JP6587220B2 - 便座装置及びトイレ装置 - Google Patents

Description

本発明の態様は、一般的に、便座装置及びトイレ装置に関する。

特許文献１に記載のトイレ装置においては、大便器のボウル部に酸化分解作用や漂白作用を有する次亜塩素酸水が吐水される。これにより、ボウル部における菌や汚れの発生を抑制することができる。

特許文献２に記載のミスト洗浄装置付き便器においては、オゾン水や電解殺菌水、高温水を、径が０．１〜５０マイクロメートル（μｍ）程度のミストにするミスト洗浄装置が設けられる。特許文献２では、ミスト洗浄装置が発生するミストを、気流により、便器、便座及び便蓋などの隅々まで行きわたらせて洗浄することができるとしている。

特許第５０２９９３０号公報 特開２００７−１３８６０５号公報

特許文献１のように次亜塩素酸水などの除菌水により、菌や汚れの発生を抑制するためには、多くの除菌水を対象部位に着水させることが望ましい。例えば、特許文献２のように気流を利用することにより、多くのミスト状の除菌水を大便器、便座及び便蓋に着水させることが考えられる。しかし、この場合には、大便器のリム部の上面や便座に多くの除菌水が着水することとなる。便座に多くの除菌水が着水した場合には、使用者が便座に着座した際や便座を手で回動させた際に、使用者の臀部や手が、便座に着水した除菌水に触れ、不快感が生じる恐れがある。また、大便器のリム部の上面に多くの除菌水が着水すると、リム部の上面に着水した除菌水が、大便器の外側に垂れるおそれがある。

本発明は、かかる課題の認識に基づいてなされたものであり、大便器のボウル部だけでなく大便器のリム部、及び便座などの広い範囲において菌や汚れを抑制しつつ、除菌水が使用者の肌に触れること、及び除菌水が便器外に垂れることを防止できる便座装置及びトイレ装置を提供することを目的とする。

第１の発明は、大便器の上部に設置される便座装置であって、使用者が着座する便座部と、除菌水を生成する除菌装置と、前記便座装置が前記大便器の前記上部に設置された状態において、前記便座部よりも下方に配置され、前記大便器内に向けて前記除菌水のミストを噴霧する噴霧装置と、前記大便器内に向けて送風し、上昇気流を発生させる送風装置と、前記除菌装置と前記噴霧装置と前記送風装置とを制御する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記送風装置に前記大便器内に第１上昇気流を発生させた状態において、前記第１上昇気流によって前記便座部側に上昇可能な粒径を有する前記除菌水の第１ミストと、前記第１上昇気流によって前記便座部側に上昇しないように前記第１ミストの前記粒径よりも大きい粒径を有する前記除菌水の第２ミストと、を同時に発生させるとともに、前記第１ミストの総量が前記第２ミストの総量よりも少なくなるように前記噴霧装置を制御することを特徴とする便座装置である。

この便座装置によれば、便座部よりも下方から噴霧された第１ミストは、第１上昇気流によって便座部側に上昇し、第２ミストは、第１上昇気流によって便座部側に上昇しない。これにより、単一の噴霧装置で、大便器のボウル部だけでなくリム部の上面や便座部にも除菌水のミストを着水させることができる。したがって、大便器のボウル部だけでなく大便器のリム部、及び便座などの広い範囲において菌や汚れを抑制することができる。
さらに、第１上昇気流によって上昇可能な小粒径の第１ミストと、第１上昇気流によって上昇しない粒径の第２ミストと、を同時に発生させることで、ボウル部における除菌水の着水量、リム部の上面における除菌水の着水量、便座部における除菌水の着水量を任意に制御することができる。
さらに、この便座装置によれば、第１ミストの総量を第２ミストの総量よりも少なくすることにより、便座部及びリム部上面に着水する除菌水の量を比較的少なくし、ボウル部及びリム部の内壁面に着水する除菌水の量を比較的多くすることができる。
ボウル部やリム部の内壁面は、汚物が直接付着しやすく、汚れ負荷が大きい部分である。また、ボウル部やリム部の内壁面は、濡れても不都合が生じにくいため、濡れに対する許容度が高い部分である。そこで、ボウル部及びリム部に多くの除菌水のミストを着水させることで、菌や汚れの発生を抑制することができる。
一方、便座部やリム部の上面は、ボウル部やリム部の内壁面に比べて汚物が直接付着しにくく、汚れ負荷が小さい部分である。このため、便座部やリム部の上面においては、比較的少量の除菌水を着水させることで、菌や汚れを抑制することができる。また、便座部やリム部の上面が過度に濡れると、除菌水が使用者の肌に触れたり、大便器外に垂れたりする可能性があるため、便座部やリム部の上面は、濡れに対する許容度が低い部分である。これに対して、便座部やリム部の上面において、除菌水の着水量を少なくすることで、短時間で便座部やリム部の上面を乾かすことができる。これにより、除菌水が使用者の肌に触れたり、大便器外に垂れたりすることを防止できる。
このように、この便座装置によれば、大便器のボウル部だけでなく大便器のリム部、及び便座などの広い範囲において菌や汚れを抑制しつつ、除菌水が使用者の肌に触れること、および、除菌水が大便器外に垂れることを防止できる。

第２の発明は、第１の発明において、前記噴霧装置は、前記第１ミストが前記第２ミストよりも上方側に形成されるように前記除菌水を噴霧することを特徴とする便座装置である。

この便座装置によれば、小粒径の第１ミストが第１上昇気流によって上昇する際に、第２ミストと接触することを抑制することができる。これにより、第１ミストの粒径が第２ミストとの接触によって大きくなり、第１ミストが大便器内に落下することを抑制することができる。

第３の発明は、第２の発明において、前記噴霧装置は、前記第１ミストを水平面に対して斜め上方に向けて噴霧することを特徴とする便座装置である。

この便座装置によれば、小粒径の第１ミストが第１上昇気流に乗る前に、第２ミストと接触することを抑制することができる。これにより、第１ミストの粒径が第２ミストとの接触によって大きくなり、第１ミストが大便器内に落下することを抑制することができる。

第４の発明は、第３の発明において、前記噴霧装置は、前記第２ミストを水平面に対して平行または斜め下方に向けて噴霧することを特徴とする便座装置である。

この便座装置によれば、第２ミストを小粒径の第１ミストとは異なる方向に噴霧することにより、第２ミストが小粒径の第１ミストと接触することをより確実に抑制することができる。これにより、第１ミストの粒径が第２ミストとの接触によって大きくなり、第１ミストが大便器内に落下することを抑制することができる。

第５の発明は、第１〜第４のいずれか１つの発明において、前記噴霧装置は、前記第１ミスト及び前記第２ミストのそれぞれを、上面視において、放射状に噴霧することを特徴とする便座装置である。

この便座装置によれば、第１ミストが放射状であることにより、第１ミストを第１上昇気流の全体に乗せて、便座部やリム部の上面の広い範囲に着水させることができる。また、第２ミストが放射状であることにより、第２ミストが気流に乗らないほど大きな粒径を有していても、ボウル部やリム部の内壁面などの大便器内の広範囲に、第２ミストを着水させることができる。

第６の発明は、第１〜第５のいずれか１つの発明において、前記便座部に着座した前記使用者の局部に向けて吐水する洗浄ノズルをさらに備え、前記洗浄ノズルは、前記洗浄ノズルの幅方向において、前記噴霧装置と前記送風装置との間に配置されていることを特徴とする便座装置である。

この便座装置によれば、噴霧装置は、幅方向において送風装置から離れた位置に配置される。これにより、小粒径の第１ミストが、第１上昇気流に乗る前に、送風装置から大便器内に向けて送風された気流（第１上昇気流を発生させる前の気流）に乗って大便器内に着水することを抑制することができる。

第７の発明は、汚物を受けるボウル部と、上縁部を形成するリム部と、を有する大便器と、前記大便器の上部に設置され使用者が着座する便座部と、除菌水を生成する除菌装置と、前記便座部が前記大便器の前記上部に設置された状態において、前記便座部よりも下方に配置され、前記大便器内に向けて前記除菌水のミストを噴霧する噴霧装置と、前記大便器内に向けて送風し、上昇気流を発生させる送風装置と、前記除菌装置と前記噴霧装置と前記送風装置とを制御する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記送風装置に前記大便器内に第１上昇気流を発生させた状態において、前記第１上昇気流によって前記便座部側に上昇可能な粒径を有する前記除菌水の第１ミストと、前記第１上昇気流によって前記便座部側に上昇しないように前記第１ミストの前記粒径よりも大きい粒径を有する前記除菌水の第２ミストと、を同時に発生させるとともに、前記第１ミストの総量が前記第２ミストの総量よりも少なくなるように前記噴霧装置を制御することを特徴とするトイレ装置である。

このトイレ装置によれば、便座部よりも下方から噴霧された第１ミストは、第１上昇気流によって便座部側に上昇し、第２ミストは、第１上昇気流によって便座部側に上昇しない。これにより、単一の噴霧装置で、大便器のボウル部だけでなくリム部の上面や便座部にも除菌水のミストを着水させることができる。したがって、大便器のボウル部だけでなく大便器のリム部、及び便座などの広い範囲において菌や汚れを抑制することができる。 さらに、第１上昇気流によって上昇可能な小粒径の第１ミストと、第１上昇気流によって上昇しない粒径の第２ミストと、を同時に発生させることで、ボウル部における除菌水の着水量、リム部の上面における除菌水の着水量、便座部における除菌水の着水量を任意に制御することができる。
さらに、このトイレ装置によれば、第１ミストの総量を第２ミストの総量よりも少なくすることにより、便座部及びリム部上面に着水する除菌水の量を比較的少なくし、ボウル部及びリム部の内壁面に着水する除菌水の量を比較的多くすることができる。
ボウル部やリム部の内壁面は、汚物が直接付着しやすく、汚れ負荷が大きい部分である。また、ボウル部やリム部の内壁面は、濡れても不都合が生じにくいため、濡れに対する許容度が高い部分である。そこで、ボウル部及びリム部に多くの除菌水のミストを着水させることで、菌や汚れの発生を抑制することができる。
一方、便座部やリム部の上面は、ボウル部やリム部の内壁面に比べて汚物が直接付着しにくく、汚れ負荷が小さい部分である。このため、便座部やリム部の上面においては、比較的少量の除菌水を着水させることで、菌や汚れを抑制することができる。また、便座部やリム部の上面が過度に濡れると、除菌水が使用者の肌に触れたり、大便器外に垂れたりする可能性があるため、便座部やリム部の上面は、濡れに対する許容度が低い部分である。これに対して、便座部やリム部の上面において、除菌水の着水量を少なくすることで、短時間で便座部やリム部の上面を乾かすことができる。これにより、除菌水が使用者の肌に触れたり、大便器外に垂れたりすることを防止できる。
このように、このトイレ装置によれば、大便器のボウル部だけでなく大便器のリム部、及び便座などの広い範囲において菌や汚れを抑制しつつ、除菌水が使用者の肌に触れること、および、除菌水が大便器外に垂れることを防止できる。

第８の発明は、第７の発明において、前記噴霧装置は、前記第１ミストが前記第２ミストよりも上方側に形成されるように前記除菌水を噴霧することを特徴とするトイレ装置である。

このトイレ装置によれば、小粒径の第１ミストが第１上昇気流によって上昇する際に、第２ミストと接触することを抑制することができる。これにより、第１ミストの粒径が第２ミストとの接触によって大きくなり、第１ミストが大便器内に落下することを抑制することができる。

第９の発明は、第８の発明において、前記噴霧装置は、前記第１ミストを水平面に対して斜め上方に向けて噴霧することを特徴とするトイレ装置である。

このトイレ装置によれば、小粒径の第１ミストが第１上昇気流に乗る前に、第２ミストと接触することを抑制することができる。これにより、第１ミストの粒径が第２ミストとの接触によって大きくなり、第１ミストが大便器内に落下することを抑制することができる。

第１０の発明は、第９の発明において、前記噴霧装置は、前記第２ミストを水平面に対して平行または斜め下方に向けて噴霧することを特徴とするトイレ装置である。

このトイレ装置によれば、第２ミストを小粒径の第１ミストとは異なる方向に噴霧することにより、第２ミストが小粒径の第１ミストと接触することをより確実に抑制することができる。これにより、第１ミストの粒径が第２ミストとの接触によって大きくなり、第１ミストが大便器内に落下することを抑制することができる。

第１１の発明は、第８〜第１０のいずれか１つの発明において、前記噴霧装置は、前記第１ミスト及び前記第２ミストのそれぞれを、上面視において、放射状に噴霧することを特徴とするトイレ装置である。

このトイレ装置によれば、第１ミストが放射状であることにより、第１ミストを第１上昇気流の全体に乗せて、便座部やリム部の上面の広い範囲に着水させることができる。また、第２ミストが放射状であることにより、第２ミストが気流に乗らないほど大きな粒径を有していても、ボウル部やリム部の内壁面などの大便器内の広範囲に、第２ミストを着水させることができる。

第１２の発明は、第８〜第１１のいずれか１つの発明において、前記便座部に着座した前記使用者の局部に向けて吐水する洗浄ノズルをさらに備え、前記洗浄ノズルは、前記洗浄ノズルの幅方向において、前記噴霧装置と前記送風装置との間に配置されていることを特徴とするトイレ装置である。

このトイレ装置によれば、噴霧装置は、幅方向において送風装置から離れた位置に配置される。これにより、小粒径の第１ミストが、第１上昇気流に乗る前に、送風装置から大便器内に向けて送風された気流（第１上昇気流を発生させる前の気流）に乗って大便器内に着水することを抑制することができる。

