JP2020105514A - 炭素材料を含有する積層体と複合体 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)活性水素と反応する官能基を有するビニルモノマー(A)を重合してなる重合体(B)を含有する、炭素材料(C)の接着に用いられる反応性接着剤(D)、
(2)ビニルモノマー(A)の官能基は、オキサゾリン基、グリシジル基、イソシアネート基、カルボジイミド基から選択される1種以上の官能基であることを特徴とする前記(1)に記載の接着剤(D)、
(3)重合体(B)を構成するビニルモノマー(A)由来の構成単位は10mol%以上であることを特徴とする前記(1)又は(2)に記載の接着剤(D)、
(4)重合体(B)のガラス転移温度は80℃以上であることを特徴とする前記(1)〜(3)のいずれか一項に記載の接着材(D)、
(5)重合体(B)を構成するオキサゾリン基を有するビニルモノマー(A)由来の構成単位は90mol%を超えることを特徴とする前記(1)〜(4)のいずれか一項に記載の接着剤(D)、
(6)炭素材料(C)は炭素繊維(CF)、グラファイト、ダイヤモンド(DM)、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)、カーボンブラック(CB)、ナノカーボンファイバー(CNF)、カーボンナノチューブ(CNT)、グラフェン、フラーレンから選択される1種以上の材料であることを特徴とする前記(1)〜(5)のいずれか一項に記載の接着剤(D)、
(7)前記(1)〜(6)のいずれか一項に記載の接着剤(D)を介し、炭素材料(C)が積層されてなる炭素材料積層体(E)、
(8)前記(1)〜(6)のいずれか一項に記載の接着剤(D)を介し、炭素材料(C)とセラミックスが積層されてなる炭素/セラミックス積層体(F)、
(9)前記(1)〜(6)のいずれか一項に記載の接着剤(D)を介し、炭素材料(C)と金属が積層されてなる炭素/金属積層体(G)、
(10)前記(1)〜(6)のいずれか一項に記載の接着剤(D)を介し、炭素材料(C)と樹脂材料を複合してなる炭素/樹脂複合体(H)、
(11)前記(7)に記載の炭素材料積層体(E)は、炭素繊維(CF)と、カーボンナノファイバー(CNF)及び/又はカーボンナノチューブ(CNT)とが、接着剤(D)を介して積層して得られる炭素材料積層体であって、かつ、CF表面のCNF及び/又はCNTの被覆率は10%以上であることを特徴とする(CNF,CNT)/CFの炭素材料積層体(E1)、
(12)前記(7)に記載の炭素材料積層体(E)は、ダイヤモンド粒子と、カーボンナノファイバー(CNF)及び/又はカーボンナノチューブ(CNT)とが、接着剤(D)を介して積層して得られる炭素材料積層体であって、かつ、ダイヤモンド粒子表面のCNT被覆率は10%以上であることを特徴とする(CNF,CNT)/ダイヤモンドの炭素材料積層体(E2)、
(13)前記(8)に記載の炭素/セラミックス積層体(F)は、セラミックスと、カーボンナノファイバー(CNF)及び/又はカーボンナノチューブ(CNT)とが、接着剤(D)を介して積層して得られる炭素/セラミックス積層体であって、かつ、セラミックス表面のCNT被覆率は10%以上であることを特徴とする炭素/セラミックス積層体、
(14)前記(9)に記載の炭素/金属積層体(G)は、金属と、カーボンナノファイバー(CNF)及び/又はカーボンナノチューブ(CNT)とが、接着剤(D)を介して積層して得られる炭素/金属積層体であって、かつ、金属表面のCNT被覆率は10%以上であることを特徴とする炭素/金属積層体、
(15)前記(12)に記載の(CNF,CNT)/ダイヤモンドの積層体(E2)を含有することを特徴とするレジンボンド砥石、
(16)前記(12)に記載の(CNF,CNT)/ダイヤモンドの積層体(E2)を含有することを特徴とするソーワイヤー、
(17)基材である炭素材料(C)の表面に前記(1)〜(5)のいずれか一項に記載の接着剤(D)を接触させ、基材と接着剤の間に化学結合により接着層を形成してから、同一又は異なる炭素材料を接着層に接触させ、化学結合により接着させることを特徴とする炭素材料積層体(E)の製造方法、
