JP2020129032A - 液晶デバイスの製造方法、及び液晶デバイス - Google Patents

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Abstract

【課題】基板に形成される溝の深さのばらつきを低減し、溝を起点として基板を劈開するときに、基板を精度よく劈開することができる液晶デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】第1の基板110と第2の基板120とがシール材2によって間隙を有して貼り合わされ、液晶3が間隙に充填され、かつ、シール材2によって封止された構造体1を作製する。第1の基板110を分離して駆動基板10を形成する。構造体1の第2の基板120側に保護フィルムPFを貼り付ける。第2の基板120に保護フィルムPFを介して溝GRを形成する。溝GRに基づいて第2の基板120を劈開して対向基板20を形成する。駆動基板10と対向基板20とがシール材2によって間隙を有して貼り合わされ、液晶3が間隙に充填され、かつ、シール材2によって封止された液晶デバイス30を作製する。【選択図】図6

Description

本発明は、液晶デバイスの製造方法、及び液晶デバイスに関する。
液晶デバイスは、プロジェクタまたはヘッドアップディスプレイ等の表示装置に用いられている。液晶デバイスは、照射された照明光を画素ごとに光変調して画像光を生成する。表示装置は、液晶デバイスにより生成された画像光をスクリーン等に投射することにより、画像を表示する。
液晶デバイスは、駆動基板と対向基板と液晶とシール材とを有する。駆動基板は例えば半導体基板であり、対向基板は例えばガラス基板である。液晶は駆動基板と対向基板との間隙に充填されている。シール材は駆動基板と対向基板とを固定し、液晶を封止する。特許文献1には液晶デバイスの一例が記載されている。
特開2006−267413号公報
半導体基板を例えばダイシングブレードを用いて切断し、例えばスクライビングホイールを用いてガラス基板に溝を形成し、この溝を起点としてガラス基板を劈開することにより、複数の液晶デバイスを作製することができる。
ガラス基板に対してスクライビングホイールの圧力を高くすることによって、ガラス基板を分断することができる。ガラス基板に対してスクライビングホイールの圧力を低くすることによって、ガラス基板に形成される溝の深さを変更することができる。
しかし、スクライビングホイールの圧力を低くすると、溝の深さのばらつきが大きくなる。溝の深さのばらつきが大きいと、溝を起点としてガラス基板等の基板を劈開するときに、基板を精度よく劈開することが困難になる。
本発明は、基板に形成される溝の深さのばらつきを低減し、溝を起点として基板を劈開するときに、基板を精度よく劈開することができる液晶デバイスの製造方法、及び液晶デバイスを提供することを目的とする。
本発明は、第1の基板と第2の基板とがシール材によって間隙を有して貼り合わされ、液晶が前記間隙に充填され、かつ、前記シール材によって封止された構造体を作製し、前記第1の基板を分離して駆動基板を形成し、前記構造体の前記第2の基板側に保護フィルムを貼り付け、前記第2の基板に前記保護フィルムを介して溝を形成し、前記溝に基づいて前記第2の基板を劈開して対向基板を形成し、前記駆動基板と前記対向基板とが前記シール材によって前記間隙を有して貼り合わされ、前記液晶が前記間隙に充填され、かつ、前記シール材によって封止された液晶デバイスを作製する液晶デバイスの製造方法を提供する。
また、本発明は、端子部を有する駆動基板と、前記端子部側の端面または前記端子部とは反対側の端面が劈開面を含む対向基板と、前記駆動基板と前記対向基板とを間隙を有して貼り合わせるシール材と、前記間隙に充填され、前記シール材によって封止されている液晶とを備える液晶デバイスを提供する。
本発明の液晶デバイスの製造方法、及び液晶デバイスによれば、基板に形成される溝の深さのばらつきを低減し、溝を起点として基板を劈開するときに、基板を精度よく劈開することができる。