本発明の態様によれば、大便器のボウル部だけでなく大便器のリム部、及び便座などの広い範囲において菌や汚れを抑制しつつ、除菌水が使用者の肌に触れること、及び除菌水が便器外に垂れることを防止できる便座装置及びトイレ装置が提供される。

実施形態に係るトイレ装置を例示する斜視図である。 実施形態に係るトイレ装置を例示する断面図である。 実施形態に係る便座装置の要部構成を例示するブロック図である。 図４（ａ）〜図４（ｅ）は、実施形態に係るトイレ装置を例示する平面図及び斜視図である。 図５（ａ）〜図５（ｃ）は、実施形態に係る別のトイレ装置を例示する斜視図である。 図６（ａ）〜図６（ｃ）は、実施形態に係る噴霧装置を例示する模式図である。 図７（ａ）及び図７（ｂ）は、実施形態に係る噴霧装置のディスクを例示する平面図である。 実施形態に係る便座装置のアフターミストモード及び手動ミストモードにおける動作を例示する模式図である。 図９（ａ）及び図９（ｂ）は、実施形態に係る便座装置のアフターミストモード及び手動ミストモードにおける動作を例示する断面図である。 図１０（ａ）〜図１０（ｄ）は、実施形態に係る便座装置のアフターミストモード及び手動ミストモードにおける動作を例示する平面図である。 実施形態に係る便座装置のアフターミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。 実施形態に係る便座装置の手動ミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。 実施形態に係る便座装置のプレミストモードにおける動作を例示する模式図である。 図１４（ａ）〜図１４（ｃ）は、実施形態に係る便座装置のプレミストモードにおける動作を例示する断面図及び平面図である。 図１５（ａ）〜図１５（ｃ）は、実施形態に係る便座装置のプレミストモードにおける動作を例示する断面図及び平面図である。 実施形態に係る便座装置のアフターミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。 実施形態に係る便座装置の動作を例示するフローチャートである。 図１８（ａ）及び図１８（ｂ）は、実施形態に係る便座装置の動作を例示する模式図である。 図１９（ａ）〜図１９（ｅ）は、実施形態に係るトイレ装置を例示する平面図である。 アフターミストモードにおけるミストの着水量を例示する表である。 図２１（ａ）及び図２１（ｂ）は、実施形態に係る粒径の測定方法を例示する斜視図である。 図２２（ａ）及び図２２（ｂ）は、実施形態の変形例に係るトイレ装置の一部を例示する平面図及び断面図である。 実施形態の変形例に係るトイレ装置の要部構成を例示するブロック図である。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
図１は、実施形態に係るトイレ装置を例示する斜視図である。
図２は、実施形態に係るトイレ装置の一部を例示する断面図である。

図１に表したトイレ装置１０は、洋式腰掛便器（以下説明の便宜上、単に「大便器」と称する）８００と、便座装置１００と、を備える。大便器８００は、汚物を受ける凹状のボウル部８０１を有する。便座装置１００は、大便器８００の上部に設置されている。

便座装置１００は、ケーシング４００と、使用者が着座する便座部２００と、便蓋３００と、を有する。便座部２００と便蓋３００とは、それぞれ、ケーシング４００に対して開閉自在に軸支されている。図１の状態は、便座部２００が閉じた状態（下げられた状態）であり、便蓋３００が開いた状態（上げられた状態）である。便蓋３００は、閉じた状態では、便座部２００の座面を上方から覆う。

ケーシング４００の内部には、便座部２００に座った使用者の人体局部（「おしり」など）の洗浄を実現する身体洗浄機能部などが内蔵されている。また、例えばケーシング４００には、使用者が便座部２００に座ったことを検知する着座検知センサ４０４が設けられている。着座検知センサ４０４が便座部２００に座った使用者を検知している場合において、使用者が例えばリモコンなどの手動操作部５００を操作すると、洗浄ノズル（以下説明の便宜上、単に「ノズル」と称する）４７３を大便器８００のボウル部８０１内に進出させることができる。なお、図１に表した便座装置１００では、ノズル４７３がボウル部８０１内に進出した状態を表している。

ノズル４７３の先端部には、ひとつ又は複数の吐水口４７４が設けられている。そして、ノズル４７３は、その先端部に設けられた吐水口４７４から水を噴射して、便座部２００に座った使用者の「おしり」などを洗浄することができる。

なお、本願明細書において、「上方」、「下方」、「前方」、「後方」、「左側方」及び「右側方」のそれぞれは、開いた便蓋３００に背を向けて便座部２００に座った使用者から見た方向である。

図２に示すように、大便器８００は、ボウル部８０１の上に設けられたリム部８０５を有する。リム部８０５は、大便器８００の上縁部を形成する環状部分である。ボウル部８０１内には、溜水８０１ｗが溜められている。例えば、使用者が、リモコン等に設けられたスイッチによって便器洗浄の操作を行うと、または、使用者が便座部２００から立ち上がると、便器洗浄（ボウル部８０１内の汚物を排出し、ボウル部８０１の表面を洗浄する動作）が実行される。便器洗浄においては、ボウル部８０１内に洗浄水が供給される。例えば、図２の例では、ボウル給水口８１１から大便器８００の上縁に沿って洗浄水が吐出される。

リム部８０５は、上面８０６と、内壁面８０７と、を有する。上面８０６は、閉じられた便座部２００の裏面２０４と向き合う面である。内壁面８０７は、大便器８００の内壁（ボウル部８０１の中央側に面する壁面）のうち、便器洗浄の洗浄水が流れる部分よりも、上方の部分である。すなわち、本願明細書において、リム部８０５の内壁面８０７とは、便器洗浄における不洗浄部をいう。図２の例では、内壁面８０７は、棚状に屈曲した屈曲部８０５Ｂより上方に位置する立面を含む。

ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７は、汚物が直接付着しやすいため、汚れ負荷が大きい部分である。また、ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７は、濡れても不都合が生じにくいため、濡れに対する許容度が高い部分である。

便座部２００やリム部８０５の上面８０６は、ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７に比べて汚物が直接付着しにくい。例えば、便座部２００及びリム部８０５の上面８０６には、ボウル部８０１や溜水８０１ｗに当たって跳ねた尿や汚水が付着する。したがって、便座部２００及びリム部８０５の上面８０６は、比較的、汚れ負荷が小さい部分である。また、便座部２００やリム部８０５の上面８０６が過度に濡れると、除菌水が使用者の肌に触れたり、大便器外に垂れたりする可能性があるため、便座部２００やリム部８０５の上面８０６は、濡れに対する許容度が低い部分である。

図３は、実施形態に係る便座装置の要部構成を例示するブロック図である。
なお、図３は、水路系と電気系の要部構成を併せて表している。
便座装置１００は、電磁弁４３１、除菌装置４５０、切替弁４７２、噴霧装置４８１、ノズルモータ４７６、ノズル４７３、ノズル洗浄室４７８、及び流路１１０〜１１３などを有する。これらは、ケーシング４００内に配置されている。なお、図２３に示すように、これらは、大便器８００の内部に組み込まれていても良い。

流路１１０は、水道や貯水タンクなどの図示しない給水源から供給された水を噴霧装置４８１やノズル４７３などに導くための流路である。流路１１０の上流側には、電磁弁４３１が設けられている。電磁弁４３１は、開閉可能な電磁バルブであり、ケーシング４００の内部に設けられた制御装置４０５からの指令に基づいて水の供給を制御する。

流路１１０上において、電磁弁４３１の下流には、除菌水を生成する除菌装置４５０が設けられている。除菌装置４５０は、例えば次亜塩素酸などを含む除菌水を生成する。除菌装置４５０としては、例えば、電解槽ユニットが挙げられる。電解槽ユニットは、制御装置４０５からの通電の制御によって、陽極板（図示せず）と陰極板（図示せず）との間の空間（流路）を流れる水道水を電気分解する。なお、除菌水は、次亜塩素酸を含むものには限定されない。例えば、除菌水は、銀イオンや銅イオンなどの金属イオンを含む溶液、電解塩素やオゾンなどを含む溶液、酸性水、または、アルカリ水などでもよい。除菌装置４５０は電解槽に限らず、除菌水を生成可能な任意の構成でよい。

流路１１０上において、除菌装置４５０の下流には、切替弁４７２が設けられている。切替弁４７２の下流には、ノズル４７３、ノズル洗浄室４７８及び噴霧装置４８１が設けられている。流路１１０は、切替弁４７２により、ノズル４７３へ水を導く流路１１１、ノズル洗浄室４７８へ水を導く流路１１２、および、噴霧装置４８１へ水を導く流路１１３に分岐している。切替弁４７２は、制御装置４０５からの指令に基づいて、流路１１１、流路１１２および流路１１３のそれぞれの開閉を制御する。つまり、切替弁４７２は、ノズル４７３、ノズル洗浄室４７８および噴霧装置４８１への水の供給を制御する。また、切替弁４７２は、その下流に供給する水の流量を切り替える。

ノズル４７３は、ノズルモータ４７６からの駆動力を受け、便器８００のボウル部８０１内に進出したり後退したりする。つまり、ノズルモータ４７６は、制御装置４０５からの指令に基づいてノズル４７３を進退させる。ノズル４７３は、非使用時には、ケーシング４００内に収納されている。ノズル４７３は、ケーシング４００から前方へ進出した状態で、吐水口４７４から水を吐出して、人体局部を洗浄する。

ノズル洗浄室４７８は、その内部に設けられた吐水口から除菌水あるいは水道水を噴射することにより、ノズル４７３の外周表面（胴体）を洗浄する。

噴霧装置４８１は、水道水又は除菌装置４５０で生成された除菌水をミスト状にする。噴霧装置４８１は、ボウル部８０１、リム部８０５、及び便座部２００に、ミストＭ（除菌水のミスト又は水道水のミスト）を噴霧する。言い換えれば、噴霧装置４８１は、除菌水のミスト又は水道水のミストを、ボウル部８０１、リム部８０５、及び便座部２００に着水させる。なお、本願明細書において「着水」とは、水（除菌水又は水道水）が物体の表面に付着することをいう。特に「直接着水」という場合には、水（除菌水又は水道水の微粒子ｐ）が空中から物体の表面に到着することを意味する。

また、ケーシング４００の内部には、便座用モータ５１１（回動装置）、便蓋用モータ５１２（回動装置）、送風装置５１３および温風ヒータ５１４が設けられている。
便座用モータ５１１は、制御装置４０５からの指令に基づいて、電動で便座部２００を回動させ開閉する。便蓋用モータ５１２は、制御装置４０５からの指令に基づいて、電動で便蓋３００を回動させ開閉する。

送風装置５１３は、例えばケーシング４００の内部に設けられたファンである。送風装置５１３は、制御装置４０５からの指令に基づいて動作する。例えば、送風装置５１３のモータの回転に伴い羽根が回転する。これにより、送風装置５１３は、大便器８００内（例えばボウル部８０１内）に向けて送風することができる。また、送風装置５１３は、便座部２００に座った使用者の局部に送風してもよい。温風ヒータ５１４は、送風装置５１３によってケーシング４００の外部へ送られる空気を温める。これにより、使用者の局部に向けて温風を送り、局部を乾燥させることができる。

便座ヒータ５１５（乾燥装置）は、例えば、便座部２００の内部に設けられている。便座ヒータ５１５は、例えば、便座部２００の中央に形成された開口２００ａの周りに沿って設けられた環状の金属部材を有する。制御装置４０５からの指令に基づいて便座ヒータ５１５に通電が行われることで、便座ヒータ５１５は、便座部２００を温める。便座ヒータ５１５としては、例えば、チュービングヒータや、シーズヒータ、ハロゲンヒータ、カーボンヒータなどを用いてもよい。金属部材は、例えば、アルミニウムや銅などで構成される。また、金属部材の形状は、シート状やワイヤ状、メッシュ状など、種々の形状を採用することができる。

制御装置４０５には、図示しない電源回路から電力を供給される回路が用いられる。例えば、制御装置４０５は、マイコンなどの集積回路を含む。制御装置４０５は、使用者を検知する検知センサ４０２（例えば人体検知センサ４０３又は着座検知センサ４０４）の検知情報または、手動操作部５００の操作情報に基づいて、電磁弁４３１、除菌装置４５０、切替弁４７２、ノズルモータ４７６、送風装置５１３、温風ヒータ５１４、便座ヒータ５１５、便座用モータ５１１、及び便蓋用モータ５１２を制御する。

手動操作部５００は、使用者が例えば任意のタイミングで除菌水の噴霧を行うための操作部である。例えば、手動操作部５００は、スイッチ又はボタンなどを有するリモコンであり、使用者が手動操作部５００を操作すると、除菌水の噴霧を指示する操作情報（信号）が制御装置４０５に送られる。制御装置４０５は、その操作情報に基づいて除菌装置４５０や噴霧装置４８１を制御する。これにより、使用者は、手動操作部５００を操作することで、除菌水の噴霧を行うことができる。
また、手動操作部５００は、除菌水の噴霧だけでなく、使用者が便座装置１００の各機能を操作するためのスイッチやボタンなどを有していてもよい。各機能に対応した操作が行われると、その操作情報が制御装置４０５に送られ、制御装置４０５は、その操作情報に基づいて、便座装置１００の各部の動作を制御する。

着座検知センサ４０４は、使用者の便座部２００への着座の有無を検知することができる。着座検知センサ４０４は、使用者の着座及び離座を検知する。着座検知センサ４０４には、マイクロ波センサ、測距センサ（赤外線投光式センサ）、超音波センサ、タクトスイッチ、静電容量スイッチ（タッチセンサ）、または歪みセンサを用いることができる。この例では、着座検知センサ４０４には、ケーシング４００に設けられた測距センサが用いられている。

