JP7483211B2 - トイレ装置 - Google Patents

Description

本発明の態様は、トイレ装置に関する。

特許文献１には、便器内や便座部にミストを噴霧する噴霧装置を備えたトイレ装置が記載されている。特許文献１の噴霧装置は、給水流路中の電磁弁を開くことでディスク上に水を供給しつつ、モータによってディスクを高速回転させることで、便器内や便座部にミストを噴霧する構成が記載されている。

特開２０１９－１１２９２４号公報

特許文献１に記載のトイレ装置は、ミスト噴霧の開始時において、電磁弁の開動作とディスクの回転動作を同時に開始させている。電磁弁が開くまでの時間に比べて、ディスクが所望の高速回転数に到達するまでの時間は長いため、ディスクが所望の回転数に到達する前にディスク上への水の給水が行われる恐れがある。このような場合、ディスクが低速回転している状態でミスト噴霧が行われることとなるため、大径のミストがボウル及び便座部に噴霧されることとなる。大径のミストが便器内や便座部に噴霧されると、便器内や便座部に着水したミストが流れ落ちてしまい、ミストを滞留させることによる、除菌効果や汚物付着抑制効果が低下するという課題がある。

本発明は、かかる課題の認識に基づいてなされたものであり、回転式のミスト噴霧装置において、ミスト噴霧の開始時に、大径のミストが便器の内部や便座に噴霧されて、便器内や便座にミストが滞留しにくくなることを抑制できるトイレ装置を提供することを目的とする。

第１の発明は、便器のボウル部と便座部とのうち少なくとも一方に向けてミストを噴霧する噴霧装置と、前記噴霧装置を制御する制御装置と、を備え、前記噴霧装置は、モータと、前記モータにより回転駆動する回転体と、前記回転体に水を供給するバルブと、を有し、前記制御部は、前記モータにより前記回転体を回転駆動した状態で前記バルブを開いて前記回転体に水を供給することによってミストを噴霧するミストモードを実行可能であり、前記ミストモードの起動時において、前記モータの回転動作の開始後に、前記電磁弁が開くことを特徴とするトイレ装置である。

このトイレ装置によれば、回転体が回転し始めた回転不足の状態で水が供給されて、大径のミストが便器の内部や便座部に噴霧されることを抑制できる。これにより、大径のミストが便器の内部や便座に噴霧されて、便器内や便座にミストが滞留しにくくなることを抑制できる。

第２の発明は、第１の発明において、前記制御部は、前記ミストモードの起動時において、前記モータの起動電流がピーク値を超えた後に、前記電磁弁が開くことを特徴とするトイレ装置である。

このトイレ装置によれば、モータの起動電流がピーク値を超えた後（回転体が所望の回転数に近づいた後）にミスト噴霧が開始されるため、大径のミストが便器の内部や便座部に噴霧されることをより抑制できる。これにより、大径のミストが便器の内部や便座に噴霧されて、便器内や便座にミストが滞留しにくくなることを抑制できる。

第３の発明は、第２の発明において、前記制御部は、前記ミストモードの起動時において、前記モータの起動電流が定常状態になった以降に、前記電磁弁が開くことを特徴とするトイレ装置である。

このトイレ装置によれば、モータの起動電流がピーク値を超えて定常状態（ピーク電流値に比べて電流値は大幅に低下した状態）になって以降に電磁弁が開くため、電磁弁を開くための負荷電流と回転板を回転駆動するための負荷電流の合計値を小さくできる。これにより、トイレ装置の電源容量を小さくできるため、電源基板を小型化、ひいては製品を小型化できる。

本発明の態様によれば、回転式のミスト噴霧装置において、ミスト噴霧の開始時に、大径のミストが便器の内部や便座に噴霧されて、便器内や便座にミストが滞留しにくくなることを抑制できるトイレ装置が提供される。

実施形態に係るトイレ装置を例示する斜視図である。 実施形態に係るトイレ装置を例示する断面図である。 実施形態に係る便座装置の要部構成を例示するブロック図である。 実施形態に係る噴霧装置を例示する模式図である。 実施形態に係る便座装置のアフターミストモード及び手動ミストモードにおける動作を例示する模式図である。 実施形態に係る便座装置の第１工程における動作を例示する平面図である。 実施形態に係る便座装置の第２工程における動作を例示する断面図及び平面図である。 実施形態に係る便座装置のアフターミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。 実施形態に係る便座装置の手動ミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。 実施形態に係る電流と粒径の関係を例示する図である。 比較例となる電流と粒径の関係を例示する図である。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
図１は、実施形態に係るトイレ装置を例示する斜視図である。
図２は、実施形態に係るトイレ装置の一部を例示する断面図である。

図１に表したトイレ装置１０は、大便器８００と、便座装置１００と、を備える。大便器８００は、汚物を受ける凹状のボウル部８０１を有する。便座装置１００は、大便器８００の上部に設置されている。

便座装置１００は、ケーシング４００と、使用者が着座する便座部２００と、便蓋３００と、を有する。便座部２００と便蓋３００とは、それぞれ、ケーシング４００に対して開閉自在に軸支されている。

ケーシング４００の内部には、便座部２００に座った使用者の人体局部（「おしり」など）の洗浄を実現する身体洗浄機能部などが内蔵されている。また、例えばケーシング４００には、使用者が便座部２００に座ったことを検知する着座検知センサ４０４が設けられている。着座検知センサ４０４が便座部２００に座った使用者を検知している場合において、使用者が例えばリモコンなどの手動操作部５００を操作すると、洗浄ノズル（以下説明の便宜上、単に「ノズル」と称する）４７３を大便器８００のボウル部８０１内に進出させることができる。なお、図１に表した便座装置１００では、ノズル４７３がボウル部８０１内に進出した状態を表している。

