JP7102841B2 - 便座装置 - Google Patents

Description

本発明の態様は、一般的に、便座装置およびトイレ装置に関する。

特許文献１に記載の便座装置においては、大便器のボウル部に酸化分解作用や漂白作用を有する次亜塩素酸水が吐水される。これにより、ボウル部における菌や汚れの発生を抑制することができる。

特許文献２に記載のミスト洗浄装置付き便器においては、オゾン水や電解殺菌水、高温水を、径が０．１～５０マイクロメートル（μｍ）程度のミストにするミスト洗浄装置が設けられる。特許文献２では、ミスト洗浄装置が発生するミストを、気流により、便器、便座及び便蓋などの隅々まで行きわたらせて洗浄することができるとしている。

特許第５０２９９３０号公報 特開２００７－１３８６０５号公報

特許文献１のように次亜塩素酸水などの除菌水により、菌や汚れの発生を抑制するためには、多くの除菌水を対象部位に着水させることが望ましい。例えば、特許文献２のように気流を利用することにより、多くのミスト状の除菌水を大便器、便座及び便蓋に着水させることが考えられる。しかし、この場合には、大便器のリム部の上面や便座に多くの除菌水が着水することとなる。便座に多くの除菌水が着水した場合には、使用者が便座に着座した際や便座を手で回動させた際に、使用者の臀部や手が、便座に着水した除菌水に触れ、不快感が生じる恐れがある。また、大便器のリム部の上面に多くの除菌水が着水すると、リム部の上面に着水した除菌水が、大便器の外側に垂れるおそれがある。

本発明は、かかる課題の認識に基づいてなされたものであり、大便器のボウル部だけでなく大便器のリム部、及び便座などの広い範囲において菌や汚れを抑制しつつ、除菌水が使用者の肌に触れること、及び除菌水が便器外に垂れることを防止できる便座装置を提供することを目的とする。

第１の発明は、大便器の上部に設置される便座装置であって、使用者が着座する便座部と、除菌水を生成する除菌装置と、前記大便器の上部に設置された状態において、前記便座部より上方に配置され、前記除菌装置で生成した除菌水を前記便座部および前記大便器内に向けてミスト状に噴霧する噴霧装置と、前記除菌装置と前記噴霧装置とを制御する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記便座部の外周より内側に除菌水ミストを噴霧する第１工程と、前記便座部の内周より内側に前記除菌水ミストを噴霧する第２工程と、を実行するように前記噴霧装置を制御するとともに、前記第１工程における前記除菌水ミストの粒径が前記第２工程における前記除菌水ミストの粒径よりも小さくなるよう前記噴霧装置を制御することを特徴とする便座装置である。

この便座装置によれば、便座部よりも上方から噴霧されたミストは自然落下し、前記便座部および大便器に噴霧される。これにより、気流発生手段等を用いずに、単一の噴霧装置で、前記大便器だけでなく、前記便座部にも除菌水ミストを着水させて、便器隅々の菌や汚れの発生を抑制することができる。
さらに、前記ミストは、第１工程において前記便座部外周より内側に拡散し、前記便座部および前記大便器に噴霧され、第２工程において前記便座部内周より内側に拡散し、前記大便器に噴霧される。前記第１工程における前記除菌水ミストの粒径を前記第２工程における前記除菌水ミストの粒径よりも小さくすることで、汚れ負荷が小さく、濡れに対する許容度の低い便座部の除菌水ミストの着水量を少なくし、汚れ負荷が大きく、濡れに対する許容度の高い大便器の除菌水ミストの着水量を多くすることができる。これにより便器隅々の菌や汚れの発生を抑制しつつ、使用時に除菌水が使用者の肌に触れることや除菌水が便器外に垂れることを防止できる。

第２の発明は、第１の発明において、前記制御装置は、前記第１工程で噴霧する前記除菌水ミストの総量が前記第２工程で噴霧する前記除菌水ミストの総量よりも少なくなるよう前記噴霧装置を制御することを特徴とする便座装置である。

この便座装置によれば、前記第１工程の除菌水ミストの総量を少なくすることで便座部の除菌水ミスト着水量をより確実に少なくすることができる。一方、第２工程の除菌水ミストの総量を多くすることで、大便器の除菌水ミストの着水量を多くするための作動時間を短くできる。

第３の発明は、第１～第２のいずれか１つの発明において、前記制御装置は、前記第１工程を前記第２工程より先に実施することを特徴とする便座装置である。

この便座装置によれば、第１工程を第２工程より先に実施することで、前期便座部に前記除菌水ミストが付着してから使用者が前記便座部に着座するまでの時間が長くなり、除菌水ミストが蒸発する時間を多く取ることができ、除菌水ミストが使用者の肌に触れることをより効果的に防止できる。

第４の発明は、第１～第３のいずれか１つの発明において、汚物を受けるボウル部と、前記ボウル部の上縁部を形成するリム部とを有する前記大便器を備えていることを特徴とするトイレ装置である。

このトイレ装置によれば、汚れ負荷が小さく、濡れに対する許容度の低いリム部上面の除菌水ミストの着水量を少なくし、汚れ負荷が大きく、濡れに対する許容度の高いボウル部やリム部内壁の除菌水ミストの着水量を多くすることができる。

本発明の態様によれば、大便器だけでなく便座などの広い範囲において菌や汚れを抑制しつつ、除菌水が使用者の肌に触れること、及び除菌水が便器外に垂れることを防止できるトイレ装置が提供される。

第１の実施形態に係るトイレ装置を例示する斜視図である。 第１の実施形態に係るトイレ装置を例示する断面図である。 第１の実施形態に係る便座装置の要部構成を例示するブロック図である。 第１の実施形態に係るトイレ装置を例示する斜視図である。 図５（ａ）～図５（ｃ）は、第１の実施形態に係る噴霧装置を例示する模式図である。 第１の実施形態に係る便座装置のアフターミストモード及び手動ミストモードにおける動作を例示する模式図である。 第１の実施形態に係る便座装置のアフターミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。 第１の実施形態に係る便座装置の手動ミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。 第１の実施形態に係る便座装置のプレミストモードにおける動作を例示する模式図である。 第１の実施形態に係る便座装置のプレミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。 第１の実施形態に係る便座装置の動作を例示するフローチャートである。 図１２（ａ）及び図１２（ｂ）は、第１の実施形態に係る粒径の測定方法を例示する斜視図である。 第２の実施形態に係るトイレ装置を例示する断面図である。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
図１は、第１の実施形態に係るトイレ装置を例示する斜視図である。
図２は、第１の実施形態に係るトイレ装置の一部を例示する断面図である。

