JP2020187576A - タッチパネル装置 - Google Patents

Abstract

【課題】入力位置の検出精度の低下を抑制できるタッチパネル装置を提供する。【解決手段】タッチパネル装置１は、上部シートの透明導電膜３０または下部シートの透明導電膜４０の少なくとも一方が、当該導電膜に設けられる電極対の対向方向と直行する方向に配列された複数の導電領域に区分され、複数の導電領域の少なくとも１つに、当該導電領域に設けられた電極対の対向方向に沿って延在するよう導電層が除去されて形成される導電層除去部としてのスリット３３、４３を有する。【選択図】図７

Description

本開示は、タッチパネル装置に関する。

従来、抵抗膜方式タッチパネルにてマルチ入力を実施するために、上部基板と下部基板の透明導電膜を複数に分割し、分割数に応じた電極を設けた構造（以下では「アナログマトリクス構造」という）のタッチパネル装置が知られている（例えば特許文献１参照）。

特開２０１０−９１４２号公報

従来のアナログマトリクス構造では、本来の入力位置の他にユーザが誤って別の位置を触れる場合がある。この場合、誤って触れた位置での上部基板と下部基板との接触によって電極間抵抗値が変動するため、本来の入力位置の検出電圧が変動し、入力位置の検出精度が低下する虞がある。

本開示は、入力位置の検出精度の低下を抑制できるタッチパネル装置を提供することを目的とする。

本発明の実施形態の一観点に係るタッチパネル装置は、抵抗膜方式のタッチパネル装置であって、第１の基板と、前記第１の基板と対向して配置される第２の基板と、前記第１の基板の前記第２の基板との対向面に形成される第１の導電層と、前記第２の基板の前記第１の基板との対向面に形成される第２の導電層と、前記第１の導電層に設けられる第１の電極対と、前記第２の導電層に設けられ、前記第１の電極対の対向方向と直交する方向に対向配置される第２の電極対と、を備え、前記第１の導電層または前記第２の導電層の少なくとも一方が、当該導電層に設けられる電極対の対向方向と直行する方向に配列された複数の導電領域に区分され、前記複数の導電領域の少なくとも１つに、当該導電領域に設けられた電極対の対向方向に沿って延在するよう導電層が除去されて形成される導電層除去部を有する。

本開示によれば、入力位置の検出精度の低下を抑制できるタッチパネル装置を提供することができる。

４線式のタッチパネル装置の断面図 ４線式のタッチパネル装置の分解斜視図 参考例のアナログマトリクス構造の分解斜視図 アナログマトリクス構造の平面図 お手付き無し時の透明導電膜の等価回路を示す図 お手付き有り時の透明導電膜の等価回路を示す図 実施形態に係るタッチパネル装置の分解斜視図 スリットを設けない場合の電流の流れを示す模式図 スリットを設けた場合の電流の流れを示す模式図 実施形態のタッチパネル装置におけるお手付き有り時の透明導電膜の等価回路を示す図 ターゲット位置とお手付き位置とがｙ方向に並ぶときのスリットの配置を説明する図 スリット形状の変形例を示す図

以下、添付図面を参照しながら実施形態について説明する。説明の理解を容易にするため、各図面において同一の構成要素に対しては可能な限り同一の符号を付して、重複する説明は省略する。

以下の説明において、ｘ方向、ｙ方向、ｚ方向は互いに垂直な方向である。ｚ方向はタッチパネル装置１の各要素の積層方向である。ｚ正方向側を上側、ｚ負方向側を下側と表記する。ｘ方向は矩形状のタッチパネル装置１の一方の対辺の延在方向であり、ｙ方向は他方の対辺の延在方向である。

＜４線式タッチパネル装置の基本構成＞
図１及び図２を参照して、４線式のタッチパネル装置について説明する。図１はタッチパネル装置１の積層方向の断面図である。図２はタッチパネル装置１の分解斜視図である。

タッチパネル装置１は、抵抗膜方式の４線式タッチパネルである。抵抗膜方式のタッチパネル装置とは、上部電極基板及び下部電極基板に形成された透明導電膜同士を対向するように設置し、上部電極基板に力を加えたことによる透明導電膜同士の接触位置を検出するものである。