なお、タクトスイッチ、静電センサ及び歪みセンサなどの接触式センサを用いる場合には、これらの接触式センサは、便座部２００に設けられる。便座部２００に使用者が座ると、使用者の体重によってタクトスイッチが押下される。または、使用者が静電センサに接触する。または、使用者の体重によって歪みセンサに圧力が加えられる。これらのセンサからの電気信号により、使用者の着座を検知することができる。

人体検知センサ４０３は、大便器８００の前方にいる使用者、すなわち便座部２００から前方へ離間した位置に存在する使用者を検知することができる。つまり、人体検知センサ４０３は、トイレ室に入室して便座部２００に近づいてきた使用者を検知することができる。このような人体検知センサとして、例えば、焦電センサ、マイクロ波センサ、超音波センサ、または測距センサ（赤外線投光式センサ）を用いることができる。この例では、人体検知センサ４０３には、ケーシングに設けられた焦電センサが用いられている。また、人体検知センサ４０３は、トイレ室のドアを開けて入室した直後の使用者や、トイレ室に入室する直前の使用者、すなわちトイレ室に入室しようとしてドアの前に存在する使用者を検知してもよい。例えば、マイクロ波センサを用いた場合には、トイレ室のドア越しに使用者の存在を検知することが可能となる。

制御装置４０５は、人体検知センサ４０３の検知情報（使用者の存在の有無を示す信号）や、着座検知センサ４０４の検知情報（使用者の着座の有無を示す信号）を受信し、受信した検知情報に基づいて、便座装置１００の各部の動作を制御する。

制御装置４０５は、アフターミストモード、プレミストモード、及び手動ミストモードの３種類のミストモードを実行可能である。
アフターミストモードは、例えば、使用者のトイレ装置１０の使用後に、検知センサ４０２の検知情報に基づいて、除菌水のミストを自動で噴霧する動作モードである。プレミストモードは、例えば、使用者のトイレ装置１０の使用前に、検知センサ４０２の検知情報に基づいて、除菌水又は水道水のミストを自動で噴霧する動作モードである。手動ミストモードは、手動操作部５００の操作情報に基づいて、除菌水のミストを噴霧する動作モードである。

図４（ａ）〜図４（ｅ）は、実施形態に係るトイレ装置を例示する平面図及び斜視図である。
図４（ａ）は、トイレ装置１０の一部を前方から見た状態を示す。
図４（ａ）に示すように、噴霧装置４８１、ノズルダンパ４７９、及び送風ダンパ５１６は、便座装置１００が大便器８００の上部に設置された状態において、ボウル部８０１の後方上部に位置する。

図４（ｂ）は、図４（ａ）の一部を拡大して表す。なお、図４（ｂ）では、見易さのため、噴霧装置４８１の前方に位置するケーシング４００の一部を省略している。
ノズルダンパ４７９は、ケーシング４００に対して回動可能に軸支されている。ノズル４７３は、ケーシング４００の内部に後退している状態では、ノズルダンパ４７９の後方に位置する。人体局部の洗浄時等において、ノズル４７３は、ノズルダンパ４７９に当接し、ノズルダンパ４７９を回動させて開き、ケーシング４００の内部から進出する。

図４（ｃ）〜図４（ｅ）は、噴霧装置４８１、ノズルダンパ４７９及び送風ダンパ５１６の周辺を拡大して表す斜視図である。
送風ダンパ５１６は、ケーシング４００に対して回動可能に軸支されている。送風ダンパ５１６の後方には、送風装置５１３が配置されている。送風ダンパ５１６は、ケーシング４００の開口５１６ａを覆う。送風装置５１３から送られた空気は、開口５１６ａを通って、大便器８００内へ送られる。

図４（ｃ）は、送風装置５１３が動作を停止した状態であり、図４（ｄ）及び図４（ｅ）は、送風装置５１３が作動し、ボウル部８０１内に向けて送風している状態を示す。
図４（ｃ）に示すように、送風が停止した状態においては、送風ダンパ５１６は、閉じている。
図４（ｄ）に示すように、送風装置５１３が作動すると、送風ダンパ５１６は、送風装置５１３から送られる空気の圧力（風圧）により回動して開く。これにより、送風装置５１３は、例えば矢印Ａ１のように、ボウル部８０１内の後方上部からボウル部８０１内の前方下部へ向けて送風する。
図４（ｅ）の状態においては、図４（ｄ）の状態に比べて、送風装置５１３が送る風量が多い（又は風速が高い）。この場合には、送風ダンパ５１６は、図４（ｄ）の状態に比べて、さらに回動して開く。これにより、送風装置５１３は、例えば矢印Ａ２のように、ボウル部８０１内の後方上部からボウル部８０１内の前方上部へ向けて送風する。

このように、送風装置５１３から送られる風の方向は、送風ダンパ５１６によって変化する。言い換えれば、送風装置５１３は、風量（風速）によって送風方向を制御することができる。送風装置５１３からの風によって生じる気流に、噴霧装置４８１から噴霧されたミストを乗せることで、ミストが着水する範囲、及び、各範囲におけるミストの着水量（各範囲に着水する除菌水又は水道水の量）を制御してもよい。

図５（ａ）〜図５（ｃ）は、実施形態に係る別のトイレ装置を例示する斜視図である。 この例では、噴霧装置４８１の前方にミストダンパ４８２が設けられている。ミストダンパ４８２は、閉じた状態において、噴霧装置４８１の前方の少なくとも一部を覆う。例えば、ミストダンパ４８２は、閉じた状態において、図６に関して後述するディスク４８１ｂの前方を覆う。

ミストダンパ４８２は、例えばノズルダンパ４７９に対して固定されており、ノズルダンパ４７９と連動する。ノズルダンパ４７９が開くことでミストダンパ４８２も開き、ノズルダンパ４７９が閉じることでミストダンパ４８２も閉じる。

図５（ｂ）及び図５（ｃ）は、ノズルダンパ４７９及びミストダンパ４８２の周辺を拡大して表す。図５（ｂ）は、ノズル４７３がケーシング４００の内部に後退した状態である。このとき、ノズルダンパ４７９は、閉じた状態であり、ノズル４７３の前方を覆う。また、ミストダンパ４８２は、閉じた状態であり、噴霧装置４８１の少なくとも一部の前方を覆う。

噴霧装置４８１の不使用時には、図５（ｂ）のように、ミストダンパ４８２によって噴霧装置４８１をボウル部８０１側から隠蔽する。これにより、噴霧装置４８１に尿や汚れが付着することを防止することができる。

図５（ｃ）は、ノズル４７３が前方へ進出し、ノズルダンパ４７９を回動させた状態である。このときのノズル４７３の前方への進出距離は、人体局部洗浄時の前方への進出距離よりも短くてよい。例えば、ノズル４７３の先端がノズルダンパ４７９に当接している。また、図５（ｃ）において、ミストダンパ４８２は、ノズルダンパ４７９と共に回動し、開いている。噴霧装置４８１の一部（ディスク４８１ｂ）は、ボウル部８０１側へ露出している。これにより、噴霧装置４８１は、ボウル部８０１へ向けてミストを噴霧することができる。なお、例えば図２２に関して後述するように、ミストダンパ４８２を設けずに、噴霧装置４８１をケーシング４００内に配置してもよい。

図６（ａ）〜図６（ｃ）は、実施形態に係る噴霧装置を例示する模式図である。
図６（ａ）は、噴霧装置４８１の斜視図であり、図６（ｂ）は、噴霧装置４８１の側面図である。
噴霧装置４８１は、モータ４８１ａと、モータ４８１ａの下方に接続されたディスク４８１ｂと、を有する。モータ４８１ａの回転は、制御装置４０５によって制御される。モータ４８１ａが回転すると、回転の駆動力がディスク４８１ｂに伝達され、ディスク４８１ｂが回転する。

図６（ｂ）に示すように、ディスク４８１ｂの上面には、水Ｗ（水道水又は除菌装置４５０で生成された除菌水）が供給される。ディスク４８１ｂの回転中に、水Ｗが供給されることで、噴霧装置４８１は、水Ｗをミスト状にして噴霧する。なお、この例では、ディスク４８１ｂは、平らな円板状であるが、適宜凹凸を設けたり、円錐形状や球体を用いたりしてもよい。

図６（ｃ）は、ディスク４８１ｂの一部を上方から見た拡大図である。回転するディスク４８１ｂの上面に滴下された水Ｗは、遠心力によって、ディスク４８１ｂ上で膜状に広がり、ディスク４８１ｂから放射される。このとき、水Ｗは、ディスク４８１ｂの縁付近から膜状のまま分裂したり、糸状となった後に分裂したりし、その後、微粒子ｐ（ミスト）となる。ディスク４８１ｂの回転速度、すなわち、モータ４８１ａの回転速度によって、ミストの粒径（微粒子ｐの径）を制御することができる。回転速度が高い程、ミストの粒径は小さくなる。例えば、回転速度が１０００（rotation per minute：ｒｐｍ）程度の低速回転、回転速度が１００００ｒｐｍ程度の中速回転、または、回転速度が２００００ｒｐｍ程度の高速回転が適宜用いられ、所望の粒径が得られる。また、給水口４８１ｃから噴霧装置４８１に供給される水Ｗの流量を調整することにより、ミストの粒径を制御することもできる。

なお、本願明細書において、粒径とは、トイレ装置１０に着水する前の空中に存在する微粒子ｐの粒径であり、例えばザウター平均粒径（総体積／総表面積）である。本願明細書における「粒径」の測定方法については、図２１に関して後述する。また、ミストとは、粒径が１０マイクロメートル（μｍ）以上３００μｍ以下の範囲をいう。ミストの粒径が１０μｍ未満であると、ボウル部８０１、リム部８０５、便座部２００などの対象部位を濡らすために長い時間が必要となってしまう。また、次亜塩素酸を含む除菌水を用いた場合、ミストの粒径が１０μｍ未満であると、ミスト中の次亜塩素酸の濃度が減衰しやすく、除菌性能が低下しやすい。一方、ミストの粒径が３００μｍより大きいと、ミストが拡散しにくく、広範囲にミストを噴霧することが困難となる。また、以下の説明において、大粒径のミストとは、粒径が１００μｍ以上３００μｍ以下、好ましくは１５０μｍ以上３００μｍ以下の範囲のミストであり、中粒径のミストとは、粒径が５０μｍ以上２００μｍ以下、好ましくは６０μｍ以上１５０μｍ以下の範囲のミストであり、小粒径のミストとは、粒径が１０μｍ以上１００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以上６０μｍ以下の範囲のミストである。

図７（ａ）及び図７（ｂ）は、実施形態に係る噴霧装置のディスクを例示する平面図である。
図７（ａ）及び図７（ｂ）は、回転するディスク４８１ｂを上方から見た様子を示す。図７（ａ）の例では、ディスク４８１ｂ上に水Ｗを供給する給水口４８１ｃの数が１つである。この場合、給水口４８１ｃに近い領域では、供給された水Ｗの水膜がディスク４８１ｂ上で薄くなる前に、水Ｗがディスク４８１ｂ上から放射される。このため、図７（ａ）に示すように、噴霧装置４８１の周囲において、ミストの粒径に偏りが生じる。すなわち、ミストの粒径が比較的大きい領域Ｒ１、ミストの粒径が中程度の領域Ｒ２、および、ミストの粒径が比較的小さい領域Ｒ３が生じる。また、ミストの粒径に応じて、流量（単位時間に噴霧されるミストの量）にも偏りが生じる。すなわち、領域Ｒ１においては流量が多く、領域Ｒ２においては流量が中程度であり、領域Ｒ３においては流量が小さい。

このため、例えば、給水口４８１ｃの位置や、ディスク４８１ｂの回転方向（時計回り又は反時計回り）によって、噴霧装置４８１から大便器８００内へ向かって噴霧されるミストの粒径、流量、方向などを調整することが可能である。これにより、噴霧装置４８１から噴霧されたミストが着水する範囲、及び各範囲におけるミストの着水量を制御してもよい。また、ディスク４８１ｂの周囲に、ミストが噴霧される方向を制御するカバーなどを適宜設けてもよい。

また、給水口４８１ｃの数は、１つに限られず、複数の給水口４８１ｃが設けられてもよい。例えば、図７（ｂ）では、４つの給水口４８１ｃが設けられている。給水口４８１ｃは、ディスク４８１ｂの中心から見て９０°ごとに配置されている。このように複数の給水口４８１ｃをディスク外周に沿って略等間隔に配置することにより、噴霧装置４８１の周囲において、ミストの粒径や流量の偏りを抑え、均一な噴霧を行うことができる。

噴霧装置４８１は、便座装置１００が大便器８００の上部に設置された状態において、便座部２００よりも下方に配置され（図２参照）、大便器８００内に向けてミストを噴霧する。ここで、噴霧装置４８１が便座部２００よりも下方に配置されている状態とは、噴霧装置４８１の少なくとも一部（この例ではディスク４８１ｂ）が便座部２００よりも下方であることをいう。これにより、便座部２００よりも下方から、大便器８００内に水道水又は除菌水のミストが噴霧される。

なお、実施形態において、噴霧装置は、図６及び図７に関して説明した装置に限らない。例えば、噴霧装置として、超音波霧化装置を用いてもよい。超音波霧化装置は、液体に超音波を照射することで、液体をミスト状にする。また、例えば、噴霧装置として２流体ノズルを用いてもよい。２流体ノズルは、気体と液体とを共に噴射することで、液体をミスト状にする。ただし、図６及び図７に関して説明した装置を用いた場合には、送風装置５１３によって噴霧範囲を制御しやすいメリットがある。また、目詰まりのリスクも低く、コンプレッサなどの付帯装置も不要である。