第1及び第2実施形態の液晶デバイスの製造方法の一例を示すフローチャートである。 構造体の一例を示す平面図である。 図2のA−Aで切断した状態の構造体を示す断面図である。 第1及び第2実施形態の液晶デバイスの製造方法の過程における構造体を示す断面図である。 第1及び第2実施形態の液晶デバイスの製造方法の過程における構造体を示す断面図である。 第1及び第2実施形態の液晶デバイスの製造方法の過程における構造体を示す断面図である。 第1及び第2実施形態の液晶デバイスの製造方法の過程における構造体を示す断面図である。 第1実施形態の液晶デバイスの製造方法の過程における構造体を示す断面図である。 第1実施形態の液晶デバイスの製造方法の過程における構造体を示す断面図である。 第1実施形態の液晶デバイスの製造方法の過程における構造体を示す断面図である。 液晶デバイスの一例を示す断面図である。 液晶デバイスの一例を示す平面図である。 第2実施形態の液晶デバイスの製造方法の一例を示すフローチャートである。 第2実施形態の液晶デバイスの製造方法の過程における構造体を示す断面図である。 第2実施形態の液晶デバイスの製造方法の過程における構造体を示す断面図である。 第2実施形態の液晶デバイスの製造方法の過程における構造体を示す断面図である。 第2実施形態の液晶デバイスの製造方法の過程における構造体を示す断面図である。
[第1実施形態]
図1に示すフローチャート、及び図2〜図12を用いて、第1実施形態の液晶デバイスの製造方法の一例を説明する。図1において、貼り合わせ装置は、ステップS11にて、構造体1を作製する。図2は、1つの構造体1に16個の液晶デバイス30が配置されている状態を示している。図3は、図2のA−Aで切断した状態の構造体1の断面を模式的に示している。1つの構造体1から作製される液晶デバイス30の数及び配置は任意に設定することができる。
図2または図3に示すように、構造体1は、駆動基板10となる第1の基板110と対向基板20となる第2の基板120とがシール材2によって間隙を有して貼り合わされ、液晶3が第1の基板110と第2の基板120との間隙に充填され、かつ、シール材2によって封止されている構造を有する。図2は、構造体1を第2の基板120から見た状態を模式的に示している。構造体1は周知の製造方法により作製することができる。第1の基板110として半導体基板を用いてもよく、第2の基板120としてガラス基板を用いてもよい。
図2における上下方向を第1の方向とし、左右方向を第2の方向とする。第1の方向と第2の方向とは互いに直交する。
駆動基板10及び対向基板20は長方形の平面形状を有する。駆動基板10は、複数の画素電極11が形成されている画素領域12と端子部13とを有する。第1の基板110上には複数組の画素領域12及び端子部13がマトリスク状に配置されている。1組の画素領域12及び端子部13は1つの液晶デバイス30を構成する。即ち、構造体1には、複数の液晶デバイス30がマトリスク状に配置されていることになる。
第1の方向は液晶デバイス30(駆動基板10及び対向基板20)の短辺方向に相当し、第2の方向は液晶デバイス30(駆動基板10及び対向基板20)の長辺方向に相当する。端子部13は駆動基板10の一方の短辺側に形成されている。
図4に示すように、貼り付け装置は、ステップS12にて、構造体1の第2の基板120側にダイシングテープDTを貼り付ける。図4は図3に対応し、構造体1が上下に反転した状態を示している。ダイシング装置は、ステップS13にて、ダイシングブレードにより液晶デバイス30に対応するピッチで第1の基板110を第1及び第2の方向に切断する。これにより、第1の基板110は液晶デバイス30単位で分離され、複数の駆動基板10が形成される。オペレータは構造体1からダイシングテープDTを取り除く。
図5に示すように、貼り付け装置は、ステップS14にて、構造体1の第1の基板110側にダイシングテープDTを貼り付ける。図5は図4に対応し、構造体1が上下に反転した状態を示している。スクライブ装置は、ステップS15にて、スクライビングホイールにより液晶デバイス30に対応するピッチで第2の基板120を第1の方向に第1の圧力でスクライブする。第1の圧力は、第2の基板120をスクライブによって分断することができる相対的に大きい圧力である。
図6に示すように、貼り付け装置は、ステップS16にて、構造体1の第2の基板120側に粘着性を有する保護フィルムPFを貼り付ける。図6は図5に対応する。スクライブ装置は、ステップS17にて、スクライビングホイールの位置を予め設定された距離だけ第2の方向へ移動させる。具体的には、スクライブ装置は、スクライビングホイールを駆動基板10の短辺に対応する位置へ移動させる。
さらに、スクライブ装置は、スクライビングホイールにより液晶デバイス30に対応するピッチで第2の基板120を第1の方向に第2の圧力でスクライブする。第2の圧力は、第1の圧力よりも小さく、第2の基板120が分断されない深さ(例えば第2の基板120の厚さに対して1/2〜1/3の範囲内の深さ)に第2の基板120をスクライブすることができる相対的に小さい圧力である。
