JP2005296904A - 膜形成方法及び膜形成装置 - Google Patents
膜形成方法及び膜形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005296904A JP2005296904A JP2004121068A JP2004121068A JP2005296904A JP 2005296904 A JP2005296904 A JP 2005296904A JP 2004121068 A JP2004121068 A JP 2004121068A JP 2004121068 A JP2004121068 A JP 2004121068A JP 2005296904 A JP2005296904 A JP 2005296904A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- gray
- liquid material
- film thickness
- distribution map
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 88
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 claims abstract description 81
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 60
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 36
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims abstract description 25
- 238000013500 data storage Methods 0.000 claims description 13
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 11
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 19
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 72
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 64
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 15
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- 230000006870 function Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Ink Jet (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【解決手段】 本発明に係る膜形成方法は、試吐出工程において形成された膜の厚さに基づいて、膜厚設定工程で設定された膜厚で厚さが均一な膜が形成されるように、被塗布物に膜を形成する膜形成領域に対し、単位面積毎に、吐出する液状材料のグレーパターンの濃淡レベルを設定した分布図を作成する。この濃淡レベル分布図作成工程で作成された濃淡レベル分布図は液滴の融合後の乾燥過程での膜厚変化による影響が反映されている。従って、この濃淡レベル分布図作成工程で作成した濃淡レベル分布図に基づいた所定の濃淡レベルのグレーパターンで被塗布物に液状材料を吐出することにより、被塗布物に厚さが均一な膜を形成することができる。
【選択図】 図3
Description
10 インクジェットヘッド
11 ノズル
12 ライン型インクジェットノズル
13 インクジェットノズルユニット
15 ノズル制御部
20 膜厚設定部
30 膜厚データ記憶部
31 吐出特性記憶部
32 吐出液滴量調整部
33 グレーパターン記憶部
34 試吐出制御部
40 濃淡レベル分布図作成部
50 膜形成部
m 膜形成領域
m1 中央部
m2 周縁部
Claims (8)
- インクジェットヘッドを用いて液状材料を吐出し被塗布物に均一な膜を形成する膜形成方法において、
前記被塗布物に形成する膜の膜厚を設定する膜厚設定工程と、
前記インクジェットヘッドの吐出特性を考慮して吐出液滴量とドットピッチを調整し、かつ、任意に選択した濃淡レベルのグレーパターンで膜形成領域に対して液状材料を試吐出する試吐出工程と、
前記試吐出工程において形成された膜の厚さに基づいて、膜厚設定工程で設定された膜厚で厚さが均一な膜が形成されるように、被塗布物に膜を形成する膜形成領域に対し、単位面積毎に、吐出する液状材料のグレーパターンの濃淡レベルを設定した分布図を作成する濃淡レベル分布図作成工程と、
前記試吐出工程で調整した吐出液滴量とドットピッチを維持しつつ、濃淡レベル分布図作成工程で作成した濃淡レベル分布図に基づいた濃淡レベルのグレーパターンで被塗布物に液状材料を吐出し、被塗布物に膜を形成する膜形成工程を備えた膜形成方法。 - 前記試吐出工程で、膜厚設定工程で設定した膜厚に基づいて、吐出液滴量、ドットピッチ及びグレーパターンの濃淡レベルを選定することを特徴とする請求項1に記載の膜形成方法。
- 前記濃淡レベル分布図作成工程は、被塗布物に形成する膜の周縁部に対し、単位面積毎に、吐出する液状材料のグレーパターンの濃淡レベルを設定した分布図を作成することを特徴とする請求項2に記載の膜形成方法。
- 前記試吐出工程におけるグレーパターンの濃淡レベルを30%以上100%未満の範囲で選択したことを特徴とする請求項1に記載の膜形成方法。
- 前記試吐出工程で濃淡レベル50%のグレーパターンを選択することを特徴とする請求項1に記載の膜形成方法。
- 前記濃淡レベル分布図作成工程は、被塗布物に形成する膜の周縁部について濃淡レベル分布図を作成する際、任意に選択した縁部と角部に対し、それぞれ単位面積毎に吐出する液状材料のグレーパターンの濃淡レベルを設定した分布図を作成し、各縁部と角部にそれぞれコピーして、濃淡レベル分布図を作成するものであることを特徴とする請求項1に記載の膜形成方法。
- 前記膜形成工程で膜が形成された後、さらに、膜形成工程で形成された膜を試吐出工程で形成された膜として、再び濃淡レベル分布図作成工程及び膜形成工程を行い、これを1又は複数回繰り返すことを特徴とする請求項1に記載の膜形成方法。
- インクジェットヘッドを用いて液状材料を吐出し被塗布物に均一な膜を形成する膜形成装置において、
前記被塗布物に形成する膜の膜厚を設定する膜厚設定部と、
