JP2020167263A - 半導体装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
10 半導体基板
11、12、13半導体領域
15、16 絶縁領域
20 トレンチ型キャパシタ
21 電極部
22 絶縁膜
23 トレンチ
30 半導体領域
Claims (7)
- 半導体基板に設けられたフォトダイオードを構成する第1の半導体領域と、
前記半導体基板に設けられたトレンチ型キャパシタと、
前記半導体基板に、前記トレンチ型キャパシタの周囲を囲み、前記半導体基板の不純物濃度よりも高い不純物濃度を有する第2の半導体領域と、
を含む半導体装置。 - 前記半導体基板はP型の導電型を有し、
前記第1の半導体領域は、N型の導電型を有し、
前記第2の半導体領域は、P型の導電型を有する
請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第2の半導体領域に含まれる不純物はボロンである
請求項2に記載の半導体装置。 - 半導体基板にフォトダイオードを構成する第1の半導体領域を形成する工程と、
前記半導体基板にトレンチ型キャパシタを形成する工程と、
前記半導体基板に、前記トレンチ型キャパシタの周囲を囲み、前記半導体基板の不純物濃度よりも高い不純物濃度を有する第2の半導体領域を形成する工程と、
を含む半導体装置の製造方法。 - 前記半導体基板はP型の導電型を有し、
前記第1の半導体領域は、N型の導電型を有し、
前記第2の半導体領域は、P型の導電型を有する
請求項4に記載の製造方法。 - 前記第2の半導体領域に含まれる不純物のドーズ量は、5×1011cm−2以上2×1012cm−2以下である
請求項5に記載の製造方法。 - 前記不純物はボロンである
請求項6に記載の製造方法。
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