一般的に、第2の基板120を小さい圧力でスクライブすると、第2の基板120に形成される溝の深さのばらつきが大きくなる。溝の深さのばらつきが大きいと、溝を起点として第2の基板120を劈開するときに、第2の基板120を精度よく劈開して分離することが困難になる。
ステップS17では、保護フィルムPFを介在させて第2の基板120をスクライブする。保護フィルムPFは、第2の基板120に加わるスクライビングホイールの圧力のばらつきを吸収する。保護フィルムPFとして、粘着性を有する樹脂フィルムを用いてもよい。保護フィルムPFは、第2の基板120に加わるスクライビングホイールの圧力のばらつきを吸収できる材料及び厚さを有していればよい。
従って、保護フィルムPFを介在させて第2の基板120をスクライブすることにより、保護フィルムPFを介在させないで第2の基板120をスクライブする場合のスクライビングホイールの第3の圧力よりも大きい第2の圧力で、かつ、第2の基板120に加わるスクライビングホイールの圧力のばらつきを低減させて、第2の基板120をスクライブすることができる。これにより、第2の基板120には深さのばらつきが小さい複数の溝GRが形成される。
スクライビングホイールは保護フィルムPFに食い込んだ状態で第2の基板120をスクライブする。保護フィルムPFは、スクライビングホイールの位置ずれを抑制するため、第2の基板120に保護フィルムPFが貼り付けられていない場合と比較して、溝GRの位置精度を向上させることができる。
図7に示すように、オペレータは構造体1から保護フィルムPFを取り除く。スクライブ装置は、ステップS18にて、スクライビングホイールを駆動基板10の長辺に対応する位置へ移動させる。さらに、スクライブ装置は、スクライビングホイールにより液晶デバイス30に対応するピッチで第2の基板120を第2の方向に第1の圧力でスクライブする。図7は図6に対応する。
貼り付け装置は、ステップS19にて、図8に示すように、構造体1の第2の基板120側に粘着フィルムAFを貼り付ける。図8は図7に対応する。ダイシングテープDT、保護フィルムPF、及び粘着フィルムAFは、互いに同じ材料及び厚さの樹脂フィルムであってもよく、互いに異なる材料及び厚さのフィルムであってもよい。
スクライブ装置は、ステップS20にて、分断用具CT1を用いて溝GRを起点として第2の基板120を劈開する。第2の基板120には深さのばらつきが小さい複数の溝GRが形成されるため、スクライブ装置は第2の基板120を精度よく劈開することができる。これにより、第2の基板120は、液晶デバイス30を構成する対向基板20と、対向基板20以外の部分である不要部NPとに分離される。
図9に示すように、光源(例えば紫外線照射装置)は、ステップS21にて、不要部NPに対応する領域が遮光マスクSMにより遮光された状態で、所定の波長帯の光(例えば紫外線UV)を粘着フィルムAFへ照射する。図9は図8に対応する。粘着フィルムAFにおいて紫外線UVが照射された領域は接着力が低下する。図10に示すように、オペレータは構造体1から粘着フィルムAFを取り除く。図10は図9に対応する。粘着フィルムAFにおいて液晶デバイス30(対向基板20)に対応する領域は接着力が低下しているため、オペレータは構造体1から粘着フィルムAFを容易に取り除くことができる。
粘着フィルムAFにおいて不要部NPに対応する領域には紫外線UVが照射されないため、不要部NPは粘着フィルムAFの接着力が維持された状態で粘着フィルムAFと共に構造体1から取り除かれる。そのため、ステップS20で不要部NPが分離されたとき、または、ステップS21で構造体1から粘着フィルムAFが取り除かれたときに、不要部NPが端子部13が形成されている駆動基板10上に落下して、駆動基板10または端子部13を損傷させることを防止できる。
上記のステップS11〜S21により、1つの構造体1から複数の液晶デバイス30を作製することができる。ステップS11〜S21の少なくともいずれかのステップ、または、そのステップの一部の処理をオペレータが実行してもよい。