図１に示すように、タッチパネル装置１は、一方の面に透明導電膜３０（第１の導電層）が形成された上部電極基板となるフィルム１０（第１の基板）と、一方の面に透明導電膜４０（第２の導電層）が形成された下部電極基板となるガラス２０（第２の基板）とを有し、透明導電膜３０及び透明導電膜４０が対向するようにスペーサ５０を介し接続されて形成されている。このようなタッチパネルはホストコンピュータ等と接続されている。透明導電膜３０，４０の材料は、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：酸化インジウムスズ）である。

図２に示すように、フィルム１０には、透明導電膜３０が形成された面のｘ軸方向の両端に、ｙ軸方向に沿って電極３１、３２（第１の電極対）が設けられている。ガラス２０には、透明導電膜４０が形成された面のｙ軸方向の両端に、ｘ軸方向に沿って電極４１、４２（第２の電極対）が設けられている。

タッチパネル装置１においてタッチパネルに接触した点Ｐの位置を検出する場合、Ｘ座標検出のために電極３１と電極３２とに電圧を印加する。図２の例では、電極３１を接地し、電極３２に電源電圧ＶＤＤ（例えば５Ｖ）を印加する。このとき、透明導電膜３０には、電極３１及び電極３２によりＸ軸方向に電位勾配が生ずるように電圧が印加される。点Ｐにおいて透明導電膜３０と透明導電膜４０が接触すると、透明導電膜４０より点Ｐにおける電位を検出することができる。この検出電位に基づき、点ＰにおけるＸ座標を検出することができる。

同様に、Ｙ座標検出のために、例えば電極４１を接地し、電極４２に電源電圧ＶＤＤを印加して、透明導電膜４０に電極４１及び電極４２によりＹ軸方向に電位勾配を生じさせる。点Ｐにおいて透明導電膜３０と透明導電膜４０が接触すると、透明導電膜３０より点Ｐにおける電位を検出することができる。この検出電位に基づき点ＰにおけるＹ座標を検出することができる。

＜アナログマトリクス構造＞
次に図３〜図６を参照して、参考例のアナログマトリクス構造のタッチパネル装置について説明する。図３は、参考例のアナログマトリクス構造の分解斜視図である。図４は、アナログマトリクス構造の平面図である。

図３に示すタッチパネル装置１００では、透明導電膜３０、４０が、共に透明導電膜に設けられる電極対の対向方向と直行する方向に配列された複数（図３では３つ）の導電領域に区分されている。

上部シートとしての透明導電膜３０はｙ方向に沿って三分割され、３つの導電領域３０−１、３０−２、３０−３（第１の導電領域群）に区分されている。導電領域３０−１、３０−２、３０−３のそれぞれは互いに電気的に絶縁されている。透明導電膜３０の区分に応じて電極３１，３２も三分割され、導電領域３０−１、３０−２、３０−３には、それぞれｘ方向に対向する電極３１−１、３１−２、３１−３と、電極３２−１、３２−２、３２−３とが設けられている。

下部シートとしての透明導電膜４０はｘ方向に沿って三分割され、３つの導電領域４０−１、４０−２、４０−３（第２の導電領域群）に区分されている。導電領域４０−１、４０−２、４０−３のそれぞれは互いに電気的に絶縁されている。透明導電膜４０の区分に応じて電極４１，４２も三分割され、導電領域４０−１、４０−２、４０−３には、それぞれｙ方向に対向する電極４１−１、４１−２、４１−３と、電極４２−１、４２−２、４２−３とが設けられている。