ノズル４７３の先端部には、ひとつ又は複数の吐水口４７４が設けられている。そして、ノズル４７３は、その先端部に設けられた吐水口４７４から水を噴射して、便座部２００に座った使用者の「おしり」などを洗浄することができる。

なお、本願明細書において、「上方」、「下方」、「前方」、「後方」、「左側方」及び「右側方」のそれぞれは、開いた便蓋３００に背を向けて便座部２００に座った使用者から見た方向である。

図２に示すように、大便器８００は、ボウル部８０１の上に設けられたリム部８０５を有する。リム部８０５は、大便器８００の上縁部を形成する環状部分である。ボウル部８０１内には、溜水８０１ｗが溜められている。例えば、使用者が、リモコン等に設けられたスイッチによって便器洗浄の操作を行うと、または、使用者が便座部２００から立ち上がると、便器洗浄（ボウル部８０１内の汚物を排出し、ボウル部８０１の表面を洗浄する動作）が実行される。便器洗浄においては、ボウル部８０１内に洗浄水が供給される。例えば、図２の例では、ボウル給水口８１１から大便器８００の上縁に沿って洗浄水が吐出される。

リム部８０５は、上面８０６と、内壁面８０７と、を有する。上面８０６は、閉じられた便座部２００の裏面２０４と向き合う面である。内壁面８０７は、大便器８００の内壁（ボウル部８０１の中央側に面する壁面）のうち、便器洗浄の洗浄水が流れる部分よりも、上方の部分である。すなわち、本願明細書において、リム部８０５の内壁面８０７とは、便器洗浄における不洗浄部をいう。図２の例では、内壁面８０７は、棚状に屈曲した屈曲部８０５Ｂより上方に位置する立面を含む。

ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７は、汚物が直接付着しやすいため、汚れ負荷が大きい部分である。また、ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７は、濡れても不都合が生じにくいため、濡れに対する許容度が高い部分である。

便座部２００やリム部８０５の上面８０６は、ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７に比べて汚物が直接付着しにくい。例えば、便座部２００及びリム部８０５の上面８０６には、ボウル部８０１や溜水８０１ｗに当たって跳ねた尿や汚水が付着する。したがって、便座部２００及びリム部８０５の上面８０６は、比較的、汚れ負荷が小さい部分である。また、便座部２００やリム部８０５の上面８０６が過度に濡れると、除菌水が使用者の肌に触れたり、大便器外に垂れたりする可能性があるため、便座部２００やリム部８０５の上面８０６は、濡れに対する許容度が低い部分である。

図３は、実施形態に係る便座装置の要部構成を例示するブロック図である。
なお、図３は、水路系と電気系の要部構成を併せて表している。
便座装置１００は、電磁弁４３１、除菌装置４５０、切替弁４７２、噴霧装置４８１、ノズルモータ４７６、ノズル４７３、ノズル洗浄室４７８、及び流路１１０～１１３などを有する。これらは、ケーシング４００内に配置されている。

流路１１０は、水道や貯水タンクなどの図示しない給水源から供給された水を噴霧装置４８１やノズル４７３などに導くための流路である。流路１１０の上流側には、電磁弁４３１が設けられている。電磁弁４３１は、開閉可能な電磁バルブであり、ケーシング４００の内部に設けられた制御装置４０５からの指令に基づいて水の供給を制御する。

流路１１０上において、電磁弁４３１の下流には、除菌水を生成する除菌装置４５０が設けられている。除菌装置４５０は、例えば次亜塩素酸などを含む除菌水を生成する。除菌装置４５０としては、例えば、電解槽ユニットが挙げられる。電解槽ユニットは、制御装置４０５からの通電の制御によって、陽極板（図示せず）と陰極板（図示せず）との間の空間（流路）を流れる水道水を電気分解する。なお、除菌水は、次亜塩素酸を含むものには限定されない。例えば、除菌水は、銀イオンや銅イオンなどの金属イオンを含む溶液、電解塩素やオゾンなどを含む溶液、酸性水、または、アルカリ水などでもよい。除菌装置４５０は電解槽に限らず、除菌水を生成可能な任意の構成でよい。

流路１１０上において、除菌装置４５０の下流には、切替弁４７２が設けられている。切替弁４７２の下流には、ノズル４７３、ノズル洗浄室４７８及び噴霧装置４８１が設けられている。流路１１０は、切替弁４７２により、ノズル４７３へ水を導く流路１１１、ノズル洗浄室４７８へ水を導く流路１１２、および、噴霧装置４８１へ水を導く流路１１３に分岐している。切替弁４７２は、制御装置４０５からの指令に基づいて、流路１１１、流路１１２および流路１１３のそれぞれの開閉を制御する。つまり、切替弁４７２は、ノズル４７３、ノズル洗浄室４７８および噴霧装置４８１への水の供給を制御する。また、切替弁４７２は、その下流に供給する水の流量を切り替える。

ノズル４７３は、ノズルモータ４７６からの駆動力を受け、便器８００のボウル部８０１内に進出したり後退したりする。つまり、ノズルモータ４７６は、制御装置４０５からの指令に基づいてノズル４７３を進退させる。ノズル４７３は、非使用時には、ケーシング４００内に収納されている。ノズル４７３は、ケーシング４００から前方へ進出した状態で、吐水口４７４から水を吐出して、人体局部を洗浄する。

ノズル洗浄室４７８は、その内部に設けられた吐水口から除菌水あるいは水道水を噴射することにより、ノズル４７３の外周表面（胴体）を洗浄する。

噴霧装置４８１は、水道水又は除菌装置４５０で生成された除菌水をミスト状にする。噴霧装置４８１は、ボウル部８０１、リム部８０５、及び便座部２００に、ミストＭ（除菌水のミスト又は水道水のミスト）を噴霧する。言い換えれば、噴霧装置４８１は、除菌水のミスト又は水道水のミストを、ボウル部８０１、リム部８０５、及び便座部２００に着水させる。なお、本願明細書において「着水」とは、水（除菌水又は水道水）が物体の表面に付着することをいう。特に「直接着水」という場合には、水（除菌水又は水道水の微粒子ｐ）が空中から物体の表面に到着することを意味する。