図１に表したトイレ装置１０は、洋式腰掛便器（以下説明の便宜上、単に「大便器」と称する）８００と、便座装置１００と、を備える。大便器８００は、汚物を受ける凹状のボウル部８０１を有する。便座装置１００は、大便器８００の上部に設置されている。

便座装置１００は、ケーシング４００と、使用者が着座する便座部２００と、便蓋３００と、を有する。便座部２００と便蓋３００とは、それぞれ、ケーシング４００に対して開閉自在に軸支されている。図１の状態は、便座部２００が閉じた状態（下げられた状態）であり、便蓋３００が開いた状態（上げられた状態）である。便蓋３００は、閉じた状態では、便座部２００の座面を上方から覆う。

ケーシング４００の内部には、便座部２００に座った使用者の人体局部（「おしり」など）の洗浄を実現する身体洗浄機能部などが内蔵されている。また、例えばケーシング４００には、使用者が便座部２００に座ったことを検知する着座検知センサ４０４が設けられている。着座検知センサ４０４が便座部２００に座った使用者を検知している場合において、使用者が例えばリモコンなどの手動操作部５００を操作すると、洗浄ノズル（以下説明の便宜上、単に「ノズル」と称する）４７３を大便器８００のボウル部８０１内に進出させることができる。なお、図１に表した便座装置１００では、ノズル４７３がボウル部８０１内に進出した状態を表している。

ノズル４７３の先端部には、ひとつ又は複数の吐水口４７４が設けられている。そして、ノズル４７３は、その先端部に設けられた吐水口４７４から水を噴射して、便座部２００に座った使用者の「おしり」などを洗浄することができる。

なお、本願明細書において、「上方」、「下方」、「前方」、「後方」、「左側方」及び「右側方」のそれぞれは、開いた便蓋３００に背を向けて便座部２００に座った使用者から見た方向である。

図２に示すように、大便器８００は、ボウル部８０１の上に設けられたリム部８０５を有する。リム部８０５は、大便器８００の上縁部を形成する環状部分である。ボウル部８０１内には、溜水８０１ｗが溜められている。例えば、使用者が、リモコン等に設けられたスイッチによって便器洗浄の操作を行うと、または、使用者が便座部２００から立ち上がると、便器洗浄（ボウル部８０１内の汚物を排出し、ボウル部８０１の表面を洗浄する動作）が実行される。便器洗浄においては、ボウル部８０１内に洗浄水が供給される。例えば、図２の例では、ボウル給水口８１１から大便器８００の上縁に沿って洗浄水が吐出される。

便座部２００は、表面２０３と、裏面２０４と、を有する。表面２０３は、便座部２００が閉じられた状態において、上方から見た時に見える便座部２００の範囲である。裏面２０４は、便座部２００のうち、表面２０３を除く範囲である。

リム部８０５は、上面８０６と、内壁面８０７と、を有する。上面８０６は、閉じられた便座部２００の裏面２０４と向き合う面である。内壁面８０７は、大便器８００の内壁（ボウル部８０１の中央側に面する壁面）のうち、便器洗浄の洗浄水が流れる部分よりも、上方の部分である。すなわち、本願明細書において、リム部８０５の内壁面８０７とは、便器洗浄における不洗浄部をいう。図２の例では、内壁面８０７は、棚状に屈曲した屈曲部８０５Ｂより上方に位置する立面を含む。

ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７は、汚物が直接付着しやすいため、汚れ負荷が大きい部分である。また、ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７は、濡れても不都合が生じにくいため、濡れに対する許容度が高い部分である。

便座部２００やリム部８０５の上面８０６は、ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７に比べて汚物が直接付着しにくい。例えば、便座部２００及びリム部８０５の上面８０６には、ボウル部８０１や溜水８０１ｗに当たって跳ねた尿や汚水が付着する。したがって、便座部２００及びリム部８０５の上面８０６は、比較的、汚れ負荷が小さい部分である。また、便座部２００やリム部８０５の上面８０６が過度に濡れると、除菌水が使用者の肌に触れたり、大便器外に垂れたりする可能性があるため、便座部２００やリム部８０５の上面８０６は、濡れに対する許容度が低い部分である。

図３は、第１の実施形態に係る便座装置の要部構成を例示するブロック図である。
なお、図３は、水路系と電気系の要部構成を併せて表している。
便座装置１００は、電磁弁４３１、除菌装置４５０、切替弁４７２、噴霧装置４８１、ノズルモータ４７６、ノズル４７３、ノズル洗浄室４７８、及び流路１１０～１１３などを有する。これらは、ケーシング４００内に配置されている。

流路１１０は、水道や貯水タンクなどの図示しない給水源から供給された水を噴霧装置４８１やノズル４７３などに導くための流路である。流路１１０の上流側には、電磁弁４３１が設けられている。電磁弁４３１は、開閉可能な電磁バルブであり、ケーシング４００の内部に設けられた制御装置４０５からの指令に基づいて水の供給を制御する。

流路１１０上において、電磁弁４３１の下流には、除菌水を生成する除菌装置４５０が設けられている。除菌装置４５０は、例えば次亜塩素酸などを含む除菌水を生成する。除菌装置４５０としては、例えば、電解槽ユニットが挙げられる。電解槽ユニットは、制御装置４０５からの通電の制御によって、陽極板（図示せず）と陰極板（図示せず）との間の空間（流路）を流れる水道水を電気分解する。なお、除菌水は、次亜塩素酸を含むものには限定されない。例えば、除菌水は、銀イオンや銅イオンなどの金属イオンを含む溶液、電解塩素やオゾンなどを含む溶液、酸性水、または、アルカリ水などでもよい。除菌装置４５０は電解槽に限らず、除菌水を生成可能な任意の構成でよい。

流路１１０上において、除菌装置４５０の下流には、切替弁４７２が設けられている。切替弁４７２の下流には、ノズル４７３、ノズル洗浄室４７８及び噴霧装置４８１が設けられている。流路１１０は、切替弁４７２により、ノズル４７３へ水を導く流路１１１、ノズル洗浄室４７８へ水を導く流路１１２、および、噴霧装置４８１へ水を導く流路１１３に分岐している。切替弁４７２は、制御装置４０５からの指令に基づいて、流路１１１、流路１１２および流路１１３のそれぞれの開閉を制御する。つまり、切替弁４７２は、ノズル４７３、ノズル洗浄室４７８および噴霧装置４８１への水の供給を制御する。また、切替弁４７２は、その下流に供給する水の流量を切り替える。

