JP2020154072A - エレクトロクロミック装置、並びに、それを有するデバイス、窓、プロジェクションスクリーン、加飾材及び服飾材 - Google Patents

Abstract

【課題】発消色を繰り返した後にも高い消色透過率を維持するエレクトロクミック装置の提供。【解決手段】第１の電極および第２の電極と、第１の電極と第２の電極との間に設けられた電解質と、第１の電極と電解質との間に設けられた、酸化型エレクトロクロミック化合物含む第１のエレクトロクロミック層と、第２の電極と電解質との間に設けられた、還元型エレクトロクロミック化合物と金属酸化物とを含む第２のエレクトロクロミック層と、を有し、第１の電極及び第２の電極のうちの少なくともいずれか一方が透明であるエレクトロクロミック素子３０と、エレクトロクロミック素子３０の第１電極と第２電極との間に、エレクトロクロミック素子３０を発色させる発色電圧と、発色電圧と同極性で前記発色電圧より絶対値が大きい補正電圧と、を印加する機能を有する、印加電圧制御手段４０とを備えたエレクトロクロミック装置。【選択図】図２

Description

本発明は、エレクトロクロミック装置、並びに、それを有するデバイス、窓、プロジェクションスクリーン、加飾材及び服飾材に関する。

電圧を印加することで、可逆的に酸化還元反応が起こり、可逆的に色が変化する現象をエレクトロクロミズムという。エレクトロクロミズムは、一般に対向する２つの電極間に形成され、イオン伝導可能な電解質層が電極間に満たされた構成で酸化還元反応する。対向する２つの電極のうちの一方の近傍で還元反応が生じるときには、他方の電極の近傍では、逆反応である酸化反応が生じる。

エレクトロクロミズムを利用したエレクトロクロミック素子において、光の透過率を制御する調光デバイスを得ようとする場合や、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、及びイエロー（Ｙ）の３層の発色層を積層させた構成のデバイスを構築する場合には、中性状態が透明状態である還元型エレクトロクロミック材料や、中性状態が透明である酸化型エレクトロクロミック材料により構成されていることが重要である。中でも、発色効率が高く、置換基によって様々な色を持たせることができる有機エレクトロクロミック材料が適している。

エレクトロクロミック材料の応用として、電気で透過率を制御する調光デバイスや、眼鏡用レンズへの応用に向けて開発が行われてきた（特許文献１参照）
このような調光デバイスにおいては、透明状態（消色状態）と発色状態において高いコントラスト比を実現することが重要である。そのためには、一対の電極のうち片方には酸化型エレクトロクロミック材料を含む層を形成し、他方には還元型エレクトロクロミック材料を含む層を形成した構成にすることが好ましい。素子に電流を流した際に、酸化型エレクトロクロミック材料と還元型エレクトロクロミック材料が共に発色することで、より濃い発色濃度が得られるからである。

このような構造にすることによって、コントラストが向上できることに加え、エレクトロクロミック材料の拡散を抑止できるため、電極からエレクトロクロミック材料に注入された電荷が保持されるメモリー性を発現することが可能となる。エレクトロクロミック材料に保持される電荷は主に外部回路からの電荷の注入、取り出しによって制御される。これはいわゆる二次電池の充電・放電現象と同じ動作モデルである。特許文献２に例示される発明のような、自己消色型のエレクトロクロミック素子と比較して、メモリー性を有するエレクトロクロミック素子の利点は、消費電力が大幅に低減できることである。特に携帯型の用途、バッテリー駆動が必要となる用途においては、消費電力は重要な問題である。

以上の点から、酸化型エレクトロクロミック層および還元型エレクトロクロミック層を電極に各々形成したエレクトロクロミック要素部材を積層することによって、低消費電力で透過率のコントラストが高く、色鮮やかな発色を呈するエレクトロクロミック素子が提案されている。

これまでのエレクトロクロミック素子は、繰り返し動作／熱／光照射などにより本来の消色状態に変化することができなくなる場合がある。この要因の一つとして、複数ある機能層の電荷バランスが本来の正常な電荷バランスから偏ってしまうことが考えられる。電荷バランスが偏ったエレクトロクロミック素子は、非動作（消色状態）かつ常温暗所保管により、経時で本来の電荷バランスに戻っていくが、戻るまでの時間が長いという課題があった。

本発明は、繰り返し動作／熱／光照射などにより本来の消色状態に変化することができなくなった状態から、本来の消色状態に変化することが可能となるエレクトロクロミック装置を提供することを目的とする。

本発明に係るエレクトロクロミック装置は以下の構成を備えている。
エレクトロクロミック素子と該エレクトロクロミック素子に印加する電圧を制御する印加電圧制御手段とを備えたエレクトロクロミック装置であって、
前記エレクトロクロミック素子は、
第１の電極および第２の電極と、
前記第１の電極と前記第２の電極との間に設けられた電解質と、
前記第１の電極と前記電解質との間に設けられた、酸化型エレクトロクロミック化合物含む第１のエレクトロクロミック層と、
前記第２の電極と前記電解質との間に設けられた、還元型エレクトロクロミック化合物と金属酸化物とを含む第２のエレクトロクロミック層と、
を有し、前記第１の電極及び前記第２の電極のうちの少なくともいずれか一方が透明であり、
前記印加電圧制御手段は、前記エレクトロクロミック素子の前記第１電極と前記第２電極との間に、前記エレクトロクロミック素子を発色させる発色電圧と、前記発色電圧と同極性で前記発色電圧より絶対値が大きい補正電圧と、を印加する機能を有する、
エレクトロクロミック装置。

本発明によれば、繰り返し動作／熱／光照射などにより本来の消色状態に変化することができなくなった状態から、本来の消色状態に変化することが可能となるエレクトロクロミック装置を提供することができる。

図１は、本実施の形態に係るエレクトロクロミック素子を例示する断面図である。 図２は、エレクトロクロミック装置システムの例を示す図である。 図３は、図２に示したエレクトロクロミック装置システムのシーケンス例を示す図である。 図４は、図３に示したシーケンス例における電圧の変化を示す図である。 図５は、エレクトロクロミック装置システムの他の例を示す図である 図６は、図５に示したエレクトロクロミック装置システムのシーケンス例を示す図である。 図７は、図６に示したシーケンス例における電圧の変化を示す図である。 図８は、本発明の実施形態に係るエレクトロクロミック装置を例示する断面図である。 図９は、電圧を変化させたときの光の透過率と時間との関係を示す図である。

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態の説明を行う。なお、各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。