また、ケーシング４００の内部には、便座用モータ５１１（回動装置）、便蓋用モータ５１２（回動装置）、送風装置５１３および温風ヒータ５１４が設けられている。
便座用モータ５１１は、制御装置４０５からの指令に基づいて、電動で便座部２００を回動させ開閉する。便蓋用モータ５１２は、制御装置４０５からの指令に基づいて、電動で便蓋３００を回動させ開閉する。

送風装置５１３は、例えばケーシング４００の内部に設けられたファンである。送風装置５１３は、制御装置４０５からの指令に基づいて動作する。例えば、送風装置５１３のモータの回転に伴い羽根が回転する。これにより、送風装置５１３は、大便器８００内（例えばボウル部８０１内）に向けて送風することができる。また、送風装置５１３は、便座部２００に座った使用者の局部に送風してもよい。温風ヒータ５１４は、送風装置５１３によってケーシング４００の外部へ送られる空気を温める。これにより、使用者の局部に向けて温風を送り、局部を乾燥させることができる。

便座ヒータ５１５（乾燥装置）は、例えば、便座部２００の内部に設けられている。便座ヒータ５１５は、例えば、便座部２００の中央に形成された開口２００ａの周りに沿って設けられた環状の金属部材を有する。制御装置４０５からの指令に基づいて便座ヒータ５１５に通電が行われることで、便座ヒータ５１５は、便座部２００を温める。便座ヒータ５１５としては、例えば、チュービングヒータや、シーズヒータ、ハロゲンヒータ、カーボンヒータなどを用いてもよい。金属部材は、例えば、アルミニウムや銅などで構成される。また、金属部材の形状は、シート状やワイヤ状、メッシュ状など、種々の形状を採用することができる。

制御装置４０５には、図示しない電源回路から電力を供給される回路が用いられる。例えば、制御装置４０５は、マイコンなどの集積回路を含む。制御装置４０５は、使用者を検知する検知センサ４０２（例えば人体検知センサ４０３又は着座検知センサ４０４）の検知情報または、手動操作部５００の操作情報に基づいて、電磁弁４３１、除菌装置４５０、切替弁４７２、ノズルモータ４７６、送風装置５１３、温風ヒータ５１４、便座ヒータ５１５、便座用モータ５１１、及び便蓋用モータ５１２を制御する。

手動操作部５００は、使用者が例えば任意のタイミングで除菌水の噴霧を行うための操作部である。例えば、手動操作部５００は、スイッチ又はボタンなどを有するリモコンであり、使用者が手動操作部５００を操作すると、除菌水の噴霧を指示する操作情報（信号）が制御装置４０５に送られる。制御装置４０５は、その操作情報に基づいて除菌装置４５０や噴霧装置４８１を制御する。これにより、使用者は、手動操作部５００を操作することで、除菌水の噴霧を行うことができる。
また、手動操作部５００は、除菌水の噴霧だけでなく、使用者が便座装置１００の各機能を操作するためのスイッチやボタンなどを有していてもよい。各機能に対応した操作が行われると、その操作情報が制御装置４０５に送られ、制御装置４０５は、その操作情報に基づいて、便座装置１００の各部の動作を制御する。

着座検知センサ４０４は、使用者の便座部２００への着座の有無を検知することができる。着座検知センサ４０４は、使用者の着座及び離座を検知する。着座検知センサ４０４には、マイクロ波センサ、測距センサ（赤外線投光式センサ）、超音波センサ、タクトスイッチ、静電容量スイッチ（タッチセンサ）、または歪みセンサを用いることができる。この例では、着座検知センサ４０４には、ケーシング４００に設けられた測距センサが用いられている。

なお、タクトスイッチ、静電センサ及び歪みセンサなどの接触式センサを用いる場合には、これらの接触式センサは、便座部２００に設けられる。便座部２００に使用者が座ると、使用者の体重によってタクトスイッチが押下される。または、使用者が静電センサに接触する。または、使用者の体重によって歪みセンサに圧力が加えられる。これらのセンサからの電気信号により、使用者の着座を検知することができる。

人体検知センサ４０３は、大便器８００の前方にいる使用者、すなわち便座部２００から前方へ離間した位置に存在する使用者を検知することができる。つまり、人体検知センサ４０３は、トイレ室に入室して便座部２００に近づいてきた使用者を検知することができる。このような人体検知センサとして、例えば、焦電センサ、マイクロ波センサ、超音波センサ、または測距センサ（赤外線投光式センサ）を用いることができる。この例では、人体検知センサ４０３には、ケーシングに設けられた焦電センサが用いられている。また、人体検知センサ４０３は、トイレ室のドアを開けて入室した直後の使用者や、トイレ室に入室する直前の使用者、すなわちトイレ室に入室しようとしてドアの前に存在する使用者を検知してもよい。例えば、マイクロ波センサを用いた場合には、トイレ室のドア越しに使用者の存在を検知することが可能となる。

制御装置４０５は、人体検知センサ４０３の検知情報（使用者の存在の有無を示す信号）や、着座検知センサ４０４の検知情報（使用者の着座の有無を示す信号）を受信し、受信した検知情報に基づいて、便座装置１００の各部の動作を制御する。

制御装置４０５は、アフターミストモード、プレミストモード、及び手動ミストモードの３種類のミストモードを実行可能である。
アフターミストモードは、例えば、使用者のトイレ装置１０の使用後に、検知センサ４０２の検知情報に基づいて、除菌水のミストを自動で噴霧する動作モードである。プレミストモードは、例えば、使用者のトイレ装置１０の使用前に、検知センサ４０２の検知情報に基づいて、除菌水又は水道水のミストを自動で噴霧する動作モードである。手動ミストモードは、手動操作部５００の操作情報に基づいて、除菌水のミストを噴霧する動作モードである。