(18)基材は炭素繊維(CF)、ダイヤモンド(DM)、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)、カーボンナノファイバー(CNF)から選択される1種以上の材料であって、接着させる炭素材料はカーボンナノチューブ(CNT)、カーボンナノファイバー(CNF)であることを特徴である前記(17)に記載の炭素材料積層体(E)の製造方法、
(19)基材であるセラミックスの表面に前記(1)〜(5)のいずれか一項に記載の接着剤(D)を接触させ、基材と接着剤の間に化学結合により接着層を形成してから、炭素材料(C)を接着層に接触させ、化学結合により接着させることを特徴とする炭素/セラミックス積層体(F)の製造方法、
(20)基材はセラミックスであって、接着させる炭素材料はカーボンナノファイバー(CNF)及び/又はカーボンナノチューブ(CNT)であることを特徴である前記(19)に記載の炭素/セラミックス積層体(F)の製造方法、
(21)樹脂材料に前記(1)〜(5)のいずれか一項に記載の接着剤(D)を混ぜ込んでから、炭素材料(C)と複合させることを特徴とする炭素/樹脂複合体(H)の製造方法、
(22)炭素材料が炭素繊維(CF)、カーボンナノファイバー(CNF)、カーボンナノチューブ(CNT)から選択される1種以上の材料であることを特徴とする前記(21)に記載の炭素/樹脂複合体(H)の製造方法
を提供するものである。
本発明に用いられるビニルモノマー(A)は活性水素と反応する官能基を有するビニルモノマーである。本発明でいう活性水素とは、炭素材料の表面に有するカルボキシル基やフェノール性水酸基の活性水素のことである。また、ビニルモノマー(A)が有する官能基は、通常の温度、圧力、触媒存在下などの反応条件において、これらの活性水素と反応できる官能基であれば、特に限定することはない。例えば、アミン基、アルコール基、酸無水物、グリシジル基、イソシアネート基、オキソゾリン基、カルボジイミド基などが挙げられる。このうち、グリシジル基、イソシアネート基、カルボジイミド基とオキソゾリン基が活性水素との反応性が高く、好ましい。なかでも、オキサゾリン基が最も高い反応性を有し、且つ、活性水素との付加反応は副生成物を発生しないため、特に好ましい。
(1)接着剤を水や有機溶媒中に溶解させ、接着剤溶液を調製する。得られた溶液を所定の温度に加熱し、繊維状の基材を所定の速度で接着剤溶液に通過させ、基材表面のカルボキシル基などの官能基に有する活性水素と接着剤のオキサゾリンなどの官能基を反応させ、基材の表面に薄く且つ均一な接着層を形成させる。また、粒子状の基材を所定温度に加熱した接着剤溶液中に加えるか、粒子状の基材に加熱された接着剤溶液を掛け流すかにより基材表面のカルボキシル基などの官能基に有する活性水素と接着剤のオキサゾリンなどの官能基を反応させ、基材の表面に薄く且つ均一な接着層を形成させる。
(2)室温又は低温で上記(1)の作業を行い、基材の表面に接着剤を接触させる。その後、所定温度に加熱し、溶媒を除去させながら、基材表面のカルボキシル基などの官能基に有する活性水素と接着剤のオキサゾリンなどの官能基を反応させ、基材の表面に薄く且つ均一な接着層を形成させる。
(1)積層材を水や有機溶媒中に分散させ、積層材の分散液又はワックスを調製する。また、均一な積層体を得るため、濃度の低い積層材分散液が好ましい。得られた積層材分散液を所定の温度に加熱し、表面に接着層を有する繊維状基材を所定の速度で積層材分散液に通過させ、積層材の表面にカルボキシル基などの官能基と接着剤のオキサゾリンなどの官能基とを反応させ、基材の表面に接着層を介して積層材を接着させ、基材/接着層/積層材からなる積層体が形成される。また、表面に接着層を有する粒子状の基材を所定温度に加熱された積層材の分散液中に加えるか、表面に接着層を有する粒子状の基材に加熱された積層材分散液を掛け流すかにより積層材表面のカルボキシル基などの官能基と接着剤のオキサゾリンなどの官能基を反応させ、基材の表面に接着層を介して積層材を接着させ、基材/接着層/積層材からなる積層体が形成される。
(2)室温又は低温で上記(1)の作業を行い、積層材の表面に接着剤を接触させた後、所定温度に加熱し、水や溶媒を除去させながら、積層材表面のカルボキシル基などの官能基と接着剤のオキサゾリンなどの官能基とを反応させ、基材の表面に接着層を介して積層材を接着させ、基材/接着層/積層材からなる積層体が形成される。
