JP2020180484A - 便座装置およびトイレ装置 - Google Patents
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Abstract
Description
このような便座装置は、使用者を検知してから使用者が用便行為を行う前に、噴霧部により水または殺菌水(除菌水)をボウル部の表面に噴霧する。これにより、ボウル部の表面に水膜を形成して、便などがボウル部の表面に付着することを抑制している。また、使用者を検知しなくなってから所定時間が経過した後に、噴霧部からボウル部の表面に殺菌水を噴霧することで、菌がボウルの表面で繁殖することを抑制している。
図1は、本発明の第1実施形態に係るトイレ装置を示す斜視図である。
図2は、噴霧部洗浄工程が実行されているときに図1中のトイレ装置を矢示A−A方向からみた断面図である。
図3は、便器洗浄工程が実行されているときに図1中のトイレ装置を矢示A−A方向からみた断面図である。
着座検知センサ20は、使用者の便座14への着座の有無を検知することができる。着座検知センサ20は、使用者の着座および離座を検知する。着座検知センサ20には、マイクロ波センサ、測距センサ(赤外線投光式センサ)、超音波センサ、タクトスイッチ、静電容量スイッチ(タッチセンサ)、または歪みセンサを用いることができる。
図5(a)に示すように、噴霧装置60、ノズルダンパ58d、および送風ダンパ36aは、便座装置10が便器100の上部に設置された状態において、ボウル部101の後方上部に位置する。図5(b)は、図5(a)の一部を拡大して示している。なお、図5(b)では、噴霧装置60の前方に位置するケーシング12(収納室121)の前壁部122を破断して、噴霧装置60と噴霧部62が収容される収納室121とを表している。図5(c)〜図5(e)は、噴霧装置60、ノズルダンパ58dおよび送風ダンパ36aの周辺を拡大して表す斜視図である。
図7(a)、図7(b)は、収納室に水または除菌水が一時的に貯留された状態を示す正面図および断面図である。
図8(a)、図8(b)は、噴霧部を回転させて水または除菌水を収納室から排出する状態を示す正面図および断面図である。
図9(a)〜図9(c)は、収納室に供給された水または除菌水の状態を示す写真である。図9(a)は、図6(a)の状態を示す写真である。図9(b)は、図7(a)の状態を示す写真である。図9(c)は、図8(a)の状態を示す写真である。なお、図9では、収納室の内部および噴霧部を表すために、収納室の前壁部を取外した状態となっている。
図11(a)、図11(b)は、噴霧部から噴霧されたミストの噴霧流速を計測する場合の一例を示す模式図である。図11(a)は、噴霧部から噴霧されたミストを上方からみた平面図である。図11(b)は、図11(a)中の噴霧部およびミストを矢示E−E方向からみた側面図である。
図14は、入室検知、着座検知、局部洗浄、噴霧部洗浄工程、および便器洗浄工程を実行する場合の一例を示すタイムチャートである。
図16は、本発明の第3実施形態による水圧式の噴霧装置を示す断面図である。
Claims (14)
- 便器の上部に設置される便座装置であって、
使用者が着座する便座と、
前記便器の後方に配置されるケーシングと、
前記ケーシングの内部に設けられ、前記便座に着座した使用者の局部に向けて水を吐水するノズルと、
前記ケーシングの内部に設けられ、前記ノズルから吐水される水よりも小さい粒径の水または除菌水からなるミストを噴霧する噴霧部を有する噴霧装置と、
前記噴霧装置を制御する制御装置と、
を備え、
前記制御装置は、
前記噴霧部から前記ミストを噴霧する便器洗浄工程と、
前記便器洗浄工程を実行するよりも前に、前記噴霧部に水または除菌水を供給することで前記噴霧部を洗浄する噴霧部洗浄工程と、
を有することを特徴とする便座装置。 - 前記噴霧部は、前記ケーシングの内部に形成された収納室に設けられ、
前記収納室は、前記ミストを前記ケーシングの外部に噴霧するための開口部と、前記噴霧部の下方のうち少なくとも一部を覆う底壁部と、を有することを特徴とする請求項1に記載の便座装置。 - 前記底壁部は、前記便器の前記内面に向けて下方に傾斜する傾斜面を有していることを特徴とする請求項2に記載の便座装置。