このようにそれぞれ三分割された透明導電膜３０と透明導電膜４０とが組み付けられると、図４に示すようにタッチパネルは９つの領域に区分される。導電領域３０−１と導電領域４０−１とが重なる領域Ａでは、電極３１−１と電極３２−１、及び電極４１−１と電極４２−１の組合せにより入力位置を検出できる。導電領域３０−１と導電領域４０−２とが重なる領域Ｂでは、電極３１−１と電極３２−１、及び電極４１−２と電極４２−２の組合せにより入力位置を検出できる。導電領域３０−１と導電領域４０−３とが重なる領域Ｃでは、電極３１−１と電極３２−１、及び電極４１−３と電極４２−３の組合せにより入力位置を検出できる。導電領域３０−２と導電領域４０−１とが重なる領域Ｄでは、電極３１−２と電極３２−２、及び電極４１−１と電極４２−１の組合せにより入力位置を検出できる。導電領域３０−２と導電領域４０−２とが重なる領域Ｅでは、電極３１−２と電極３２−２、及び電極４１−２と電極４２−２の組合せにより入力位置を検出できる。導電領域３０−２と導電領域４０−３とが重なる領域Ｆでは、電極３１−２と電極３２−２、及び電極４１−３と電極４２−３の組合せにより入力位置を検出できる。導電領域３０−３と導電領域４０−１とが重なる領域Ｇでは、電極３１−３と電極３２−３、及び電極４１−１と電極４２−１の組合せにより入力位置を検出できる。導電領域３０−３と導電領域４０−２とが重なる領域Ｈでは、電極３１−３と電極３２−３、及び電極４１−２と電極４２−２の組合せにより入力位置を検出できる。導電領域３０−３と導電領域４０−３とが重なる領域Ｉでは、電極３１−３と電極３２−３、及び電極４１−３と電極４２−３の組合せにより入力位置を検出できる。

アナログマトリクス構造では、複数の異なる領域に同時に接触した場合にもそれぞれの接触位置を検出でき、マルチ入力が可能となっている。

しかしながら、図３のアナログマトリクス構造では、接触する領域の組合せによっては検出精度が低下する場合がある。タッチパネルにペンで入力する際にペンを握る手が誤ってタッチパネルに触れる状況を例示して説明する。以降、ユーザが意図して接触した位置を「ターゲット位置Ｐ」、手などが誤って接触した位置を「お手付き位置Ｔ」と呼ぶ。

図３に示すように、ターゲット位置Ｐとお手付き位置Ｔとがｘ方向に並び、両者が共に導電領域３０−２に接触する状況を考える。この場合、導電領域３０−２は、ターゲット位置Ｐでは下部シートの中央の導電領域４０−２に接触し、お手付き位置Ｔでは導電領域４０−３に接触する。ターゲット位置Ｐは図４に示す領域Ｅに位置し、お手付き位置Ｔは領域Ｆに位置する。このとき、お手付き位置Ｔにおいて上部シートと下部シートとが広い範囲で接触することによって、ターゲット位置Ｐのｘ座標を求めるときに、お手付き位置Ｔの抵抗値が影響して、タッチパネル装置がペンの接触した位置とは異なる位置をターゲット位置として算出して位置検出精度が低下する場合がある。

位置検出精度の低下について、図５、図６を参照して説明する。図５、図６では、透明導電膜３０、４０の等価回路を示す。図５はお手付き無し時の透明導電膜３０，４０の等価回路を示し、図６は、お手付き有り時の透明導電膜３０，４０の等価回路を示す。

図５に示すように、お手付きが発生していない状態では、上部シートの透明導電膜３０（図３の例では導電領域３０−２）は、ターゲット位置Ｐよりｘ負方向側の抵抗Ｒ１と、ターゲット位置Ｐよりｘ正方向側の抵抗Ｒ３とが直列接続された回路と等価である。下部シートは、ターゲット位置Ｐにて上部シートと接続され、この部分に、ターゲット位置Ｐの接触抵抗Ｒｐと下部シートの通電部分の導電膜の抵抗Ｒ２とが直列接続された構成と等価である。また、下部シートの通電しない部分の抵抗はＲ４である。抵抗Ｒ１と抵抗Ｒ３との大小関係は、ｘ方向のターゲット位置Ｐと上部シートのｘ方向両端までとの距離によって決まる。図３、図４の例では、ターゲット位置Ｐから上部シートのｘ方向両端までの距離は略同一であるので、抵抗値の関係はＲ１＝Ｒ３となる。したがって、ターゲット位置Ｐの電位は、上部シートの電極間の印加電圧の約半分の値となる。