図８〜図１０を参照して、アフターミストモード及び手動ミストモードにおける便座装置１００の動作の例について説明する。

図８は、実施形態に係る便座装置のアフターミストモード及び手動ミストモードにおける動作を例示する模式図である。
アフターミストモード及び手動ミストモードにおいて、制御装置４０５は、送風装置５１３を作動させる。これにより、送風装置５１３は、大便器８００内に向けて送風し、大便器８００内に第１上昇気流Ｕ１を発生させる。また、制御装置４０５は、第１上昇気流Ｕ１が発生した状態において、除菌水の第１ミストＭ１と、除菌水の第２ミストＭ２と、を同時に発生させるように噴霧装置４８１を制御する。第１ミストＭ１は、小粒径のミストである。第１ミストＭ１の粒径（除菌水の微粒子ｐ１の径）は、第１上昇気流Ｕ１によって、便座部２００側に上昇可能な粒径である。第２ミストＭ２は、中粒径のミストである。第２ミストＭ２の粒径（除菌水の微粒子ｐ２の径）は、第１ミストＭ１の粒径よりも大きい。第２ミストＭ２は、第１上昇気流Ｕ１によって便座部２００側に上昇しない。なお、第２ミストＭ２が、第１上昇気流Ｕ１で上昇しないという範囲は、全ての第２ミストＭ２が上昇しない場合だけではなく、僅かな第２ミストＭ２が上昇する場合を含んでもよいものとする。第１上昇気流Ｕ１によって上昇する第２ミストＭ２は、出来るだけ少ないことが好ましく、例えばゼロであることが好ましい。

すなわち、便座部２００よりも下方から噴霧された第１ミストＭ１は、第１上昇気流Ｕ１に乗って便座部２００側に上昇し、便座部２００やリム部８０５の上面８０６に着水する。一方で、便座部２００よりも下方から噴霧された第２ミストＭ２は、粒径が大きいため第１上昇気流Ｕ１によって便座部２００側に上昇せず、ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７に着水する。これにより、単一の噴霧装置４８１で、大便器８００のボウル部８０１だけでなくリム部８０５の上面８０６や便座部２００にも除菌水のミストを着水させることができる。したがって、大便器８００のボウル部８０１だけでなくリム部８０５、及び便座部２００などの広い範囲において菌や汚れを抑制することができる。また、単一の噴霧装置４８１を用いることで、便座装置１００を小型化することができる。

さらに、第１上昇気流Ｕ１によって上昇可能な小粒径の第１ミストＭ１と、第１上昇気流Ｕ１によって上昇しない粒径の第２ミストＭ２と、を同時に発生させることで、ボウル部８０１における除菌水の着水量、リム部８０５の上面８０６における除菌水の着水量、便座部２００における除菌水の着水量を任意に制御することができる。

また、制御装置４０５は、アフターミストモード及び手動ミストモードにおいて、第１ミストＭ１の総量（ｇ）が、第２ミストＭ２の総量（ｇ）よりも少なくなるように噴霧装置４８１を制御する。これにより、便座部２００及びリム部８０５の上面８０６に着水する除菌水の量は、比較的少なく、ボウル部８０１及びリム部８０５の内壁面８０７に着水する除菌水の量は、比較的多くなる。汚れ負荷が大きく、濡れに対する許容度が高いボウル部８０１及び内壁面８０７に多くの除菌水のミストを着水させることで、菌や汚れの発生を抑制することができる。汚れ負荷が小さく、濡れに対する許容度が低い便座部２００及びリム部８０５の上面８０６において、除菌水の着水量を少なくすることで、菌や汚れを抑制しつつ、短時間で便座部２００及びリム部８０５の上面８０６を乾かすことができる。これにより、除菌水が使用者の肌に触れたり、大便器外に垂れたりすることを防止できる。

なお、ミストの総量とは、１回のミストモード（１回のアフターミストモード又は１回の手動ミストモード）で、噴霧装置４８１が噴霧するミストの総量である。１回のミストモードにおいて、噴霧装置４８１は、連続的にミストを噴霧してもよいし、断続的にミストを噴霧してもよい。また、第１ミストＭ１の総量及び第２ミストＭ２の総量は、例えば、ディスク４８１ｂの回転速度や、噴霧装置４８１に供給される除菌水の流量などの調整により、制御することができる。

また、噴霧装置４８１は、第１ミストＭ１が第２ミストＭ２よりも上方側に形成されるように除菌水を噴霧する。より具体的には、噴霧装置４８１は、第１ミストＭ１を水平面に対して斜め上方に向けて噴霧する。また、噴霧装置４８１は、第２ミストＭ２を水平面に対して平行または斜め下方に向けて噴霧する。なお、第１ミストＭ１の方向と第２ミストＭ２の方向とが、噴霧後に、粒径に応じて上下に分かれるようにしてもよい。

これにより、小粒径の第１ミストＭ１が第１上昇気流Ｕ１によって上昇する際に、第２ミストＭ２と接触することを抑制することができる。したがって、第１ミストＭ１の粒径が第２ミストＭ２との接触によって大きくなり、第１ミストＭ１が大便器８００内に落下することを抑制することができる。

また、噴霧装置４８１は、第１ミストＭ１及び第２ミストＭ２のそれぞれを、上面視において、放射状に噴霧する。放射状とは、ミストが存在する範囲が、噴霧装置４８１から離れるに従い、広くなる状態である。例えば、上面視において、ディスク４８１ｂの中心から離れる全ての方向に向けて、ミストが噴霧される。

第１ミストＭ１が放射状であることにより、第１ミストＭ１を第１上昇気流Ｕ１の全体に乗せて、便座部２００やリム部８０５の上面８０６などの広い範囲に着水させることができる。また、第２ミストＭ２が放射状であることにより、第２ミストＭ２が気流に乗らないほど大きな粒径を有していても、ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７などの大便器８００内の広範囲に、第２ミストＭ２を着水させることができる。

なお、ミスト（第１ミストＭ１及び第２ミストＭ２）の形成位置や広がり方は、ディスク４８１ｂの回転速度、配置、形状や、ディスク４８１ｂに水を供給する給水口４８１ｃの位置などにより、調整することができる。

図９（ａ）及び図９（ｂ）は、実施形態に係る便座装置のアフターミストモード及び手動ミストモードにおける動作を例示する断面図である。
図９（ｂ）は、図９（ａ）に示す領域Ｒ４の拡大図である。
破線の矢印は、送風装置５１３によって形成される気流を表す。図９（ａ）に示すように、アフターミストモード及び手動ミストモードにおいて、送風装置５１３は、前方かつ下方へ向けて送風する。送風装置５１３から送られた空気の少なくとも一部は、大便器８００内（ボウル部８０１内又はリム部８０５の内壁面８０７）に当たり、上方へ向かう。これにより、便座部２００よりも下方の大便器８００内から、便座部２００の上方に巻き上がる上昇気流Ｕ１が形成される。

実線の矢印は、噴霧装置４８１から噴霧されるミストの流れを表す。実線の矢印の太さは、除菌水の量に対応する。矢印が太いほど除菌水が多いことを表す。アフターミストモード及び手動ミストモードにおいて、一部のミストは、噴霧装置４８１からリム部の内壁面８０７へ向けて放射される。また、粒径が比較的大きいミストは、ボウル部８０１に着水する。粒径が比較的小さいミストは、上昇気流によってリム部の上面８０６、便座部２００及び便蓋３００などに着水する。これにより、リム部８０５、便座部２００及び便蓋３００などを含むトイレ装置１０の隅々までを除菌することができる。

また、実施形態においては、ノズル４７３の幅方向（短手方向）において、噴霧装置４８１と送風装置５１３との間にノズル４７３が配置されている（図４参照）。すなわち、噴霧装置４８１は、左右方向において、送風装置５１３から離れた位置に配置されている。これにより、小粒径の第１ミストＭ１が、第１上昇気流Ｕ１に乗る前に、送風装置５１３から大便器８００内に向けて送風された気流（第１上昇気流Ｕ１を発生させる前の気流）にのって大便器８００内に着水することを抑制することができる。

図１０（ａ）〜図１０（ｄ）は、実施形態に係る便座装置のアフターミストモード及び手動ミストモードにおける動作を例示する平面図である。
図１０（ａ）及び図１０（ｃ）においては、説明の便宜上、便座部２００及び便蓋３００を省略している。破線の矢印は、送風装置５１３の送風方向を表す。実線の矢印は、噴霧装置４８１から噴霧されるミストの流れを表す。実線の矢印の太さは、除菌水の量に対応する。矢印が太いほど除菌水が多いことを表す。図１０（ｂ）及び図１０（ｄ）は、便座部２００を表す。
図１０（ａ）及び図１０（ｂ）は、噴霧装置４８１のディスク４８１ｂが、上面視において反時計回りをしているときの様子を示す。この場合には、トイレ装置１０の右側に比べて、左側に多くの除菌水が着水する。例えば、図１０（ａ）に示すように、リム部上面においては、右側領域ＲＲ１よりも左側領域ＲＬ１に多くの除菌水が着水する。例えば、図１０（ｂ）に示すように、便座部２００においては、右側領域ＲＲ２よりも左側領域ＲＬ２に多くの除菌水が着水する。

図１０（ｃ）及び図１０（ｄ）は、噴霧装置４８１のディスク４８１ｂが、上面視において時計回りをしているときの様子を示す。この場合には、トイレ装置１０の左側に比べて、右側に多くの除菌水が着水する。例えば、図１０（ｃ）に示すように、リム部上面においては、左側領域ＲＬ１よりも右側領域ＲＲ１に多くの除菌水が着水する。例えば、図１０（ｄ）に示すように、便座部２００においては、左側領域ＲＬ２よりも右側領域ＲＲ２に多くの除菌水が着水する。

制御装置４０５は、噴霧装置４８１のモータ４８１ａを制御して、アフターミストモード及び手動ミストモード中に、時計回りと反時計回りとを適宜切り替えることが好ましい。これにより、左右方向におけるミストの分布が均一になりやすい。

図１１は、実施形態に係る便座装置のアフターミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。
人体検知センサ４０３が使用者の退室を検知すると（ステップＳ１０１：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、便蓋用モータ５１２を制御して便蓋３００を閉じ、電磁弁４３１を開き、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを反時計回り（ＣＣＷ）に高速回転させる（ステップＳ１０２）。電磁弁４３１が開くことで、ディスク４８１ｂへの給水が開始される。

制御装置４０５は、ディスク４８１ｂが高速回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ１０３：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂ上の残水をディスク４８１ｂ上から排出することができる。このとき、例えばミストダンパ４８２は閉じているため、大便器８００内へミストは噴霧されない。

所定時間が経過すると（ステップＳ１０３：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、ノズルモータ４７６によりノズル４７３をボウル部８０１内へ進出させる。これに伴い、ミストダンパ４８２が開く（ステップＳ１０４）。

その後、制御装置４０５は、除菌装置４５０を制御して除菌水の生成を開始し、送風装置５１３を制御して大便器８００内への送風を開始する（ステップＳ１０５）。これにより、大便器８００内、便座部２００及び便蓋３００などへの、除菌水のミストの噴霧が開始する。制御装置４０５は、反時計回りに高速回転するディスク４８１ｂから除菌水のミストが噴霧される状態を所定時間（ｔ１）、維持する（ステップＳ１０６：Ｎｏ）。

所定時間（ｔ１）が経過すると（ステップＳ１０６：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを時計回り（ＣＷ）に高速回転させる（ステップＳ１０７）。制御装置４０５は、時計回りに高速回転するディスク４８１ｂから除菌水のミストが噴霧される状態を所定時間（ｔ１）、維持する（ステップＳ１０８：Ｎｏ）。

制御装置４０５は、所定時間（ｔ１）が経過すると（ステップＳ１０８：Ｙｅｓ）、送風装置５１３を制御して送風を停止し、除菌装置４５０を制御して除菌水の生成を停止し、モータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを時計回り（ＣＷ）に低速回転させる（ステップＳ１０９）。

制御装置４０５は、ディスク４８１ｂに水道水が供給され、ディスク４８１ｂが低速回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ１１０：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂのセルフクリーニングが行われる。なお、セルフクリーニングとは、あえてミストを発生させない程度の回転数で、ディスクを物理洗浄する動作である。セルフクリーニングには、除菌水を用いても構わない。

所定時間が経過すると（ステップＳ１１０：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、電磁弁４３１を閉じる（ステップＳ１１１）。制御装置４０５は、ディスク４８１ｂへの給水が停止し、ディスク４８１ｂが低速で回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ１１２：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂ上の残水を除去することができる。

所定時間が経過すると（ステップＳ１１２：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、モータ４８１ａ及びディスク４８１ｂの回転を停止し、ノズルモータ４７６によりノズル４７３をケーシング４００内へ後退させる。これに伴い、ミストダンパ４８２が閉じる。また、制御装置４０５は、便座ヒータ５１５をＯＮ（通電状態）にする（ステップＳ１１３）。

制御装置４０５は、便座ヒータ５１５がＯＮの状態を所定時間、維持する（ステップＳ１１４：Ｎｏ）。これにより、便座部２００の温度を上昇させて、便座部２００に着水した除菌水を蒸発させ、便座部２００を乾かすことができる。なお、便座−ヒータ５１５の代わりに、送風装置５１３と温風ヒータ５１４とを駆動させ、温風により便座部２００を乾燥させてもよい。

所定時間が経過すると（ステップＳ１１４：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、便座ヒータ５１５をＯＦＦ（非通電状態）とする（ステップＳ１１５）。以上で、アフターミストモードが終了する。