前記インクジェットヘッドの吐出特性を考慮して吐出液滴量とドットピッチを調整し、かつ、任意に選択した濃淡レベルのグレーパターンで膜形成領域に対して液状材料を試吐出し、前記試吐出で形成された膜の膜厚を記憶する膜厚データ記憶部と、
前記膜厚データ記憶部で記憶された膜厚データに基づいて、前記膜厚設定部で設定された膜厚で厚さが均一な膜が形成されるように、被塗布物に膜を形成する膜形成領域に対し、単位面積毎に、吐出する液状材料のグレーパターンの濃淡レベルを設定した分布図を作成する濃淡レベル分布図作成部と、
前記試吐出の際に調整した吐出液滴量とドットピッチを維持しつつ、濃淡レベル分布図作成工程で作成した濃淡レベル分布図に基づいた濃淡レベルのグレーパターンで被塗布物に液状材料を吐出して、被塗布物に膜を形成する膜形成部を備えた膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004121068A JP3981675B2 (ja) | 2004-04-16 | 2004-04-16 | 膜形成方法及び膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004121068A JP3981675B2 (ja) | 2004-04-16 | 2004-04-16 | 膜形成方法及び膜形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005296904A true JP2005296904A (ja) | 2005-10-27 |
| JP3981675B2 JP3981675B2 (ja) | 2007-09-26 |
Family
ID=35329094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004121068A Expired - Lifetime JP3981675B2 (ja) | 2004-04-16 | 2004-04-16 | 膜形成方法及び膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3981675B2 (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007241245A (ja) * | 2006-02-13 | 2007-09-20 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置、機能膜形成方法、液晶配向膜形成装置、液晶表示装置の液晶配向膜形成方法及び液晶表示装置 |
| JP2009252061A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Microjet:Kk | カラーの光学式シンボルを付す装置 |
| JPWO2013089049A1 (ja) * | 2011-12-14 | 2015-04-27 | 住友重機械工業株式会社 | タッチパネルの製造方法、及び基板製造装置 |
| JP2015141843A (ja) * | 2014-01-29 | 2015-08-03 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
| US9755186B2 (en) | 2013-12-12 | 2017-09-05 | Kateeva, Inc. | Calibration of layer thickness and ink volume in fabrication of encapsulation layer for light emitting device |
| US9802403B2 (en) | 2012-12-27 | 2017-10-31 | Kateeva, Inc. | Techniques for print ink droplet measurement and control to deposit fluids within precise tolerances |
| KR20180091883A (ko) * | 2015-12-07 | 2018-08-16 | 카티바, 인크. | 개선된 균질성 및 인쇄 속도로 박막을 제조하는 기술 |
| EP3597432A4 (en) * | 2017-03-16 | 2020-03-04 | Konica Minolta, Inc. | Inkjet recording device and inkjet recording method |
| US10784472B2 (en) | 2012-12-27 | 2020-09-22 | Kateeva, Inc. | Nozzle-droplet combination techniques to deposit fluids in substrate locations within precise tolerances |
| CN113019841A (zh) * | 2021-03-04 | 2021-06-25 | 业成科技(成都)有限公司 | 水胶涂布方法及其多点压电式喷涂装置 |
| US11167303B2 (en) | 2012-12-27 | 2021-11-09 | Kateeva, Inc. | Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy |
| JP2022144374A (ja) * | 2021-03-19 | 2022-10-03 | 東レエンジニアリング株式会社 | 膜パターン形成方法及びインクジェット塗布装置 |
| US11673155B2 (en) | 2012-12-27 | 2023-06-13 | Kateeva, Inc. | Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy |
| JP2025503510A (ja) * | 2022-11-02 | 2025-02-04 | 季華実験室 | Oledインクジェット印刷の膜厚均一性の補償方法 |
| US12330178B2 (en) | 2012-12-27 | 2025-06-17 | Kateeva, Inc. | Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy |
-
2004
- 2004-04-16 JP JP2004121068A patent/JP3981675B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (50)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007241245A (ja) * | 2006-02-13 | 2007-09-20 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置、機能膜形成方法、液晶配向膜形成装置、液晶表示装置の液晶配向膜形成方法及び液晶表示装置 |