図５の等価回路では、上部シートの電極間抵抗値Ｒａは以下の（１）式で表される。

Ｒａ＝Ｒ１＋Ｒ３ ・・・（１）

一方、お手付きが発生するとお手付き位置Ｔでも上部シートと下部シートとが接触するため、図６に示すように、お手付きによる接触抵抗Ｒｔ１、Ｒｔ２によって、上部シートの抵抗Ｒ３と下部シートの抵抗Ｒ４とが並列接続される。このとき、お手付き位置Ｔの合成抵抗Ｒは、Ｒ＝１／（１／Ｒ３＋１／Ｒ４）＝（Ｒ４／（Ｒ３＋Ｒ４））・Ｒ３と表され、図５と同様にＲ１＝Ｒ３の関係にある場合、Ｒ１＞Ｒとなる。上下シートの接触面積に応じて合成抵抗Ｒの値も変化するが、お手付きの場合の上下シートの接触面積はペンや指で押圧した際の接触面積よりも大きいため、抵抗Ｒ３と抵抗Ｒ４との並列回路による合成抵抗Ｒの影響も大きくなる。これにより、導電領域のｘ方向中央がペンによって押圧されているにもかかわらず、ターゲット位置Ｐより上流側の抵抗Ｒ１と下流側の合成抵抗Ｒとのバランスが崩れ、抵抗Ｒ１に印加される電圧が相対的に増えるので、ターゲット位置Ｐの電位が上部シートの電極間の印加電圧の約半分より小さい値となる。これにより、ターゲット位置Ｐは本来よりｘ正方向にずれた位置として認識されてしまう。

図６の等価回路では、上部シートの電極間抵抗値Ｒｂは以下の（２）式で表される。

＜実施形態のタッチパネル構造＞
次に図７〜図１２を参照して、実施形態のタッチパネル装置１の構造について説明する。図７は、タッチパネル装置１の分解斜視図である。図８は、スリットを設けない導電領域における電流の流れを示す模式図である。図９は、スリットを設けた導電領域における電流の流れを示す模式図である。図１０は、タッチパネル装置１におけるお手付き有り時の透明導電膜３０，４０の等価回路を示す図である。図１１は、ターゲット位置Ｐとお手付き位置Ｔとがｙ方向に並ぶときのスリットの配置を説明する図である。図１２は、スリット形状の変形例を示す図である。

図３のアナログマトリクス方式のタッチパネル装置では、お手付きが生じるとターゲット位置Ｐの位置検出精度が低下することが問題であった。本実施形態では、お手付きが発生した場合でも、お手付き位置Ｔの合成抵抗Ｒの値の低下を抑制することで、ターゲット位置Ｐの位置検出精度の低下を抑制する。

具体的には、図７に示すように、お手付き位置Ｔで上部シートと接触する下部シート側の導電領域４０−３に、電極４１−３と電極４２−３とが対向する方向に沿って複数のスリット４３が設けられている。スリット４３は、お手付き位置Ｔで導電領域４０−３が上部シートと接触する部分をｘ方向に沿って複数に分断するように配置されている。このようにスリット４３を設けることによって、導電領域３０−２の抵抗成分（図１０のＲ３）と並列接続される導電領域４０−３の抵抗成分（図１０のＲ４´）を、図６に示した参考例の抵抗成分Ｒ４より相対的に増大させて、これによりお手付き位置Ｔの合成抵抗Ｒの減少を抑制できる。

スリット４３は、例えばエッチングなどの手法を用いて導電領域４０−３の導電性材料を除去することによって形成することができる。すなわち、スリット４３は、「導電領域４０−３に設けられた電極対４１−３、４２−３の対向方向に沿って延在するよう導電層（透明導電膜４０）が除去されて形成される導電層除去部」とも表現できる。

図８に示すように、スリットを設けないアナログマトリクス構造では、お手付き位置Ｔで上部シートと接触する導電領域４０−３において、接触している導電領域３０−２と同方向、つまりｘ正方向に電流Ｉ１が流れる。このとき、電流Ｉ１の経路長Ｌ１は、導電領域４０−３のｘ方向の長さとなり、電流Ｉ１の経路の幅Ｄ１は、電流Ｉ１の流れ方向と直交する電極４１−３と電極４２−３との間の距離となる。

一方、図９に示すように、電極４１−３と電極４２−３との間に複数のスリット４３を設ける構成では、お手付きによって導電領域４０−３に流れる電流Ｉ２は導電領域４０−３のｘ負側からｘ正方向に流れようとするが、スリット４３により阻害される。このため、電流Ｉ２はスリット４３が延在するｙ方向に沿って電極４１−３または電極４２−３に向かって流れ、スリット４３の端部を迂回し、その後はｘ正方向に流れると共に、電流Ｉ２の一部はスリット４３の間の領域をｙ方向に沿って導電領域４０−３のｙ方向中央部に向かって流れ、再びお手付き位置Ｔにて導電領域４０−３と接触している上部シート側に流れる。電流Ｉ２がスリット４３の延在方向に沿って迂回して流れるため、導電領域４０−３を流れる電流の総距離Ｌ２は、図８に示したスリット４３が無い構成の距離Ｌ１よりも増大する。電流Ｉ２の経路が長くなるほど、導電領域４０−３にて電流Ｉ２が流れる部分の抵抗値（図１０のＲ４´）は相対的に大きくなる。