図11及び図12に示すように、液晶デバイス30は、第1の基板110から作製された駆動基板10と、第2の基板120から作製された対向基板20と、シール材2と、液晶3とを備える。駆動基板10は、複数の画素電極11が形成されている画素領域12と端子部13とを有する。駆動基板10と対向基板20とはシール材2によって間隙(セルギャップ)を有して貼り合わされている。液晶3は駆動基板10と対向基板20との間隙に充填され、かつ、シール材2によって封止されている。端子部13は、駆動基板10の短辺側のシール材2の外側の領域に形成されている。
駆動基板10の長辺側及び短辺側の端面は、ダイシングブレードによって切断された切断面である。対向基板20の長辺側の端面、及び、短辺側で、かつ、端子部13側の端面は、スクライビングホイールによってスクライブされたスクライブ面である。対向基板20の短辺側で、かつ、端子部13とは反対側の端面は、スクライビングホイールによってスクライブされ、さらに分断用具CT1によって劈開された劈開面を含む。即ち、対向基板20の短辺側で、かつ、端子部13とは反対側の端面は、スクライブ面と劈開面とを有して構成されている。
図12に示すように、対向基板20の長辺側の端面は、駆動基板10の長辺側の端面に対応する位置に形成されている。対向基板20の短辺側で、かつ、端子部13側の端面(第1の端面)は、駆動基板10の端子部13の近傍に形成されている。対向基板20の短辺側で、かつ、端子部13とは反対側の端面(第2の端面)は、駆動基板10の短辺側で、かつ、端子部13とは反対側の端面に対応する位置に形成されている。
第1実施形態の液晶デバイスの製造方法では、ステップS15で第2の基板120を第1の方向に第1の圧力でスクライブする。ステップS17で第2の基板120を第1の方向に第2の圧力でスクライブし、溝GRを形成する。ステップS18で第2の基板120を第2の方向に第1の圧力でスクライブする。これら処理後のステップS19で構造体1の第2の基板120側に粘着フィルムAFを貼り付ける。即ち、粘着フィルムAFは、ステップS15、S17、及びS18におけるスクライビングホイールによるダメージを受けていない状態を有している。
粘着フィルムAFがステップS15、S17、及びS18の少なくともいずれかのステップにおけるスクライビングホイールによるダメージを受けている場合、粘着フィルムAFを構造体1から効率よく取り除くことは困難である。従って、第1実施形態における液晶デバイスの製造方法によれば、粘着フィルムAFを構造体1から容易に取り除くことができる。
[第2実施形態]
図13に示すフローチャート、及び図14〜図17を用いて、第2実施形態の液晶デバイスの製造方法の一例を説明する。説明をわかりやすくするために、第1実施形態と同じ構成部及びステップには同じ符号を付す。図13に示すステップS11〜S18は、図1に示すステップS11〜S18に相当する。
図13において、貼り合わせ装置はステップS11の処理を実行する。貼り付け装置はステップS12の処理を実行する。ダイシング装置はステップS13の処理を実行する。貼り付け装置はステップS14の処理を実行する。スクライブ装置はステップS15の処理を実行する。貼り付け装置はステップS16の処理を実行する。スクライブ装置はステップS17の処理を実行する。スクライブ装置はステップS18の処理を実行する。オペレータは構造体1からダイシングテープDTを取り除く。
図13において、貼り付け装置は、ステップS29にて、図14に示すように、構造体1の第1の基板110側に粘着フィルムAFを貼り付ける。図14は図7に対応し、構造体1が上下に反転した状態を示している。
図15に示すように、スクライブ装置は、ステップS30にて、加圧用具PTと分断用具CT2とを用いて溝GRを起点として第2の基板120を劈開する。図15は図14に対応する。第2の基板120には深さのばらつきが小さい複数の溝GRが形成されているため、スクライブ装置は第2の基板120を精度よく劈開することができる。これにより、第2の基板120は、液晶デバイス30を構成する対向基板20と、対向基板20以外の部分である不要部NPとに分離される。
図16に示すように、紫外線照射装置は、ステップS31にて、紫外線UVを粘着フィルムAFへ照射する。粘着フィルムAFは紫外線UVが照射されることによって接着力が低下する。図16は図15に対応する。図17に示すように、粘着フィルムAF上には複数の液晶デバイス30が形成される。図17は図16に対応し、構造体1が上下に反転した状態を示している。
第1の基板110に対して第2の基板120が下側に配置された状態で不要部NPが分離されるため、構造体1と分断用具CT2とを離隔するときに、不要部NPは分断用具CT2上に落下する。そのため、不要部NPが端子部13が形成されている駆動基板10上に落下して、駆動基板10または端子部13を損傷させることを防止できる。