ノズル４７３は、ノズルモータ４７６からの駆動力を受け、便器８００のボウル部８０１内に進出したり後退したりする。つまり、ノズルモータ４７６は、制御装置４０５からの指令に基づいてノズル４７３を進退させる。ノズル４７３は、非使用時には、ケーシング４００内に収納されている。ノズル４７３は、ケーシング４００から前方へ進出した状態で、吐水口４７４から水を吐出して、人体局部を洗浄する。

ノズル洗浄室４７８は、その内部に設けられた吐水口から除菌水あるいは水道水を噴射することにより、ノズル４７３の外周表面（胴体）を洗浄する。

噴霧装置４８１は、水道水又は除菌装置４５０で生成された除菌水をミスト状にする。噴霧装置４８１は、ボウル部８０１、リム部８０５、及び便座部２００に、ミストＭ（除菌水のミスト又は水道水のミスト）を噴霧する。言い換えれば、噴霧装置４８１は、除菌水のミスト又は水道水のミストを、ボウル部８０１、リム部８０５、及び便座部２００に着水させる。なお、本願明細書において「着水」とは、水（除菌水又は水道水）が物体の表面に付着することをいう。特に「直接着水」という場合には、水（除菌水又は水道水の微粒子ｐ）が空中から物体の表面に到着することを意味する。
噴霧装置４８１は、噴霧されたミストが自然落下により大便器８００及び便座部２００の表面２０３の少なくとも一部に着水することができる位置に配置される。
例えば、噴霧装置４８１の少なくとも一部は、便座部２００の表面２０３の少なくとも一部より上方である。
これにより、気流発生手段等を用いずに、単一の噴霧装置で、大便器だけでなく、便座部にも除菌水ミストを着水させて、便器隅々の菌や汚れの発生を抑制することができる。

また、ケーシング４００の内部には、便座用モータ５１１（回動装置）、便蓋用モータ５１２（回動装置）、吸気装置５１３（気流発生装置）が設けられている。
便座用モータ５１１は、制御装置４０５からの指令に基づいて、電動で便座部２００を回動させ開閉する。便蓋用モータ５１２は、制御装置４０５からの指令に基づいて、電動で便蓋３００を回動させ開閉する。

吸気装置５１３は、たとえばケーシング４００の内部に設けられたファンである。吸気装置５１３は、制御装置４０５からの指令に基づいて動作する。例えば、吸気装置５１３のモータの回転に伴い羽根が回転する。これにより、吸気装置５１３は、大便器８００内の空気を吸気することができる。

便座ヒータ５１５（乾燥装置）は、例えば、便座部２００の内部に設けられている。便座ヒータ５１５は、例えば、便座部２００の開口２００ａの周りに沿って設けられた環状の金属部材を有する。制御装置４０５からの指令に基づいて便座ヒータ５１５に通電が行われることで、便座ヒータ５１５は、便座部２００を温める。便座ヒータ５１５としては、例えば、チュービングヒータや、シーズヒータ、ハロゲンヒータ、カーボンヒータなどを用いてもよい。金属部材は、例えば、アルミニウムや銅などで構成される。また、金属部材の形状は、シート状やワイヤ状、メッシュ状など、種々の形状を採用することができる。

制御装置４０５には、図示しない電源回路から電力を供給される回路が用いられる。例えば、制御装置４０５は、マイコンなどの集積回路を含む。制御装置４０５は、使用者を検知する検知センサ４０２（例えば人体検知センサ４０３又は着座検知センサ４０４）の検知情報または、手動操作部５００の操作情報に基づいて、電磁弁４３１、除菌装置４５０、切替弁４７２、ノズルモータ４７６、吸気装置５１３、温風ヒータ５１４、便座ヒータ５１５、便座用モータ５１１、及び便蓋用モータ５１２を制御する。

手動操作部５００は、使用者が任意のタイミングで除菌水の噴霧を行うための操作部である。例えば、手動操作部５００は、スイッチ又はボタンなどを有するリモコンであり、使用者が手動操作部５００を操作すると、除菌水の噴霧を指示する操作情報（信号）が制御装置４０５に送られる。制御装置４０５は、その操作情報に基づいて除菌装置４５０や噴霧装置４８１を制御する。これにより、使用者は、手動操作部５００を操作することで、除菌水の噴霧を行うことができる。
また、手動操作部５００は、除菌水の噴霧だけでなく、使用者が便座装置１００の各機能を操作するためのスイッチやボタンなどを有していてもよい。各機能に対応した操作が行われると、その操作情報が制御装置４０５に送られ、制御装置４０５は、その操作情報に基づいて、便座装置１００の各部の動作を制御する。

着座検知センサ４０４は、使用者の便座部２００への着座の有無を検知することができる。着座検知センサ４０４は、使用者の着座及び離座を検知する。着座検知センサ４０４には、マイクロ波センサ、測距センサ（赤外線投光式センサ）、超音波センサ、タクトスイッチ、静電容量スイッチ（タッチセンサ）、または歪みセンサを用いることができる。この例では、着座検知センサ４０４には、ケーシング４００に設けられた測距センサが用いられている。

なお、タクトスイッチ、静電センサ及び歪みセンサなどの接触式センサを用いる場合には、これらの接触式センサは、便座部２００に設けられる。便座部２００に使用者が座ると、使用者の体重によってタクトスイッチが押下される。または、使用者が静電センサに接触する。または、使用者の体重によって歪みセンサに圧力が加えられる。これらのセンサからの電気信号により、使用者の着座を検知することができる。

人体検知センサ４０３は、大便器８００の前方にいる使用者、すなわち便座部２００から前方へ離間した位置に存在する使用者を検知することができる。つまり、人体検知センサ４０３は、トイレ室に入室して便座部２００に近づいてきた使用者を検知することができる。このような人体検知センサとして、例えば、焦電センサ、マイクロ波センサ、超音波センサ、または測距センサ（赤外線投光式センサ）を用いることができる。この例では、人体検知センサ４０３には、ケーシングに設けられた焦電センサが用いられている。また、人体検知センサ４０３は、トイレ室のドアを開けて入室した直後の使用者や、トイレ室に入室する直前の使用者、すなわちトイレ室に入室しようとしてドアの前に存在する使用者を検知してもよい。例えば、マイクロ波センサを用いた場合には、トイレ室のドア越しに使用者の存在を検知することが可能となる。

制御装置４０５は、人体検知センサ４０３の検知情報（使用者の存在の有無を示す信号）や、着座検知センサ４０４の検知情報（使用者の着座の有無を示す信号）を受信し、受信した検知情報に基づいて、便座装置１００の各部の動作を制御する。

