JP2020089875A - 厚膜を形成するための非線形流体ディスペンサの使用 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (19)
- 複数のノズルを有する流体ディスペンサと共に使用するための、制御装置を制御する方法であって、
前記流体ディスペンサの前記複数のノズルから基板上に液滴をディスペンスするのに使用される液滴パターンをデータとして取得する工程と、
前記取得された液滴パターンの液滴間の距離に基づいて、前記取得された液滴パターンを複数の液滴パターンに分割する工程と、
前記取得された液滴パターンを前記複数の液滴パターンに置き換えて、前記流体ディスペンサから前記基板上に液滴をディスペンスする工程と、
を有することを特徴とする方法。 - 前記取得された液滴パターンは、前記複数のノズル間のクロストークのレベルまたはディスペンスされた液滴体積の非線形性を生成するように構成され、
前記分割する工程は、前記複数の液滴パターンが前記複数のノズル間のクロストークのレベルまたはディスペンスされた液滴体積の非線形性を低減するように、前記取得された液滴パターンを前記複数の液滴パターンに分割する工程を含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記分割する工程は、前記取得された液滴パターンを複数のマルチパス液滴パターンに分割する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 制御装置を用いて、複数のノズルを有する流体ディスペンサから基板上に液滴をディスペンスすることを制御する方法であって、
前記流体ディスペンサによってテスト基板上にディスペンスされてできた膜の測定された厚さに対する液滴パターン密度に関する較正情報を含む較正曲線を取得する工程と、
前記較正曲線に基づく液滴パターン密度を有するオリジナル液滴パターンを生成する工程と、ここで、前記制御装置は、前記生成されたオリジナル液滴パターンを、前記流体ディスペンサから前記基板上に液滴をディスペンスするのに使用するように構成されており、
前記オリジナル液滴パターンの前記液滴パターン密度における各液滴の値を求める工程と、
前記制御装置の利用の制御を行う工程と、
を有し、
前記求められた少なくとも1つの値が第2範囲内にあり、前記第2範囲にわたる線形性からの偏差が所定の閾値よりも大きい場合、前記制御を行う工程は、
複数のサブパターンの各々の間で前記オリジナル液滴パターンをランダムに分割する工程と、
前記生成されたオリジナル液滴パターンを前記複数のサブパターンに置き換えて、前記流体ディスペンサから前記基板上に液滴をディスペンスする工程と、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記求められた値の各々が第1範囲内にあり、前記第1範囲にわたる線形性からの偏差が前記所定の閾値より小さい場合、前記制御を行う工程は、前記オリジナル液滴パターンに基づいて、前記流体ディスペンサから前記基板上に、単一のパスで、液滴をディスペンスする工程を含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 前記複数のサブパターンの各々の間で前記オリジナル液滴パターンをランダムに分割した後、前記複数のサブパターンの各々に対する前記液滴パターン密度の全ての値は、前記第1範囲内にあり、前記第1範囲にわたる線形性からの偏差が前記所定の閾値より小さいことを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 前記制御を行う工程は、前記複数のサブパターンに基づいて、前記流体ディスペンサから前記基板上に、複数のパスで液滴をディスペンスする工程を含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 前記複数のサブパターンを含む前記オリジナル液滴パターンからマルチパス液滴パターンを生成する工程を更に含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 前記テスト基板上にディスペンスされた前記膜の空間膜厚パターン情報を受信する工程を更に有することを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 前記オリジナル液滴パターンまたは前記複数のサブパターンのうちのいずれかに基づいて、前記流体ディスペンサから前記基板上に液滴をディスペンスする工程を更に有することを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 請求項4に記載の方法をプロセッサに実行させるプログラムを記憶する非一時的なコンピュータが読み取り可能な記憶媒体。
