JP2020136611A - ベーパーチャンバー、放熱構造及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】高さが異なる複数の被冷却部材を容易に冷却するベーパーチャンバー、当該ベーパーチャンバーを用いた放熱構造、及び、当該放熱構造の製造方法を提供する。【解決手段】密封空間を有する本体と、前記密封空間内に封入した作動流体と、を備え、前記本体は、前記密封空間を介して対向する受熱面と放熱面を有し、前記受熱面が、被冷却部材と接触する接触部と、当該接触部の周囲に配置された板バネ部と、を含む、ベーパーチャンバーである。【選択図】図1
Description
本開示は、ベーパーチャンバー、当該ベーパーチャンバーを備える放熱構造に関する。
近年、パーソナルコンピューターなどの電子・電気機器のプリント基板に搭載されている半導体素子の処理能力向上に伴って、半導体素子の発熱量が増大しているが、半導体素子のサイズは従来とさほど違いがない。そのため、半導体素子の発熱密度が大きくなり、半導体素子の放熱構造が重要になってきている。
特許文献1には、電子部品と、熱拡散板との間に、内圧より膨張するコンテナを有する熱伝達部材(ベーパーチャンバー)を配置し、電子部品の発熱によりコンテナが膨張して、電子部品と熱拡散板とが熱伝達部材を介して接続する電子部品用の放熱構造が開示されている。特許文献1によれば、当該手法により高さが異なる複数の電子部品を容易に冷却できるとされている。
特許文献1の手法では、電子部品の熱を利用してベーバーチャンバーを膨張させ、熱拡散板に接触させている。当該手法を行うためには、発熱前の電子部品上にベーパーチャンバーを配置する必要がある。そのため高さが異なる複数の電子部品を冷却するためには、複数の電子部品各々に対して、ベーパーチャンバーを用意する必要がある。また、特許文献1の手法では、ベーパーチャンバーの伸縮が繰り返されるため、劣化しやすい問題があった。
本開示の目的は、上述した課題を鑑み、高さが異なる複数の被冷却部材を容易に冷却するベーパーチャンバー、当該ベーパーチャンバーを用いた放熱構造、及び、当該放熱構造の製造方法を提供することにある。
本開示のベーパーチャンバーの一実施形態は、
密封空間を有する本体と、
密封空間内に封入した作動流体と、を備え、
前記本体は、前記密封空間を介して対向する受熱面と放熱面を有し、
前記受熱面が、被冷却部材と接触する接触部と、
当該接触部の周囲に配置された板バネ部と、を含む。
密封空間を有する本体と、
密封空間内に封入した作動流体と、を備え、
前記本体は、前記密封空間を介して対向する受熱面と放熱面を有し、
前記受熱面が、被冷却部材と接触する接触部と、
当該接触部の周囲に配置された板バネ部と、を含む。
本開示によれば、高さが異なる複数の被冷却部材を容易に冷却するベーパーチャンバー、当該ベーパーチャンバーを用いた放熱構造、及び、当該放熱構造の製造方法を提供することができる。
以下、本発明を実施するための最良の形態について、添付図面を参照しながら説明する。但し、本発明が以下の実施の形態に限定される訳ではない。また、説明を明確にするため、以下の記載及び図面は、適宜、簡略化されている。
<実施の形態1>
先ず、本実施の形態のベーパーチャンバーの構成を説明する。図1は、本実施の形態のベーパーチャンバーを模式的に示す断面図である。なお、以下の説明では、説明を明確にするために、三次元(XYZ)座標系を用いて説明する。
先ず、本実施の形態のベーパーチャンバーの構成を説明する。図1は、本実施の形態のベーパーチャンバーを模式的に示す断面図である。なお、以下の説明では、説明を明確にするために、三次元(XYZ)座標系を用いて説明する。
ベーパーチャンバー10は、密封空間1を有する本体2と、前記密封空間1内に封入した作動流体9を備えている。前記本体2は前記密封空間1を介して対向する受熱面3と放熱面4を有する。前記受熱面3は、後述する被冷却部材と接触する接触部5と、当該接触部5の周囲に配置された板バネ部6を含んでいる。受熱面3と放熱面4は密封空間1の壁面を構成している。なおベーパーチャンバー10はY軸方向にも延在し、略平板状の形状を有する。
作動流体9は、後述する被冷却部材から接触部5を介して加熱されて気化し、放熱面4に到達すると、放熱面4に熱を放出して液体に戻る。作動流体9はこの目的を達成可能な液体の中から任意のものを選択して用いることができる。作動流体9の液量は、後述する動作により密封空間1が小さくなることを考慮して適宜調整すればよい。