制御装置４０５は、アフターミストモード、プレミストモード、及び手動ミストモードの３種類のミストモードを実行可能である。
アフターミストモードは、例えば、使用者のトイレ装置１０の使用後に、検知センサ４０２の検知情報に基づいて、除菌水のミストを自動で噴霧する動作モードである。プレミストモードは、例えば、使用者のトイレ装置１０の使用前に、検知センサ４０２の検知情報に基づいて、除菌水又は水道水のミストを自動で噴霧する動作モードである。手動ミストモードは、手動操作部５００の操作情報に基づいて、除菌水のミストを噴霧する動作モードである。

図４は、第１の実施形態に係るトイレ装置１０の一部を前方から見た状態を示す。図２及び図４に示すように、噴霧装置４８１は、便座装置１００が大便器８００の上部に設置された状態において、ボウル部８０１の後方上部に位置するケーシング４００に配置される。これにより、噴霧装置４８１への給水を容易に行うことができる。
より詳しくは、噴霧装置４８１は、便座部２００の表面２０３よりも上方に配置される。これにより、便蓋３００の開閉状態によらず、噴霧装置４８１が、便座部２００の表面２０３の上方から大便器８００内および便座部２００に向けて水道水又は除菌水のミストを噴霧することができる。
ここで、噴霧装置４８１が便座部２００の表面２０３よりも上方に配置されている状態とは、噴霧装置４８１が便座部２００の表面２０３の少なくとも一部よりも上方であることをいう。

図５（ａ）～図５（ｃ）は、第１の実施形態に係る噴霧装置を例示する模式図である。
図５（ａ）は、噴霧装置４８１の斜視図であり、図５（ｂ）は、噴霧装置４８１の側面図である。
噴霧装置４８１は、モータ４８１ａと、モータ４８１ａの下方に接続されたディスク４８１ｂと、を有する。モータ４８１ａの回転は、制御装置４０５によって制御される。モータ４８１ａが回転すると、回転の駆動力がディスク４８１ｂに伝達され、ディスク４８１ｂが回転する。

図５（ｂ）に示すように、ディスク４８１ｂの上面には、水Ｗ（水道水又は除菌装置４５０で生成された除菌水）が供給される。ディスク４８１ｂの回転中に、水Ｗが供給されることで、噴霧装置４８１は、水Ｗをミスト状にして噴霧する。なお、この例では、ディスク４８１ｂは、平らな円板状であるが、適宜凹凸が設けられてもよい。

図５（ｃ）は、ディスク４８１ｂの一部を上方から見た拡大図である。回転するディスク４８１ｂの上面に滴下された水Ｗは、遠心力によって、ディスク４８１ｂ上で膜状に広がり、ディスク４８１ｂから放射される。このとき、水Ｗは、ディスク４８１ｂの縁付近では糸状であり、その後、微粒子ｐ（ミスト）となる。ディスク４８１ｂの回転速度、すなわち、モータ４８１ａの回転速度によって、ミストの粒径（微粒子ｐの径）を制御することができる。回転速度が高い程、ミストの粒径は小さくなる。例えば、回転速度が１０００（rotation per minute：ｒｐｍ）程度の低速回転、回転速度が１００００ｒｐｍ程度の中速回転、または、回転速度が２００００ｒｐｍ程度の高速回転が適宜用いられ、所望の粒径が得られる。また、給水口４８１ｃから噴霧装置４８１に供給される水Ｗの流量を調整することにより、ミストの粒径を制御することもできる。

なお、本願明細書において、粒径とは、トイレ装置１０に着水する前の空中に存在する微粒子ｐの粒径であり、例えばザウター平均粒径（総体積／総表面積）である。本願明細書における「粒径」の測定方法については、図１２に関して後述する。また、ミストとは、粒径が１０マイクロメートル（μｍ）以上３００μｍ以下の範囲をいう。ミストの粒径が１０μｍ未満であると、ボウル部８０１、リム部８０５、便座部２００などの対象部位を濡らすために長い時間が必要となってしまう。また、次亜塩素酸を含む除菌水を用いた場合、ミストの粒径が１０μｍ未満であると、ミスト中の次亜塩素酸の濃度が減衰しやすく、除菌性能が低下しやすい。一方、ミストの粒径が３００μｍより大きいと、ミストが拡散しにくく、広範囲にミストを噴霧することが困難となる。また、以下の説明において、大粒径のミストとは、粒径が１００μｍ以上３００μｍ以下、好ましくは１５０μｍ以上３００μｍ以下の範囲のミストであり、中粒径のミストとは、粒径が５０μｍ以上２００μｍ以下、好ましくは６０μｍ以上１５０μｍ以下の範囲のミストであり、小粒径のミストとは、粒径が１０μｍ以上１００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以上６０μｍ以下の範囲のミストである。

なお、第１の実施形態において、噴霧装置は、図５に関して説明した装置に限らない。例えば、噴霧装置として、超音波霧化装置を用いてもよい。超音波霧化装置は、液体に超音波を照射することで、液体をミスト状にする。また、例えば、噴霧装置として２流体ノズルを用いてもよい。２流体ノズルは、気体と液体とを共に噴射することで、液体をミスト状にする。ただし、図５に関して説明した装置を用いた場合には、目詰まりのリスクも低く、コンプレッサなどの付帯装置も不要である。

図６～図８を参照して、アフターミストモード及び手動ミストモードにおける便座装置１００の動作の例について説明する。

図６（ａ）及び図６（ｂ）は、第１の実施形態に係る便座装置のアフターミストモード及び手動ミストモードにおける動作を例示する模式図である。 制御装置４０５は、１回のミストモードにおいて、第１工程と第２工程とを実行する。図６（ａ）は、第１工程を例示し、図６（ｂ）は、第２工程を例示している。第１工程は、第２工程より先に実施することが好ましいが、第２工程より後に実施することもできる。ただし、第１工程を第２工程より先に実施することで、除菌水ミストが蒸発する時間を長く取ることができ、除菌水ミストが使用者の肌に触れることをより効果的に防止できる。

図６（ａ）に示すように、第１工程は、噴霧装置４８１を作動させ、除菌水の第一ミストＭ１を発生させる。図６（ｂ）に示すように、第２工程は、除菌水の第２ミストＭ２を発生させる。第１ミストＭ１は、小粒径のミストである。第２ミストＭ２は、大粒径のミストである。すなわち、第２ミストＭ２の粒径は、第１ミストの粒径よりも大きい。ここで、制御装置４０５は、第１ミストＭ１を便座部２００の外周２０６より内側に拡散させ、第２ミストＭ２を便座部２００の内周２０５より内側に拡散させるように噴霧装置４８１のモータ４８１ａの回転数を制御する。