本発明は下記（１）に記載のエレクトロクロミック装置に係るものであるが、下記（２）〜（２０）を発明の実施形態として含むのでこれらの実施形態についても合わせて説明する。
（１）エレクトロクロミック素子と該エレクトロクロミック素子に印加する電圧を制御する印加電圧制御手段とを備えたエレクトロクロミック装置であって、
前記エレクトロクロミック素子は、
第１の電極および第２の電極と、
前記第１の電極と前記第２の電極との間に設けられた電解質と、
前記第１の電極と前記電解質との間に設けられた、酸化型エレクトロクロミック化合物を含む第１のエレクトロクロミック層と、
前記第２の電極と前記電解質との間に設けられた、還元型エレクトロクロミック化合物と金属酸化物とを含む第２のエレクトロクロミック層と、
を有し、前記第１の電極及び前記第２の電極のうちの少なくともいずれか一方が透明であり、
前記印加電圧制御手段は、前記エレクトロクロミック素子の前記第１電極と前記第２電極との間に、前記エレクトロクロミック素子を発色させる発色電圧と、前記発色電圧と同極性で前記発色電圧より絶対値が大きい補正電圧と、を印加する機能を有する、
エレクトロクロミック装置。
（２）前記印加電圧制御手段は前記補正電圧の値を任意に変更する機能を有する上記（１）に記載のエレクトロクロミック装置。
（３）前記エレクトロクロミック素子の消色状態の透過率を測定する透過率測定器を有する、上記（１）又は（２）に記載のエレクトロクロミック装置。
（４）前記透過率測定器による透過率の測定値が所定の設定値を下回った時に、該設定値を下回った旨の判定を行う機能を有する、上記（３）に記載のエレクトロクロミック装置。
（５）前記判定を手動で実施する機能を有する、上記（４）に記載のエレクトロクロミック装置。
（６）前記判定を自動で実施する機能を有する、上記（４）に記載のエレクトロクロミック装置。
（７）前記透過率測定器が前記判定を行い、判定結果を通知する機能を有する、上記（５）又は（６）に記載のエレクトロクロミック装置。
（８）前記印加電圧制御手段が前記判定を行い、判定結果を通知する機能を有する上記（５）又は（６）に記載のエレクトロクロミック装置。
（９）前記判定の結果に基づいて、自動で前記補正電圧を印加する機能を有する、上記（４）〜（８）のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置。
（１０）前記判定の結果に基づいて、手動で前記補正電圧を印加する機能を有する、上記（４）〜（８）のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置。
（１１）前記判定の結果に基づいて補正電圧の値を調整する機能を有する、上記（４）〜（１０）のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置。
（１２）上記（１）〜（１１）のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、グラス型デバイス。
（１３）上記（１）〜（１１）のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、光学レンズデバイス。
（１４）上記（１）〜（１１）のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、光学フィルターデバイス。
（１５）上記（１）〜（１１）のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、表示デバイス。
（１６）上記（１）〜（１１）のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、窓。
（１７）上記（１）〜（１１）のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、ミラーデバイス。
（１８）上記（１）〜（１１）のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、プロジェクションスクリーン。
（１９）上記（１）〜（１１）のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、加飾材。
（２０）上記（１）〜（１１）のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、服飾材。

本発明のエレクトロクロミック装置は、エレクトロクロミック素子と該エレクトロクロミック素子に印加する電圧を制御する印加電圧制御手段とを備えており、また、必要に応じてエレクトロクロミック素子の消色状態の透過率を測定する透過率測定器を備える。
以下、エレクトロクロミック素子、印加電圧制御手段及び透過率測定器のそれぞれについて説明する。

［エレクトロクロミック素子］
本発明におけるエレクトロクロミック素子の実施形態を図１に基づいて説明する。
図１に示すエレクトロクロミック素子は上面に第１の支持体１０を備え、下面に第２の支持体１４を備えている。
エレクトロクロミック素子は第１の電極１１および第２の電極１３と、前記第１の電極１１と前記第２の電極１３との間に設けられた電解質１５と、前記第１の電極１１と前記電解質１５との間に設けられた、酸化型エレクトロクロミック化合物含む第１のエレクトロクロミック層２１と、前記第２の電極１３と前記電解質１５との間に設けられた、還元型エレクトロクロミック化合物と金属酸化物とを含む第２のエレクトロクロミック層２２とを有している。
なお、図１に示すエレクトロクロミック素子においては、第１の電極１１は第１の支持体１０によって支持され、第２の電極１３は第２の支持体１４によって支持されている。
また、前記第１の電極１１及び前記第２の電極１３のうちの少なくともいずれか一方が透明である。
なお、以下に示す図では、第１の支持体１０及び第２の支持体１４の記載を省略する場合がある。

前記第１のエレクトロクロミック層は、酸化反応によって着色を呈する酸化型エレクトロクロミック化合物を含む。酸化型エレクトロクロミック化合物としては、限定されないが、トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物と、該トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物とは異なる他のラジカル重合性化合物を含むエレクトロクロミック組成物を架橋した架橋物からなることが、コントラスト、繰返し耐久性などの点から好ましい。

前記第２のエレクトロクロミック層は、還元反応によって着色を呈する還元型エレクトロクロミック化合物、及び金属酸化物を含む。 還元型エレクトロクロミック化合物としては、限定されないが、ビオロゲン系化合物、ジピリジン系化合物、などが挙げられる。 還元型エレクトロクロミック化合物については、吸着基を介して、金属酸化物に担持された構造であることが、応答性やコントラスト、繰返し耐久性などの点から好ましい。
これらの材料の詳細については、後述する。

以下、エレクトロクロミック素子の各構成要素について詳述する。
（第１の電極、第２の電極）
第１の電極及び第２の電極の材料としては特に制限されず、通常用いられる導電体を用いることができる。前述のように、第1の電極と第２の電極のうち少なくとも一方は透明電極であるが、透明電極については導電性を有する透明材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択できる。例えば、スズをドープした酸化インジウム（以下、「ＩＴＯ」と称する場合がある）、フッ素をドープした酸化スズ（以下、「ＦＴＯ」と称する場合がある）、アンチモンをドープした酸化スズ（以下、「ＡＴＯ」と称する場合がある）、酸化亜鉛等の無機材料等を用いることができる。これらの中でも、ＩｎＳｎＯ、ＧａＺｎＯ、ＳｎＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯが好ましい。

また、前記第１の電極及び第２の電極の一方を透明電極とし、他方を不透明な電極材料として鏡面反射する層を用いることで、反射率を制御可能な鏡を得ることが可能となる。鏡面反射するための電極層として、Ａｌ，Ｐｔ，Ｍｏ，Ａｇ，Ｎｉなどの各種金属材料が好適に用いることができる。

更に、透明性を有するカーボンナノチューブや、他のＡｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ等の高導電性の非透過性材料等を微細なネットワーク状に形成して、透明度を保持したまま、導電性を改善した電極を用いてもよい。第１の電極及び第２の電極の夫々の厚みは、第１のエレクトロクロミック層及び第２のエレクトロクロミック層の酸化還元反応に必要な電気抵抗値が得られるように適宜調整できる。
例えば、第１の電極及び第２の電極の材料としてＩＴＯを用いた場合、第１の電極及び第２の電極の夫々の平均厚みは、５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下程度とすることが好ましい。

第１の電極及び第２の電極の夫々の作製方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等を用いることができる。また、第１の電極及び第２の電極の夫々の材料が塗布形成できる方法であれば良く、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法を用いることができる。

（第1のエレクトロクロミック層）
前記第1のエレクトロクロミック層に用いる、酸化型エレクトロクロミック化合物としては、トリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物と、該トリアリールアミンを有するラジカル重合性化合物とは異なる他のラジカル重合性化合物を含む第１のエレクトロクロミック組成物を架橋した架橋物であることが、重合物の溶解性及び耐久性の点からより好ましい。

ここで、第１のエレクトロクロミック層の態様としては、前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物と、該トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物とは異なる他のラジカル重合性化合物を含む第１のエレクトロクロミック組成物を架橋した架橋物からなる第１のエレクトロクロミック層を前記第１の電極上に積層した態様、前記第１のエレクトロクロミック層を前記第１の電極上に２層以上積層した態様、前記第１のエレクトロクロミック層を前記第１の電極上の一部に積層した態様、などが挙げられる。

＜＜第１のエレクトロクロミック組成物＞＞
前記第１のエレクトロクロミック組成物は、トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物を含有し、前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物以外の他のラジカル重合性化合物を含有することが好ましく、重合開始剤を含有することがより好ましく、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。

−トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物−
前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物は、第１の電極の表面において酸化還元反応を有するエレクトロクロミック機能を付与するために重要である。
前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物としては、下記一般式（１）で表される化合物が挙げられる。
ただし、ｎは１または２であり、ｎ＝２のときにはｍは０であり、ｎ＝１のときｍは０又は１である。Ａ及びＢの少なくとも１つはラジカル重合性官能基を有する。前記Ａは下記一般式（２）で示される構造であり、Ｒ_１からＲ_１５のいずれかの位置で前記Ｂと結合している。前記Ｂは下記一般式（３）で示される構造であり、Ｒ_１６からＲ_２１のいずれかの位置で前記Ａと結合している。
ただし、Ｒ_１からＲ_２１は、いずれも一価の有機基であり、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、前記一価の有機基のうち少なくとも１つはラジカル重合性官能基である。