図１２は、実施形態に係る便座装置の手動ミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。
使用者が手動操作部５００を操作すると（ステップＳ２０１：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、便蓋用モータ５１２を制御して便蓋３００を閉じ、電磁弁４３１を開き、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを反時計回り（ＣＣＷ）に高速回転させる（ステップＳ２０２）。電磁弁４３１が開くことで、ディスク４８１ｂへの給水が開始される。

制御装置４０５は、ディスク４８１ｂが高速回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ２０３：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂ上の残水をディスク４８１ｂ上から排出することができる。このとき、例えばミストダンパ４８２は閉じているため、大便器８００内へミストは噴霧されない。

所定時間が経過すると（ステップＳ２０３：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、ノズルモータ４７６によりノズル４７３をボウル部８０１内へ進出させる。これに伴い、ミストダンパ４８２が開く（ステップＳ２０４）。

その後、制御装置４０５は、除菌装置４５０を制御して除菌水の生成を開始し、送風装置５１３を制御して大便器８００内への送風を開始する（ステップＳ２０５）。これにより、大便器８００内、便座部２００及び便蓋３００などへの、除菌水のミストの噴霧が開始する。制御装置４０５は、反時計回りに高速回転するディスク４８１ｂから除菌水のミストが噴霧される状態を所定時間（ｔ２）、維持する（ステップＳ２０６：Ｎｏ）。

所定時間（ｔ２）が経過すると（ステップＳ２０６：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを時計回り（ＣＷ）に高速回転させる（ステップＳ２０７）。制御装置４０５は、時計回りに高速回転するディスク４８１ｂから除菌水のミストが噴霧される状態を所定時間（ｔ２）、維持する（ステップＳ２０８：Ｎｏ）。

制御装置４０５は、所定時間（ｔ２）が経過すると（ステップＳ２０８：Ｙｅｓ）、送風装置５１３を制御して送風を停止し、除菌装置４５０を制御して除菌水の生成を停止し、モータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを時計回り（ＣＷ）に低速回転させる（ステップＳ２０９）。

制御装置４０５は、ディスク４８１ｂに水道水が供給され、ディスク４８１ｂが低速回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ２１０：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂのセルフクリーニングが行われる。

所定時間が経過すると（ステップＳ２１０：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、電磁弁４３１を閉じる（ステップＳ２１１）。制御装置４０５は、ディスク４８１ｂへの給水が停止し、ディスク４８１ｂが低速で回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ２１２：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂ上の残水を除去することができる。

所定時間が経過すると（ステップＳ２１２：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、モータ４８１ａ及びディスク４８１ｂの回転を停止し、ノズルモータ４７６によりノズル４７３をケーシング４００内へ後退させる。これに伴い、ミストダンパ４８２が閉じる（ステップＳ２１３）。以上で、手動ミストモードが終了する。また、使用者は、手動ミストモード後に、トイレットペーパー等で便座部２００に着水した除菌水を適宜拭き取ることで、便座部２００を除菌することができる。

制御装置４０５は、手動ミストモードにおいて除菌水を噴霧する時間が、アフターミストモードにおいて除菌水を噴霧する時間よりも長くなるように、噴霧装置を制御する。例えば、図１２に関して説明した所定時間（ｔ２）は、図１１に関して説明した所定時間（ｔ１）よりも長い。これにより手動ミストモードにおいて便座部２００に着水する除菌水の量を、アフターミストモードにおいて便座部２００に着水する除菌水の量よりも多くすることができる。これにより、手動ミストモードにおいてトイレットペーパー等に除菌水をしっかりと染み込ませ、除菌性能を向上させることができる。また、拭き取り時に樹脂製の便座部２００が傷つくことを抑制することができる。

例えば、除菌水を噴霧する時間を変えずに、除菌水のミストの粒径を変えることで、除菌水の着水量を変える方法も考えられる。例えば、粒径を大きくすることで、除菌水の着水量を多くすることができる。しかし、粒径を大きくすると、除菌水が上昇気流に乗りにくくなってしまう恐れがある。これに対して、除菌水を噴霧する時間を変えることで、粒径を変えずに便座部２００等に着水する除菌水の量を多くすることができる。このため、除菌水のミストを上昇気流に乗せやすくすることができ、便座部２００等の広い範囲に除菌水を拡散させることができる。

また、制御装置４０５は、アフターミストモードの実行中または実行後に、便座部２００を乾燥させる乾燥装置を第１乾燥力で作動させる。例えば、図１１では、制御装置４０５は、ステップＳ１１３、Ｓ１１４において、便座ヒータ５１５を第１加熱量（第１電力（ワット））で作動させている。
一方、制御装置４０５は、手動ミストモードの実行中または実行後には、乾燥装置を作動させない、または、第１乾燥力よりも小さい第２乾燥力で作動させる。例えば、図１２では、制御装置４０５は、便座ヒータ５１５を作動させていない。または、制御装置４０５は、便座ヒータ５１５を、第１加熱量よりも小さい第２加熱量（第２電力（ワット））で作動させてもよい。例えば、便座ヒータ５１５によって、アフターミストモードの実行中または実行後における座面の温度は、手動ミストモードの実行中または実行後における座面の温度よりも高くなる。

このように、アフターミストモードの実行中または実行後には、比較的大きな第１乾燥力（例えば第１電力）で乾燥装置が便座部２００を乾かすことで、便座部２００に着水した除菌水の乾燥時間を短くすることができる。一方、手動ミストモードの実行中または実行後には、乾燥装置が作動しない、または、比較的小さな第２乾燥力（例えば第２電力）で便座部２００を乾かすことで、便座部２００に着水した除菌水の乾燥時間を長くすることができる。これにより、便座部２００に着水した除菌水をトイレットペーパーで拭き取る前に、便座部２００が乾くことを防止することができる。

図１３〜図１５を参照して、プレミストモードにおける便座装置１００の動作の例について説明する。
図１３は、実施形態に係る便座装置のプレミストモードにおける動作を例示する模式図である。
プレミストモードにおいて、制御装置４０５は、噴霧装置４８１を作動させ、ミストＭ３（除菌水のミストまたは水道水のミスト）を発生させる。また、制御装置４０５は、噴霧装置４８１にミストＭ３を噴霧させた状態において、第１上昇気流Ｕ１を発生させず、ミストＭ３を便座部２００側に上昇させないように送風装置５１３を制御する。なお、第１上昇気流Ｕ１は、前述したように、送風装置５１３により作られる気流であり、アフターミストモード及び手動ミストモードにおいて除菌水のミストを便座部２００側に上昇させることが可能な気流である。

プレミストモードにおいては、便座部２００よりも下方から噴霧されたミストは、便座部２００側に上昇せずに、大便器８００のボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７に着水する。ボウル部８０１や内壁面８０７に水膜が形成され、汚れが付着しにくくなる。また、ミストが便座部２００側に上昇しないことで、プレミストモードにおいて便座部２００及びリム部８０５の上面８０６が濡れることを抑制できる。これにより、プレミストモード直後に使用者が着座したり、便座部２００を手で回動させたりした場合に、使用者の手や臀部が濡れることを防止できる。
一方、アフターミストモード及び手動ミストモードにおいては、制御装置４０５は、送風装置５１３を作動させ、第１上昇気流Ｕ１によって除菌水のミストを便座部２００側に上昇させる。

すなわち、制御装置４０５は、便座部２００よりも下方から噴霧されたミストを上昇気流に乗せて便座部２００に着水させる場合と、ミストを上昇気流に乗せない場合と、を切り替えることができる。これにより、単一の噴霧装置４８１で、アフターミストモード及び手動ミストモードにおいては除菌水のミストを大便器８００内及び便座部２００に着水させ、プレミストモードにおいては便座部２００を濡らさないようにミストを大便器８００内に着水させることができる。

なお、プレミストモードにおいて「除菌水のミスト又は水道水のミストを便座部側に上昇させない」という範囲は、全てのミストが上昇しない場合だけでなく、僅かなミストが上昇する場合を含んでもよいものとする。例えば、プレミストモードにおいて便座部側に上昇するミストの量は、アフターミストモード又は手動ミストモードにおいて便座部側に上昇するミストの量よりも少ない。

例えば、プレミストモードにおいて、制御装置４０５は、送風装置５１３の作動を停止させ、送風を行わない。これにより、ミストが便座部２００側に上昇することをより確実に防止することができる。

また、プレミストモードにおいて、制御装置４０５は、送風装置５１３を作動させて第２上昇気流Ｕ２を発生させてもよい。第２上昇気流Ｕ２の流速は、第１上昇気流Ｕ１の流速よりも低く、ミストＭ３は、第２上昇気流Ｕ２によって便座部２００側に上昇しない。第２上昇気流Ｕ２によって、ミストを便座部２００側に上昇させずに、水平方向又は下方に拡散させることができる。これにより、大便器８００内のより広い範囲に除菌水を着水させることができる。

また、プレミストモードにおいても、噴霧装置４８１は、除菌水のミスト又は水道水のミストを上面視において放射状に噴霧する。これにより、プレミストモードにおいてミストが上昇気流に乗らない場合でも、ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７などの広い範囲にミストを着水させることができる。

ミストＭ３は、例えば中粒径又は大粒径のミストである。ミストＭ３の粒径（除菌水又は水道水の微粒子ｐ３の径）は、例えば、手動ミストモード、アフターミストモードにおける第１ミストＭ１の粒径、第２ミストＭ２の粒径よりも大きくてもよい。これにより、ミストＭ３が便座部２００側に上昇しないようにしてもよい。

図１４（ａ）〜図１４（ｃ）は、実施形態に係る便座装置のプレミストモードにおける動作を例示する断面図及び平面図である。
図１４（ａ）〜図１４（ｃ）は、噴霧装置４８１のモータ４８１ａが中速回転である状態を例示している。このとき、噴霧装置４８１が噴霧するミストは、中粒径のミストである。また、図１４（ａ）〜図１４（ｃ）において、実線の矢印は、噴霧装置４８１から噴霧されるミストの流れを表す。実線の矢印の太さは、除菌水の量に対応する。矢印が太いほど除菌水が多いことを表す。なお、図１４（ｂ）及び図１４（ｃ）では、説明の便宜上、便座部２００を省略している。

図１４（ａ）の断面図に示すように、噴霧装置４８１は、リム部８０５の上端へ向けてミストを噴霧する。モータ４８１ａが中速回転である場合は、大便器８００の内側領域ＲＵ（ボウル部８０１の内側部分８０１Ｕ）に比べて、大便器８００の外側領域ＲＳ（ボウル部８０１内の外側部分８０１Ｓ及びリム部８０５の内壁面８０７）に多くの除菌水又は水道水が着水する。

図１４（ｂ）の平面図は、噴霧装置４８１のディスク４８１ｂが、上面視において反時計回りをしているときの様子を示す。この場合には、大便器８００内の右側に比べて、左側に多くの除菌水又は水道水が着水する。

図１４（ｃ）の平面図は、噴霧装置４８１のディスク４８１ｂが、上面視において時計回りをしているときの様子を示す。この場合には、大便器８００内の左側に比べて、右側に多くの除菌水又は水道水が着水する。

図１５（ａ）〜図１５（ｃ）は、実施形態に係る便座装置のプレミストモードにおける動作を例示する断面図及び平面図である。
図１５（ａ）〜図１５（ｃ）は、噴霧装置４８１のモータ４８１ａが低速回転である状態を例示している。このとき、噴霧装置４８１が噴霧するミストは、大粒径のミストである。また、図１５（ａ）〜図１５（ｃ）において、実線の矢印は、噴霧装置４８１から噴霧されるミストの流れを表す。実線の矢印の太さは、除菌水の量に対応する。矢印が太いほど除菌水が多いことを表す。なお、図１５（ｂ）及び図１５（ｃ）では、説明の便宜上、便座部２００を省略している。

モータ４８１ａが低速回転である場合には、モータが中速回転である場合に比べて、ミストの粒径が大きく、遠心力も小さくなるため、ミストの飛距離が短くなる。図１５（ａ）の断面図に示すように、モータ４８１ａが低速回転である場合は、大便器８００の外側領域ＲＳに比べて、大便器８００の内側領域ＲＵに多くの除菌水又は水道水が着水する。

図１５（ｂ）の平面図は、噴霧装置４８１のディスク４８１ｂが、上面視において時計回りをしているときの様子を示す。この場合には、大便器８００内の左側に比べて、右側に多くの除菌水又は水道水が着水する。

図１５（ｃ）の平面図は、噴霧装置４８１のディスク４８１ｂが、上面視において反時計回りをしているときの様子を示す。この場合には、大便器８００内の右側に比べて、左側に多くの除菌水又は水道水が着水する。

制御装置４０５は、噴霧装置４８１のモータ４８１ａを制御して、プレミストモード中に、低速回転と中速回転とを適宜切り替える。これにより、大便器８００の隅々にまで、除菌水又は水道水のミストを着水させることができる。

また、制御装置４０５は、噴霧装置４８１のモータ４８１ａを制御して、プレミストモード中（低速回転中及び中速回転中）に、時計回りと反時計回りとを適宜切り替えることが好ましい。これにより、左右方向におけるミストの分布が均一になりやすい。

図１６は、実施形態に係る便座装置のアフターミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。
人体検知センサ４０３が使用者の入室を検知すると（ステップＳ３０１：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、便蓋用モータ５１２を制御して便蓋３００を開き、電磁弁４３１を開き、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを反時計回り（ＣＣＷ）に中速回転させる（ステップＳ３０２）。電磁弁４３１が開くことで、ディスク４８１ｂへの給水が開始される。

制御装置４０５は、ディスク４８１ｂが中速回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ３０３：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂ上の残水をディスク４８１ｂ上から排出することができる。このとき、例えばミストダンパ４８２は閉じているため、大便器８００内へミストは噴霧されない。