図４（ａ）～図４（ｃ）は、実施形態に係る噴霧装置を例示する模式図である。
図４（ａ）は、噴霧装置４８１の斜視図であり、図４（ｂ）は、噴霧装置４８１の側面図である。
噴霧装置４８１は、モータ４８１ａと、モータ４８１ａの下方に接続されたディスク４８１ｂと、を有する。モータ４８１ａの回転は、制御装置４０５によって制御される。モータ４８１ａが回転すると、回転の駆動力がディスク４８１ｂに伝達され、ディスク４８１ｂが回転する。

図４（ｂ）に示すように、ディスク４８１ｂの上面には、水Ｗ（水道水又は除菌装置４５０で生成された除菌水）が供給される。ディスク４８１ｂの回転中に、水Ｗが供給されることで、噴霧装置４８１は、水Ｗをミスト状にして噴霧する。なお、この例では、ディスク４８１ｂは、平らな円板状であるが、適宜凹凸を設けたり、円錐形状や球体を用いたりしてもよい。

図４（ｃ）は、ディスク４８１ｂの一部を上方から見た拡大図である。回転するディスク４８１ｂの上面に滴下された水Ｗは、遠心力によって、ディスク４８１ｂ上で膜状に広がり、ディスク４８１ｂから放射される。このとき、水Ｗは、ディスク４８１ｂの縁付近から膜状のまま分裂したり、糸状となった後に分裂したりし、その後、微粒子ｐ（ミスト）となる。ディスク４８１ｂの回転速度、すなわち、モータ４８１ａの回転速度によって、ミストの粒径（微粒子ｐの径）を制御することができる。回転速度が高い程、ミストの粒径は小さくなる。例えば、回転速度が１０００（rotation per minute：ｒｐｍ）程度の低速回転、回転速度が１００００ｒｐｍ程度の中速回転、または、回転速度が２００００ｒｐｍ程度の高速回転が適宜用いられ、所望の粒径が得られる。また、給水口４８１ｃから噴霧装置４８１に供給される水Ｗの流量を調整することにより、ミストの粒径を制御することもできる。

なお、本願明細書において、粒径とは、トイレ装置１０に着水する前の空中に存在する微粒子ｐの粒径であり、ザウター平均粒径（総体積／総表面積）が用いられる。本願明細書における「粒径」の測定方法については、図２２に関して後述する。また、ミストとは、粒径が１０マイクロメートル（μｍ）以上３００μｍ以下の範囲をいう。ミストの粒径が１０μｍ未満であると、ボウル部８０１、リム部８０５、便座部２００などの対象部位を濡らすために長い時間が必要となってしまう。また、次亜塩素酸を含む除菌水を用いた場合、ミストの粒径が１０μｍ未満であると、ミスト中の次亜塩素酸の濃度が減衰しやすく、除菌性能が低下しやすい。一方、ミストの粒径が３００μｍより大きいと、ミストが拡散しにくく、広範囲にミストを噴霧することが困難となる。また、以下の説明において、大粒径のミストとは、粒径が１００μｍ以上３００μｍ以下、好ましくは１５０μｍ以上３００μｍ以下の範囲のミストであり、中粒径のミストとは、粒径が５０μｍ以上２００μｍ以下、好ましくは６０μｍ以上１５０μｍ以下の範囲のミストであり、小粒径のミストとは、粒径が１０μｍ以上１００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以上６０μｍ以下の範囲のミストである。

図５～図７を参照して、アフターミストモード及び手動ミストモードにおける便座装置１００の動作の例について説明する。

図５（ａ）及び図５（ｂ）は、実施形態に係る便座装置のアフターミストモード及び手動ミストモードにおける動作を例示する模式図である。
制御装置４０５は、１回のミストモード（１回のアフターミストモード又は１回の手動ミストモード）において、第１工程と第２工程とを実行する。図５（ａ）は、第１工程を例示し、図５（ｂ）は、第２工程を例示している。

図５（ａ）に示すように、第１工程は、噴霧装置４８１を作動させて除菌水のミストを大便器８００内に噴霧させた状態において、送風装置５１３を作動させて第１上昇気流Ｕ１を発生させる。第１上昇気流Ｕ１は、除菌水のミストを便座部２００側に上昇させることが可能な気流である。

図５（ｂ）に示すように、第２工程は、噴霧装置４８１を作動させて除菌水のミストを大便器８００内に噴霧させた状態において、送風装置５１３に第１上昇気流Ｕ１を発生させず、除菌水のミストを便座部２００側に上昇させない。

このような構成により、便座部２００よりも下方から噴霧された除菌水のミストは、第１工程において第１上昇気流Ｕ１によって便座部２００側に上昇し、便座部２００やリム部８０５の上面８０６に着水する。一方で、便座部２００よりも下方から噴霧された除菌水のミストは、第２工程において第１上昇気流Ｕ１によって便座部側に上昇せず、ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７に着水する。これにより、単一の噴霧装置４１８で、大便器８００のボウル部８０１だけでなくリム部８０５の上面８０６や便座部２００にも除菌水のミストを着水させることができる。したがって、大便器８００のボウル部８０１だけでなく大便器８００のリム部８０５、及び便座部２００などの広い範囲において菌や汚れを抑制することができる。また、単一の噴霧装置４８１を用いることで、便座装置１００を小型化することができる。

なお、第２工程において「除菌水のミストを便座部側に上昇させない」という範囲は、全てのミストが上昇しない場合だけでなく、僅かなミストが上昇する場合を含んでもよいものとする。例えば、第２工程において便座部側に上昇するミストの量は、第１工程において便座部側に上昇するミストの量よりも少ない。ただし、第２工程において、便座部２００、リム部の上面８０６及び便蓋３００に着水する除菌水の量は、出来るだけ少ないことが好ましく、例えばゼロであることが好ましい。