−一価の有機基−
前記一般式（２）及び前記一般式（３）における前記一価の有機基としては、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアルキルカルボニル基、置換基を有していてもよいアリールカルボニル基、アミド基、置換基を有していてもよいモノアルキルアミノカルボニル基、置換基を有していてもよいジアルキルアミノカルボニル基、置換基を有していてもよいモノアリールアミノカルボニル基、置換基を有していてもよいジアリールアミノカルボニル基、スルホン酸基、置換基を有していてもよいアルコキシスルホニル基、置換基を有していてもよいアリールオキシスルホニル基、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基、スルホンアミド基、置換基を有していてもよいモノアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいジアルキルアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいモノアリールアミノスルホニル基、置換基を有していてもよいジアリールアミノスルホニル基、アミノ基、置換基を有していてもよいモノアルキルアミノ基、置換基を有していてもよいジアルキルアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいアリールチオ基、置換基を有していてもよい複素環基などが挙げられる。

これらの中でも、安定動作及び光耐久性の点から、アルキル基、アルコキシル基、水素原子、アリール基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アルケニル基、アルキニル基が特に好ましい。

前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられる。
前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
前記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などが挙げられる。
前記アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基などが挙げられる。
前記複素環基としては、例えば、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、オキサジアゾール、チアジアゾールなどが挙げられる。

前記置換基に更に置換される置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基などが挙げられる。

−ラジカル重合性官能基−
前記ラジカル重合性官能基とは、炭素−炭素２重結合を有し、ラジカル重合可能な基であればいずれでもよい。
前記ラジカル重合性官能基としては、例えば、下記に示す１−置換エチレン官能基、１，１−置換エチレン官能基等が挙げられる。

（１）１−置換エチレン官能基としては、例えば、下記一般式（ｉ）で表される官能基が挙げられる。
ただし、前記一般式（ｉ）中、Ｘ1は、単結合、置換基を有してもよいアリーレン基、置換基を有してもよいアルケニレン基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＣＯＮ（Ｒ_１００）−基〔Ｒ_１００は、水素、アルキル基、アラルキル基、アリール基を表す。〕、又は−Ｓ−基を表す。

前記一般式（ｉ）のアリーレン基としては、例えば、置換基を有してもよいフェニレン基、ナフチレン基などが挙げられる。
前記アルケニレン基としては、例えば、エテニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基などが挙げられる。
前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基などが挙げられる。
前記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基などが挙げられる。
前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。

前記一般式（ｉ）で表されるラジカル重合性官能基の具体例としては、ビニル基、スチリル基、２−メチル−１，３−ブタジエニル基、ビニルカルボニル基、アクリロイル基、アクリロイルオキシ基、アクリロイルアミド基、ビニルチオエーテル基などが挙げられる。

（２）１，１−置換エチレン官能基としては、例えば、下記一般式（ii）で表される官能基が挙げられる。
ただし、前記一般式（ii）中、Ｙは、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、−ＣＯＯＲ₁₀₁基〔Ｒ₁₀₁は、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又はＣＯＮＲ₁₀₂Ｒ₁₀₃（Ｒ₁₀₂及びＲ₁₀₃は、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表し、互いに同一又は異なっていてもよい。）〕を表す。また、Ｘ₂は、前記一般式（ｉ）のＸ₁と同一の置換基及びアルキレン基を表す。ただし、Ｙ及びＸ₂の少なくともいずれか一方がオキシカルボニル基、シアノ基、アルケニレン基、芳香族環である。

前記一般式（ii）のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基などが挙げられる。
前記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基などが挙げられる。
前記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基などが挙げられる。

前記一般式（ii）で表されるラジカル重合性官能基の具体例としては、α−塩化アクリロイルオキシ基、メタクリロイル基、メタクリロイルオキシ基、α−シアノエチレン基、α−シアノアクリロイルオキシ基、α−シアノフェニレン基、メタクリロイルアミノ基などが挙げられる。

なお、これらＸ₁、Ｘ₂、Ｙについての置換基に更に置換される置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基などが挙げられる。

前記ラジカル重合性官能基の中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が特に好ましい。

前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物としては、以下の一般式（１−１）から（１−３）で表される化合物が好適に挙げられる。

前記一般式（１−１）から（１−３）中、Ｒ_２７からＲ_８９は、いずれも一価有機基であり、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、前記一価の有機基のうち少なくとも１つはラジカル重合性官能基である。
前記一価の有機基及び前記ラジカル重合性官能基としては、前記一般式（１）と同じものが挙げられる。

前記一般式１、及び前記一般式（１−１）から（１−３）で表される化合物の例示化合物としては、以下に示すものが挙げられる。前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物はこれらに限定されるものではない。

−他のラジカル重合性化合物−
前記他のラジカル重合性化合物は、前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物とは異なり、少なくとも１つのラジカル重合性官能基を有する化合物である。
前記他のラジカル重合性化合物としては、例えば、１官能のラジカル重合性化合物、２官能のラジカル重合性化合物、３官能以上のラジカル重合性化合物、機能性モノマー、ラジカル重合性オリゴマーなどが挙げられる。これらの中でも、２官能以上のラジカル重合性化合物が特に好ましい。
前記他のラジカル重合性化合物におけるラジカル重合性官能基としては、前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物におけるラジカル重合性官能基と同様であり、これらの中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が特に好ましい。

前記１官能のラジカル重合性化合物としては、例えば、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールモノアクリレート、メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、２−アクリロイルオキシエチルサクシネート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソアミルアクリレート、イソブチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、フェノキシテトラエチレングリコールアクリレート、セチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ステアリルアクリレート、スチレンモノマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記２官能のラジカル重合性化合物としては、例えば、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレートなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記３官能以上のラジカル重合性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＨＰＡ変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、グリセロールトリアクリレート、ＥＣＨ変性グリセロールトリアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート（ＤＴＭＰＴＡ）、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、２，２，５，５−テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレートなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
なお、上記において、ＥＯ変性はエチレンオキシ変性を指し、ＰＯ変性はプロピレンオキシ変性を指す。

前記機能性モノマーとしては、例えば、オクタフルオロペンチルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチルアクリレートなどのフッ素原子を置換したもの、特公平５−６０５０３号公報、特公平６−４５７７０号公報に記載のシロキサン繰り返し単位が２０〜７０のアクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、メタクリロイルポリジメチルシロキサンエチル、アクリロイルポリジメチルシロキサンプロピル、アクリロイルポリジメチルシロキサンブチル、ジアクリロイルポリジメチルシロキサンジエチルなどのポリシロキサン基を有するビニルモノマー、アクリレート及びメタクリレートなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記ラジカル重合性オリゴマーとしては、例えば、エポキシアクリレート系オリゴマー、ウレタンアクリレート系オリゴマー、ポリエステルアクリレート系オリゴマーなどが挙げられる。

前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物及び前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物とは異なる他のラジカル重合性化合物の少なくともいずれか一方がラジカル重合性官能基を２つ以上有していることが、架橋物を形成する点から好ましい。
前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物の含有量は、ラジカル重合性化合物の全量に対して、１０質量％以上１００質量％以下が好ましく、３０質量％以上９０質量％以下がより好ましい。
前記含有量が、１０質量％以上であると、第１のエレクトロクロミック層のエレクトロクロミック機能が充分に発現でき、加電圧による繰り返しの使用で耐久性が良好であり、発色感度が良好である。
前記含有量が、１００質量％でもエレクトロクロミック機能が可能であり、この場合、最も厚みに対する発色感度が高い。それに相反して電荷の授受に必要であるイオン液体との相溶性が低くなる場合があるため、加電圧による繰り返しの使用で耐久性の低下などによる電気特性の劣化が現れる。使用されるプロセスによって要求される電気特性が異なるため一概には言えないが、発色感度と繰り返し耐久性の両特性のバランスを考慮すると３０質量％以上９０質量％以下が特に好ましい。