ベーパーチャンバー10の本体2の材質は、熱伝導率の高いものが好ましく、一例として銅やアルミニウムなどの金属が挙げられる。
ベーパーチャンバー10の本体2の材質は、熱伝導率の高いものが好ましく、一例として銅やアルミニウムなどの金属が挙げられる。
ベーパーチャンバー10の放熱面4側には放熱器8を配置してもよい。放熱器8を配置することにより放熱性が向上する。放熱器8は放熱面4側に接触していればよく、さらにカシメやロウ付けなど熱抵抗が大きくなりにくい方法で固定してもよい。
図1の例では、放熱面4側に放熱器8が配置されている。図1の例では、放熱器8のベーパーチャンバー10を配置する側の面が凹部を有しており、当該凹部にベーパーチャンバー10が嵌め込まれている。この構成によれば、ベーパーチャンバー10と放熱器8との間の接触抵抗を小さくすることができ、放熱性に優れている。なお放熱器8は、一例としてヒートシンクが挙げられる。
図1の例では、放熱面4側に放熱器8が配置されている。図1の例では、放熱器8のベーパーチャンバー10を配置する側の面が凹部を有しており、当該凹部にベーパーチャンバー10が嵌め込まれている。この構成によれば、ベーパーチャンバー10と放熱器8との間の接触抵抗を小さくすることができ、放熱性に優れている。なお放熱器8は、一例としてヒートシンクが挙げられる。
受熱面3は、接触部5と板バネ部6を有している。接触部5は被冷却部材と接触して当該被冷却部材の熱を受ける部分である。接触部5の受熱面3内における位置及び大きさは、対応する被冷却部材の位置及び大きさを考慮して設計する。接触部5は通常、Y軸方向にも延在し、例えば正面視(Z軸方向からみて)四角形形状である。
板バネ部6は接触部5の周囲に配置される。なお不図示であるが、板バネ部6は接触部5のY軸方向にも配置されている。
接触部5が被冷却部材からの+Z方向の押圧により、板バネ部6が変形して、接触部5は高さ(Z方向)が変化する。
板バネ部6は接触部5の周囲に配置される。なお不図示であるが、板バネ部6は接触部5のY軸方向にも配置されている。
接触部5が被冷却部材からの+Z方向の押圧により、板バネ部6が変形して、接触部5は高さ(Z方向)が変化する。
受熱面3は、接触部5及び板バネ部6のほかに、基準面7を有してもよい。図1の例で基準面7のY軸方向には板バネ部6が配置されていない。そのため、基準面7は仮に被冷却部材等から+Z方向に力を受けてもZ方向に移動しない。板バネ部6が接触部5と基準面7とを接続するように配置することにより、板バネ部6の変形が安定し、接触部5の傾きが抑制される。
受熱面3を構成する、接触部5、板バネ部6及び必要に応じて設ける基準面7は、Z軸方向の力を受けていないときに、平坦面となるように構成してもよい。また、図1の例に示されるように、受熱面3は、接触部5が凸形状となる凹凸面を構成してもよい。接触部5を被冷却部材の高さに応じた凸形状とすることにより、ベーパーチャンバー10と高さの異なる複数の被冷却部材と同時に接触できる。また接触部5を凸形状とすることにより、相対的に基準面7が凹部となるため、後述する基板との間の空隙が広くなる。そのため当該空隙には、例えば、冷却が不要で且つ被冷却部材よりも高さのある部材を収めることもできる。
<実施の形態2>
続けて、本実施の形態の放熱構造の構成を説明する。図3は、本実施の形態の放熱構造を模式的に示す断面図である。なお本実施の形態において、ベーパーチャンバー10は前記実施の形態1に示すベーパーチャンバーである。
続けて、本実施の形態の放熱構造の構成を説明する。図3は、本実施の形態の放熱構造を模式的に示す断面図である。なお本実施の形態において、ベーパーチャンバー10は前記実施の形態1に示すベーパーチャンバーである。
図3に示すように、本実施の放熱構造20は、冷却対象となる被冷却部材12,13の熱を放熱面4側から放出する放熱構造である。図3において被冷却部材12,13は、ベーパーチャンバー10の接触部5と接触しており、被冷却部材12及び13で発生した熱は、接触部5を介して放熱面4から放熱される。
図3において被冷却部材12及び13は厚みが異なる部材であり、平板状の基板11上に実装されて、当該基板11からの高さが異なっている。図3において、ベーパーチャンバー10と基板11とは固定部15により固定している。被冷却部材12及び13が各々接触部5を押圧した状態で固定することにより、高さの異なる被冷却部材と接触部とが同時に密着した状態で固定される。そのため、本実施の形態に係る放熱構造は放熱性能に優れている。不図示であるが、必要に応じて接触部5と被冷却部材12,13との間に伝熱性グリス等の熱伝達部材を有してもよい。なお、被冷却部材12及び13は各々発熱する部材であり、一例として半導体素子である。
