用は、具体的な方法で概念を提示することを意図している。本出願で使用するとき、用語「又は」は、排他的な「又は」ではなく包括的な「又は」を意味することを意図する。すなわち、別段の指定がない限り、又は文脈から明らかでない限り、「ＸはＡ又はＢを用いる」は、自然な包括的な順列のうちのいずれかを意味することを意図する。すなわち、ＸがＡを用い、ＸがＢを用い、又はＸがＡ及びＢの両方を用いる場合、「ＸはＡ又はＢを用いる」は、前述の例のいずれかの下で満たされる。加えて、本出願及び添付の「特許請求の範囲」で使用される冠詞「ａ」及び「ａｎ」は、一般に、別段の指定がない限り、又は文脈から単数形を対象にすることが明らかでない限り、「一つ以上」を意味すると解釈され得る。また、Ａ及びＢなどのうちの少なくとも一つは、一般にＡ若しくはＢ、又はＡ及びＢの両方を意味する。

本開示は、一つ以上の実装に関して示され説明されているが、本明細書及び添付図面の読み取り及び理解に基づいて当業者は同等の変更及び修正を思いつくであろう。本開示は、全てのそのような修正及び変更を含み、以下の「特許請求の範囲」の適用範囲によってのみ限定される。特に、上述の構成要素（例えば、要素、リソースなど）によって実行される様々な機能に関して、そのような構成要素を説明するために使用される用語は、特に指示がない限り、本明細書に示される本開示の例示的実装において機能を実行する開示された構造と構造的に同等でなくても、記載された構成要素の指定された機能を実行する任意の構成要素（例えば、機能的に同等である）に、対応することを意図している。同様に、示された行為の順序（単数又は複数）は限定することを意図するものではなく、そのため、行為の異なる（例えば、数字の）順序を含む異なる順序は、本開示の範囲内に含まれることを意図している。えて、本開示の特定の特徴は、いくつかの実装のうちの一つのみに関連して開示され得るが、そのような特徴は、任意の所与の又は特定の用途に所望され、有利であり得るように、他の実装の一つ以上の他の特徴と組み合わせることができる。更に、用語「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」、「有する（ｈａｓ）」、「有する（ｈａｓ）」、「有する（ｗｉｔｈ）」、又はその変異体が、「発明を実施するための形態」又は「特許請求の範囲」のどちらかで使用される範囲で、そのような用語は、用語「備える（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」と同様に包括することを意図している。

１００ 環境
１０２ 対象物
１０４ 回転構造体
１０６ 検出器アレイ
１０８ 検査ユニット
１１０ 支持構造体
１１２ 対象物支持体
１１４ 検査領域
１１６ 回転子
１１８ 放射線源
１２０ 放射線
１２２ データ取得構成要素
１２４ 画像再構成装置
１２６ 端末
１２８ モニタ
１３０ ユーザ
１３２ コントローラ

Claims (20)