(1)グリシジル基を有するビニルモノマー(A1)
GMA:グリシジルメタクリレート
MGAM:N−メチル−N−グリシジルアクリルアミド(KJケミカルズ株式会社により製造され、登録商標は「Kohshylmer」である。)
(2)イソシアネート基を有するビニルモノマー(A2)
MOI:2−イソシアネートエチルメタクリレート
(3)オキサゾリン基を有するビニルモノマー(A3)
VOZO:2−ビニル−2−オキサゾリン
IPOZO:2−イソプロペニル−2−オキサゾリン
(これらのモノマーは、KJケミカルズ株式会社により製造され、登録商標は「Kohshylmer」である。)
(4)共重合に用いられるビニル系モノマー
「ACMO」:アクリロイルモルフォリン(KJケミカルズ株式会社の製品である。登録商標は「ACMO」と「Kohshylmer」である。)
AM−90G:メトキシポリエチレングリコール400アクリレート(EO 9mol)(新中村化学製)
NVP:N−ビニルピロリドン
SA:ステアリルアクリレート
(5)炭素材料
CF:炭素繊維(東レ株式会社製、PAN系CF、商品名「トレカ糸T700 12K」、直径7μm)アセトンで洗浄して、乾燥させた。表面に有する官能基の量=4×10−6(mol/m2)
CNT:カーボンナノチューブ(Nanocyl社製、NC7000、直径11nm、クロロホルムで洗浄して、乾燥させた。表面に有する官能基の量=7×10−6(mol/m2)
BCNT:ビーズミル処理CNT(ビーズミル処理:N−メチルピロリドン 39.8g、CNT 0.8gとビーズ(ジルコニア製Φ0.5mm)160gを湿式ビーズミル装置(アイメックス社製RMB−08)のベッセル内に加え、1000rpmで1.5時間攪拌することによってビーズミル処理を行った。その後、溶液を1Lのビーカーにビーズごと全て入れ、イオン交換水を加えて軽く振り、上澄みを取り出していくことで上澄み中に浮遊するカーボンナノチューブと底に沈降するジルコニアビーズを分けた。この操作を何度も繰り返し、カーボンナノチューブとジルコニアビーズを完全に分けた後、上澄みをろ過し、80℃で4h真空乾燥させ、黒色粉末としてビーズミル処理カーボンナノチューブ(BCNT)を得た。)
CSCNT:カップスタックカーボンナノチューブ(株式会社GSIクレオス社製、クロロホルムで洗浄して、乾燥させた。表面に有する官能基の量=1×10−5(mol/m2))
DM75:ダイヤモンド、平均直径75μm(トラストウエル社製のTMD、未処理)
DM50:ダイヤモンド、平均直径50μm(トーメイダイヤ社製のIRV−3、未処理、表面に有する官能基の量=9×10−6(mol/m2))。
DM10:ダイヤモンド、平均直径10μm(トーメイダイヤ社製のIRM−16、未処理)
BN:セラミックス(板状窒化ホウ素、未処理)
SCBN:セラミックス(トラストウエル社製の立方晶窒化ホウ素、未処理)
NMC:活物質(三元系の正極活物Li(NiMnCo)O2)
LCO:活物質(層状構造の二酸化コバルトリチウム)
Al板:アルミ箔(厚み20μm)
(6)汎用樹脂
PP:ポリプロピレン樹脂(日本ポリプロ株式会社製、MA3)
PMP:無水マレイン酸変性ポリプロピレン(三洋化成工業株式会社製、ユーメックス1010)
PA:ポリメチルペンテン樹脂(三井化学株式会社製、TPX MX002)
PMA:酸変性ポリメチルペンテン樹脂(三井化学株式会社製、TPX MM−101B)
PF:ポリフェノール樹脂(粉末)
(7)その他
AIBN:アゾビスブチロニトリル(和光純薬、試薬)
NMP:N−メチルピロリドン
EtOH:エチルアルコール
DMF:N,N−ジメチルホルムアミド
「KJCMPA」:3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド(KJケミカルズ社製、登録商標「KJCMPA」)
(1)SEM測定:
各種基材の表面、積層体の表面をSEM装置(JEOL)により観察を行った。観察条件:印加電圧10kV、エミッション電流10μA、白金蒸着後のSEM観察。
(2)被覆率の算出方法