また、制御装置４０５が第１工程を実行するタイミングは、制御装置４０５が第２工程を実行するタイミングと異なる。除菌水のミストを便座部２００側に上昇させることが可能な第１上昇気流Ｕ１を発生させる第１工程と、第１上昇気流Ｕ１を発生させず除菌水のミストを便座部２００側に上昇させない第２工程と、を異なるタイミングで実行することにより、ボウル部８０１における除菌水の着水量、リム部８０５の上面における除菌水の着水量、便座部２００における除菌水の着水量を任意に制御することができる。

さらに、制御装置４０５は、第１工程において噴霧される除菌水のミストの総量（ｇ）が、第２工程において噴霧される除菌水のミストの総量（ｇ）よりも少なくなるように噴霧装置４８１を制御する。これにより、便座部２００及びリム部８０５の上面８０６に着水する除菌水の量は、比較的少なく、ボウル部８０１及びリム部８０５の内壁面８０７に着水する除菌水の量は、比較的多くなる。汚れ負荷が大きく、濡れに対する許容度が高いボウル部８０１及び内壁面８０７に多くの除菌水のミストを着水させることで、菌や汚れの発生を抑制することができる。汚れ負荷が小さく、濡れに対する許容度が低い便座部２００及びリム部８０５の上面８０６において、除菌水の着水量を少なくすることで、菌や汚れを抑制しつつ、短時間で便座部２００及びリム部８０５の上面８０６を乾かすことができる。これにより、除菌水が使用者の肌に触れたり、大便器外に垂れたりすることを防止できる。

なお、ミストの総量とは、１回のミストモード（１回のアフターミストモード又は１回の手動ミストモード）で、噴霧装置４８１が噴霧するミストの総量である。１回のミストモードにおいて、噴霧装置４８１は、連続的にミストを噴霧してもよいし、断続的にミストを噴霧してもよい。また、第１工程におけるミストの総量及び第２工程におけるミストの総量は、例えば、ディスク４８１ｂの回転速度や、噴霧装置４８１に供給される除菌水の流量などの調整により、制御することができる。

例えば、制御装置４０５は、第２工程の実行中に噴霧される除菌水のミストの粒径が、第１工程の実行中に噴霧される除菌水のミストの粒径よりも大きくなるように噴霧装置４８１を制御する。例えば、図５（ａ）に示すように、第１工程の実行中に噴霧装置４８１は、小粒径の第１ミストＭ１を発生させる。第１ミストＭ１の粒径（除菌水の微粒子ｐ１の径）は、第１上昇気流Ｕ１によって、便座部２００側に上昇可能な粒径である。また、例えば、図５（ｂ）に示すように、第２工程の実行中に噴霧装置４８１は、中粒径の第２ミストＭ２を発生させる。第２ミストＭ２の粒径（除菌水の微粒子ｐ２の径）は、第１ミストＭ１の粒径よりも大きい。

第１工程の実行中に噴霧される除菌水のミストの粒径を小さくすることにより、第１工程において噴霧される除菌水の総量を少なくすることができる。これにより、便座部２００やリム部８０５の上面８０６に着水する除菌水の量をより確実に少なくすることができる。一方、第２工程の実行中に噴霧される除菌水のミストの粒径を大きくすることにより、第２工程において噴霧される除菌水の総量を多くすることができる。これにより、ボウル部８０１及びリム部８０５の内壁面８０７に着水する除菌水の量を多くすることができる。

また、例えば、制御装置４０５は、第２工程において、送風装置５１３の作動を停止させ、送風を行わない。これにより、第２工程において除菌水のミストが便座部２００側に上昇することをより確実に防止することができる。

また、制御装置４０５は、第２工程において、送風装置５１３を作動させて第２上昇気流Ｕ２を発生させてもよい。第２上昇気流Ｕ２の流速は、第１上昇気流Ｕ１の流速よりも低く、第２工程におけるミストは、第２上昇気流Ｕ２によって便座部２００側に上昇しない。第２上昇気流Ｕ２によって、ミストを便座部２００側に上昇させずに水平方向又は下方に拡散させることができる。これにより、大便器８００内のより広い範囲に除菌水を着水させることができる。

また、噴霧装置４８１は、除菌水のミストを、上面視において、放射状に噴霧する。放射状とは、ミストが存在する範囲が、噴霧装置４８１から離れるに従い、広くなる状態である。例えば、上面視において、ディスク４８１ｂの中心から離れる全ての方向に向けて、ミストが噴霧される。

第１工程におけるミスト（第１ミストＭ１）が放射状であることにより、ミストを第１上昇気流Ｕ１の全体に乗せて、便座部２００やリム部８０５の上面８０６などの広い範囲に着水させることができる。また、第２工程におけるミスト（第２ミストＭ２）が放射状であることにより、ミストが気流に乗らなくても、ボウル部８０１やリム部８０５の内壁面８０７などの大便器８００内の広範囲に、ミストを着水させることができる。

なお、ミスト（第１ミストＭ１及び第２ミストＭ２）の広がり方などは、ディスク４８１ｂの回転速度、配置、形状や、ディスク４８１ｂに水を供給する給水口４８１ｃの位置などにより、調整することができる。

図６（ａ）～図６（ｄ）は、実施形態に係る便座装置の第１工程における動作を例示する平面図である。
図６（ａ）及び図６（ｃ）においては、説明の便宜上、便座部２００及び便蓋３００を省略している。破線の矢印は、送風装置５１３の送風方向を表す。実線の矢印は、噴霧装置４８１から噴霧されるミストの流れを表す。実線の矢印の太さは、除菌水の量に対応する。矢印が太いほど除菌水が多いことを表す。図６（ｂ）及び図６（ｄ）は、便座部２００を表す。
図６（ａ）及び図６（ｂ）は、噴霧装置４８１のディスク４８１ｂが、上面視において反時計回りをしているときの様子を示す。この場合には、トイレ装置１０の右側に比べて、左側に多くの除菌水が着水する。例えば、図６（ａ）に示すように、リム部上面においては、右側領域ＲＲ１よりも左側領域ＲＬ１に多くの除菌水が着水する。例えば、図６（ｂ）に示すように、便座部２００においては、右側領域ＲＲ２よりも左側領域ＲＬ２に多くの除菌水が着水する。