また、スリット４３の間をｙ方向に沿って流れる電流Ｉ２の経路の幅Ｄ２は、基本的には隣り合うスリット４３の間の距離となり、図８に示したスリット４３が無い構成の幅Ｄ１よりも狭くなる。電流Ｉ２の経路の幅が狭くなるほど、導電領域４０−３にて電流Ｉ２が流れる部分の抵抗値（図１０のＲ４´）は相対的に大きくなる。

つまり、図１０に示すように、図９の構成における上部シートと接触する導電領域４０−３のお手付き位置Ｔの部分の抵抗Ｒ４´は、図８の構成におけるお手付き位置Ｔでの導電領域４０−３の抵抗Ｒ４より格段に大きい抵抗値となる（Ｒ４＜＜＜Ｒ４´）。このとき、お手付き位置Ｔの合成抵抗Ｒは、Ｒ＝１／（１／Ｒ３＋１／Ｒ４´）＝（Ｒ４´／（Ｒ３＋Ｒ４´））・Ｒ３と表される。これにより、お手付き位置Ｔでの合成抵抗値Ｒは、抵抗値Ｒ４´の影響によって、図６に示した参考例の合成抵抗値よりも増大して抵抗Ｒ３の値に近づき、抵抗Ｒ１との差異が減少する。これにより、ターゲット位置Ｐの上流側と下流側の抵抗値のバランスが改善し、検出されるターゲット位置Ｐの電位が実際の位置とより近いものとなる。このように、本実施形態のタッチパネル装置１では、お手付き位置Ｔにスリット４３を設けることにより、電極間の電流の流れを抑えることができ、電極間抵抗の変動値が限りなく少なくなる為、検出電圧の変動を抑えることが可能であり、この結果、入力位置の検出精度の低下を抑制できる。

図１０の等価回路では、上部シートの電極間抵抗値Ｒｃは以下の（３）式で表される。

ここで、図５、図６、図１０の等価回路における上部シートの電極間抵抗値Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃを比較する。

ターゲット位置Ｐが同一であれば、図５、図６、図１０の各図において抵抗Ｒ１〜Ｒ４は５００Ωの同一値と仮定することができる。このとき図５の等価回路における上部シートの電極間抵抗値Ｒａは、（１）式を用いて以下のとおり１０００Ωとなる。

Ｒａ＝Ｒ１＋Ｒ３＝５００＋５００＝１０００Ω

図６の等価回路における上部シートの電極間抵抗値Ｒｂは、（２）式を用いて以下のとおり７５０Ωとなり、図５より２５０Ω低くなる。

Ｒｂ＝Ｒ１＋(１／（１／Ｒ３＋１／Ｒ４）)
＝５００＋（１／（１／５００＋１／５００））
＝５００＋１／（２／５００）
＝５００＋２５０＝７５０

図９を参照して説明したとおり、下部シートにスリット４３を設けると抵抗Ｒ４の抵抗値が上がることは自明である。スリット有りの場合の抵抗Ｒ４´の抵抗値を５０００Ωと仮定すると、図１０の等価回路における上部シートの電極間抵抗値Ｒｃは、（３）式を用いて以下のように算出できる。

Ｒｃ＝Ｒ１＋(１／(１／Ｒ３＋１／Ｒ４´)
＝５００＋(１／（１／５００＋１／５０００))
＝５００＋１／（１１／５０００)
＝５００＋４５４．５４＝９５４．５４Ω

このように、図１０の等価回路における上部シートの電極間抵抗値Ｒｃは９５４．５４Ωとなり、抵抗Ｒ４の抵抗値をＲ４´に増大させることにより、上部シートの電極間の抵抗の変動を抑えることが可能となる。