SEM画像を白黒2色化にし、炭素材料の被覆している箇所が白色、被覆していない箇所を黒色で表示し、被覆率(%)=(白色のピクセル数)/(測定領域全体のピクセル数)と算出した。
合成実施例1(重合体(B1)の合成)
撹拌装置、温度計、冷却器及び乾燥窒素導入管を備えた容量500mLの反応容器にVOZO9.7g(100mmol)、「ACMO」 113.0g(850mmol)、AM−90G 22.7g(50mmol)、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)1.6g(10mmol)、酢酸エチル220mLを仕込んで、乾燥窒素気流下、反応液を30℃で60分攪拌した後、70℃で12時間重合反応を行った。反応終了後、室温に戻し、粘性のある反応液をヘキサン(約1L)に注ぎ、白色沈殿物を得た。その後、上澄みを廃棄し、ヘキサンで2回沈殿物を洗浄した後、40℃で3時間真空乾燥を行い、白色粉末状の生成物 132.5gを得た(収率=91.1%)。
該生成物は、赤外線吸収スペクトル(IR)により、VOZO由来のオキサゾリン基に特有な吸収(1660cm−1)、「ACMO」由来のアミド基に特有な吸収(1640cm−1)とAM−90G由来のエステル基に特有な吸収(1730cm−1)が検出され、また、これらのモノマー由来のビニル基の吸収(1620cm−1)は検出されず、重合体(B1)の生成を確認した。重合体(B1)のTgはDSC(島津製作所社製DSC−60Plus、昇温速度10℃/min)により測定し、83℃であった。重合体の重量平均分子量(Mw)はGPC法(島津製作所社製Prominence−I LC−2030C、標準ポリスチレン)により分析し、18,000であることを確認した。
合成実施例1と同様に、グリシジル基を有するビニルモノマー(A1)、イソシアネート基を有するビニルモノマー(A2)、オキサゾリン基を有するビニルモノマー(A3)、その他の共重合可能なビニル系単量体、及びAIBNを表1に示す所定の量を用い、合成実施例2〜6と合成比較例1〜2の重合を行い、得られた重合物を合成実施例1と同様に精製し、それぞれの重合体(B2〜B6とP1〜P2)を白色又は淡黄色粉末状の生成物として取得した。次いで、合成実施例1と同様に、重合体B2〜B6とP1〜P2の同定(IR)、Tg測定、分子量測定(GPC)を行い、収率と共に表1に示した。
炭素材料と分散剤を表2に示す割合で混合し、バス型超音波装置(ELMA社製、S30)を用いて、30℃で30分間処理し、分散液1〜11を得た。
実施例1
本発明の重合体(B2)を100%含有する接着剤(D1)を用いて、10%のエタノール溶液を調製し、60℃を保つように加熱しながら、基材である長さ3mの炭素繊維(C1)を1mm/秒の速度で接着剤(D1)溶液槽に通過させた。その後、同様の速度でエタノールの槽に通過させ(洗浄)、80℃の熱風で3分間乾燥させ、表面に接着層を有する炭素繊維を得た。その後、得られた接着層を有する炭素繊維を前記と同様の速度で100℃に加熱した分散液1(BCNTのKJCMPA分散液)の槽を通過させた。その後、同様にエタノールにより洗浄を行い、160℃の熱風で3分間乾燥させ、CFとCNTの積層体(E1)を得た。BCNT/CF積層体のSEM写真を図1に示す。積層体E1の被覆率は24.8%であった。
実施例2と比較例2
本発明の重合体(B3)を100%含有する接着剤(D2)を用いて、10%のエタノール溶液を調製した。Al板に25μLを滴下し、回転数1500rpm、4分間スピンコートした後、ホットプレートで120℃、10分間加熱した。接着剤にコーティングされたAl板をエタノール入りのビーカーに入れてラボシェーカーで200rpm、10分間攪拌により洗浄を行い、更にホットプレートで80℃、10分間加熱してエタノールを除去した(乾燥)。当該乾燥後Al板に分散液2(CNTの水分散液)を25μL滴下し、同様にスピンコートしホットプレートで120℃、10分間加熱した。その後、同様にエタノールで洗浄とホットプレートで乾燥を行い、CNTと金属の積層体(G1)を得た。また、最後のエタノール洗浄前後の積層体G1において、CNT被覆率を測定した(表3)。