＜＜重合開始剤＞＞
前記第１のエレクトロクロミック組成物は、前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物と、前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物とは異なる他のラジカル重合性化合物との架橋反応を効率よく進行させるため、必要に応じて重合開始剤を含有することが好ましい。
前記重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤などが挙げられるが、重合効率の観点から光重合開始剤が好ましい。

前記熱重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（パーオキシベンゾイル）ヘキシン−３、ジ−ｔ−ブチルベルオキサイド、ｔ−ブチルヒドロベルオキサイド、クメンヒドロベルオキサイド、ラウロイルパーオキサイド等の過酸化物系開始剤；アゾビスイソブチルニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビスイソブチルアミジン塩酸塩、４，４’−アゾビス−４−シアノ吉草酸等のアゾ系開始剤、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−２−モルフォリノ（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム等のアセトフェノン系又はケタール系光重合開始剤；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインエーテル系光重合開始剤；ベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンビフェニル、４−ベンゾイルフェニールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、１，４−ベンゾイルベンゼン等のベンゾフェノン系光重合開始剤；２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系光重合開始剤；などが挙げられる。

その他の光重合開始剤としては、例えばエチルアントラキノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシエステル、９，１０−フェナントレン、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
なお、光重合促進効果を有するものを単独又は前記光重合開始剤と併用して用いることもできる。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エチル、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、などが挙げられる。

前記重合開始剤の含有量は、前記ラジカル重合性化合物の全量１００質量部に対して、０．５質量部以上４０質量部以下が好ましく、１質量部以上２０質量部以下がより好ましい。

＜＜その他の成分＞＞
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、溶媒、可塑剤、レベリング剤、増感剤、分散剤、界面活性剤、酸化防止剤、フィラーなどが挙げられる。

＜第１のエレクトロクロミック層の形成方法＞
前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物と、前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物とは異なる他のラジカル重合性化合物とを含むエレクトロクロミック組成物を架橋した架橋物を含む第１のエレクトロクロミック層は、以下に示す第１のエレクトロクロミック層の形成方法により形成することができる。
前記第１のエレクトロクロミック層の形成方法は、塗布工程を含み、架橋工程を含むことが好ましく、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。

−塗布工程−
前記塗布工程は、前記第１の電極上に、トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物と、前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物とは異なる他のラジカル重合性化合物とを含むエレクトロクロミック組成物を塗布する工程である。

前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物、前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物とは異なる他のラジカル重合性化合物としては、前記説明したものを用いることができる。

前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物と、前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物とは異なる他のラジカル重合性化合物とを含有する塗布液を塗布する。塗布液は、必要に応じて溶媒により希釈して塗布する。
前記溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピルエーテル等のエーテル系溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ系溶媒、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
なお、前記溶媒による希釈率は、前記第１のエレクトロクロミック組成物の溶解性、塗工法、目的とするエレクトロクロミック層の厚みなどにより変わり、適宜選択することができる。
前記塗布は、例えば、浸漬塗工法、スプレーコート法、ビードコート法、リングコート法などにより行うことができる。

−架橋工程−
前記架橋工程は、塗布した第１のエレクトロクロミック組成物に対し加熱又は光エネルギーを付与して架橋する工程である。

前記第１の電極上に第１のエレクトロクロミック組成物を塗布後、外部からエネルギーを与え、硬化させて、第１のエレクトロクロミック層を形成する。
前記外部エネルギーとしては、例えば、熱、光、放射線などが挙げられる。
前記熱のエネルギーを加える方法としては、空気、窒素等の気体、蒸気、又は各種熱媒体、赤外線、電磁波を用い塗工表面側、あるいは支持体側から加熱することによって行われる。
前記加熱温度は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、６０℃以上１７０℃以下が、好ましい。

前記光のエネルギーとしては、主に紫外光（ＵＶ）に発光波長をもつ高圧水銀灯やメタルハライドランプなどのＵＶ照射光源が利用できるが、ラジカル重合性含有物や光重合開始剤の吸収波長に合わせ可視光光源の選択も可能である。
ＵＶの照射光量は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５ｍＷ／ｃｍ^２以上１５，０００ｍＷ／ｃｍ^２以下が好ましい。

前記第１のエレクトロクロミック層として、前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物と、前記トリアリールアミン構造を有するラジカル重合性化合物とは異なる他のラジカル重合性化合物とを含むエレクトロクロミック組成物を含む組成物を架橋した架橋物以外であるものとしては、プルシアンブルー型錯体、及び酸化ニッケルから選択される少なくとも１種が挙げられる。これらを用いた場合における前記第１のエレクトロクロミック層の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンレーティング法等を用いることができる。また、前記第１のエレクトロクロミック層の材料が塗布形成できるものであれば、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法を用いることができる。

前記第１のエレクトロクロミック層の平均厚みは、０．１μｍ以上３０μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１０μｍ以下がより好ましい。

（第２のエレクトロクロミック層）
前記第２のエレクトロクロミック層に用いる、還元型エレクトロクロミック化合物としては、例えば、アゾベンゼン系、アントラキノン系、ジアリールエテン系、ジヒドロプレン系、ジピリジン系、スチリル系、スチリルスピロピラン系、スピロオキサジン系、スピロチオピラン系、チオインジゴ系、テトラチアフルバレン系、テレフタル酸系、トリフェニルメタン系、トリフェニルアミン系、ナフトピラン系、ビオロゲン系、ピラゾリン系、フェナジン系、フェニレンジアミン系、フェノキサジン系、フェノチアジン系、フタロシアニン系、フルオラン系、フルギド系、ベンゾピラン系、メタロセン系等の低分子系有機エレクトロクロミック化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

これらの中でも、発消色電位が低く、良好な色値を示す点から、ビオロゲン系化合物、ジピリジン系化合物が好ましい。
前記ビオロゲン系化合物としては、例えば、特許第３９５５６４１号公報、特開２００７−１７１７８１号公報に記載の化合物などが挙げられる。

前記ジピリジン系化合物としては、例えば、特開２００７−１７１７８１号公報、特開２００８−１１６７１８号公報に記載の化合物などが挙げられる。
これらの中でも、良好な発色の色値を示す点から、下記一般式（４）で表されるジピリジン系化合物が好ましい。

前記一般式（４）において、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基、又はアリール基を表し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は、ＣＯＯＨ、ＰＯ（ＯＨ）_２、及びＳｉ（ＯＣ_ｋＨ_２ｋ＋１）_３（ただし、ｋは、１〜２０を表す）から選択される置換基を有する。
前記一般式（４）において、Ｘは１価のアニオンを表す。前記一価のアニオンとしては、カチオン部と安定に対をなすものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｂｒイオン（Ｂｒ⁻）、Ｃｌイオン（Ｃｌ⁻）、ＣｌＯ_４イオン（ＣｌＯ_４ ⁻）、ＰＦ_６イオン（ＰＦ_６ ⁻）、ＢＦ_４イオン（ＢＦ_４ ⁻）などが挙げられる。
前記一般式（４）において、ｎ、ｍ、及びｌは、０、１又は２を表す。Ａ、Ｂ、及びＣは、それぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、又は複素環基を表す。

前記第２のエレクトロクロミック層としては、金属酸化物粒子に有機エレクトロクロミック化合物を担持させた構成が好ましい。具体的には、電極表面に粒径５ｎｍ〜５０ｎｍ程度の金属酸化物微粒子を焼結し、その金属酸化物粒子の表面にホスホン酸やカルボキシル基、シラノール基等の極性基を有する有機エレクトロクロミック化合物を吸着させた構造である。
このような構造では、金属酸化物粒子の大きな表面効果を利用して、効率よく有機エレクトロクロミック化合物に電子が注入されるため、従来のエレクトロクロミック表示素子と比較して高速応答が可能となる。更に、金属酸化物粒子を用いることで表示層として透明な膜を形成することができるため、エレクトロクロミック色素の高い発色濃度を得ることができる。また、複数種類の有機エレクトロクロミック化合物を金属酸化物粒子に担持することもできる。