所定時間が経過すると（ステップＳ３０３：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、ノズルモータ４７６によりノズル４７３をボウル部８０１内へ進出させる。これに伴い、ミストダンパ４８２が開く（ステップＳ３０４）。これにより、大便器８００内への水道水のミストの噴霧が開始する。制御装置４０５は、反時計回りに中速回転するディスク４８１ｂから水道水のミストが噴霧される状態を所定時間、維持する（ステップＳ３０５：Ｎｏ）。

所定時間が経過すると（ステップＳ３０５：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを時計回り（ＣＷ）に中速回転させる（ステップＳ３０６）。制御装置４０５は、時計回りに中速回転するディスク４８１ｂから水道水のミストが噴霧される状態を所定時間、維持する（ステップＳ３０７：Ｎｏ）。

制御装置４０５は、所定時間が経過すると（ステップＳ３０７：Ｙｅｓ）、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを時計回り（ＣＷ）に低速回転させる（ステップＳ３０８）。制御装置４０５は、時計回りに低速回転するディスク４８１ｂから水道水のミストが噴霧される状態を所定時間、維持する（ステップＳ３０９：Ｎｏ）。

制御装置４０５は、所定時間が経過すると（ステップＳ３０９：Ｙｅｓ）、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを反時計回り（ＣＣＷ）に低速回転させる（ステップＳ３１０）。制御装置４０５は、反時計回りに低速回転するディスク４８１ｂから水道水のミストが噴霧される状態を所定時間、維持する（ステップＳ３１１：Ｎｏ）。

所定時間が経過すると（ステップＳ３１１：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、電磁弁４３１を閉じる（ステップＳ３１２）。制御装置４０５は、ディスク４８１ｂへの給水が停止し、ディスク４８１ｂが低速で回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ３１３：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂ上の残水を除去することができる。

所定時間が経過すると（ステップＳ３１３：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、モータ４８１ａ及びディスク４８１ｂの回転を停止し、ノズルモータ４７６によりノズル４７３をケーシング４００内へ後退させる。これに伴い、ミストダンパ４８２が閉じる（ステップＳ３１４）。以上で、アフターミストモードが終了する。

制御装置４０５は、便蓋３００が開いた状態で、プレミストモードを実行する。すなわち、プレミストモードでは、便蓋３００が開いた状態でミストが噴霧される。これにより、使用者は、プレミストモードの実行完了を待つことなく、すぐに便座部２００に着座することができる。なお、プレミストモードにおいて、噴霧装置４８１は、ミストが便座部２００に着水しないように噴霧を行うため、仮に使用者がプレミストモードの実行中に便座部２００に着座した場合であっても、使用者にミストが掛かる可能性は低い。

一方、制御装置４０５は、便蓋３００が閉じた状態で、アフターミストモード及び手動ミストモードを実行する。すなわち、アフターミストモード及び手動ミストモードでは、便蓋３００が閉じた状態でミストが噴霧される。これにより、除菌水のミストが大便器外に飛散することを防ぎつつ、除菌水のミストを拡散させて、大便器８００、便座部２００及び便蓋３００などの広い範囲において菌や汚れを抑制することができる。

図１７は、実施形態に係る便座装置の動作を例示するフローチャートである。
図１８（ａ）及び図１８（ｂ）は、実施形態に係る便座装置の動作を例示する模式図である。
図１８（ｂ）には、除菌水又は水道水のミストが着水する対象部位（Ｐ１〜Ｐ４）を示す。図１８（ａ）は、各ミストモードにおける、各対象部位の着水量（単位面積あたりの着水量）を、「大」、「中」、「小」、「極小」の４段階で示す。

プレミストモードは、検知センサ４０２が使用者を検知していない状態から使用者を検知している状態となった後に、除菌水または水道水が便座部２００に着水しないように、自動的に除菌水のミストまたは水道水のミストを大便器８００内に噴霧する。

例えば、図１７に示すように、使用者がトイレ室に入室して、人体検知センサ４０３が使用者の入室を検知すると、使用者の入室を示す信号（検知情報）が制御装置４０５に送信される。制御装置４０５は、その信号に基づいて、自動的にプレミストモードを実行する。プレミストモードにおいて、制御装置４０５は、噴霧装置４８１に水道水のミストを噴霧させ、対象部位にミストを着水させる。プレミストモードにおける対象部位は、図１８（ａ）及び図１８（ｂ）に示すように、対象部位Ｐ３（リム部８０５の内壁面８０７）及び対象部位Ｐ４（ボウル部８０１）である。プレミストモードにおいては、便座部２００及びリム部８０５の上面８０６は、噴霧の対象部位ではない。

このように、便座装置１００の使用前には、プレミストモードによって大便器８００内に除菌水または水道水を着水させる。これにより、汚れ負荷が大きく、濡れに対する許容度が高い大便器８００内に水膜を形成し、汚物の固着を抑制することができる。一方、汚れ負荷が小さい便座部２００やリム部８０５の上面８０６においては、プレミストモードによって水膜を形成しなくても、便座装置１００の使用後に、アフターミストモードによって除菌水を着水させることで、汚物の固着を抑制することができる。そこで、便座装置１００では、プレミストモードにおいて、除菌水または水道水のミストを、便座部２００に着水しないように大便器８００内に噴霧する。これにより、プレミストモードとアフターミストモードとによって、大便器８００や便座部２００などの広い範囲において菌や汚れの発生を抑制しつつも、プレミストモードによって噴霧された除菌水又は水道水で使用者が濡れることを防ぐことができる。例えば、プレミストモードの実行直後に使用者が便座部２００を手で回動させたり便座部２００に着座したりする場合であっても、使用者の臀部や手が、便座に着水した除菌水又は水道水に触れることを防止できる。すなわち、使用者は、ミストで濡れることなく便座装置１００をすぐに使用可能である。

さらに、プレミストモードにおいて、便座部２００にミストを着水させないことにより、短時間で大便器８００内に水膜を形成することができ、プレミストモードの実行時間を短くすることができる。トイレ室に入室した使用者は、プレミストモードの終了を待つことなく便座装置１００を使用することができる。

なお、プレミストモードにおいて「除菌水または水道水が便座部に着水しない」という範囲は、全てのミストが便座部２００に着水しない場合だけでなく、僅かなミストが便座部２００に着水する場合を含んでもよいものとする。例えば、プレミストモードにおいて便座部２００に着水する水道水又は除菌水の量は、アフターミストモード又は手動ミストモードにおいて便座部２００に着水する除菌水の量よりも少ない。ただし、プレミストモードにおいて、便座部２００に着水する除菌水又は水道水の量は、出来るだけ少ないことが好ましく、例えばゼロであることが好ましい。

アフターミストモードは、検知センサ４０２が使用者を検知している状態から使用者を検知しない状態となった後に、自動的に除菌水のミストを大便器８００内および便座部２００に噴霧する。

例えば、図１７に示すように、使用者がトイレ室から退室して、人体検知センサ４０３が使用者の退室を検知すると、使用者の退室を示す信号（検知情報）が制御装置４０５に送信される。制御装置４０５は、その信号に基づいて、自動的にアフターミストモードを実行する。アフターミストモードにおいて、制御装置４０５は、除菌装置４５０に除菌水を生成させ、噴霧装置４８１に除菌水のミストを噴霧させ、対象部位にミストを着水させる。アフターミストモードにおける対象部位は、図１８（ａ）及び図１８（ｂ）に示すように、対象部位Ｐ１（便座部２００の表面２０３）、対象部位Ｐ２（便座部２００の裏面２０４及びリム部８０５の上面８０６）、対象部位Ｐ３及び対象部位Ｐ４である。

このように、アフターミストモードの実行によって、使用者の便座装置１００の使用後に、大便器８００内及び便座部２００に除菌水を自動的に着水させることができる。これにより、大便器８００だけでなく便座部２００などの広い範囲において自動的に菌や汚れの発生を抑制することができる。

なお、アフターミストモードは、使用者の便座装置１００の使用後に実行されるため、使用前に比べて長い不使用時間を確保しやすい。そのため、アフターミストモードによって便座部２００やリム部８０５の上面８０６が濡れても、次の使用までに、便座部２００やリム部８０５の上面８０６は、乾きやすい。

手動ミストモードは、使用者が手動操作部５００を操作した後に、除菌水のミストを大便器８００内および便座部２００に噴霧する。

例えば、図１７に示すように、使用者がトイレ室に入室中（例えばプレミストモードの実行後）に、手動操作部５００を操作すると、操作に応じた信号（操作情報）が制御装置４０５に送信される。制御装置４０５は、その信号に基づいて、手動ミストモードを実行する。手動ミストモードは、便座装置１００の使用前・使用後・掃除時などのタイミングで実行される。手動ミストモードにおいて、制御装置４０５は、除菌装置４５０に除菌水を生成させ、噴霧装置４８１に除菌水のミストを噴霧させ、対象部位にミストを着水させる。手動ミストモードにおける対象部位は、図１８（ａ）及び図１８（ｂ）に示すように、対象部位Ｐ１、対象部位Ｐ２、対象部位Ｐ３及び対象部位Ｐ４である。

このように、手動ミストモードにより、大便器８００内及び便座部２００に除菌水を着水させることで、さらに菌や汚れの発生を抑制することができる。例えば、アフターミストモードによって抑制することが困難な固着汚れに対して、着水した除菌水をトイレットペーパー等を用いて拭き取ることにより、除菌することができる。使用者は、専用の除菌ペーパーを用いずに手軽に拭き取り除菌を行うことができる。
また、例えば、便座装置１００の使用前に便座部２００の汚れが気になる使用者は、手動ミストモードによって便座部２００を除菌することができる。使用者自らの操作に基づいて除菌が実行されるため、使用者の安心感や満足感を高めることができる。

図１７に示すように、制御装置４０５は、検知センサが使用者を検知している状態において手動ミストモードを実行した後に、検知センサが使用者を検知している状態から使用者を検知しない前記状態となった場合であっても、アフターミストモードを実行する。これにより、使用者の便座装置１００の使用（排便や排尿）の前に手動ミストモードが実行された場合であってもアフターミストモードを実行することで、より確実に菌や汚れの発生を抑制することができる。

ただし、手動ミストモードの終了直後に使用者がトイレ室から退室したような場合、便座部２００やリム部８０５の上面８０６に着水した除菌水が拭き取られていない可能性がある。例えば、図１７に示すように、便座装置１００の使用後に手動ミストモードが実行され、手動ミストモードの終了から第１所定時間Ｔ１以内に検知センサが使用者を検知しない状態となった場合には、便座部２００やリム部８０５の上面８０６に除菌水が残留している可能性がある。

そこで、制御装置４０５は、手動ミストモードの終了から第１所定時間Ｔ１以内に検知センサが使用者を検知している状態から使用者を検知しない状態となった場合には、アフターミストモードを実行しなくてもよい。または、制御装置４０５は、アフターミストモードにおいて噴霧装置４８１が噴霧する除菌水の量を、手動ミストモードの終了から第１所定時間Ｔ１経過後に検知センサが使用者を検知している状態から前記使用者を検知しない状態となった場合に比べて、少なくしてもよい。これにより、アフターミストモードによって、便座部２００やリム部８０５の上面８０６が濡れすぎてしまい、除菌水が大便器外に垂れることを防止することができる。第１所定時間Ｔ１は、例えば、１０秒〜３０秒程度である。ただし、第１所定時間Ｔ１は、これに限らず、適宜設定することができる。

また、アフターミストモードの終了直後に、次の使用者がトイレ室に入室したような場合、便座部２００やリム部８０５の上面８０６が除菌水で濡れている可能性がある。例えば、アフターミストモードの終了から第２所定時間Ｔ２以内に、次の使用者がトイレ室に入室し手動操作部５００を操作した場合には、便座部２００やリム部８０５の上面８０６には、まだ除菌水が残留している可能性がある。

そこで、制御装置４０５は、アフターミストモードの終了から第２所定時間Ｔ２以内に手動操作部５００が操作された場合、手動ミストモードを実行しなくてもよい。または、制御装置４０５は、手動ミストモードにおいて噴霧装置４８１が噴霧する除菌水の量を、アフターミストモードの終了から第２所定時間Ｔ２経過後に手動操作部５００が操作された場合に比べて、少なくしてもよい。これにより、手動ミストモードによって便座部２００やリム部８０５の上面８０６が濡れすぎてしまい、除菌水が大便器外に垂れることを防止することができる。第２所定時間Ｔ２は、例えば、１０秒〜３０秒程度である。ただし、第２所定時間Ｔ２は、これに限らず、適宜設定することができる。

また、制御装置４０５は、手動ミストモードにおいて便座部２００に着水する除菌水の単位面積あたりの着水量（平均着水量）が、アフターミストモードにおいて便座部２００に着水する除菌水の単位面積あたりの除菌水の着水量（平均着水量）よりも多くなるように噴霧装置を制御する。例えば、図１８（ａ）に示すように、手動ミストモードにおいて対象部位Ｐ１及び対象部位Ｐ２に着水する単位面積あたりの除菌水の量は、「小」である。また、アフターミストモードにおいて、対象部位Ｐ１に着水する単位面積あたりの除菌水の量は、「極小」であり、対象部位Ｐ２に着水する単位面積あたりの除菌水の量は、「小」である。

このように、アフターミストモードにおいて便座部２００に着水する除菌水の量が比較的少ないことにより、アフターミスト後に便座部２００を短時間で乾かすことができる。これにより、アフターミスト後に使用者が便座装置１００を使用する場合であっても、除菌水が使用者の手や臀部に触れることを防止できる。また、手動ミストモードにおいて便座部２００に着水する除菌水の量が比較的多いことにより、トイレットペーパー等に除菌水をしっかりと染み込ませることができる。これにより、拭き取りによる除菌性能を向上させるとともに、拭き取り時に樹脂製の便座部２００が傷つくことを抑制することができる。したがって、アフターミストモードにおける乾燥性能と手動ミストモードにおける拭き取り性能とを両立することができる。