- 前記制御装置は、前記噴霧部洗浄工程を実行する場合に、前記噴霧部から噴霧される前記ミストの噴霧流速が、前記便器洗浄工程で前記噴霧部から噴霧される前記ミストの噴霧流速よりも低くなるように前記噴霧装置を制御することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の便座装置。
- 前記噴霧部は、前記噴霧部に供給される水または除菌水を回転による遠心力を利用してミスト化することが可能な回転盤となっており、
前記制御装置は、前記噴霧部洗浄工程を実行する場合に、前記便器洗浄工程よりも少ない単位時間あたりの回転量で前記回転盤を回転させることを特徴とする請求項4に記載の便座装置。 - 前記制御装置は、前記噴霧部洗浄工程を実行する場合に、前記回転盤に水または除菌水を供給した後に前記回転盤を回転させることを特徴とする請求項5に記載の便座装置。
- 前記噴霧部は、前記噴霧部に供給される水または除菌水を、振動を利用してミスト化することが可能な振動部となっており、
前記制御装置は、前記噴霧部洗浄工程を実行する場合に、前記便器洗浄工程よりも小さい振幅で前記振動部を振動させることを特徴とする請求項4に記載の便座装置。 - 前記噴霧部は、水圧を利用して水または除菌水のミストを噴霧する噴霧口部となっており、
前記制御装置は、前記噴霧部洗浄工程を実行する場合に、前記便器洗浄工程よりも単位時間あたりの前記噴霧口部に対する給水量を下げることを特徴とする請求項4に記載の便座装置。 - 汚物を受けるボウル部と、上縁部を形成するリム部と、を有する便器と、
前記便器の上部に設置され使用者が着座する便座と、
前記便座に着座した使用者の局部に向けて水を吐水するノズルと、
前記ノズルから吐水される水よりも小さい粒径の水または除菌水からなるミストを噴霧する噴霧部を有する噴霧装置と、
前記噴霧装置を制御する制御装置と、
を備え、
前記制御装置は、
前記噴霧部から前記ミストを噴霧する便器洗浄工程と、
前記便器洗浄工程を実行するよりも前に、前記噴霧部に水または除菌水を供給することで前記噴霧部を洗浄する噴霧部洗浄工程と、
を有することを特徴とするトイレ装置。 - 前記制御装置は、前記噴霧部洗浄工程を実行する場合に、前記噴霧部から噴霧される前記ミストの噴霧流速が、前記便器洗浄工程で前記噴霧部から噴霧される前記ミストの噴霧流速よりも低くなるように前記噴霧装置を制御することを特徴とする請求項9に記載のトイレ装置。
- 前記噴霧部は、前記噴霧部に供給される水または除菌水を回転による遠心力を利用してミスト化することが可能な回転盤となっており、
前記制御装置は、前記噴霧部洗浄工程を実行する場合に、前記便器洗浄工程よりも少ない単位時間あたりの回転量で前記回転盤を回転させることを特徴とする請求項10に記載のトイレ装置。 - 前記制御装置は、前記噴霧部洗浄工程を実行する場合に、前記回転盤に水または除菌水を供給した後に前記回転盤を回転させることを特徴とする請求項11に記載のトイレ装置。
- 前記噴霧部は、前記噴霧部に供給される水または除菌水を、振動を利用してミスト化することが可能な振動部となっており、
前記制御装置は、前記噴霧部洗浄工程を実行する場合に、前記便器洗浄工程よりも小さい振幅で前記振動部を振動させることを特徴とする請求項10に記載のトイレ装置。 - 前記噴霧部は、水圧を利用して水または除菌水のミストを噴霧する噴霧口部となっており、
前記制御装置は、前記噴霧部洗浄工程を実行する場合に、前記便器洗浄工程よりも単位時間あたりの前記噴霧口部に対する給水量を下げることを特徴とする請求項10に記載のトイレ装置。
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JP2010242486A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-28 | Woongjin Coway Co Ltd | 殺菌水噴射装置、及びそれを備えたビデ及び便座 |
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