金属酸化物粒子の電荷を保持する特徴を利用することで、電荷バランスが偏ったエレクトロクロミック素子に対して補正電圧を印加した際に、本来の正常な電荷バランスへ戻すことができる。

前記金属酸化物粒子を構成する金属酸化物としては、例えば、酸化スズ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ホウ素、酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、酸化カルシウム、フェライト、酸化ハフニウム、酸化タングステン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、酸化バナジウム、アルミノケイ酸、リン酸カルシウム、アルミノシリケート等を主成分とする金属酸化物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、電気伝導性等の電気的特性や光学的性質等の物理的特性の点から、酸化スズ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化インジウム、酸化タングステンが特に好ましい。

前記金属酸化物粒子の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、エレクトロクロミック化合物を効率よく担持するために、単位体積当たりの表面積（以下比表面積）が大きい形状のものを用いることが好ましい。例えば、金属酸化物粒子が、ナノ粒子の集合体であるときは、大きな比表面積を有するため、より効率的にエレクトロクロミック化合物が担持され、発消色の表示コントラスト比が優れる。

前記第２のエレクトロクロミック層の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンレーティング法等を用いることができる。また、前記第２のエレクトロクロミック層の材料が塗布形成できるものであればよく、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法を用いることができる。

前記第２のエレクトロクロミック層の平均厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．２μｍ以上５．０μｍ以下が好ましい。前記平均厚みが、０．２μｍ以上であると、発色濃度が得られやすく、５．０μｍ以下であると着色によって視認性が低下しにくくなる。
前記第２のエレクトロクロミック層は真空製膜により形成することも可能であるが、生産性の点で粒子分散ペーストとして塗布形成することが好ましい。

（電解質）
前記電解質は、前記第１の電極と前記第２の電極との間に充填されている。前記電解質としては、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無機イオン塩、４級アンモニウム塩や酸類、アルカリ類の支持塩を用いることができ、具体的には、ＬｉＣｌＯ_４、ＬｉＢＦ_４、ＬｉＡｓＦ_６、ＬｉＰＦ_６、ＬｉＣＦ_３ＳＯ_３、ＬｉＣＦ_３ＣＯＯ、ＫＣｌ、ＮａＣｌＯ_３、ＮａＣｌ、ＮａＢＦ_４、ＮａＳＣＮ、ＫＢＦ_４、Ｍｇ（ＣｌＯ_４）_２、Ｍｇ（ＢＦ_４）_２などが挙げられる。

前記電解質の材料としては、イオン性液体を用いることもできる。これらの中でも、有機のイオン性液体は、室温を含む幅広い温度領域で液体を示す分子構造を有しているため、用いることが好ましい。
前記有機のイオン性液体の分子構造として、カチオン成分としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾール塩、Ｎ，Ｎ−メチルエチルイミダゾール塩、Ｎ，Ｎ−メチルプロピルイミダゾール塩等のイミダゾール誘導体；Ｎ，Ｎ−ジメチルピリジニウム塩、Ｎ，Ｎ−メチルプロピルピリジニウム塩等のピリジニウム誘導体；トリメチルプロピルアンモニウム塩、トリメチルヘキシルアンモニウム塩、トリエチルヘキシルアンモニウム塩等の脂肪族４級アンモニウム系などが挙げられる。
また、アニオン成分としては、大気中での安定性を考慮して、フッ素を含んだ化合物を用いることが好ましく、例えば、ＬｉＣｌＯ_４、ＬｉＢＦ_４、ＬｉＡｓＦ_６、ＬｉＰＦ_６、ＬｉＣＦ_３ＳＯ_３、ＬｉＣＦ_３ＣＯＯ、ＫＣｌ、ＮａＣｌＯ_３、ＮａＣｌ、ＮａＢＦ_４、ＮａＳＣＮ、ＫＢＦ_４、Ｍｇ（ＣｌＯ_４）_２、Ｍｇ（ＢＦ_４）_２などが挙げられる。
前記電解質の材料としては、前記カチオン成分と前記アニオン成分とを任意に組み合わせたイオン性液体を用いることが好ましい。
前記イオン性液体は、光重合性モノマー、オリゴマー、及び液晶材料のいずれかに直接溶解させてもよい。なお、溶解性が悪い場合は、少量の溶媒に溶解させて、該溶液を光重合性モノマー、オリゴマー、及び液晶材料のいずれかと混合して用いればよい。

前記溶媒としては、例えば、プロピレンカーボネート、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン、エチレンカーボネート、スルホラン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、１，２−ジメトキシエタン、１，２−エトキシメトキシエタン、ポリエチレングリコール、アルコール類、又はこれらの混合溶媒などが挙げられる。

前記電解質は低粘性の液体である必要はなく、ゲル状や高分子架橋型、液晶分散型などの様々な形態をとることが可能である。電解質はゲル状、固体状に形成することで、素子強度向上、信頼性向上などの利点が得られる。
固体化手法としては、電解質と溶媒をポリマー樹脂中に保持することが好ましい。これにより高いイオン伝導度と固体強度が得られるためである。
更に、前記ポリマー樹脂としては光硬化可能な樹脂が好ましい。熱重合や溶剤を蒸発させることにより薄膜化する方法に比べて、低温かつ短時間でエレクトロクロミックセルを製造できるためである。

前記電解質からなる電解質層の平均厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００ｎｍ以上１００μｍ以下が好ましい。

（その他の部材）
前記その他の部材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、絶縁性多孔質層、封止材などが挙げられる。

［印加電圧制御手段］
本発明における印加電圧制御手段４０は図２に示すように、エレクトロクロミック素子３０に電圧を印加する電圧印加装置４１と電圧印加装置４１の動作を制御する制御装置４２とを備えている。
制御装置４２がシステムを制御しており、通常時には、電圧印加装置４１は制御装置４２からの信号に基づいて発色動作及び消色動作を実行する。
そして、エレクトロクロミック素子３０が繰り返し動作／熱／光照射などにより本来の消色状態に変化することができなくなった場合には、本来の消色状態にすることを可能にするために、制御装置４２からの制御信号に基づいて電圧印加装置４１はエレクトロクロミック素子３０に通常の発色電圧よりも大きな補正電圧を印加する動作を行う。以下では、通常の発色電圧よりも大きな補正電圧を印加する動作を「消色補正動作」という。

消色補正動作は以下のような態様とすることができる。
補正電圧を印加する時間は一定時間に固定するか、または、透過率などに応じて任意に変更することができる。
補正電圧を印加する回数は一定の回数に固定するか、または、透過率などに応じて任意に変更することができる。
消色時の透過率を測定するなどの目的で、補正電圧印加と消色電圧印加とを交互に繰り返すことができる。
この場合、繰り返しの回数は一定の回数に固定するか、または、透過率などに応じて任意に変更することができる。
また、エレクトロクロミック素子内部の状態が安定するまで待機するなどの目的で、補正電圧を印加した後や、消色電圧を印加した後に、第１電極と第２電極を一定時間オープンにすることも可能であり、オープンにする時間は、一定時間に固定するか、または、透過率などに応じて任意に変更することができる。
補正電圧は発色電圧よりも大きな電圧であることが必要であるが、大きすぎると素子の劣化が大きくなるので、必要以上に大きな電圧を印加する必要はない。