基材として炭素繊維、ダイヤモンド、セラミックス、金属など、接着剤、積層材としてカーボンナノチューブ、ダイヤモンドなどを用いて、前記の同時加熱方法又は後加熱方法により炭素材料積層体(E)、炭素/セラミックス積層体(F)、炭素/金属積層体(G)、炭素/樹脂複合体(H)を製造した。原料、製造条件、製品の構成、被覆率などを表3に纏めて示す。また、基材及び積層体のSEM写真を図2〜10に示す。
(1)CNT被覆ダイヤモンドの作製
ダイヤモンド粒子DM10と分散剤NMPから調製された分散液9 95質量部と、重合体(B2)を100%含有する接着剤(D1)5重量部とを反応容器に仕込んで、100℃で3時間撹拌を行い、その後重合体に被覆されたダイヤモンド粒子をろ過で取り出し、エタノールを1Lのゆっくりかけ流しにより洗浄を行った。洗浄後被覆ダイヤモンド粒子と分散液11 95質量部とを反応容器に仕込んで、100℃で3時間撹拌を行い、その後BCNTに被覆されたダイヤモンド粒子をろ過で取り出し、エタノールを1Lのゆっくりかけ流しにより洗浄を行った。BCNTによる被覆作業が5回行い、最後のエタノール洗浄後、80℃で1h加熱により乾燥を実施し、CNT被覆ダイヤモンドを得た。なお、CNT被覆率は41.0%であった。
直径0.1mm、長さ50cmのピアノ線(ジャパンファインスチール)を用い、酸性溶液中に50℃3分間浸してエッチング処理を行った。処理後のピアノ線をダイヤモンド粒子とフェノール樹脂からなるスラリーにディップさせ、直径0.15mmの孔を通して引き上げることによりピアノ線にダイヤモンド粒子とフェノール樹脂のスラリーを塗布した。当該塗布後ピアノ線にヒートガンを用いて温風を2分間当てた後、オーブンで200℃、8時間加熱することによりダイヤモンドレジンボンドワイヤーソーを作製した。ダイヤモンド粒子としては、実施例13はCNT被覆ダイヤモンドを用い、比較例5と6は未処理ダイヤモンドDM10、Ni被覆ダイヤモンドをそれぞれ用いた。これらのダイヤモンドの表面状態は図11〜13に示す。
幅30cmの台座にワイヤーソーを張り、張力10Nになるように両端を固定し、シリコンインゴットまたはシリコンウエハーをワイヤーソーの中央部分にくるように固定した。台座をストローク幅150mm、速さ200mm/秒で往復させ、シリコンインゴットを15μm/秒の速さでワイヤーソーに押し込むことで15分間の切削を行った。切削後、シリコンインゴットの切り込み深さとシリコンウエハーの切削面の表面粗さを下記方法で評価し、結果を表4に示す。
切削試験後、シリコンインゴットにできた切り込みを光学顕微鏡で撮影し、画像解析により切り込み深さ(mm)を測定した。なお、切り込み深さの値は、3回試験の平均値である。
切削試験後、シリコンウエハーの切削面を白色干渉計で撮影し、画像解析することで表面粗さ(Ra)(μm)を測定した。なお、表面粗さ(Ra)の値は、3回試験の平均値である。
Claims (22)
- 活性水素と反応する官能基を有するビニルモノマー(A)から重合してなる重合体(B)を含有する、炭素材料(C)の接着に用いられる反応性接着剤(D)。
- ビニルモノマー(A)の官能基は、オキサゾリン基、グリシジル基、イソシアネート基、カルボジイミド基から選択される1種以上の官能基であることを特徴とする請求項1に記載の接着剤(D)。
- 重合体(B)を構成するビニルモノマー(A)由来の構成単位は10mol%以上であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の接着剤(D)。
- 重合体(B)のガラス転移温度(Tg)は80℃以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の接着剤(D)。
- 重合体(B)を構成するオキサゾリン基を有するビニルモノマー(A)由来の構成単位は90mol%を超えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の接着剤(D)。
- 炭素材料(C)は炭素繊維(CF)、グラファイト、ダイヤモンド(DM)、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)、カーボンブラック(CB)、ナノカーボンファイバー(CNF)、カーボンナノチューブ(CNT)、グラフェン、フラーレンから選択される1種以上の材料であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の接着剤(D)。