また、図3の例のように、基板11上に被冷却部材13よりも高さのある冷却が不要な部材14を実装してもよい。接触部5を凸形状とすることにより、当該部材14を基板11上に配置することが可能となる。なお、冷却が不要な部材14は一例として、発熱しない、又は低発熱性の半導体素子である。
また、図3の例のように、基板11上に被冷却部材13よりも高さのある冷却が不要な部材14を実装してもよい。接触部5を凸形状とすることにより、当該部材14を基板11上に配置することが可能となる。なお、冷却が不要な部材14は一例として、発熱しない、又は低発熱性の半導体素子である。
次に図2を参照して、本実施の形態の放熱構造20の製造方法の一例を説明する。図2は、ベーパーチャンバー10の接触部5と、基板11上の被冷却部材12,13とを対向するように配置した状態を模式的に示す断面図である。
図2に示すように、まず、前記実施の形態1のベーパーチャンバー10と、高さが異なる複数の被冷却部材12,13が実装された基板11を準備する。ベーパーチャンバー10は、基板11の被冷却部材の配置に応じて設計されたものを準備する。
次いで、図2のようにベーパーチャンバー10の受熱面3が有する接触部5と、前記基板11上の被冷却部材12,13が対向するように配置する。
次いで、前記被冷却部材12,13が、前記接触部5を押圧した状態で固定する(図3参照)。
図2に示すように、まず、前記実施の形態1のベーパーチャンバー10と、高さが異なる複数の被冷却部材12,13が実装された基板11を準備する。ベーパーチャンバー10は、基板11の被冷却部材の配置に応じて設計されたものを準備する。
次いで、図2のようにベーパーチャンバー10の受熱面3が有する接触部5と、前記基板11上の被冷却部材12,13が対向するように配置する。
次いで、前記被冷却部材12,13が、前記接触部5を押圧した状態で固定する(図3参照)。
本実施の形態の放熱構造によれば、一つのベーパーチャンバーで、高さの異なる複数の被冷却部材を冷却することができる。このことにより、ベーパーチャンバーが複数必要な放熱構造と比較して、部品の組合せ時間の短縮、及び製造工程の削減が可能となり、生産性に優れている。
また、本実施の形態の放熱構造は、被冷却部材とベーパーチャンバーが密接しているため、放熱性能に優れている。また、接触部を凸形状とすることで、基板とベーパーチャンバーとの間に空間を設けることができ、当該空間内に実装高さの高い半導体素子を実装することもできる。
また、本実施の形態の放熱構造は、被冷却部材とベーパーチャンバーが密接しているため、放熱性能に優れている。また、接触部を凸形状とすることで、基板とベーパーチャンバーとの間に空間を設けることができ、当該空間内に実装高さの高い半導体素子を実装することもできる。
<実施の形態3>
図4を参照して、実施の形態3の放熱構造を説明する。図4は、実施の形態3の放熱構造を模式的に示す断面図である。実施の形態3は、前記実施の形態2の放熱構造の変形例であり、ベーパーチャンバー10の密封空間1内に、前記接触部5と前記放熱面4に接続するコイルばね16を備える点以外は、実施の形態2の放熱構造と同様である。
当該実施の形態3の放熱構造は、被冷却部材12,13からの押圧に対し、接触部5を介してコイルばね16が反発する。その結果、接触部5と被冷却部材12,13がより密接するため、冷却性能がより向上する。
図4を参照して、実施の形態3の放熱構造を説明する。図4は、実施の形態3の放熱構造を模式的に示す断面図である。実施の形態3は、前記実施の形態2の放熱構造の変形例であり、ベーパーチャンバー10の密封空間1内に、前記接触部5と前記放熱面4に接続するコイルばね16を備える点以外は、実施の形態2の放熱構造と同様である。
当該実施の形態3の放熱構造は、被冷却部材12,13からの押圧に対し、接触部5を介してコイルばね16が反発する。その結果、接触部5と被冷却部材12,13がより密接するため、冷却性能がより向上する。
<その他の変形例>
不図示であるが、本実施の放熱構造は、冷却対象が、高さが同一の複数の被冷却部材が実装された基板であってもよい。また、本実施の放熱構造は、冷却対象が、1つの被冷却部材のみが実装された基板であってもよい。