ここで、本発明における「発色電圧」及び「補正電圧」という用語は以下のように定義されるものである。
（発色電圧）
発色電圧とは、エレクトロクロミック化合物が色変化を起こすために必要な閾値電圧以上の電圧であり、通常の発色動作時に使用される電圧である。発色速度を高める為、前記閾値より、エレクトロクロミック化合物が劣化しにくい範囲で電圧を高めて設定する場合が多い。
（補正電圧）
補正電圧とは、前記発色電圧より絶対値が大きい電圧であり、消色補正動作時に使用される電圧である。電圧が高く、長時間印加するとエレクトロクロミック化合物を劣化させる可能性が高い為、通常の発色動作には用いず、頻度の低い消色補正動作にのみ使用する。

具体的な消色補正動作の実施形態の例を述べる。
−実施形態１−
制御装置４２が「発色動作」及び「消色動作」の回数を記録し、規定の回数となると消色状態の透過率が低下したと判定し、電圧印加装置４１によって「消色補正動作」を実行することで、エレクトロクロミック素子の消色状態の透過率を上昇させる。
本実施形態１のシーケンス図を図３に示し、また、電圧図を図４に示す。
消色状態の透過率が低下したと判断すると、自動で「消色補正動作」を実行する。
「消色補正動作」で印加する補正電圧の値は固定値である。

−実施形態２−
本実施形態２のエレクトロクロミック装置システム構成を図５に示す。
このエレクトロクロミック装置システム構成は実施形態１の構成に加え、透過率測定器５０を有している。
透過率測定器５０はエレクトロクロミック素子の消色状態の透過率を測定する。
そして、その測定結果に基づいて補正電圧をエレクトロクロミック素子に印加する。

透過率測定器５０による測定結果に基づいて補正電圧を印加する方法としては次の（１）及び（２）の方法が考えられる。
（１）透過率測定器５０の測定値を印加電圧制御手段４０に送り、印加電圧制御手段４０は測定値を所定の設定値と比較し、測定値が所定の設定値を下回った時に補正電圧をエレクトロクロミック素子３０に印加する。
（２）透過率測定器５０は、透過率を測定すると共に、測定値と所定の設定値とを比較し、測定値が所定の設定値を下回った時に、ＮＧであると判定し、この判定結果に基づいて、印加電圧制御手段４０がエレクトロクロミック素子３０に補正電圧を印加する。
例えば、透過率測定器５０が判定結果がＮＧであることをユーザーに通知し、ユーザーが手動でＳＷ押下などによりトリガ信号を入力して、電圧印加装置４１内の「消色補正動作」を実行し、補正電圧をエレクトロクロミック素子に印加する。
または、透過率測定器５０の判定結果のＮＧ信号を自動的に制御装置４２に送って電圧印加装置４１内の「消色補正動作」を実行し、補正電圧をエレクトロクロミック素子３０に印加する。
本実施形態２のシーケンス図を図６に、また、電圧図を図７に示す。
「消色補正動作」で印可する補正電圧の値は、消色状態の透過率に応じたより精度の高いＦＢ（フィードバック）値を用いる。

補正電圧を印加するに際しては、一定の固定した電圧を印加しても良いし、補正電圧の値を調整して適宜変化させて印加しても良い。
透過率測定結果によるＦＢ（フィードバック）値あるいは動作回数などを元に、補正電圧の値を変化させることで、より精度の高い消色補正動作を実施することができる。

本発明のエレクトロクロミック装置の用途としては、顔に装着して用いるグラス型デバイス、光学レンズデバイス、光学フィルターデバイス、表示デバイス、窓、ミラーデバイス、プロジェクションスクリーン、加飾材、服飾材等が挙げられる。

以上、本発明の好ましい実施形態について詳述したが、本発明は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の実施形態の要旨の範囲内において、種々の変形、変更が可能である。

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。

［実施例１］
（素子構成）
図８に示す構成のエレクトロクロミック装置を作製した。
以下にエレクトロクロミック装置の作製方法を示す。

（第１の支持体、第１の電極の形成）
第１の支持体であるガラス基板上に、第１の電極であるＩＴＯを形成し、ＩＴＯガラス基板（４０ｍｍ×４０ｍｍ、厚み０．７ｍｍ、ＩＴＯ膜厚：約１００ｎｍ）とした。

（第２の支持体、第２の電極の形成）
第１の支持体、第１の電極の形成と同様に、
第２の支持体であるガラス基板上に、第２の電極であるＩＴＯを形成し、ＩＴＯガラス基板（４０ｍｍ×４０ｍｍ、厚み０．７ｍｍ、ＩＴＯ膜厚：約１００ｎｍ）とした。

（第１のエレクトロクロミック層の形成）
（ａ）下記構造式Ａで表される化合物と下記構造式Ｂで表される化合物とを質量比７：３で混合した組成物と、
（ｂ）ポリエチレングリコールジアクリレート（日本化薬、ＰＥＧ４００ＤＡ）とメトキシポリエチレングリコールアクリレート（日油、ＡＭＥ−４００）と密着性改良剤（日本化薬、ＰＭ−２１）を質量比７．１２５：２．３７５：０．５で混合し光開始剤（ＢＡＳＦ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）を５質量％添加した組成物と、
（ｃ）シクロヘキサノンと、
を質量比（ａ）：（ｂ）：（ｃ）＝１５：１５：７０で混合した溶液を作製した。
その後、第１の電極上にインクジェット法により前記溶液を塗布し、窒素雰囲気下でＵＶ硬化させて膜厚１．３ｕｍの第１のエレクトロクロミック層を形成して、第１のエレクトロクロミック要素部材を得た。

（第２のエレクトロクロミック層の形成）
第２の電極上に、酸化スズ分散液（日産化学、ＣＸ−Ｓ３０１Ｈ）をフィルムディップ法によって塗布し、８０℃１０ｍｉｎで乾燥処理することで膜厚３．５ｕｍの酸化スズ膜を形成した。

次いで、得られた酸化スズ膜上に、下記構造式Ｃで表されるエレクトロクロミック化合物（ビオロゲン）を２質量％含有する２，２，３，３−テトラフロロプロパノール（ＴＦＰ）溶液をスピンコート法によって塗布し、８０℃ １０ｍｉｎで乾燥処理することで第２のエレクトロクロミック層を形成して、第２のエレクトロクロミック要素部材を得た。

（電解質の形成）
上記で作製した第１のエレクトロクロミック要素部材と第２のエレクトロクロミック要素部材とを、第１のエレクトロクロミック層と第２のエレクトロクロミック層とが対向するようにスペーサを介して貼り合せ、スペースに電解質として以下の材料を基板間に充填した。
次いで、この電解質に紫外線を照射して硬化させてエレクトロクロミック素子を作製した。電解質層の膜厚は３３μｍであった。
＜電解質＞
イオン液体１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビス（フルオロスルホニル）イミド（ＤＫＳ、ＩＬ−１１０）と、ポリエチレングリコールジアクリレート（日油、ＡＤＥ−４００Ａ）とメトキシポリエチレングリコールアクリレート（日油、ＡＭＥ−４００）を質量比１：１で混合し光開始剤（ＢＡＳＦ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）を０．５質量％添加した組成物とを、質量比３：２で混合して電解質を得た。

（印加電圧制御手段）
電気化学測定用ガルバノスタットシステム（Ｓｏｌａｒｔｒｏｎ、ＭｏｄｕＬａｂ）を、上記で得たエレクトロクロミック装置の第１の電極及び第２の電極に接続した。
電気化学測定用ガルバノスタットシステムは電圧印加機能と印加電圧制御機能とを備えた装置である。