また、図１８（ａ）に示すように、手動ミストモード及びアフターミストモードにおいて対象部位Ｐ３及び対象部位Ｐ４に着水する単位面積あたりの除菌水の量は、「大」である。一方、プレミストモードにおいて対象部位Ｐ３及び対象部位Ｐ４に着水する単位面積あたりの除菌水の量は、「中」である。便座装置１００の使用後において、大便器８００内に多くの除菌水を着水させることで、菌や汚れの発生をより抑制することができる。

また、例えば、制御装置４０５は、アフターミストモードにおいて噴霧される除菌水のミストの粒径が、プレミストモードにおいて噴霧される水道水（又は除菌水）のミストの粒径よりも小さくなるように噴霧装置を制御する。また、制御装置４０５は、手動ミストモードにおいて噴霧される除菌水のミストの粒径が、プレミストモードにおいて噴霧される水道水（又は除菌水）のミストの粒径よりも小さくなるように噴霧装置を制御する。

このように、アフターミストモード及び手動ミストモードにおいては、ミストの粒径を小さくすることで、除菌水のミストが広い範囲に拡散しやすくなる。これにより、ボウル部８０１だけでなくリム部８０５、便座部２００などの広い範囲において菌や汚れを抑制することができる。プレミストモードにおいては、ミストの粒径を大きくすることで、ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７に短時間で水膜を形成することができる。これにより、使用者が便座部に着座する前にプレミストモードを終了させることができる。

実施形態において、制御装置４０５は、１回のミストモード（例えば１回のアフターミストモード）において、制御装置４０５は、便座部２００における除菌水の単位面積あたりの着水量、およびリム部８０５の上面８０６における除菌水の単位面積あたりの着水量のそれぞれが、ボウル部８０１における除菌水の単位面積あたりの着水量よりも小さく、リム部８０５の内壁面８０７における除菌水の単位面積あたりの着水量よりも小さくなるように、噴霧装置４８１を制御する。

すなわち、実施形態によれば、１回のミストモードにおいて、制御装置４０５は、ボウル部８０１及びリム部８０５の内壁面８０７に着水する除菌水の量を比較的多くする。汚れ負荷が大きく濡れに対する許容度が高いボウル部８０１及びリム部８０５の内壁面８０７に多くの除菌水のミストを着水させることで、菌や汚れの発生を抑制することができる。

また、実施形態によれば、１回のミストモードにおいて、制御装置４０５は、便座部２００やリム部８０５の上面８０６に着水する除菌水の量を比較的少なくする。便座部２００やリム部８０５の上面８０６は、比較的汚れ負荷が小さいため、比較的少量の除菌水を着水させることで、菌や汚れを抑制することができる。

また、濡れに対する許容度が低い便座部２００やリム部８０５の上面８０６において、除菌水の着水量を少なくすることで、短時間で便座部２００やリム部８０５の上面８０６を乾かすことができる。これにより、除菌水が使用者の肌に触れたり、大便器外に垂れたりすることを防止できる。

このように、実施形態によれば、大便器のボウル部８０１だけでなくリム部８０５、および便座部２００などの広い範囲において菌や汚れを抑制しつつ、除菌水が使用者の肌に触れ、不快感を生じさせること、および、除菌水が大便器外に垂れることを防止できる。

例えば、制御装置４０５は、１回のミストモードにおいて、便座部２００における着水量（便座部における除菌水の単位面積あたりの着水量）が、便座部２００に着水した除菌水が滴垂れせずに滞留する着水量となるように、噴霧装置４８１を制御する。また、制御装置４０５は、１回のミストモードにおいて、リム部８０５の上面８０６における着水量（リム部の上面における除菌水の単位面積あたりの着水量）が、リム部８０５の上面８０６に着水した除菌水が滴垂れせずに滞留する着水量となるように、噴霧装置を制御する。

このように、汚れ負荷が小さい便座部２００やリム部８０５の上面８０６において、除菌水が滴垂れせずに滞留するため、除菌水の酸化分解作用や漂白作用の時間を長く確保することができ、菌や汚れの発生を抑制することができる。また、便座部２００やリム部８０５の上面８０６における着水量を、除菌水が滞留する着水量とすることで、除菌水が便器外に垂れ落ちるリスクを低減できる。

さらに、制御装置４０５は、１回のミストモードにおいて、ボウル部８０１における着水量（ボウル部における除菌水の単位面積あたりの着水量）が、ボウル部８０１に着水した除菌水が滴垂れする着水量となるように、噴霧装置４８１を制御する。また、制御装置４０５は、１回のミストモードにおいて、リム部８０５の内壁面８０７における着水量（リム部の内壁面における除菌水の単位面積あたりの着水量）が、リム部８０５の内壁面８０７に着水した除菌水が滴垂れする着水量となるように、噴霧装置４８１を制御する。

このように、汚れ負荷が大きいボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７において、除菌水を滴垂れさせることにより、酸化分解作用や漂白作用だけでなく、除菌水によって汚れを洗い流す作用を利用することができる。これにより、除菌水を滞留させた場合よりも効果的に菌や汚れの発生を抑制することができる。

なお、「滴垂れ」とは、物体の表面に付着した水（例えば除菌水）が、流れ落ちることをいう。「滴垂れ」という範囲には、水の滴や水膜が、自重で流れることや、トイレ装置の動作に伴う振動などに起因して流れることが含まれる。

例えば、制御装置４０５は、便座部２００における着水量が、便座用モータ５１１（回動装置）によって便座部２００が回動した際に便座部２００に着水した除菌水が滴垂れせずに滞留する着水量となるように、噴霧装置を制御する。

これにより、便座部２００を回動させた場合においても、除菌水が滴垂れすることを防止できるため、除菌水の酸化分解作用と漂白作用の作用時間を長く確保することができ、菌や汚れの発生をより抑制することができる。また、便座部２００における着水量を、除菌水が滞留する着水量とすることで、意図しない部位に除菌水が垂れ落ちるリスクを低減できる。

上述したような着水量の制御は、噴霧装置４８１から噴霧されるミストの粒径の制御により可能である。例えば、制御装置４０５は、便座部２００に噴霧される除菌水のミストの粒径、および、リム部８０５の上面８０６に噴霧される除菌水のミストの粒径のそれぞれが、ボウル部８０１に噴霧される除菌水のミストの粒径よりも小さく、リム部８０５の内壁面８０７に噴霧される除菌水のミストの粒径よりも小さくなるように噴霧装置４８１を制御する。なお、各部位に噴霧される除菌水のミストの粒径とは、例えば、各部位に着水するミストの粒径である。

便座部２００及びリム部８０５の上面８０６に着水する除菌水のミストの粒径が小さいことにより、便座部及びリム部の上面に着水した除菌水を液垂れしにくくすることができる。また、ボウル部８０１及びリム部８０５の内壁面８０７に着水する除菌水のミストの粒径が大きいことにより、ボウル部８０１及びリム部８０５の内壁面８０７に着水した除菌水が液垂れしやすくなり、汚れを洗い流す作用を向上させることができる。

図１９（ａ）〜図１９（ｅ）を参照して、着水量（平均着水量）の測定方法について説明する。
図１９（ａ）〜図１９（ｅ）は、実施形態に係るトイレ装置を例示する平面図である。 図１９（ａ）、図１９（ｂ）は、それぞれ、便座部２００の表面２０３、便座部２００の裏面２０４を示す。表面２０３は、使用者が着座する着座面であり、便座部２００が閉じた状態において上方を向く。裏面２０４は、表面２０３とは反対側の面であり、便座部２００が閉じた状態において下方を向く。

図１９（ａ）に示すように、表面２０３は、便座部２００が閉じられた状態において前方側に位置する先端領域２０３Ｆと、右側方に位置する側方領域２０３Ｒと、左側方に位置する側方領域２０３Ｌと、を有する。各領域の面積は、２０平方センチメートル（ｃｍ^２）とする。
先端領域２０３Ｆにおける単位面積あたりの着水量（ｇ／ｃｍ^２）と、側方領域２０３Ｒにおける単位面積あたりの着水量（ｇ／ｃｍ^２）と、側方領域２０３Ｌにおける単位面積あたりの着水量（ｇ／ｃｍ^２）との平均を、表面２０３における単位面積あたりの着水量（平均着水量（ｇ／ｃｍ^２））とする。

図１９（ｂ）に示すように、裏面２０４は、便座部２００が閉じられた状態において前方側に位置する先端領域２０４Ｆと、右側方に位置する側方領域２０４Ｒと、左側方に位置する側方領域２０４Ｌと、を有する。各領域の面積は、２０平方センチメートル（ｃｍ^２）とする。
先端領域２０４Ｆにおける単位面積あたりの着水量（ｇ／ｃｍ^２）と、側方領域２０４Ｒにおける単位面積あたりの着水量（ｇ／ｃｍ^２）と、側方領域２０４Ｌにおける単位面積あたりの着水量（ｇ／ｃｍ^２）との平均を、裏面２０４における単位面積あたりの着水量（平均着水量（ｇ／ｃｍ^２））とする。

便座部２００における単位面積あたりの着水量（平均着水量（ｇ／ｃｍ^２））は、表面２０３における単位面積あたりの着水量と裏面２０４における単位面積あたりの着水量との平均である。

図１９（ｃ）に示すように、リム部８０５の上面８０６は、前方側に位置する先端領域８０６Ｆと、右側方に位置する側方領域８０６Ｒと、左側方に位置する側方領域８０６Ｌと、を有する。各領域の面積は、２０平方センチメートル（ｃｍ^２）とする。
リム部８０５の上面８０６における単位面積あたりの着水量（平均着水量（ｇ／ｃｍ^２））は、先端領域８０６Ｆにおける単位面積あたりの着水量（ｇ／ｃｍ^２）と、側方領域８０６Ｒにおける単位面積あたりの着水量（ｇ／ｃｍ^２）と、側方領域８０６Ｌにおける単位面積あたりの着水量（ｇ／ｃｍ^２）との平均である。

図１９（ｄ）に示すように、リム部８０５の内壁面８０７は、前方側に位置する先端領域８０７Ｆと、右側方に位置する側方領域８０７Ｒと、左側方に位置する側方領域８０７Ｌと、を有する。各領域の面積は、２０平方センチメートル（ｃｍ^２）とする。
リム部８０５の内壁面８０７における単位面積あたりの着水量（平均着水量（ｇ／ｃｍ^２））は、先端領域８０７Ｆにおける単位面積あたりの着水量（ｇ／ｃｍ^２）と、側方領域８０７Ｒにおける単位面積あたりの着水量（ｇ／ｃｍ^２）と、側方領域８０７Ｌにおける単位面積あたりの着水量（ｇ／ｃｍ^２）との平均である。

図１９（ｅ）に示すように、ボウル部８０１（ボウル部８０１の内側面のうち溜水が設けられていない部分）は、前方側に位置する先端領域８０１Ｆと、右側方に位置する側方領域８０１Ｒと、左側方に位置する側方領域８０１Ｌと、を有する。各領域の面積は、２０平方センチメートル（ｃｍ^２）とする。
ボウル部８０１における単位面積あたりの着水量（平均着水量（ｇ／ｃｍ^２））は、先端領域８０１Ｆにおける単位面積あたりの着水量（ｇ／ｃｍ^２）と、側方領域８０１Ｒにおける単位面積あたりの着水量（ｇ／ｃｍ^２）と、側方領域８０１Ｌにおける単位面積あたりの着水量（ｇ／ｃｍ^２）との平均である。

図１９（ａ）〜図１９（ｅ）に示した各領域（２０３Ｆ、２０３Ｌ、２０３Ｒ、２０４Ｆ、２０４Ｌ、２０４Ｒ、８０６Ｆ、８０６Ｌ、８０６Ｒ、８０７Ｆ、８０７Ｌ、８０７Ｒ、８０１Ｆ、８０１Ｌ、及び８０１Ｒのそれぞれ）における、単位面積あたりの着水量の測定は、以下の通りである。
まず、ミストの噴霧後に、一定面積の領域をペーパーで拭き取り、当該領域に着水したミストをペーパーに吸水させる。次に、吸水前のペーパーの重量と、吸水後のペーパーの重量との差を、当該領域に着水したミストの量（着水量）とする。その着水量を、当該領域の面積（拭き取られた面積）で除することにより、当該領域における単位面積あたりの着水量が算出される。

図２０は、アフターミストモードにおけるミストの着水量を例示する表である。
図２０では、図１９（ａ）〜図１９（ｅ）に示した各領域における単位面積あたりの着水量の大小関係を、「大」、「中」、「小」及び「極小」の４段階で示す。
例えば、リム部８０５の上面８０６の先端領域及び側方領域における単位面積あたりの着水量は、「中」である。これに対して、便座部２００の表面２０３の先端領域及び側方領域における単位面積あたりの着水量は、「極小」である。

すなわち、制御装置４０５は、リム部８０５の上面８０６における除菌水の単位面積あたりの着水量が、便座部２００の表面２０３における除菌水の単位面積あたりの着水量よりも多くなるように、噴霧装置４８１を制御する。使用者が直接触れる便座部２００の表面２０３に比べて、使用者が直接触れる可能性が低いリム部８０５の上面８０６における除菌水の着水量が多いことにより、リム部８０５の上面８０６における菌や汚れの発生を抑制することができる。