図６（ｃ）及び図６（ｄ）は、噴霧装置４８１のディスク４８１ｂが、上面視において時計回りをしているときの様子を示す。この場合には、トイレ装置１０の左側に比べて、右側に多くの除菌水が着水する。例えば、図６（ｃ）に示すように、リム部上面においては、左側領域ＲＬ１よりも右側領域ＲＲ１に多くの除菌水が着水する。例えば、図６（ｄ）に示すように、便座部２００においては、左側領域ＲＬ２よりも右側領域ＲＲ２に多くの除菌水が着水する。

制御装置４０５は、噴霧装置４８１のモータ４８１ａを制御して、第１工程中に、時計回りと反時計回りとを適宜切り替えることが好ましい。これにより、左右方向におけるミストの分布が均一になりやすい。

図７（ａ）～図７（ｃ）は、実施形態に係る便座装置の第２工程における動作を例示する断面図及び平面図である。
実線の矢印は、噴霧装置４８１から噴霧されるミストの流れを表す。実線の矢印の太さは、除菌水の量に対応する。矢印が太いほど除菌水が多いことを表す。なお、説明の便宜上、図７（ａ）では便蓋３００を省略し、図７（ｂ）及び図７（ｃ）では便座部２００及び便蓋３００を省略している。また、この例では、第２工程において、制御装置４０５は、送風装置５１３を作動させない。つまり、第２工程において、大便器８００内への送風は、行われていない。

図７（ａ）の断面図に示すように、噴霧装置４８１は、リム部８０５の上端へ向けてミストを噴霧する。第２工程においては、除菌水のミストは、ボウル部８０１、および、リム部８０５の内壁面８０７に着水する。第２工程においては、第１上昇気流Ｕ１が発生しないため、除菌水のミストは、例えば便座部２００やリム部８０５の上面８０６には着水しない。

図７（ｂ）の平面図は、噴霧装置４８１のディスク４８１ｂが、上面視において反時計回りをしているときの様子を示す。この場合には、大便器８００内の右側に比べて、左側に多くの除菌水が着水する。

図７（ｃ）の平面図は、噴霧装置４８１のディスク４８１ｂが、上面視において時計回りをしているときの様子を示す。この場合には、大便器８００内の左側に比べて、右側に多くの除菌水が着水する。

制御装置４０５は、噴霧装置４８１のモータ４８１ａを制御して、第２工程中に、時計回りと反時計回りとを適宜切り替えることが好ましい。これにより、左右方向におけるミストの分布が均一になりやすい。

以上説明したように、第１工程によって、リム部８０５の上面８０６、便座部２００及び便蓋３００などに除菌水を着水させることができる。また、第２工程によって、ボウル部８０１及びリム部８０５の内壁面８０７に除菌水を着水させることができる。以上により、リム部８０５、便座部２００及び便蓋３００などを含むトイレ装置１０の隅々までを除菌することができる。

図８は、実施形態に係る便座装置のアフターミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。
人体検知センサ４０３が使用者の退室を検知すると（ステップＳ４０１：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、便蓋用モータ５１２を制御して便蓋３００を閉じ、電磁弁４３１を開き、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを反時計回り（ＣＣＷ）に高速回転させる（ステップＳ４０２）。その後、モータが目標回転数に到達する（ステップＳ４０３)と、電磁弁４３１を開く（ステップＳ４０４）。電磁弁４３１が開くことで、ディスク４８１ｂへの給水が開始される。

制御装置４０５は、ディスク４８１ｂが高速回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ４０５：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂ上の残水をディスク４８１ｂ上から排出することができる。このとき、例えばミストダンパ４８２は閉じているため、大便器８００内へミストは噴霧されない。

所定時間が経過すると（ステップＳ４０５：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、ノズルモータ４７６によりノズル４７３をボウル部８０１内へ進出させる。これに伴い、ミストダンパ４８２が開く（ステップＳ４０６）。

その後、制御装置４０５は、除菌装置４５０を制御して除菌水の生成を開始し、送風装置５１３を制御して大便器８００内への送風を開始する（ステップＳ４０７）。これにより、大便器８００内、便座部２００及び便蓋３００などへの、除菌水のミストの噴霧が開始する。制御装置４０５は、反時計回りに高速回転するディスク４８１ｂから除菌水のミストが噴霧される状態を所定時間（ｔ１）、維持する（ステップＳ４０８：Ｎｏ）。

所定時間（ｔ１）が経過すると（ステップＳ４０８：Ｙｅｓ）、電磁弁４３１を閉じ、（ステップＳ４０９）モータ停止、除菌水生成停止、送風停止を行う（ステップＳ４１０）。モータは制御停止後も惰性で回転を継続するので、回転数が低下するまで、静止時間（ｔ２）、維持する（ステップＳ４１１：Ｎｏ）。

静止時間（ｔ２）が経過すると（ステップＳ４１１：Ｙｅｓ）、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを時計回り（ＣＷ）に高速回転させる。（ステップＳ４１２）その後、モータが目標回転数に到達する（ステップＳ４１３）と、電磁弁４３１を開く（ステップＳ４１４）。電磁弁４３１が開くことで、ディスク４８１ｂへの給水が開始される。