例えば、被冷却部材自体に個体差がある場合や、基板と被冷却部材との接合部にばらつきがある場合には、被冷却部材の実装高さに製品間のばらつきが生じることがある。当該変形例の放熱構造によれば、このようなばらつきがあっても接合部の高さが変化するため、被冷却部材と接合部とが密接する。そのためこのようなばらつき考慮せずに放熱構造を製造することが可能となる。なお本効果は前記実施の形態2及び3の放熱構造においても奏する効果である。
不図示であるが、本実施の放熱構造は、冷却対象が、高さが同一の複数の被冷却部材が実装された基板であってもよい。また、本実施の放熱構造は、冷却対象が、1つの被冷却部材のみが実装された基板であってもよい。
例えば、被冷却部材自体に個体差がある場合や、基板と被冷却部材との接合部にばらつきがある場合には、被冷却部材の実装高さに製品間のばらつきが生じることがある。当該変形例の放熱構造によれば、このようなばらつきがあっても接合部の高さが変化するため、被冷却部材と接合部とが密接する。そのためこのようなばらつき考慮せずに放熱構造を製造することが可能となる。なお本効果は前記実施の形態2及び3の放熱構造においても奏する効果である。
1 密封空間、 2 本体、 3 受熱面、 4 放熱面、 5 接触部、 6 板バネ部、 7 基準面、 8 放熱器、 9 作動流体、 10 ベーパーチャンバー、 11 基板、 12 被冷却部材、 13 被冷却部材、 14 部材、 15 固定部、 16 コイルばね、 20 放熱構造
Claims (8)
- 密封空間を有する本体と、
前記密封空間内に封入した作動流体と、を備え、
前記本体は、前記密封空間を介して対向する受熱面と放熱面を有し、
前記受熱面が、被冷却部材と接触する接触部と、
当該接触部の周囲に配置された板バネ部と、を含む、
ベーパーチャンバー。 - 前記接触部が凸形状を有する、請求項1に記載のベーパーチャンバー。
- 前記密封空間内に、前記接触部と前記放熱面に接続するコイルばねを備える、請求項1又は2に記載のベーパーチャンバー。
- 前記受熱面が、独立した複数の接触部を有し、
各接触部は、各々独立に押圧により高さが変化する、
請求項1乃至3のいずれか一項に記載のベーパーチャンバー。 - 前記受熱面が、高さの異なる複数の被冷却部材に同時に接触できる、
請求項4に記載のベーパーチャンバー。 - 請求項1乃至5のいずれか一項に記載のベーパーチャンバーと、
被冷却部材が実装された基板と、を有し、
前記接触部と、前記被冷却部材とが接触した状態で固定されている、
放熱構造。 - 請求項4又は5に記載のベーパーチャンバーと、
高さが異なる複数の被冷却部材が実装された基板と、を有し、
前記複数の接触部と、前記複数の被冷却部材とが、各々接触した状態で固定されている、
放熱構造。 - 請求項1乃至5のいずれか一項に記載のベーパーチャンバーと、
高さが異なる複数の被冷却部材が実装された基板と、を準備する工程と、
前記受熱面が有する接触部と、前記基板が有する被冷却部材とが対向するように配置する工程と、
前記被冷却部材が、前記接触部を押圧した状態で固定する工程と、
を有する、放熱構造の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019031817A JP2020136611A (ja) | 2019-02-25 | 2019-02-25 | ベーパーチャンバー、放熱構造及びその製造方法 |
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JP2019031817A Pending JP2020136611A (ja) | 2019-02-25 | 2019-02-25 | ベーパーチャンバー、放熱構造及びその製造方法 |
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20170082378A1 (en) * | 2015-09-18 | 2017-03-23 | Chaun-Choung Technology Corp. | Vapor chamber structure |
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- 2019-02-25 JP JP2019031817A patent/JP2020136611A/ja active Pending
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