- 複数のノズルを有する流体ディスペンサから基板上に液滴をディスペンスすることを制御する制御装置であって、
1つ以上のプロセッサと、
前記1つ以上のプロセッサによって実行されると、該プロセッサに処理を実行させる命令を格納するメモリと、を有し、前記処理は、
前記流体ディスペンサによってテスト基板上にディスペンスされてできた膜の測定された厚さに対する液滴パターン密度に関する較正情報を含む較正曲線を取得する工程と、
前記較正曲線に基づく液滴パターン密度を有するオリジナル液滴パターンを生成する工程と、ここで、前記制御装置は、前記生成されたオリジナル液滴パターンを、前記流体ディスペンサから前記基板上に液滴をディスペンスするのに使用するように構成されており、
前記オリジナル液滴パターンの前記液滴パターン密度における各液滴の値を求める工程と、
前記制御装置の利用の制御を行う工程と、
を含み、
前記求められた少なくとも1つの値が第2範囲内にあり、前記第2範囲にわたる線形性からの偏差が所定の閾値よりも大きい場合、前記制御を行う工程は、
複数のサブパターンの各々の間で前記オリジナル液滴パターンをランダムに分割する工程と、
前記生成されたオリジナル液滴パターンを前記複数のサブパターンに置き換えて、前記流体ディスペンサから前記基板上に液滴をディスペンスする工程と、
を含むことを特徴とする制御装置。 - 複数のノズルを有する流体ディスペンサと共に使用するための制御装置を制御する方法であって、
前記流体ディスペンサから基板上に液滴をディスペンスするのに使用される液滴パターンをデータとして取得する工程と、
前記取得された液滴パターンを、前記複数のノズル間のクロストークのレベルまたはディスペンスされた液滴体積の非線形性を低減するように構成された修正液滴パターンに修正する工程と、
前記取得された液滴パターンを前記修正液滴パターンに置き換えて、前記流体ディスペンサから前記基板上に液滴をディスペンスする工程と、
を有することを特徴とする方法。 - 前記制御装置が相補液滴パターン量を利用する場合、前記修正する工程は、前記取得された液滴パターンを複数の液滴パターンに分割する工程を含み、
前記制御装置が相補液滴パターン量を利用しない場合、前記修正する工程は、前記液滴パターンを第2液滴パターンにランダム化する工程を含む、
ことを特徴とする請求項13に記載の方法。 - 前記制御装置が前記相補液滴パターン量を利用する場合、前記取得された液滴パターンを分割する工程は、前記取得された液滴パターンを複数のランダム分割液滴パターンにランダムに分割する工程を含むことを特徴とする請求項14に記載の方法。
- 前記取得された液滴パターンをランダムに分割した後、前記制御装置が前記相補液滴パターン量を利用する場合、前記修正する工程は、前記複数のランダム分割液滴パターンの各々を、複数のランダムに分割されたランダム分割液滴パターンにランダム化する工程を含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 前記修正液滴パターンに置き換える工程は、前記複数の液滴パターン、前記第2液滴パターン、前記複数のランダム分割液滴パターン、または前記複数のランダムに分割されたランダム分割液滴パターンのうちの1つを置き換えることを含み、前記方法は、各パターンをノズル列に適用して、各パターンに従って前記基板上に液滴を配置させることによって前記基板上にナノ回路パターン層を有する製品を生成することを更に有することを特徴とする請求項16に記載の方法。
- 物品を製造する方法であって、
液滴パターン生成アプリケーションから出力された液滴パターンをデータとして取得する工程と、
前記取得された液滴パターンを、複数のノズル間のクロストークのレベルまたはディスペンスされた液滴体積の非線形性を低減するように構成された修正液滴パターンに修正する工程と、
前記取得された液滴パターンを前記修正液滴パターンに、前記基板上に液滴をディスペンスする際に使用するために置き換える工程と、
複数のノズルを有する流体ディスペンサに前記修正液滴パターンを適用して、前記流体ディスペンサから前記基板上に液滴をディスペンスし、前記基板上にパターン層の物品を生成する工程と、
を有することを特徴とする方法。 - 前記方法が相補液滴パターン量を利用する場合、前記取得された液滴パターンは、複数の液滴パターンに分割されるか、複数のランダムディスペンスパターンにランダムに分割されるか、または、前記複数のランダムディスペンスパターンを複数のランダムに分割されたランダム分割液滴パターンにランダム化するか、のいずれか1つがなされ、
前記方法が相補液滴パターン量を利用しない場合、前記取得された液滴パターンは、第2液滴パターンにランダム化される、
ことを特徴とする請求項18に記載の方法。
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