上記のステップS11〜S18及びS29〜S31により、1つの構造体1から複数の液晶デバイス30を作製することができる。粘着フィルムAFは接着力が低下しているため、ソータは粘着フィルムAFから液晶デバイス30を容易にピックアップすることができる。ステップS11〜S18及びS29〜S31の少なくともいずれかのステップ、または、そのステップの一部の処理をオペレータが実行してもよい。
第1及び第2実施形態の液晶デバイスの製造方法では、構造体1の第2の基板120側に保護フィルムPFが貼り付けられている状態で第2の基板120をスクライブする。保護フィルムPFは、第2の基板120に加わるスクライビングホイールの圧力のばらつきを吸収するため、第2の基板120に深さのばらつきが小さい複数の溝GRを形成することができる。第1及び第2実施形態の液晶デバイスの製造方法によれば、これら溝GRを起点として第2の基板120を劈開するため、第2の基板120を精度よく劈開することができる。
スクライビングホイールは保護フィルムPFに食い込んだ状態で第2の基板120をスクライブする。保護フィルムPFは、スクライビングホイールの位置ずれを抑制するため、第2の基板120に保護フィルムPFが貼り付けられていない場合と比較して、溝GRの位置精度を向上させることができる。
なお、本発明は、上述した各実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。
第1及び第2実施形態の液晶デバイス30は、その短辺側において、端子部13側の端面がスクライブ面であり、端子部13とは反対側の端面が劈開面を含む。液晶デバイス30は、その短辺側において、端子部13側の端面が劈開面を含み、端子部13とは反対側の端面がスクライブ面であってもよい。
スクライブ装置は、ステップS15にて、液晶デバイス30に対応するピッチで、液晶デバイス30の短辺側における端子部13とは反対側の端面に対応する位置で第2の基板120をスクライビングホイールにより第1の方向に第1の圧力でスクライブする。
スクライブ装置は、ステップS17にて、液晶デバイス30に対応するピッチで、液晶デバイス30の短辺側における端子部13側の端面に対応する位置で第2の基板120をスクライビングホイールにより第1の方向に第2の圧力でスクライブし、溝GRを形成する。
スクライブ装置は、ステップS19またはS30にて、溝GRを起点として第2の基板120を劈開する。これにより、短辺側において、端子部13側の端面が劈開面を含み、端子部13とは反対側の端面がスクライブ面である液晶デバイス30を作製することができる。
1 構造体
2 シール材
3 液晶
10 駆動基板
20 対向基板
30 液晶デバイス
110 第1の基板
120 第2の基板
GR 溝
PF 保護フィルム

Claims (4)

  1. 第1の基板と第2の基板とがシール材によって間隙を有して貼り合わされ、液晶が前記間隙に充填され、かつ、前記シール材によって封止された構造体を作製し、
    前記第1の基板を分離して駆動基板を形成し、
    前記構造体の前記第2の基板側に保護フィルムを貼り付け、
    前記第2の基板に前記保護フィルムを介して溝を形成し、
    前記溝に基づいて前記第2の基板を劈開して対向基板を形成し、
    前記駆動基板と前記対向基板とが前記シール材によって前記間隙を有して貼り合わされ、前記液晶が前記間隙に充填され、かつ、前記シール材によって封止された液晶デバイスを作製する、
    液晶デバイスの製造方法。
  2. 前記第2の基板を前記保護フィルムを介してスクライビングホイールによりスクライブすることで前記溝を形成する、
    請求項1に記載の液晶デバイスの製造方法。
  3. 端子部を有する駆動基板と、
    前記端子部側の端面または前記端子部とは反対側の端面が劈開面を含む対向基板と、
    前記駆動基板と前記対向基板とを間隙を有して貼り合わせるシール材と、
    前記間隙に充填され、前記シール材によって封止されている液晶と、
    を備える液晶デバイス。
  4. 前記対向基板の前記端子部とは反対側の端面は、前記駆動基板の前記端子部とは反対側の端面に対応する位置に形成されている、
    請求項3に記載の液晶デバイス。
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