すなわち、第１ミストＭ１は、便座部２００の表面２０３に拡散し、便座部２００に着水する。一方で、第２ミストＭ２は、便座部２００の表面２０３に拡散せず、ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７に着水する。これにより、単一の噴霧装置４８１で、大便器８００のボウル部８０１だけでなく便座部２００にも除菌水のミストを着水させることができる。したがって、大便器８００のボウル部８０１だけでなくリム部８０５、及び便座部２００などの広い範囲において菌や汚れを抑制することができる。

なお、便座部２００の内周２０５は、便座部２００を上方から見た時の便座部２００の表面２０３の内側の縁を指し、外周２０６は上方から見た時の便座部２００の表面２０３の外側の縁を指す。

なお、第２工程において、「第２ミストＭ２は、便座部２００の表面２０３に拡散しない」という範囲は、全てのミストが拡散しない場合だけではなく、僅かなミストが拡散する場合を含んでもよいものとする。例えば、第２工程において便座部２００の表面２０３に拡散するミストの量は、第１工程において便座部２００の表面２０３に拡散するミストの量よりも少ない。ただし、第２工程において、便座部２００の表面２０３に拡散する除菌水の量は、出来るだけ少ないことが好ましく、例えばゼロであることが好ましい。

また、制御装置４０５は、アフターミストモード及び手動ミストモードにおいて、第１ミストＭ１の総量（ｇ）が、第２ミストＭ２の総量（ｇ）よりも少なくなるように噴霧装置４８１を制御する。
これにより、便座部２００の除菌水の着水量（ｇ/ｃｍ^２）は、比較的少なく、ボウル部８０１及びリム部８０５の内壁面８０７に着水する除菌水の量は、比較的多くなる。汚れ負荷が大きく、濡れに対する許容度が高いボウル部８０１及び内壁面８０７に多くの除菌水のミストを着水させることで、菌や汚れの発生を抑制することができる。汚れ負荷が小さく、濡れに対する許容度が低い便座部２００及びリム部８０５の上面８０６において、除菌水の着水量を少なくすることで、菌や汚れを抑制しつつ、短時間で便座部２００及びリム部８０５の上面８０６を乾かすことができる。これにより、除菌水が使用者の肌に触れたり、大便器外に垂れたりすることを防止できる。

なお、ミストの総量とは、１回のミストモード（１回のアフターミストモード又は１回の手動ミストモード）で、噴霧装置４８１が噴霧するミストの総量（ｇ）である。なお、１回のミストモードにおいて、噴霧装置４８１は、連続的にミストを噴霧してもよいし、断続的にミストを噴霧してもよい。
また、第１ミストＭ１の総量及び第２ミストＭ２の総量は、例えば、ディスク４８１ｂの回転速度や、噴霧装置４８１に供給される除菌水の流量などの調整により、制御することができる。

図７は、第１の実施形態に係る便座装置のアフターミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。
人体検知センサ４０３が使用者の退室を検知すると（ステップＳ１０１：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、便蓋用モータ５１２を制御して便蓋３００を閉じ、電磁弁４３１を開き、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを反時計回り（ＣＣＷ）に高速回転させる（ステップＳ１０２）。電磁弁４３１が開くことで、ディスク４８１ｂへの給水が開始される。

制御装置４０５は、ディスク４８１ｂが高速回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ１０３：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂ上の残水をディスク４８１ｂ上から排出することができる。

その後、制御装置４０５は、除菌装置４５０を制御して除菌水の生成を開始する（ステップＳ１０４）。これにより、大便器８００内、便座部２００及び便蓋３００などへの、除菌水のミストの噴霧が開始する。制御装置４０５は、反時計回りに高速回転するディスク４８１ｂから除菌水のミストが噴霧される状態を所定時間、維持する（ステップＳ１０５：Ｎｏ）。例えば、ステップＳ１０２～ステップＳ１０５が第１工程に相当する。

所定時間が経過すると（ステップＳ１０５：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを時計回り（ＣＷ）に高速回転させる（ステップＳ１０７）。制御装置４０５は、時計回りに中速回転するディスク４８１ｂから除菌水のミストが噴霧される状態を所定時間、維持する（ステップＳ１０７：Ｎｏ）。例えば、ステップＳ１０６～ステップＳ１０７が第２工程に相当する。

制御装置４０５は、所定時間が経過すると（ステップＳ１０７：Ｙｅｓ）、除菌装置４５０を制御して除菌水の生成を停止し、モータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを時計回り（ＣＷ）に低速回転させる（ステップＳ１０９）。

制御装置４０５は、ディスク４８１ｂに水道水が供給され、ディスク４８１ｂが低速回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ１０９：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂのセルフクリーニングが行われる。

所定時間が経過すると（ステップＳ１０９：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、電磁弁４３１を閉じる（ステップＳ１１０）。制御装置４０５は、ディスク４８１ｂへの給水が停止し、ディスク４８１ｂが低速で回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ１１１：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂ上の残水を除去することができる。

所定時間が経過すると（ステップＳ１１１：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、モータ４８１ａ及びディスク４８１ｂの回転を停止する。また、制御装置４０５は、便座ヒータ５１５をＯＮ（通電状態）にする（ステップＳ１１２）。

制御装置４０５は、便座ヒータ５１５がＯＮの状態を所定時間、維持する（ステップＳ１１３：Ｎｏ）。これにより、便座部２００の温度を上昇させて、便座部２００に着水した除菌水を蒸発させ、便座部２００を乾かすことができる。

所定時間が経過すると（ステップＳ１１３：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、便座ヒータ５１５をＯＦＦ（非通電状態）とする（ステップＳ１１４）。以上で、アフターミストモードが終了する。

図８は、第１の実施形態に係る便座装置の手動ミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。
使用者が手動操作部５００を操作すると（ステップＳ２０１：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、便蓋用モータ５１２を制御して便蓋３００を閉じ、電磁弁４３１を開き、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを反時計回り（ＣＣＷ）に高速回転させる（ステップＳ２０２）。電磁弁４３１が開くことで、ディスク４８１ｂへの給水が開始される。

制御装置４０５は、ディスク４８１ｂが高速回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ２０３：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂ上の残水をディスク４８１ｂ上から排出することができる。