その後、制御装置４０５は、除菌装置４５０を制御して除菌水の生成を開始し、送風装置５１３を制御して大便器８００内への送風を開始する（ステップＳ４１５）。これにより、大便器８００内、便座部２００及び便蓋３００などへの、除菌水のミストの噴霧が開始する。制御装置４０５は、時計回りに高速回転するディスク４８１ｂから除菌水のミストが噴霧される状態を所定時間（ｔ１）、維持する（ステップＳ４１６：Ｎｏ）。

所定時間ｔ１が経過すると（ステップＳ４１６：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、電磁弁４３１を閉じ（ステップＳ４１７）、モータ４８１ａ及びディスク４８１ｂの回転を停止し、ノズルモータ４７６によりノズル４７３をケーシング４００内へ後退させる。これに伴い、ミストダンパ４８２が閉じる。また、制御装置４０５は、便座ヒータ５１５をＯＮ（通電状態）にする（ステップＳ４１８）。

制御装置４０５は、便座ヒータ５１５がＯＮの状態を所定時間、維持する（ステップＳ４１９：Ｎｏ）。これにより、便座部２００の温度を上昇させて、便座部２００に着水した除菌水を蒸発させ、便座部２００を乾かすことができる。なお、便座－ヒータ５１５の代わりに、送風装置５１３と温風ヒータ５１４とを駆動させ、温風により便座部２００を乾燥させてもよい。

所定時間が経過すると（ステップＳ４１９：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、便座ヒータ５１５をＯＦＦ（非通電状態）とする（ステップＳ４２０）。以上で、アフターミストモードが終了する。

図９は、実施形態に係る便座装置の手動ミストモードにおける動作を例示するフローチャートである。
使用者が手動操作部５００を操作すると（ステップＳ５０１：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、便蓋用モータ５１２を制御して便蓋３００を閉じ、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを反時計回り（ＣＣＷ）に高速回転させる（ステップＳ５０２）。その後、モータが目標回転数に到達する（ステップＳ５０３)、電磁弁４３１を開く（ステップＳ５０４）。電磁弁４３１が開くことで、ディスク４８１ｂへの給水が開始される。

制御装置４０５は、ディスク４８１ｂが高速回転した状態を所定時間、維持する（ステップＳ５０５：Ｎｏ）。これにより、ディスク４８１ｂ上の残水をディスク４８１ｂ上から排出することができる。このとき、例えばミストダンパ４８２は閉じているため、大便器８００内へミストは噴霧されない。

所定時間が経過すると（ステップＳ５０５：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、ノズルモータ４７６によりノズル４７３をボウル部８０１内へ進出させる。これに伴い、ミストダンパ４８２が開く（ステップＳ５０６）。

その後、制御装置４０５は、除菌装置４５０を制御して除菌水の生成を開始し、送風装置５１３を制御して大便器８００内への送風を開始する（ステップＳ５０７）。これにより、大便器８００内、便座部２００及び便蓋３００などへの、除菌水のミストの噴霧が開始する。制御装置４０５は、反時計回りに高速回転するディスク４８１ｂから除菌水のミストが噴霧される状態を所定時間（ｔ３）、維持する（ステップＳ５０８：Ｎｏ）。

所定時間（ｔ３）が経過すると（ステップＳ５０８：Ｙｅｓ）、電磁弁４３１を閉じ、（ステップＳ５０９）モータ停止、除菌水生成停止、送風停止を行う（ステップＳ５１０）。モータは制御停止後も惰性で回転を継続するので、回転数が低下するまで、静止時間（ｔ２）、維持する（ステップＳ５１１：Ｎｏ）。

静止時間（ｔ２）が経過すると（ステップＳ５１１：Ｙｅｓ）、噴霧装置４８１のモータ４８１ａ及びディスク４８１ｂを時計回り（ＣＷ）に高速回転させる。（ステップＳ５１２）その後、モータが目標回転数に到達する（ステップＳ５１３）と、電磁弁４３１を開く（ステップＳ５１４）。電磁弁４３１が開くことで、ディスク４８１ｂへの給水が開始される。

その後、制御装置４０５は、除菌装置４５０を制御して除菌水の生成を開始し、送風装置５１３を制御して大便器８００内への送風を開始する（ステップＳ５１５）。これにより、大便器８００内、便座部２００及び便蓋３００などへの、除菌水のミストの噴霧が開始する。制御装置４０５は、時計回りに高速回転するディスク４８１ｂから除菌水のミストが噴霧される状態を所定時間（ｔ４）、維持する（ステップＳ５１６：Ｎｏ）。

所定時間（ｔ４）が経過すると（ステップＳ５１６：Ｙｅｓ）、制御装置４０５は、電磁弁４３１を閉じ（ステップＳ５１７）、モータ４８１ａ及びディスク４８１ｂの回転を停止し、ノズルモータ４７６によりノズル４７３をケーシング４００内へ後退させる。これに伴い、ミストダンパ４８２が閉じる。（ステップＳ５１８）以上で、手動ミストモードが終了する。また、使用者は、手動ミストモード後に、トイレットペーパー等で便座部２００に着水した除菌水を適宜拭き取ることで、便座部２００を除菌することができる。

制御装置４０５は、手動ミストモードにおいて除菌水を噴霧する時間が、アフターミストモードにおいて除菌水を噴霧する時間よりも長くなるように、噴霧装置を制御する。例えば、図９に関して説明した所定時間（ｔ３）は、図８に関して説明した所定時間（ｔ１）よりも長い。これにより手動ミストモードにおいて便座部２００に着水する除菌水の量を、アフターミストモードにおいて便座部２００に着水する除菌水の量よりも多くすることができる。これにより、手動ミストモードにおいてトイレットペーパー等に除菌水をしっかりと染み込ませ、除菌性能を向上させることができる。また、拭き取り時に樹脂製の便座部２００が傷つくことを抑制することができる。