（動作特性評価）
通常の発色電圧が−１．６Ｖであり、本来の消色状態に変化することができなくなった状態のエレクトロクロミック素子の透過率は７１％であった。この７１％という数値を初期透過率とし、この状態のエレクトロクロミック素子に対して以下の評価を行った。
第１の電極と第２の電極との間に、以下の電圧パターンを印加し、第１のエレクトロクロミック層及び第２のエレクトロクロミック層を発消色させ、同時に透過率測定を実施した。
（補正電圧−１．７Ｖ、３０ｓ → 消色電圧０．６Ｖ、３０ｓ）×３ｓｅｔ
透過率は光の波長６１０ｎｍ成分をＯｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、ＵＳＢ４０００で測定した。
透過率と時間との関係を示すグラフを図９として示した。
各電圧パターンについてみると、初期透過率７１％に対して効果が最も表れるのは３ｓｅｔ目の消色後透過率であった。
初期透過率と３ｓｅｔ目の消色後透過率を比較した。
結果を表１に示す。
表１に示すとおり、初期透過率７１％と比較して、消色後透過率が上昇した。

［実施例２］
素子構成、各層の形成、計測環境は、実施例１と同様である。
（動作特性評価）
実施例１において、電圧パターンを以下の電圧パターンに変更した以外は実施例１と同様にして、第１のエレクトロクロミック層及び第２のエレクトロクロミック層を発消色させ、同時に透過率測定を実施した。
（補正電圧−１．８Ｖ、３０ｓ → 消色電圧０．６Ｖ、３０ｓ）×３ｓｅｔ
初期透過率と３ｓｅｔ目の消色後透過率を比較した。
結果を表１に示す。
表１に示すとおり、初期透過率７１％と比較して、消色後透過率が上昇した。

［実施例３］
素子構成、各層の形成、計測環境は、実施例１と同様である。
（動作特性評価）
実施例１において、電圧パターンを以下の電圧パターンに変更した以外は実施例１と同様にして、第１のエレクトロクロミック層及び第２のエレクトロクロミック層を発消色させ、同時に透過率測定を実施した。
（補正電圧−１．９Ｖ、３０ｓ → 消色電圧０．６Ｖ、３０ｓ）×３ｓｅｔ
初期透過率と３ｓｅｔ目の消色後透過率を比較した。
結果を表１に示す。
表１に示すとおり、初期透過率７１％と比較して、消色後透過率が上昇した。

［実施例４］
素子構成、各層の形成、計測環境は、実施例１と同様である。
（動作特性評価）
実施例１において、電圧パターンを以下の電圧パターンに変更した以外は実施例１と同様にして、第１のエレクトロクロミック層及び第２のエレクトロクロミック層を発消色させ、同時に透過率測定を実施した。
（補正電圧−２．０Ｖ、３０ｓ → 消色電圧０．６Ｖ、３０ｓ）×３ｓｅｔ
初期透過率と３ｓｅｔ目の消色後透過率を比較した。
結果を表１に示す。
表１に示すとおり、初期透過率７１％と比較して、消色後透過率が上昇した。

［比較例１］
素子構成、各層の形成、計測環境は、実施例１と同様である。

（動作特性評価）
実施例１において、電圧パターンを以下の電圧パターンに変更した以外は実施例１と同様にして、第１のエレクトロクロミック層及び第２のエレクトロクロミック層を発消色させ、同時に透過率測定を実施した。
（補正電圧−１．３Ｖ、３０ｓ→消色電圧０．６Ｖ、３０ｓ）×３ｓｅｔ
初期透過率と３ｓｅｔ目の消色後透過率を比較した。
結果を表１に示す。
表１に示す通り、初期透過率７１％と比較して、消色後透過率に変化は無かった。

［比較例２］
素子構成、各層の形成、計測環境は、実施例１と同様である。
（動作特性評価）
実施例１において、電圧パターンを以下の電圧パターンに変更した以外は実施例１と同様にして、第１のエレクトロクロミック層及び第２のエレクトロクロミック層を発消色させ、同時に透過率測定を実施した。
（補正電圧−１．４Ｖ、３０ｓ → 消色電圧０．６Ｖ、３０ｓ）×３ｓｅｔ
初期透過率と３ｓｅｔ目の消色後透過率を比較した。
結果を表１に示す。
表１に示す通り、初期透過率７１％と比較し、消色後透過率に変化は無かった。

［比較例３］
素子構成、各層の形成、計測環境は、実施例１と同様である。
（動作特性評価）
実施例１において、電圧パターンを以下の電圧パターンに変更した以外は実施例1と同様にして、第１のエレクトロクロミック層及び第２のエレクトロクロミック層を発消色させ、同時に透過率測定を実施した。
（補正電圧−１．５Ｖ、３０ｓ → 消色電圧０．６Ｖ、３０ｓ）×３ｓｅｔ
初期透過率と３ｓｅｔ目の消色後透過率を比較した。
結果を表１に示す。
表１に示す通り、初期透過率７１％と比較し、消色後透過率に変化は無かった。

［実施例５］（素子構成）
図９に示す構成のエレクトロクロミック装置を作製した。
以下にエレクトロクロミック装置の作製方法を示す。

（第１の支持体、第１の電極の形成）
第１の支持体であるポリカーボネート基板上に、第１の電極であるＩＴＯを形成し、ＩＴＯポリカーボネート基板（５０ｍｍ×３５ｍｍ、厚み０．３ｍｍ、ＩＴＯ膜厚：約１１０ｎｍ）とした。

（第２の支持体、第２の電極の形成）
第１の支持体、第１の電極の形成と同様に、
第２の支持体であるポリカーボネート基板上に、第２の電極であるＩＴＯを形成し、ＩＴＯポリカーボネート基板（５０ｍｍ×３５ｍｍ、厚み０．３ｍｍ、ＩＴＯ膜厚：約１１０ｎｍ）とした。

（第１のエレクトロクロミック層の形成）
（ａ）実施例１に記載の構造式Ａで表される化合物と実施例１に記載の構造式Ｂで表される化合物とを質量比７：３で混合した組成物と、
（ｂ）メトキシポリエチレングリコールアクリレート（日油、ＡＭＥ−４００）と架橋剤（日本化薬、ＰＥＴ−３０）と相溶化剤（新中村化学、ＢＰＥ−１３００Ｎ）とシクロヘキサンを質量比９：２．２５：３：７０で混合し光開始剤（ＢＡＳＦ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）を５質量％添加した組成物と、
（ｃ）密着性改良剤（日本化薬、ＰＭ−２１）と、
を質量比（ａ）：（ｂ）：（ｃ）＝１．５：８．４２５：０．０７５で混合した溶液を作製した。
その後、第１の電極上にインクジェット法により前記溶液を塗布し、窒素雰囲気下でＵＶ硬化させて膜厚１．３ｕｍの第１のエレクトロクロミック層を形成して、第１のエレクトロクロミック要素部材を得た。

（第２のエレクトロクロミック層の形成）
第２の電極上に、酸化スズ分散液（日産化学、ＣＸ−Ｓ３０１Ｈ）をフィルムディップ法によって塗布し、８０℃１０ｍｉｎで乾燥処理することで膜厚２．５ｕｍの酸化スズ膜を形成した。

次いで、得られた酸化スズ膜上に、実施例１に記載の構造式Ｃで表されるエレクトロクロミック化合物（ビオロゲン）を２質量％含有する２，２，３，３−テトラフロロプロパノール（ＴＦＰ）溶液をスピンコート法によって塗布し、９０℃、３０ｍｉｎで乾燥処理することで第２のエレクトロクロミック層を形成して、第２のエレクトロクロミック要素部材を得た。

（電解質の形成）
上記で作製した第１のエレクトロクロミック要素部材と第２のエレクトロクロミック要素部材とを、第１のエレクトロクロミック層と第２のエレクトロクロミック層とが対向するようにスペーサを介して貼り合せ、スペースに電解質として以下の材料を基板間に充填した。
次いで、この電解質に紫外線を照射して硬化させてエレクトロクロミック素子を作製した。電解質層の膜厚は２４μｍであった。
＜電解質＞
イオン液体１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビス（フルオロスルホニル）イミド（ＤＫＳ、ＩＬ−１１０）とポリエチレングリコール（６００）ジメタクリレート（アルケマ、ＳＲ２５２）を質量比１：１で混合し光開始剤（ＢＡＳＦ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）を０．５質量％添加して電解質を得た。