- 請求項1〜6にいずれか一項に記載の接着剤(D)を介し、炭素材料(C)が積層されてなる炭素材料積層体(E)。
- 請求項1〜6にいずれか一項に記載の接着剤(D)を介し、炭素材料(C)とセラミックスが積層されてなる炭素/セラミックス積層体(F)。
- 請求項1〜6にいずれか一項に記載の接着剤(D)を介し、炭素材料(C)と金属が積層されてなる炭素/金属積層体(G)。
- 請求項1〜6にいずれか一項に記載の接着剤(D)を介し、炭素材料(C)と樹脂材料を複合してなる炭素/樹脂複合体(H)。
- 請求項7に記載の炭素材料積層体(E)は、炭素繊維(CF)と、カーボンナノファイバー(CNF)及び/又はカーボンナノチューブ(CNT)とが、接着剤(D)を介して積層して得られる積層体であって、かつ、CF表面のCNF及び/又はCNTの被覆率は10%以上であることを特徴とする(CNF,CNT)/CFの積層体(E1)。
- 請求項7に記載の炭素材料積層体(E)は、ダイヤモンド粒子と、カーボンナノファイバー(CNF)及び/又はカーボンナノチューブ(CNT)とが、接着剤(D)を介して積層して得られる積層体であって、かつ、ダイヤモンド粒子表面のCNT被覆率は10%以上であることを特徴とする(CNF,CNT)/ダイヤモンドの積層体(E2)。
- 請求項8に記載の炭素/セラミックス積層体(F)は、セラミックスと、カーボンナノファイバー(CNF)及び/又はカーボンナノチューブ(CNT)とが、接着剤(D)を介して積層して得られる積層体であって、かつ、セラミックス表面のCNT被覆率は10%以上であることを特徴とする炭素/セラミックス積層体。
- 請求項9に記載の炭素/金属積層体(G)は、金属と、カーボンナノファイバー(CNF)及び/又はカーボンナノチューブ(CNT)とが、接着剤(D)を介して積層して得られる積層体であって、かつ、金属表面のCNT被覆率は10%以上であることを特徴とする炭素/金属積層体。
- 請求項12に記載の(CNF,CNT)/ダイヤモンドの積層体(E2)を含有することを特徴とするレジンボンド砥石。
- 請求項12に記載の(CNF,CNT)/ダイヤモンドの積層体(E2)を含有することを特徴とするソーワイヤー。
- 基材である炭素材料(C)の表面に請求項1〜5のいずれか一項に記載の接着剤(D)を接触させ、基材と接着剤の間に化学結合により接着層を形成してから、同一又は異なる炭素材料を接着層に接触させ、化学結合により接着させることを特徴とする炭素材料積層体(E)の製造方法。
- 基材は炭素繊維(CF)、ダイヤモンド(DM)、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)、カーボンナノファイバー(CNF)から選択される1種以上の材料であって、接着させる炭素材料はカーボンナノチューブ(CNT)、カーボンナノファイバー(CNF)であることを特徴である請求項17に記載の炭素材料積層体(E)の製造方法。
- 基材であるセラミックスの表面に前記(1)〜(5)のいずれか一項に記載の接着剤(D)を接触させ、基材と接着剤の間に化学結合により接着層を形成してから、炭素材料(C)を接着層に接触させ、化学結合により接着させることを特徴とする炭素/セラミックス積層体(F)の製造方法。
- 基材はセラミックスであって、接着させる炭素材料はカーボンナノファイバー(CNF)及び/又はカーボンナノチューブ(CNT)であることを特徴である前記(19)に記載の炭素/セラミックス積層体(F)の製造方法。
- 樹脂材料に前記(1)〜(5)のいずれか一項に記載の接着剤(D)を混ぜ込んでから、炭素材料(C)と複合させることを特徴とする炭素/樹脂複合体(H)の製造方法。
- 炭素材料が炭素繊維(CF)、カーボンナノファイバー(CNF)、カーボンナノチューブ(CNT)から選択される1種以上の材料であることを特徴とする前記(21)に記載の炭素/樹脂複合体(H)の製造方法。
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