また、使用者が便座部２００に着座しながら排尿した際に、便座部２００の裏面２０４の前方側には、ボウル部８０１や溜水８０１ｗに当たって跳ねた尿や汚水が付着しやすい。このため、便座部２００の裏面２０４の前方側は、便座部２００の裏面２０４の側方側に比べて、汚れ負荷が大きい部分である。これに対して、図２０に示すように、便座部２００の裏面２０４の先端領域における単位面積あたりの着水量は、「大」であり、便座部２００の裏面２０４の側方領域における単位面積あたりの着水量は、「小」である。

すなわち、便座部２００の開口２００ａより前方側を前方部位、開口２００ａの側方側を側方部位と設定した場合において、制御装置４０５は、便座部２００の裏面２０４の前方部位における除菌水の単位面積あたりの着水量（平均着水量）が、便座部２００の裏面２０４の側方部位における除菌水の単位面積あたりの着水量（平均着水量）よりも多くなるように、噴霧装置４８１を制御する。側方側に比べて、前方側に着水する除菌水の量を多くすることで、便座部２００の裏面２０４における菌や汚れの発生をより抑制することができる。

また、表面２０３に比べて、使用者が便座部２００の裏面２０４に直接触れる可能性は低いため、便座部２００の裏面２０４は、濡れに対する許容度が高い部分である。また、便座部２００の裏面２０４には、ボウル部８０１や溜水８０１ｗに当たって跳ねた尿や汚水が付着しやすい。このため、便座部２００の表面２０３に比べて、便座部２００の裏面２０４は、汚れ負荷が大きい部分である。これに対して、図２０に示すように、制御装置４０５は、便座部２００の裏面２０４における除菌水の単位面積あたりの着水量が、便座部２００の表面２０３における除菌水の単位面積あたりの着水量よりも多くなるように、噴霧装置４８１を制御する。

すなわち、便座部２００の裏面２０４に着水する除菌水の量は、便座部２００の表面２０３に比べて多い。便座部２００の裏面２０４に着水する除菌水の量を多くすることで、菌や汚れの発生を抑制することができる。

また、図２０に示すように、リム部８０５の内壁面８０７の先端領域及び側方領域における単位面積あたりの着水量は、「大」であり、ボウル部８０１の先端領域及び側方領域における単位面積あたりの着水量は、「大」である。ただし、ボウル部８０１の先端領域及び側方領域に直接着水する単位面積あたりの除菌水の量は、「中」である。

すなわち、制御装置４０５は、リム部８０５の内壁面８０７に直接着水する除菌水の単位面積あたりの着水量（平均着水量）が、ボウル部８０１に直接着水する除菌水の単位面積あたりの着水量（平均着水量）よりも多くなるように、噴霧装置４８１を制御する。なお、直接着水する除菌水の着水量は、上方から流れ落ちてくる除菌水の量を含まない。

ボウル部８０１には便器洗浄の洗浄水が流れ、リム部８０５の内壁面８０７には便器洗浄の洗浄水が流れない。このため、リム部８０５の内壁面８０７は、ボウル部８０１に比べて汚れ負荷が大きい。そこで、上記のように、比較的汚れ負荷が大きいリム部８０５の内壁面８０７に直接着水する除菌水の量を多くすることで、内壁面８０７における菌や汚れの発生をより抑制することができる。

図２１（ａ）及び図２１（ｂ）は、実施形態に係る粒径の測定方法を例示する斜視図である。
粒径の測定には、レーザ回折法が用いられる。微粒子にレーザを照射すると、その微粒子から様々な方向に向かう回折散乱光が生じる。回折散乱光の強さは、光が発せられる方向において空間パターンを有する。この空間パターンは、光強度分布パターンと呼ばれる。光強度分布パターンは、微粒子の粒径によって変化する。微粒子の粒径と光強度分布パターンとの相関を利用し、光強度分布パターンを検出することで粒径を算出することができる。

図２１（ａ）及び図２１（ｂ）に示すように、粒径の測定装置６００は、発光部６０１と受光部６０２とを有する。受光部６０２は、発光部６０１が発するレーザを受光可能に設けられている。粒径の測定においては、発光部６０１が発するレーザを噴霧装置４８１から噴霧されるミストＭに照射する。受光部６０２は、レーザの照射によって生じた回折散乱光を受光する。これにより、光強度分布パターンを検出することができる。測定装置には、エアロトラックＬＤＳＡ−３５００Ａ（マイクロトラック・ベル株式会社製）を用いることができる。

図２２（ａ）及び図２２（ｂ）は、実施形態の変形例に係るトイレ装置の一部を例示する平面図及び断面図である。
図２２（ａ）は、トイレ装置の一部を前方から見た平面図である。図２２（ｂ）は、図２２（ａ）に示すＡ−Ａ線における断面図である。
図２２（ａ）及び図２２（ｂ）に示すように、この例では、ミストダンパ４８２が設けられておらず、ケーシング４００にスリットＳが設けられている。噴霧装置４８１はケーシング４００内に配置されており、スリットＳは、噴霧装置４８１の前方下部に位置する。例えば、スリットＳの上端面Ｓ１の高さ（上下方向における位置）は、ディスク４８１ｂの底面Ｂ１の高さと同じであり、上端面Ｓ１と底面Ｂ１とは同一平面上である。または、上端面Ｓ１は、底面Ｂ１よりも低くてもよい。

ディスク４８１ｂの上面は、水平から傾いており、ディスク４８１ｂは、ミストＭを水平よりも若干下方へ向けて噴霧する。ディスク４８１ｂから噴霧されたミストＭは、スリットＳを通過し、ボウル部８０１内へ向けて噴霧される。これにより、図５で示したようなミストダンパ４８２を設けないため、トイレ装置のデザイン性や清掃性を損ねることなく、尿などの汚れＹが噴霧装置４８１に付着することを防止することができる。

図２３は、実施形態の変形例に係るトイレ装置の要部構成を例示するブロック図である。
なお、図２３は、水路系と電気系の要部構成を併せて表している。
図２３に表したように、この例では、電磁弁４３１、除菌装置４５０、切替弁４７２、噴霧装置４８１、ノズルモータ４７６、ノズル４７３、ノズル洗浄室４７８、及び流路１１０〜１１３などは、大便器８００の内部に組み込まれている。また、この例では、便座用モータ５１１（回動装置）、便蓋用モータ５１２（回動装置）、送風装置５１３および温風ヒータ５１４などは、大便器８００の内部に組み込まれている。また、この例では、検知センサ４０２（例えば、人体検知センサ４０３、着座検知センサ４０４など）や、制御装置４０５は、大便器８００の内部に組み込まれている。

このように、図３に示した例において便座装置１００のケーシング４００内部に組み込まれていた各部材（以下、「機能部」と称する）は、大便器８００の内部に組み込まれてもよい。機能部が大便器８００の内部に組み込まれる場合においても、機能部がケーシング４００の内部に組み込まれる場合と同様に、噴霧装置４８１などを動作させることができる。

また、このように機能部が大便器８００の内部に組み込まれる場合、便座装置１００のケーシング４００は省略されてもよい。あるいは、便座装置１００の代わりに便座部２００と便蓋３００とが設けられてもよい。この場合、例えば、便座部２００と便蓋３００とは、それぞれ、大便器８００に対して開閉自在に軸支される。また、この場合、例えば、ノズルダンパ４７９、ミストダンパ４８２、及び送風ダンパ５１６は、大便器８００に対して回動可能に軸支される。

以上、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明はこれらの記述に限定されるものではない。前述の実施の形態に関して、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。例えば、大便器、便座装置などが備える各要素の形状、寸法、材質、配置、設置形態などは、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。
また、前述した各実施の形態が備える各要素は、技術的に可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。

１０ トイレ装置、 １００ 便座装置、 １１０〜１１３ 流路、 ２００ 便座部、 ２００ａ 開口、 ２０３ 表面、 ２０３Ｆ 先端領域、 ２０３Ｌ 側方領域、 ２０３Ｒ 側方領域、 ２０４ 裏面、 ２０４Ｆ 先端領域、 ２０４Ｌ 側方領域、 ２０４Ｒ 側方領域、 ３００ 便蓋、 ４００ ケーシング、 ４０２ 検知センサ、 ４０３ 人体検知センサ、 ４０４ 着座検知センサ、 ４０５ 制御装置、 ４３１ 電磁弁、 ４５０ 除菌装置、 ４７２ 切替弁、 ４７３ ノズル、 ４７４ 吐水口、 ４７６ ノズルモータ、 ４７８ ノズル洗浄室、 ４７９ ノズルダンパ、 ４８１ 噴霧装置、 ４８１ａ モータ、 ４８１ｂ ディスク、 ４８１ｃ 給水口、 ４８２ ミストダンパ、 ５００ 手動操作部、 ５１１ 便座用モータ、 ５１２ 便蓋用モータ、 ５１３ 送風装置、 ５１４ 温風ヒータ、 ５１５ 便座ヒータ、 ５１６ 送風ダンパ、 ５１６ａ 開口、 ６００ 測定装置、 ６０１ 発光部、 ６０２ 受光部、 ８００ 大便器、 ８０１ ボウル部、 ８０１Ｆ 先端領域、 ８０１Ｌ 側方領域、 ８０１Ｒ 側方領域、 ８０１ｗ 溜水、 ８０５ リム部、 ８０６ 上面、 ８０６Ｆ 先端領域、 ８０６Ｌ 側方領域、 ８０６Ｒ 側方領域、 ８０７ 内壁面、 ８０７Ｆ 先端領域、 ８０７Ｌ 側方領域、 ８０７Ｒ 側方領域、 ８１１ ボウル給水口、 Ｍ、Ｍ３ ミスト、 Ｍ１ 第１ミスト、 Ｍ２ 第２ミスト、 Ｓ スリット、 Ｔ１ 第１所定時間、 Ｔ２ 第２所定時間、 Ｕ１ 第１上昇気流、 Ｕ２ 第２上昇気流

Claims (12)

1. 大便器の上部に設置される便座装置であって、
   使用者が着座する便座部と、
   除菌水を生成する除菌装置と、
   前記便座装置が前記大便器の前記上部に設置された状態において、前記便座部よりも下方に配置され、前記大便器内に向けて前記除菌水のミストを噴霧する噴霧装置と、
   前記大便器内に向けて送風し、上昇気流を発生させる送風装置と、
   前記除菌装置と前記噴霧装置と前記送風装置とを制御する制御装置と、
   を備え、
   前記制御装置は、前記送風装置に前記大便器内に前記上昇気流を発生させた状態において、前記上昇気流によって前記便座部側に上昇可能な粒径を有する前記除菌水の第１ミストと、前記上昇気流によって前記便座部側に上昇しないように前記第１ミストの前記粒径よりも大きい粒径を有する前記除菌水の第２ミストと、を同時に発生させるとともに、前記第１ミストの総量が前記第２ミストの総量よりも少なくなるように前記噴霧装置を制御することを特徴とする便座装置。
2. 前記噴霧装置は、前記第１ミストが前記第２ミストよりも上方側に形成されるように前記除菌水を噴霧することを特徴とする請求項１記載の便座装置。
3. 前記噴霧装置は、前記第１ミストを水平面に対して斜め上方に向けて噴霧することを特徴とする請求項２記載の便座装置。
4. 前記噴霧装置は、前記第２ミストを水平面に対して平行または斜め下方に向けて噴霧することを特徴とする請求項３記載の便座装置。
5. 前記噴霧装置は、前記第１ミスト及び前記第２ミストのそれぞれを、上面視において、放射状に噴霧することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の便座装置。
6. 前記便座部に着座した前記使用者の局部に向けて吐水する洗浄ノズルをさらに備え、
   前記洗浄ノズルは、前記洗浄ノズルの幅方向において、前記噴霧装置と前記送風装置との間に配置されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の便座装置。
7. 汚物を受けるボウル部と、上縁部を形成するリム部と、を有する大便器と、
   前記大便器の上部に設置され使用者が着座する便座部と、
   除菌水を生成する除菌装置と、
   前記便座部が前記大便器の前記上部に設置された状態において、前記便座部よりも下方に配置され、前記大便器内に向けて前記除菌水のミストを噴霧する噴霧装置と、
   前記大便器内に向けて送風し、上昇気流を発生させる送風装置と、
   前記除菌装置と前記噴霧装置と前記送風装置とを制御する制御装置と、
   を備え、
   前記制御装置は、前記送風装置に前記大便器内に前記上昇気流を発生させた状態において、前記上昇気流によって前記便座部側に上昇可能な粒径を有する前記除菌水の第１ミストと、前記上昇気流によって前記便座部側に上昇しないように前記第１ミストの前記粒径よりも大きい粒径を有する前記除菌水の第２ミストと、を同時に発生させるとともに、前記第１ミストの総量が前記第２ミストの総量よりも少なくなるように前記噴霧装置を制御することを特徴とするトイレ装置。
8. 前記噴霧装置は、前記第１ミストが前記第２ミストよりも上方側に形成されるように前記除菌水を噴霧することを特徴とする請求項７記載のトイレ装置。
9. 前記噴霧装置は、前記第１ミストを水平面に対して斜め上方に向けて噴霧することを特徴とする請求項８記載のトイレ装置。
10. 前記噴霧装置は、前記第２ミストを水平面に対して平行または斜め下方に向けて噴霧することを特徴とする請求項９記載のトイレ装置。
11. 前記噴霧装置は、前記第１ミスト及び前記第２ミストのそれぞれを、上面視において、放射状に噴霧することを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１つに記載のトイレ装置。
12. 前記便座部に着座した前記使用者の局部に向けて吐水する洗浄ノズルをさらに備え、
    前記洗浄ノズルは、前記洗浄ノズルの幅方向において、前記噴霧装置と前記送風装置との間に配置されていることを特徴とする請求項８〜１１のいずれか１つに記載のトイレ装置。

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