例えば、除菌水を噴霧する時間を変えずに、除菌水のミストの粒径を変えることで、除菌水の着水量を変える方法も考えられる。例えば、粒径を大きくすることで、除菌水の着水量を多くすることができる。しかし、粒径を大きくすると、除菌水が上昇気流に乗りにくくなってしまう恐れがある。これに対して、除菌水を噴霧する時間を変えることで、粒径を変えずに便座部２００等に着水する除菌水の量を多くすることができる。このため、除菌水のミストを上昇気流に乗せやすくすることができ、便座部２００等の広い範囲に除菌水を拡散させることができる。

また、制御装置４０５は、アフターミストモードの実行中または実行後に、便座部２００を乾燥させる乾燥装置を第１乾燥力で作動させる。例えば、図８では、制御装置４０５は、ステップＳ４１７、Ｓ４１８において、便座ヒータ５１５を第１加熱量（第１電力（ワット））で作動させている。
一方、制御装置４０５は、手動ミストモードの実行中または実行後には、乾燥装置を作動させない、または、第１乾燥力よりも小さい第２乾燥力で作動させる。例えば、図９では、制御装置４０５は、便座ヒータ５１５を作動させていない。または、制御装置４０５は、便座ヒータ５１５を、第１加熱量よりも小さい第２加熱量（第２電力（ワット））で作動させてもよい。例えば、便座ヒータ５１５によって、アフターミストモードの実行中または実行後における座面の温度は、手動ミストモードの実行中または実行後における座面の温度よりも高くなる。

このように、アフターミストモードの実行中または実行後には、比較的大きな第１乾燥力（例えば第１電力）で乾燥装置が便座部２００を乾かすことで、便座部２００に着水した除菌水の乾燥時間を短くすることができる。一方、手動ミストモードの実行中または実行後には、乾燥装置が作動しない、または、比較的小さな第２乾燥力（例えば第２電力）で便座部２００を乾かすことで、便座部２００に着水した除菌水の乾燥時間を長くすることができる。これにより、便座部２００に着水した除菌水をトイレットペーパーで拭き取る前に、便座部２００が乾くことを防止することができる。

図１０は、本実施形態の動作と電流と粒径の関係を例示した図である。本発明によれば、モータと電磁弁を同時に始動させた場合(図１１)に比べて、負荷電流の合計値を小さくできる。また、大径のミストが便器の内部や便座に噴霧されて、便器内や便座にミストが滞留しにくくなることを抑制できる。

以上、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明はこれらの記述に限定されるものではない。前述の実施の形態に関して、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。例えば、大便器、便座装置などが備える各要素の形状、寸法、材質、配置、設置形態などは、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。
また、前述した各実施の形態が備える各要素は、技術的に可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。

１０ トイレ装置、 １００ 便座装置、 １１０～１１３ 流路、 ２００ 便座部、 ２００ａ 開口、 ２０３ 表面、 ２０３Ｆ 先端領域、 ２０３Ｌ 側方領域、 ２０３Ｒ 側方領域、 ２０４ 裏面、 ２０４Ｆ 先端領域、 ２０４Ｌ 側方領域、 ２０４Ｒ 側方領域、 ３００ 便蓋、 ４００ ケーシング、 ４０２ 検知センサ、 ４０３ 人体検知センサ、 ４０４ 着座検知センサ、 ４０５ 制御装置、 ４３１ 電磁弁、 ４５０ 除菌装置、 ４７２ 切替弁、 ４７３ ノズル、 ４７４ 吐水口、 ４７６ ノズルモータ、 ４７８ ノズル洗浄室、 ４７９ ノズルダンパ、 ４８１ 噴霧装置、 ４８１ａ モータ、 ４８１ｂ ディスク、 ４８１ｃ 給水口、 ４８２ ミストダンパ、 ５００ 手動操作部、 ５１１ 便座用モータ、 ５１２ 便蓋用モータ、 ５１３ 送風装置、 ５１４ 温風ヒータ、 ５１５ 便座ヒータ、 ５１６ 送風ダンパ、 ５１６ａ 開口、 ６００ 測定装置、 ６０１ 発光部、 ６０２ 受光部、 ８００ 大便器、 ８０１ ボウル部、 ８０１Ｆ 先端領域、 ８０１Ｌ 側方領域、 ８０１Ｒ 側方領域、 ８０１ｗ 溜水、 ８０５ リム部、 ８０６ 上面、 ８０６Ｆ 先端領域、 ８０６Ｌ 側方領域、 ８０６Ｒ 側方領域、 ８０７ 内壁面、 ８０７Ｆ 先端領域、 ８０７Ｌ 側方領域、 ８０７Ｒ 側方領域、 ８１１ ボウル給水口、 Ｍ、Ｍ３ ミスト、 Ｍ１ 第１ミスト、 Ｍ２ 第２ミスト、 Ｓ スリット、 Ｔ１ 所定時間、 Ｔ２ 所定時間、 Ｕ１ 第１上昇気流、 Ｕ２ 第２上昇気流

Claims (3)

1. 便器のボウル部と便座部とのうち少なくとも一方に向けてミストを噴霧する噴霧装置と、
   前記噴霧装置を制御する制御装置と、を備え、
   前記噴霧装置は、モータと、前記モータにより回転駆動する回転体と、前記回転体に水を供給するバルブと、を有し、
   前記制御装置は、
   前記モータにより前記回転体を回転駆動した状態で前記バルブを開いて前記回転体に水を供給することによってミストを噴霧するミストモードを実行可能であり、
   前記ミストモードの起動時において、前記モータの回転動作の開始後に、前記バルブが開くことを特徴とするトイレ装置。
2. 前記制御装置は、前記ミストモードの起動時において、前記モータの起動電流がピーク値を超えた後に、前記バルブが開くことを特徴とする請求項１記載のトイレ装置。
3. 前記制御装置は、前記ミストモードの起動時において、前記モータの起動電流が定常状態になった以降に、前記バルブが開くことを特徴とする請求項２記載のトイレ装置。