JP2020160401A - 露光装置の検査方法及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
Description
複数の空間光変調素子を備える露光ヘッド及びステージの相対位置を変化させて主走査及び副走査を行うことで複数の空間光変調素子を用いて露光を行う露光装置の検査方法であって、
ステージに検査用の被露光体を配置する配置工程と、
互いに平行関係にある対向辺をそれぞれ有する一対の検査用パターンのいずれか一方を、複数の空間光変調素子のうちの一の空間光変調素子を用いて被露光体に露光するとともに、一対の検査用パターンのいずれか他方を、別の空間光変調素子を用いて被露光体に露光することを含む露光工程と、
露光された一対の検査用パターンを可視化する可視化工程と、
一対の検査用パターンの一対の対向辺の平行度を確認することを含む確認工程とを備える
ものである。
露光工程は、一対の対向辺間の少なくとも一部に隙間が形成されるように一対の対向辺を近接させて一対の検査用パターンを露光することを含む
との構成を採用することができる。
露光工程は、一対の対向辺の近接度合を異ならせて複数の一対の検査用パターンを露光することを含む
との構成を採用することができる。
露光工程は、一対の対向辺間の隙間の一端側及び他端側の少なくとも一方に一対のスケールパターンを露光することを含み、
確認工程は、スケールパターンを用いて読み取った一対の対向辺間の隙間の数値情報に基づき、一対の対向辺間の角度を求めることを含む
との構成を採用することができる。
一の空間光変調素子と別の空間光変調素子は、互いに隣り合う領域に露光を行う関係にある二つの空間光変調素子である
との構成を採用することができる。
空間光変調素子は、光源から照射された光を反射して出力するデジタルマイクロミラーデバイス(DMD)であり、
一対の検査用パターンは、DMDの面露光によるものである
との構成を採用することができる。
上記検査方法のスケールパターンを露光する
ものである。
ステージ11に検査用の被露光材12を配置する配置工程と、
互いに平行関係にある対向辺をそれぞれ有する一対の検査用パターンのいずれか一方を、複数のDMDのうちの一のDMDを用いて被露光材12に露光するとともに、一対の検査用パターンのいずれか他方を、別のDMDを用いて被露光体12に露光することを含む露光工程と、
被露光材12を現像して一対の検査用パターンを可視化する可視化工程と、
一対の検査用パターンの一対の対向辺の平行度を確認することを含む確認工程とを備える。
Claims (7)
- 複数の空間光変調素子を備える露光ヘッド及びステージの相対位置を変化させて主走査及び副走査を行うことで複数の空間光変調素子を用いて露光を行う露光装置の検査方法であって、
ステージに検査用の被露光体を配置する配置工程と、
互いに平行関係にある対向辺をそれぞれ有する一対の検査用パターンのいずれか一方を、複数の空間光変調素子のうちの一の空間光変調素子を用いて被露光体に露光するとともに、一対の検査用パターンのいずれか他方を、別の空間光変調素子を用いて被露光体に露光することを含む露光工程と、
露光された一対の検査用パターンを可視化する可視化工程と、
一対の検査用パターンの一対の対向辺の平行度を確認することを含む確認工程とを備える
露光装置の検査方法。 - 露光工程は、一対の対向辺間の少なくとも一部に隙間が形成されるように一対の対向辺を近接させて一対の検査用パターンを露光することを含む
請求項1に記載の露光装置の検査方法。 - 露光工程は、一対の対向辺の近接度合を異ならせて複数の一対の検査用パターンを露光することを含む
請求項2に記載の露光装置の検査方法。 - 露光工程は、一対の対向辺間の隙間の一端側及び他端側の少なくとも一方にスケールパターンを露光することを含み、
確認工程は、スケールパターンを用いて読み取った一対の対向辺間の隙間の数値情報に基づき、一対の対向辺間の角度を求めることを含む
請求項2又は請求項3に記載の露光装置の検査方法。 - 一の空間光変調素子と別の空間光変調素子は、互いに隣り合う領域に露光を行う関係にある二つの空間光変調素子である
請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の露光装置の検査方法。 - 空間光変調素子は、光源から照射された光を反射して出力するデジタルマイクロミラーデバイス(DMD)であり、
一対の検査用パターンは、DMDの面露光によるものである
請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の露光装置の検査方法。 - 請求項4、又は請求項4に従属する請求項5又は請求項6に記載の検査方法のスケールパターンを露光する露光装置。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02174110A (ja) * | 1988-12-26 | 1990-07-05 | Fujitsu Ltd | 露光方法 |
JPH08107052A (ja) * | 1994-10-03 | 1996-04-23 | Oki Electric Ind Co Ltd | 位置ずれ評価パターン |
JP2004226520A (ja) * | 2003-01-21 | 2004-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置及び露光装置の調整方法 |
JP2008009404A (ja) * | 2006-05-30 | 2008-01-17 | Fujifilm Corp | パターン形成材料、並びに、パターン形成装置、及びパターン形成方法 |
JP2009086015A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Hitachi Via Mechanics Ltd | マスクレス露光装置 |
JP2009260162A (ja) * | 2008-04-21 | 2009-11-05 | Nikon Corp | 露光装置の露光精度評価方法、露光装置の露光精度評価プログラム、および露光装置 |
US20160091796A1 (en) * | 2014-09-29 | 2016-03-31 | Samsung Display Co., Ltd. | Maskless exposure device, maskless exposure method and display substrate manufactured by the maskless exposure device and the maskless exposure method |
-
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02174110A (ja) * | 1988-12-26 | 1990-07-05 | Fujitsu Ltd | 露光方法 |
JPH08107052A (ja) * | 1994-10-03 | 1996-04-23 | Oki Electric Ind Co Ltd | 位置ずれ評価パターン |
JP2004226520A (ja) * | 2003-01-21 | 2004-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置及び露光装置の調整方法 |
JP2008009404A (ja) * | 2006-05-30 | 2008-01-17 | Fujifilm Corp | パターン形成材料、並びに、パターン形成装置、及びパターン形成方法 |
JP2009086015A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Hitachi Via Mechanics Ltd | マスクレス露光装置 |
JP2009260162A (ja) * | 2008-04-21 | 2009-11-05 | Nikon Corp | 露光装置の露光精度評価方法、露光装置の露光精度評価プログラム、および露光装置 |
US20160091796A1 (en) * | 2014-09-29 | 2016-03-31 | Samsung Display Co., Ltd. | Maskless exposure device, maskless exposure method and display substrate manufactured by the maskless exposure device and the maskless exposure method |
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