また、上記のスリットなしおよびスリット有りのタッチパネル装置のそれぞれの実機にお手付きエリアを再現して、抵抗値Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃを測定した。お手付きエリアは、上部シート電極間の抵抗値Ｒａが２４００Ωであるタッチパネル装置の上部シートに、半径５０ｍｍ、３００gのおもりを乗せて再現した。スリットがないタッチパネル装置では、抵抗値Ｒｂの実測値は２２６０Ωだった。また、スリット４３を１０ｍｍ間隔で６本入れた構成では、抵抗値Ｒｃの実測値は２３６０Ωであり、スリット４３を５ｍｍ間隔で１３本入れた構成では、抵抗値Ｒｃの実測値は２３９８Ωであった。

このように、実測値でも、上記の等価回路の計算値と同様に、スリット４３を入れた本実施形態の構成のほうが、スリットのないアナログマトリクス構造と比較してお手付き発生時の上部シートの電極間の抵抗値変動が抑制されることがわかる。また、スリットの数を増やすほど、抵抗値変動の抑制効果が高まることが示された。

なお、図１１に示すように、ターゲット位置Ｐとお手付き位置Ｔとがｙ方向に並ぶ場合には、上部シートのうちお手付き位置Ｔに対応する導電領域３０−３に、電極３１−３と電極３２−３との対向方向（ｘ方向）に沿って複数のスリット３３を設けることにより、ｙ方向のターゲット位置Ｐの計測電圧の誤差を低減でき、ターゲット位置Ｐの推定位置の誤差を低減できる。

なお、スリット４３は、下部シートの全ての導電領域に設けてもよいが、お手付きが生じ得ると想定される位置の下部シートの導電領域に設けられれば良い。図３、図７では導電領域４０−３のみにスリット４３を設けているが、導電領域４０−３以外の導電領域４０−１や導電領域４０−２に設けるようにしてもよい。同様に、スリット３３は、お手付きが生じ得ると想定される位置の上部シートの導電領域に設けられれば良く、導電領域３０−３以外の導電領域３０−１や導電領域３０−２に設けるようにしてもよい。

スリット３３もスリット４３も、共にスリットが設けられる導電領域中の電極対の対向方向に沿って設けられるので、電極間に電圧を印加した際にはスリット３３、４３が電極間の電流の流れを阻害することがなく、位置計測時の電圧印加に影響はない。

また、アナログマトリクス構造では、図３などに例示した上部シート、下部シートの両方が複数の導電領域に区分される構成以外にも、上部シートまたは下部シートの一方のみが複数の導電領域に区分される構成もある。例えば上部シートが３分割され、下部シートが区分されない構成では、タッチパネルの接触位置の検出領域は３つの領域となる。このような構成でも、上部シート及び下部シートのうち複数の導電領域に区分される側のシートにおいて、上記と同様のスリットを設けることで、同様の効果を奏することができる。

図９を参照して、スリット３３、４３を設けることによってお手付き位置Ｔと接触する導電領域の抵抗値を大きくできることを説明したが、例えば図１２に示すようにお手付き位置Ｔが電極と近い位置の場合には、電流の迂回距離が短くなるため、抵抗値の増加が不足して効果が薄れる可能性がある。特に下部シートのみ３分割で上部シート分割なしの構成、すなわちタッチパネルが、図４の領域Ａ，Ｄ，Ｇを合わせた第１領域と、領域Ｂ，Ｅ，Ｈを合わせた第２領域と、領域Ｃ，Ｆ，Ｉを合わせた第３領域の３つの領域に区分させる構成では、例えばターゲット位置Ｐが第２領域、お手つき位置Ｔが第３領域の電極にごく近い部分になった場合に、スリットによる抵抗値増加の効果が薄れやすい。このような問題を解消するため、図１２に示すように、スリット４３の端部４４が二股に分岐する構成としてもよい。これにより、隣り合うスリット４３の端部４４間の距離Ｄ３は、スリット４３のｙ方向中央部分での距離Ｄ２より小さくなる。これにより、電極近傍では電流経路の幅Ｄ３を減少させて抵抗値を増大でき、抵抗値の増加不足を補填して位置精度を担保できる。

透明導電膜３０に設けられるスリット３３は、隣接するスリット同士が等間隔に配置されるのが好ましい。同様に、透明導電膜４０に設けられるスリット４３は等間隔に配置されるのが好ましい。これにより、電流経路の幅の変動による抵抗値の変動を抑制できる。また、スリット同士が等間隔であることにより、お手付き位置Ｔがどのような面積であっても、お手付き位置Ｔがスリットにより等間隔に区分されるので、電極間抵抗値変動を抑えることが可能である。