1. 散乱線除去コリメータであって、
   第１の層の第１の表面に第１の保持部材を画定する第１の層であって、前記第１の層は第１の減衰係数を有する、第１の層と、
   前記第１の層の前記第１の表面に面する第２の層の第１の表面に第２の保持部材を画定する第２の層であって、前記第２の層は第２の減衰係数を有する、第２の層と、
   前記第１の層と前記第２の層との間に配置され、前記第１の保持部材及び前記第２の保持部材に物理的に接触する、セプタムであって、
   前記第１の保持部材及び前記第２の保持部材は、前記第１の層及び前記第２の層に対する前記セプタムの位置を維持し、
   前記セプタムが、前記第１の減衰係数及び前記第２の減衰係数よりも大きい第３の減衰係数を有する、セプタムと、
   前記第１の層及び前記第２の層に取り付けられた端部支持体であって、前記端部支持体が、前記セプタムの端部に境界を接する、端部支持体と、を備える、散乱線除去コリメータ。
2. 溝が、前記第１の層内に画定され、前記第１の層の前記第１の表面から、前記第１の層の前記第１の表面の反対側にある前記第１の層の第２の表面に向かって延在し、
   前記第１の保持部材が、前記溝を画定する前記第１の層の一対の側壁を備え、
   前記セプタムが、前記第１の層に対する前記セプタムの前記位置を維持するために、前記溝内に配置される、請求項１に記載の散乱線除去コリメータ。
3. 前記第１の保持部材が、前記第１の層の前記第１の表面から前記第２の層の前記第１の表面に向かって延在する突出部材を備え、
   溝が、前記突出部材によって少なくとも部分的に画定され、
   前記セプタムが、前記第１の層に対する前記セプタムの前記位置を維持するために、前記溝内に配置される、請求項１に記載の散乱線除去コリメータ。
4. 前記突出部材が、第１の突出部材と、第２の突出部材と、第３の突出部材とを備え、前記溝が、前記第１の突出部材の第１の側壁、前記第２の突出部材の第２の側壁、及び前記第３の突出部材の底面によって画定される、請求項３に記載の散乱線除去コリメータ。
5. 前記第１の保持部材が、前記第１の層の前記第１の表面から前記第２の層の前記第１の表面に向かって延在する第１の突出部材と、前記第１の層の前記第１の表面から前記第２の層の前記第１の表面に向かって延在する第２の突出部材と、を備え、
   溝が、前記第１の突出部材と前記第２の突出部材との間に画定され、
   前記セプタムが、前記第１の層に対する前記セプタムの前記位置を維持するために、前記溝内に配置される、請求項１に記載の散乱線除去コリメータ。
6. 前記溝が、前記第１の突出部材の第１の側壁と、前記第２の突出部材の第２の側壁と、前記第１の層の前記第１の表面によって画定される、請求項５に記載の散乱線除去コリメータ。
7. 前記端部支持体が、
   前記第１の層に取り付けられるように構成されている第１の支持部と、
   前記第２の層に取り付けられるように構成されている第２の支持部と、
   前記第１の支持部と前記第２の支持部との間に延在する第３の支持部と、を備える、請求項１に記載の散乱線除去コリメータ。
8. 前記第１の支持部が、前記第１の層の前記第１の表面に略平行に延在し、
   前記第１の支持部が、第１の支持体開口部を画定し、
   前記第１の層が、前記第１の支持体開口部と位置が合う第１の層開口部を画定する、請求項７に記載の散乱線除去コリメータ。
9. 前記第３の支持部が窓を画定し、前記窓を介して前記セプタムが見える、請求項７に記載の散乱線除去コリメータ。
10. 前記第１の減衰係数が、前記第２の減衰係数と等しい、請求項１に記載の散乱線除去コリメータ。
11. 前記セプタム及び複数の他のセプタムが共に、セプタムのセットを画定し、
    前記セプタムのセットの各セプタム間の前記第１の層の前記第１の表面又は前記第２の層の前記第１の表面のうちの一つにおけるピッチは、実質的に一定であり、前記セプタムのセットの第１のサブセットと前記セプタムのセットの第２のサブセットとの間の前記第１の層の前記第１の表面又は前記第２の層の前記第１の表面の他方における第２のピッチとは異なる、請求項１に記載の散乱線除去コリメータ。
12. 前記セプタムのセットが、端部及び中心を有するスタックを画定するために、第１の方向に積み重ねられ、
    前記第２の層の前記第１の表面における前記セプタム間の前記ピッチは、前記端部から前記中心への非一定に移動する、請求項１１に記載の散乱線除去コリメータ。
13. 第１の表面に第１の保持部材を画定する第１の層であって、前記第１の層が第１の減衰係数を有する、第１の層と、
    前記第１の層の前記第１の表面に面する第１の表面に第２の保持部材を画定する第２の層であって、前記第２の層が第２の減衰係数を有する、第２の層と、
    前記第１の層と前記第２の層との間に配置され、前記第１の保持部材及び前記第２の保持部材に物理的に接触する、複数のセプタムと、を備え、
    前記第１の保持部材及び前記第２の保持部材が、前記第１の層及び前記第２の層に対する前記複数のセプタムの位置を維持し、
    前記第１の層の近くの前記複数のセプタムの第１のセプタムと前記複数のセプタムの第２のセプタムとの間のピッチが、前記第２の層の近くの前記複数のセプタムの前記第１のセプタムと前記第２のセプタムとの間の第２のピッチとは異なる、散乱線除去コリメータ。
14. 溝が、前記第１の層内に画定され、前記第１の層の前記第１の表面から、前記第１の層の前記第１の表面の反対側にある前記第１の層の第２の表面に向かって延在し、
    前記第１のセプタムの第１の端部が、前記第１の層に対する前記第１のセプタムの前記位置を維持するように前記溝内に配置され、前記第１の端部は、前記第１の層の前記第１の表面と前記第１の層の前記第２の表面との間に位置付けられている、請求項１３に記載の散乱線除去コリメータ。
15. 第２の溝が、前記第２の層内に画定され、前記第２の層の前記第１の表面から、前記第２の層の前記第１の表面の反対側にある前記第２の層の第２の表面に向かって延在し、
    前記第１のセプタムの第２の端部が、前記第２の層に対する前記第１のセプタムの前記位置を維持するように前記第２の溝内に配置され、前記第２の端部は、前記第２の層の前記第１の表面と前記第２の層の前記第２の表面との間に位置付けられている、請求項１４に記載の散乱線除去コリメータ。
16. 前記ピッチが、前記第２のピッチより小さい、請求項１３に記載の散乱線除去コリメータ。
17. 前記第２のセプタムが、前記第１のセプタムに非平行に延在する、請求項１３に記載の散乱線除去コリメータ。
18. コンピュータ断層撮影（ＣＴ）撮像モダリティであって、
    放射線を放射するように構成された放射線源と、
    前記放射線の少なくとも一部を検出するように構成されている検出器アレイと、
    前記放射線源と前記検出器アレイとの間に配置された散乱線除去コリメータであって、前記散乱線除去コリメータが、
    第１の表面に第１の保持部材を画定する第１の層であって、前記第１の層が第１の減衰係数を有する、第１の層と、
    前記第１の層の前記第１の表面に面する第１の表面に第２の保持部材を画定する第２の層であって、前記第２の層が第２の減衰係数を有する、第２の層と、
    前記第１の層と前記第２の層との間に配置され、前記第１の保持部材及び前記第２の保持部材に物理的に接触する、セプタムであって、
    前記第１の保持部材及び前記第２の保持部材が、前記第１の層及び前記第２の層に対する前記セプタムの位置を維持し、
    前記セプタムが、前記第１の減衰係数及び前記第２の減衰係数よりも大きい第３の減衰係数を有する、セプタムと、
    前記第１の層及び前記第２の層に取り付けられた端部支持体であって、前記端部支持体が、前記セプタムの端部に境界を接する、端部支持体と、を備える、散乱線除去コリメータと、を備えるＣＴ撮像モダリティ。
19. 前記第１の層が前記第２の層と略平行に延在する、請求項１８に記載のＣＴ撮像モダリティ。
20. 前記端部支持体が窓を画定し、前記窓を介して前記セプタムが見える、請求項１８に記載のＣＴ撮像モダリティ。

Images