その後、制御装置４０５は、除菌装置４５０を制御して除菌水の生成を開始する。これにより、大便器８００内、便座部２００及び便蓋３００などへの、除菌水のミストの噴霧が開始する。制御装置４０５は、反時計回りに高速回転するディスク４８１ｂから除菌水のミストが噴霧される状態を所定時間、維持する（ステップＳ２０５：Ｎｏ）。例えばステップＳ２０２～ステップＳ２０５が第１工程に相当する。

所定時間が経過すると（ステップＳ２０５：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを時計回り（ＣＷ）に高速回転させる（ステップＳ２０７）。制御装置４０５は、時計回りに中速回転するディスク４８１ｂから除菌水のミストが噴霧される状態を所定時間、維持する（ステップＳ２０７：Ｎｏ）。例えば、ステップＳ２０６～ステップＳ２０７が第２工程に相当する。

制御装置４０５は、所定時間が経過すると（ステップＳ２０７：Ｙｅｓ）、除菌装置４５０を制御して除菌水の生成を停止し、モータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを時計回り（ＣＷ）に低速回転させる（ステップＳ２０８）。

制御装置４０５は、ディスク４８１ｂに水道水が供給され、ディスク４８１ｂが低速回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ２０９：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂのセルフクリーニングが行われる。

所定時間が経過すると（ステップＳ２０９：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、電磁弁４３１を閉じる（ステップＳ２１０）。制御装置４０５は、ディスク４８１ｂへの給水が停止し、ディスク４８１ｂが低速で回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ２１１：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂ上の残水を除去することができる。

所定時間が経過すると（ステップＳ２１１：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、モータ４８１ａ及びディスク４８１ｂの回転を停止する。以上で、手動ミストモードが終了する。また、使用者は、手動ミストモード後に、トイレットペーパー等で便座部２００に着水した除菌水を適宜拭き取ることで、便座部２００を除菌することができる。

また、制御装置４０５は、アフターミストモードの実行中または実行後に、便座部２００を乾燥させる乾燥装置を第１電力（ワット）で作動させる。例えば、図７では、制御装置４０５は、ステップＳ１１２、Ｓ１１３において、便座ヒータ５１５を第１加熱量で作動させている。
一方、制御装置４０５は、手動ミストモードの実行中または実行後には、乾燥装置を作動させない、または、第１電力よりも小さい第２電力（ワット）で作動させる。例えば、図８では、制御装置４０５は、便座ヒータ５１５を作動させていない。または、制御装置４０５は、便座ヒータ５１５を、第１加熱量よりも小さい第２加熱量で作動させてもよい。例えば、便座ヒータ５１５によって、アフターミストモードの実行中または実行後における座面の温度は、手動ミストモードの実行中または実行後における座面の温度よりも高くなる。

このように、アフターミストモードの実行中または実行後には、比較的大きな第１電力で乾燥装置が便座部２００を乾かすことで、便座部２００に着水した除菌水の乾燥時間を短くすることができる。一方、手動ミストモードの実行中または実行後には、乾燥装置が作動しない、または、比較的小さな第２電力で便座部２００を乾かすことで、便座部２００に着水した除菌水の乾燥時間を長くすることができる。これにより、便座部２００に着水した除菌水をトイレットペーパーで拭き取る前に、便座部２００が乾くことを防止することができる。

図９～図１０を参照して、プレミストモードにおける便座装置１００の動作の例について説明する。
図９は、第１の実施形態に係る便座装置のプレミストモードにおける動作を例示する模式図である。
プレミストモードにおいて、制御装置４０５は、噴霧装置４８１を作動させ、ミストＭ２（除菌水のミストまたは水道水のミスト）を発生させる。ここで、制御装置４０５は、ミストＭ２を便座部２００側に拡散させないように噴霧装置４８１のモータ４８１ａの回転数を制御する。

プレミストモードにおいては、噴霧装置４８１から噴霧されたミストは、便座部２００側に拡散せずに、大便器８００のボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７に着水する。ボウル部８０１や内壁面８０７に水膜が形成され、汚れが付着しにくくなる。また、ミストが便座部２００側に拡散しないことで、プレミストモードにおいて便座部２００が濡れることを抑制できる。これにより、プレミストモード直後に使用者が着座したり、便座部２００を手で回動させたりした場合に、使用者の手や臀部が濡れることを防止できる。
一方、アフターミストモード及び手動ミストモードにおいては、制御装置４０５は、噴霧装置４８１のモータ４８１ａの回転数を制御し、除菌水ミストを便座部２００側に拡散させる。

すなわち、制御装置４０５は、噴霧装置４８１から噴霧されたミストを便座部２００に着水させる場合と、着水させない場合と、を切り替えることができる。これにより、単一の噴霧装置４８１で、アフターミストモード及び手動ミストモードにおいては除菌水のミストを大便器８００内及び便座部２００に着水させ、プレミストモードにおいては便座部２００を濡らさないようにミストを大便器８００内に着水させることができる。

なお、プレミストモードにおいて「除菌水のミスト又は水道水のミストを便座部側に拡散させない」という範囲は、全てのミストが拡散しない場合だけでなく、僅かなミストが拡散する場合を含んでもよいものとする。例えば、プレミストモードにおいて便座部側に拡散するミストの量は、アフターミストモード又は手動ミストモードにおいて便座部側に拡散するミストの量よりも少ない。

ミストＭ２は、例えば中粒径又は大粒径のミストである。ミストＭ２の粒径（除菌水又は水道水の微粒子ｐ２の径）は、例えば、手動ミストモード、アフターミストモードにおける第１ミストＭ１の粒径よりも大きくてもよい。これにより、ミストＭ２が便座部２００側に拡散しないようにしてもよい。

図１０は、第１の実施形態に係る便座装置のプレミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。
人体検知センサ４０３が使用者の入室を検知すると（ステップＳ３０１：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、便蓋用モータ５１２を制御して便蓋３００を開き、電磁弁４３１を開き、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを反時計回り（ＣＣＷ）に中速回転させる（ステップＳ３０２）。電磁弁４３１が開くことで、ディスク４８１ｂへの給水が開始される。

制御装置４０５は、反時計回りに中速回転するディスク４８１ｂから水道水のミストが噴霧される状態を所定時間、維持する（ステップＳ３０３：Ｎｏ）。

所定時間が経過すると（ステップＳ３０３：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを時計回り（ＣＷ）に中速回転させる（ステップＳ３０６）。制御装置４０５は、時計回りに中速回転するディスク４８１ｂから水道水のミストが噴霧される状態を所定時間、維持する（ステップＳ３０５：Ｎｏ）。