スリット３３、４３は、幅が０．５ｍｍ以下であるのが好ましい。０．５ｍｍを超える太さで透明導電膜を除去した場合、ターゲット位置Ｐを含む領域内ではスリットが無いため、ペン入力などによる描画は問題ないが、お手つき位置Ｔを含むスリットを設けた領域で描画した際には、スリット部分の影響によって、上部シートと下部シートとで透明導電膜同士が接触する部分が小さくなり、入力を検出できない部分が多くなって直線描画性に影響を与えるためである。

スリット３３、４３の端部は電極と接触してもよいし、離れてもよい。ただし、電極から離れる構成でも、できる限り電極に接近するのが好ましく、電極とスリット端部との距離は１ｍｍ以内であるのが好ましい。電極から１ｍｍを超えて離れた位置からスリットを設けた場合、電極とスリット端部との隙間に電流が流れやすくなり、お手付き位置Ｔの電流の流れを抑える効果が低下してしまうためである。

以上、具体例を参照しつつ本実施形態について説明した。しかし、本開示はこれらの具体例に限定されるものではない。これら具体例に、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本開示の特徴を備えている限り、本開示の範囲に包含される。前述した各具体例が備える各要素およびその配置、条件、形状などは、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。前述した各具体例が備える各要素は、技術的な矛盾が生じない限り、適宜組み合わせを変えることができる。

上記実施形態では、直線状のスリット３３、４３を例示したが、電極の対向方向に沿って延在すればよく、少なくとも連続する線分であればよい。例えば、波線や三角波形状や矩形波形状など、直線以外の形状でもよい。スリットが点線状である場合には、スリットの隙間に電流が流れ込み、お手付き位置Ｔの電流の流れを抑制できないが、スリットを連続する線分にすることで電流の流れを抑制できるためである。

上記実施形態では、導電領域に設けられた電極対の対向方向に沿って延在するよう導電層が除去されて形成される導電層除去部の一例としてスリット３３、４３を例示したが、導電層（透明導電膜３０、４０）を除去して形成され導電性を有しないものであればスリット以外のものでもよい。

１ タッチパネル装置
１０ フィルム（第１の基板）
２０ ガラス（第２の基板）
３０ 透明導電膜（第１の導電層、上部シート）
３０−１、３０−２、３０−３ 導電領域
３１−１、３１−２、３１−３ 電極（第１の電極対）
３２−１、３２−２、３２−３ 電極（第１の電極対）
３３ スリット（導電層除去部）
４０ 透明導電膜（第２の導電層、下部シート）
４０−１、４０−２、４０−３ 導電領域
４１−１、４１−２、４１−３ 電極（第２の電極対）
４２−１、４２−２、４２−３ 電極（第２の電極対）
４３ スリット（導電層除去部）
４４ スリット端部

Claims (4)

1. 抵抗膜方式のタッチパネル装置であって、
   第１の基板と、
   前記第１の基板と対向して配置される第２の基板と、
   前記第１の基板の前記第２の基板との対向面に形成される第１の導電層と、
   前記第２の基板の前記第１の基板との対向面に形成される第２の導電層と、
   前記第１の導電層に設けられる第１の電極対と、
   前記第２の導電層に設けられ、前記第１の電極対の対向方向と直交する方向に対向配置される第２の電極対と、
   を備え、
   前記第１の導電層または前記第２の導電層の少なくとも一方が、当該導電層に設けられる電極対の対向方向と直行する方向に配列された複数の導電領域に区分され、
   前記複数の導電領域の少なくとも１つに、当該導電領域に設けられた電極対の対向方向に沿って延在するよう導電層が除去されて形成される導電層除去部を有する、
   タッチパネル装置。
2. 前記導電層除去部は、一の導電領域内に複数設けられ、
   前記複数の導電層除去部は等間隔に配置される、
   請求項１に記載のタッチパネル装置。
3. 前記導電層除去部は連続する線分である、
   請求項１または２に記載のタッチパネル装置。
4. 前記導電層除去部の両端は二股に分かれて形成される、
   請求項１〜３のいずれか１項に記載のタッチパネル装置。

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