（印加電圧制御手段）
実施例１と同様のものを用いた

（動作特性評価）
計測環境は、実施例１と同様である。
通常の発色電圧が−１．６Ｖであり、本来の消色状態に変化することができなくなった状態のエレクトロクロミック素子の透過率は５７％であった。この５７％という数値を初期透過率とし、この状態のエレクトロクロミック素子に対して以下の評価を行った。
第１の電極と第２の電極の間に、以下の電圧パターンを印加し、第１のエレクトロクロミック層及び第２のエレクトロクロミック層を発消色させ、同時に透過率測定を実施した。
（補正電圧−２．０Ｖ、３０ｓ→ オープン ４０ｓ→消色電圧０．６Ｖ、３０ｓ）×３ｓｅｔ
初期透過率と３ｓｅｔ目の消色後透過率を比較した。
結果を表１に示す。
表１に示すとおり、初期透過率５７％と比較して、消色後透過率が上昇した。

［実施例６］
（素子構成）
図８に示す構成のエレクトロクロミック装置を作製した。
以下にエレクトロクロミック装置の作製方法を示す。

（第１の支持体、第１の電極の形成）
実施例５と同等とした。

（第２の支持体、第２の電極の形成）
実施例５と同等とした。

（第１のエレクトロクロミック層の形成）
（ａ）実施例１に記載の構造式Ａで表される化合物と実施例１に記載の構造式Ｂで表される化合物とを質量比７：３で混合した組成物と、
（ｂ）メトキシポリエチレングリコールアクリレート（日油、ＡＭＥ−４００）と架橋剤（日本化薬、ＰＥＴ−３０）と相溶化剤（新中村化学、ＢＰＥ−１３００Ｎ）と密着性改良剤（日本化薬、ＰＭ−２１）を質量比９：２．２５：３：０．７５で混合し光開始剤（ＢＡＳＦ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）を５質量％添加した組成物と、
（ｃ）シクロヘキサンと、
を質量比（ａ）：（ｂ）：（ｃ）＝１．５：１．５：７で混合した溶液を作製した。
その後、第１の電極上にインクジェット法により前記溶液を塗布し、窒素雰囲気下でＵＶ硬化させて膜厚１．３ｕｍの第１のエレクトロクロミック層を形成して、第１のエレクトロクロミック要素部材を得た。

（第２のエレクトロクロミック層の形成）
第２の電極上に、酸化スズ分散液（日産化学、ＣＸ−Ｓ３０１Ｈ）をスクリーン印刷法によって塗布し、８０℃２０ｍｉｎで乾燥処理することで膜厚２．５ｕｍの酸化スズ膜を形成した。

次いで、得られた酸化スズ膜上に、実施例１に記載の構造式Ｃで表されるエレクトロクロミック化合物（ビオロゲン）を２質量％含有する２，２，３，３−テトラフロロプロパノール（ＴＦＰ）溶液をスピンコート法によって塗布し、８０℃ ３０ｍｉｎで乾燥処理することで第２のエレクトロクロミック層を形成して、第２のエレクトロクロミック要素部材を得た。

（電解質の形成）
イオン液体１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビス（フルオロスルホニル）イミド（ＤＫＳ、ＩＬ−１１０）とポリエチレングリコール（６００）ジメタクリレート（アルケマ、ＳＲ２５２）を質量比１：１で混合した組成物を、第１のエレクトロクロミック層と第２のエレクトロクロミック層との間に介在させて紫外線を照射して硬化させてエレクトロクロミック素子を作製した。電解質層の膜厚は５９μｍであった。

（印加電圧制御手段）
実施例１と同様のものを用いた。

（動作特性評価）
計測環境は、実施例１と同様である。
通常の発色電圧が−１．６Ｖであり、本来の消色状態に変化することができなくなった状態のエレクトロクロミック素子に対して以下の評価を行った。初期透過率は５８％であった。
第１の電極と第２の電極の間に、以下の電圧パターンを印加し、第１のエレクトロクロミック層及び第２のエレクトロクロミック層を発消色させ、同時に透過率測定を実施した。
（補正電圧−２．０Ｖ、３０ｓ → オープン ４０ｓ→消色電圧０．６Ｖ、３０ｓ）×３ｓｅｔ
初期透過率と３ｓｅｔ目の消色後透過率を比較した。
結果を表１に示す。
表１に示すとおり、初期透過率５８％と比較して、消色後透過率が上昇した。

１０ 第1の支持体
１１ 第１の電極
１３ 第２の電極
１４ 第２の支持体
１５ 電解質
２１ 第１のエレクトロクロミック層
２２ 第２のエレクトロクロミック層
３０ エレクトロクロミック素子
４０ 印加電圧制御手段
４１ 電圧印加装置
４２ 制御装置
５０ 透過率測定器

特開２０１５−０１４７４３号公報 特許第２６７２０８３号公報

Claims (20)

1. エレクトロクロミック素子と該エレクトロクロミック素子に印加する電圧を制御する印加電圧制御手段とを備えたエレクトロクロミック装置であって、
   前記エレクトロクロミック素子は、
   第１の電極および第２の電極と、
   前記第１の電極と前記第２の電極との間に設けられた電解質と、
   前記第１の電極と前記電解質との間に設けられた、酸化型エレクトロクロミック化合物を含む第１のエレクトロクロミック層と、
   前記第２の電極と前記電解質との間に設けられた、還元型エレクトロクロミック化合物と金属酸化物とを含む第２のエレクトロクロミック層と、
   を有し、前記第１の電極及び前記第２の電極のうちの少なくともいずれか一方が透明であり、
   前記印加電圧制御手段は、前記エレクトロクロミック素子の前記第１電極と前記第２電極との間に、前記エレクトロクロミック素子を発色させる発色電圧と、前記発色電圧と同極性で前記発色電圧より絶対値が大きい補正電圧と、を印加する機能を有する、
   エレクトロクロミック装置。
2. 前記印加電圧制御手段は前記補正電圧の値を任意に変更する機能を有する請求項１に記載のエレクトロクロミック装置。
3. 前記エレクトロクロミック素子の消色状態の透過率を測定する透過率測定器を有する、請求項１または２に記載のエレクトロクロミック装置。
4. 前記透過率測定器による透過率の測定値が所定の設定値を下回った時に、該設定値を下回った旨の判定を行う機能を有する、請求項３に記載のエレクトロクロミック装置。
5. 前記判定を手動で実施する機能を有する、請求項４に記載のエレクトロクロミック装置。
6. 前記判定を自動で実施する機能を有する、請求項４に記載のエレクトロクロミック装置。
7. 前記透過率測定器が前記判定を行い、判定結果を通知する機能を有する、請求項５又は６に記載のエレクトロクロミック装置。
8. 前記印加電圧制御手段が前記判定を行い、判定結果を通知する機能を有する請求項５又は６に記載のエレクトロクロミック装置。
9. 前記判定の結果に基づいて、自動で前記補正電圧を印加する機能を有する、請求項４〜８のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置。
10. 前記判定の結果に基づいて、手動で前記補正電圧を印加する機能を有する、請求項４〜８のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置。
11. 前記判定の結果に基づいて補正電圧の値を調整する機能を有する、請求項４〜１０のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置。
12. 請求項１〜１１のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、グラス型デバイス。
13. 請求項１〜１１のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、光学レンズデバイス。
14. 請求項１〜１１のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、光学フィルターデバイス。
15. 請求項１〜１１のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、表示デバイス。
16. 請求項１〜１１のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、窓。
17. 請求項１〜１１のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、ミラーデバイス。
18. 請求項１〜１１のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、プロジェクションスクリーン。
19. 請求項１〜１１のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、加飾材。
20. 請求項１〜１１のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック装置を有する、服飾材。