制御装置４０５は、所定時間が経過すると（ステップＳ３０５：Ｙｅｓ）、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを時計回り（ＣＷ）に低速回転させる（ステップＳ３０６）。制御装置４０５は、時計回りに低速回転するディスク４８１ｂから水道水のミストが噴霧される状態を所定時間、維持する（ステップＳ３０７：Ｎｏ）。

所定時間が経過すると（ステップＳ３０７：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、電磁弁４３１を閉じる（ステップＳ３０８）。制御装置４０５は、ディスク４８１ｂへの給水が停止し、ディスク４８１ｂが低速で回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ３０９：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂ上の残水を除去することができる。

所定時間が経過すると（ステップＳ３０９：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、モータ４８１ａ及びディスク４８１ｂの回転を停止させる。以上で、プレミストモードが終了する。

図１１は、第１の実施形態に係る便座装置の動作を例示するフローチャートである。

プレミストモードは、検知センサ４０２が使用者を検知していない状態から使用者を検知している状態となった後に、除菌水または水道水が便座部２００に着水しないように、自動的に除菌水のミストまたは水道水のミストを大便器８００内に噴霧する。

例えば、図１０に示すように、使用者がトイレ室に入室して、人体検知センサ４０３が使用者の入室を検知すると、使用者の入室を示す信号（検知情報）が制御装置４０５に送信される。制御装置４０５は、その信号に基づいて、自動的にプレミストモードを実行する。プレミストモードにおいて、制御装置４０５は、噴霧装置４８１に水道水のミストを噴霧させ、対象部位にミストを着水させる。

このように、便座装置１００の使用前には、プレミストモードによって大便器８００内に除菌水または水道水を着水させる。これにより、汚れ負荷が大きく、濡れに対する許容度が高い大便器８００内に水膜を形成し、汚物の固着を抑制することができる。一方、汚れ負荷が小さい便座部２００やリム部８０５の上面８０６においては、プレミストモードによって水膜を形成しなくても、便座装置１００の使用後に、アフターミストモードによって除菌水を着水させることで、汚物の固着を抑制することができる。そこで、便座装置１００では、プレミストモードにおいて、除菌水または水道水のミストを、便座部２００に着水しないように大便器８００内に噴霧する。これにより、プレミストモードとアフターミストモードとによって、大便器８００や便座部２００などの広い範囲において菌や汚れの発生を抑制しつつ、プレミストモードによって噴霧された除菌水又は水道水で使用者が濡れることを防ぐことができる。例えば、プレミストモードの実行直後に使用者が便座部２００を手で回動させたり便座部２００に着座したりする場合であっても、使用者の臀部や手が、便座に着水した除菌水又は水道水に触れることを防止できる。すなわち、使用者は、ミストで濡れることなく便座装置１００をすぐに使用可能である。

さらに、プレミストモードにおいて、便座部２００にミストを着水させないことにより、短時間で大便器８００内に水膜を形成することができ、プレミストモードの実行時間を短くすることができる。トイレ室に入室した使用者は、プレミストモードの終了を待つことなく便座装置１００を使用することができる。

なお、プレミストモードにおいて「除菌水または水道水が便座部に着水しない」という範囲は、全てのミストが便座部２００に着水しない場合だけでなく、僅かなミストが便座部２００に着水する場合を含んでもよいものとする。例えば、プレミストモードにおいて便座部２００に着水する水道水又は除菌水の量は、アフターミストモード又は手動ミストモードにおいて便座部２００に着水する除菌水の量よりも少ない。ただし、プレミストモードにおいて、便座部２００に着水する除菌水又は水道水の量は、出来るだけ少ないことが好ましく、例えばゼロであることが好ましい。

アフターミストモードは、検知センサ４０２が使用者を検知している状態から使用者を検知しない状態となった後に、自動的に除菌水のミストを大便器８００内および便座部２００に噴霧する。

例えば、図１１に示すように、使用者がトイレ室から退室して、人体検知センサ４０３が使用者の退室を検知すると、使用者の退室を示す信号（検知情報）が制御装置４０５に送信される。制御装置４０５は、その信号に基づいて、自動的にアフターミストモードを実行する。アフターミストモードにおいて、制御装置４０５は、除菌装置４５０に除菌水を生成させ、噴霧装置４８１に除菌水のミストを噴霧させ、対象部位にミストを着水させる。

このように、アフターミストモードの実行によって、使用者の便座装置１００の使用後に、大便器８００内及び便座部２００に除菌水を自動的に着水させることができる。これにより、大便器８００だけでなく便座部２００などの広い範囲において自動的に菌や汚れの発生を抑制することができる。

なお、アフターミストモードは、使用者の便座装置１００の使用後に実行されるため、使用前に比べて長い不使用時間を確保しやすい。そのため、アフターミストモードによって便座部２００やリム部８０５の上面８０６が濡れても、次の使用までに、便座部２００やリム部８０５の上面８０６は、乾きやすい。

手動ミストモードは、使用者が手動操作部５００を操作した後に、除菌水のミストを大便器８００内および便座部２００に噴霧する。

例えば、図１１に示すように、使用者がトイレ室に入室中（例えばプレミストモードの実行後）に、手動操作部５００を操作すると、操作に応じた信号（操作情報）が制御装置４０５に送信される。制御装置４０５は、その信号に基づいて、手動ミストモードを実行する。手動ミストモードは、便座装置１００の使用前・使用後・掃除時などのタイミングで実行される。手動ミストモードにおいて、制御装置４０５は、除菌装置４５０に除菌水を生成させ、噴霧装置４８１に除菌水のミストを噴霧させ、対象部位にミストを着水させる。

このように、手動ミストモードにより、大便器８００内及び便座部２００に除菌水を着水させることで、さらに菌や汚れの発生を抑制することができる。例えば、アフターミストモードによって抑制することが困難な固着汚れに対して、着水した除菌水をトイレットペーパー等を用いて拭き取ることにより、除菌することができる。使用者は、専用の除菌ペーパーを用いずに手軽に拭き取り除菌を行うことができる。
また、例えば、便座装置１００の使用前に便座部２００の汚れが気になる使用者は、手動ミストモードによって便座部２００を除菌することができる。使用者自らの操作に基づいて除菌が実行されるため、使用者の安心感や満足感を高めることができる。

図１１に示すように、制御装置４０５は、検知センサが使用者を検知している状態において手動ミストモードを実行した後に、検知センサが使用者を検知している状態から使用者を検知しない前記状態となった場合であっても、アフターミストモードを実行する。これにより、使用者の便座装置１００の使用（排便や排尿）の前に手動ミストモードが実行された場合であってもアフターミストモードを実行することで、より確実に菌や汚れの発生を抑制することができる。

図１２（ａ）及び図１２（ｂ）は、第１の実施形態に係る粒径の測定方法を例示する斜視図である。
粒径の測定には、レーザ回折法が用いられる。微粒子にレーザを照射すると、その微粒子から様々な方向に向かう回折散乱光が生じる。回折散乱光の強さは、光が発せられる方向において空間パターンを有する。この空間パターンは、光強度分布パターンと呼ばれる。光強度分布パターンは、微粒子の粒径によって変化する。微粒子の粒径と光強度分布パターンとの相関を利用し、光強度分布パターンを検出することで粒径を算出することができる。

図１２（ａ）及び図１２（ｂ）に示すように、粒径の測定装置６００は、発光部６０１と受光部６０２とを有する。受光部６０２は、発光部６０１が発するレーザを受光可能に設けられている。粒径の測定においては、発光部６０１が発するレーザを噴霧装置４８１から噴霧されるミストＭに照射する。受光部６０２は、レーザの照射によって生じた回折散乱光を受光する。これにより、光強度分布パターンを検出することができる。測定装置には、エアロトラックＬＤＳＡ－３５００Ａ（マイクロトラック・ベル株式会社製）を用いることができる。

次に、本発明の別の実施形態について、図１３を用いて説明する。
図１３は、第２の実施形態に係るトイレ装置を例示する断面図である。
図１３において、第１の実施形態と同様の構成については、同一の符号を付与し、説明を省略する。
噴霧装置４８１の位置は、第１の実施形態にて説明した位置（図２参照）に限らない。
図１３に示すように、第２の実施形態においては、例えば、噴霧装置４８２は便蓋３００に配置されている。
噴霧装置４８２は、モータ４８２ａと、モータ４８２ａの下方に接続されたディスク４８２ｂと、給水口４８２cと、を有する。
これらモータ４８２ａ、ディスク４８２ｂおよび給水口４８２cは、第１の実施形態にて、説明したモータ４８１ａ、ディスク４８１ｂおよび給水口４８１cと同様の機能および構造を有するため、説明を省略する。
図１３に示すように、噴霧装置４８２を便蓋３０に配置することで、除菌水を、ボウル部８０１の後方側に直接的に噴霧することができ、着水量を多くすることできる。

以上、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明はこれらの記述に限定されるものではない。前述の実施の形態に関して、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。例えば、大便器、便座装置などが備える各要素の形状、寸法、材質、配置、設置形態などは、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。
また、前述した各実施の形態が備える各要素は、技術的に可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。

１０ トイレ装置、 １００ 便座装置、 １１０～１１３ 流路、 ２００ 便座部、 ２００ａ 開口、 ２０３ 表面、 ２０４ 裏面、 ２０５ 内周、 ２０６ 外周、 ３００ 便蓋、 ４００ ケーシング、 ４０２ 検知センサ、 ４０３ 人体検知センサ、 ４０４ 着座検知センサ、 ４０５ 制御装置、 ４３１ 電磁弁、 ４５０ 除菌装置、 ４７２ 切替弁、 ４７３ ノズル、 ４７４ 吐水口、 ４７６ ノズルモータ、 ４７８ ノズル洗浄室、 ４７９ ノズルダンパ、 ４８１ 噴霧装置、 ４８１ａ モータ、 ４８１ｂ ディスク、 ４８１ｃ 給水口、 ４８２ 噴霧装置、 ４８２ａ モータ、 ４８２ｂ ディスク、 ４８２ｃ 給水口、 ５００ 手動操作部、 ５１１ 便座用モータ、 ５１２ 便蓋用モータ、 ５１３ 吸気装置、 ５１５ 便座ヒータ、 ６００ 測定装置、 ６０１ 発光部、 ６０２ 受光部、 ８００ 大便器、 ８０１ ボウル部、 ８０１ｗ 溜水、 ８０５ リム部、 ８０６ 上面、 ８０７ 内壁面、 Ｍ ミスト、 Ｍ１ 第１ミスト、 Ｍ２ 第２ミスト、 Ｔ１ 所定時間、 Ｔ２ 所定時間

Claims (6)

1. 大便器の上部に設置される便座装置であって、
   使用者が着座する便座部と、
   除菌水を生成する除菌装置と、
   前記大便器の上部に設置された状態において、前記便座部より上方に配置され、前記除菌装置で生成した除菌水を前記便座部および前記大便器内に向けてミスト状に噴霧する噴霧装置と、前記除菌装置と前記噴霧装置とを制御する制御装置と、を備え、
   前記制御装置は、
   前記便座部の外周より内側に除菌水ミストを噴霧する第１工程と、前記便座部の内周より内側に前記除菌水ミストを噴霧する第２工程とを実行するように前記噴霧装置を制御するとともに、前記第１工程における前記除菌水ミストの粒径が前記第２工程における前記除菌水ミストの粒径よりも小さくなるよう前記噴霧装置を制御することを特徴とする便座装置。
2. 前記制御装置は、前記第１工程で噴霧する前記除菌水ミストの総量が前記第２工程で噴霧する前記除菌水ミストの総量よりも少なくなるよう前記噴霧装置を制御することを特徴とする請求項１記載の便座装置。
3. 前記制御装置は、前記第１工程を前記第２工程より先に実施することを特徴とする請求項１または２記載の便座装置。
4. 前記噴霧装置はモータを備え、
   前記制御装置は、前記第１工程のミストの粒径が、前記第２工程でのミストの粒径よりも小さくなるように、前記噴霧装置の前記モータの回転数を制御することを特徴とする請求項１乃至３記載の便座装置
5. 使用者を検知する検知センサを備え、
   前記制御装置は、
   前記検知センサが前記使用者を検知していない状態から前記使用者を検知している状態となった後に、前記除菌水または水道水が前記便座部に着水しないように、自動的に前記除菌水のミストまたは前記水道水のミストを噴霧するプレミストモードと、
   前記検知センサが前記使用者を検知している状態から前記使用者を検知しない状態となった後に、自動的に前記除菌水のミストを前記大便器内および前記便座部に噴霧するアフターミストモードと、または／および、前記使用者が手動操作部を操作した後に、前記除菌水のミストを前記大便器内および前記便座部に噴霧する手動ミストモードと、
   を実行可能であり、
   前記アフターミストモードと前記手動ミストモードにおいて、前記第１工程と前記第２工程とを実行することを特徴とする請求項１乃至４記載の便座装置。
6. 汚物を受けるボウル部と、前記ボウル部の上縁部を形成するリム部とを有する前記大便器と、請求項１乃至５記載のいずれか記載の便座装置と、を備えていることを特徴とするトイレ装置。
   

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