| JP2009252061A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Microjet:Kk | カラーの光学式シンボルを付す装置 |
| TWI594804B (zh) * | 2011-12-14 | 2017-08-11 | Sumitomo Heavy Industries | Touch panel manufacturing method |
| JPWO2013089049A1 (ja) * | 2011-12-14 | 2015-04-27 | 住友重機械工業株式会社 | タッチパネルの製造方法、及び基板製造装置 |
| US11678561B2 (en) | 2012-12-27 | 2023-06-13 | Kateeva, Inc. | Nozzle-droplet combination techniques to deposit fluids in substrate locations within precise tolerances |
| US12256626B2 (en) | 2012-12-27 | 2025-03-18 | Kateeva, Inc. | Nozzle-droplet combination techniques to deposit fluids in substrate locations within precise tolerances |
| US9802403B2 (en) | 2012-12-27 | 2017-10-31 | Kateeva, Inc. | Techniques for print ink droplet measurement and control to deposit fluids within precise tolerances |
| US12330178B2 (en) | 2012-12-27 | 2025-06-17 | Kateeva, Inc. | Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy |
| US10784472B2 (en) | 2012-12-27 | 2020-09-22 | Kateeva, Inc. | Nozzle-droplet combination techniques to deposit fluids in substrate locations within precise tolerances |
| US11673155B2 (en) | 2012-12-27 | 2023-06-13 | Kateeva, Inc. | Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy |
| US11489146B2 (en) | 2012-12-27 | 2022-11-01 | Kateeva, Inc. | Techniques for print ink droplet measurement and control to deposit fluids within precise tolerances |
| US11233226B2 (en) | 2012-12-27 | 2022-01-25 | Kateeva, Inc. | Nozzle-droplet combination techniques to deposit fluids in substrate locations within precise tolerances |
| US11167303B2 (en) | 2012-12-27 | 2021-11-09 | Kateeva, Inc. | Techniques for arrayed printing of a permanent layer with improved speed and accuracy |
| US10950826B2 (en) | 2012-12-27 | 2021-03-16 | Kateeva, Inc. | Techniques for print ink droplet measurement and control to deposit fluids within precise tolerances |
| US10797270B2 (en) | 2012-12-27 | 2020-10-06 | Kateeva, Inc. | Nozzle-droplet combination techniques to deposit fluids in substrate locations within precise tolerances |
| US10784470B2 (en) | 2012-12-27 | 2020-09-22 | Kateeva, Inc. | Techniques for print ink droplet measurement and control to deposit fluids within precise tolerances |
| JP2024001010A (ja) * | 2013-12-12 | 2024-01-09 | カティーバ, インコーポレイテッド | ハーフトーニングを用いて厚さを制御するインクベース層加工方法および装置 |
| US9755186B2 (en) | 2013-12-12 | 2017-09-05 | Kateeva, Inc. | Calibration of layer thickness and ink volume in fabrication of encapsulation layer for light emitting device |
| US12334402B2 (en) | 2013-12-12 | 2025-06-17 | Kateeva, Inc. | Fabrication of thin-film encapsulation layer for light-emitting device |
| US10522425B2 (en) | 2013-12-12 | 2019-12-31 | Kateeva, Inc. | Fabrication of thin-film encapsulation layer for light emitting device |
| TWI651847B (zh) * | 2013-12-12 | 2019-02-21 | 凱特伊夫公司 | 產生發光裝置的永久層的方法 |
| US10811324B2 (en) | 2013-12-12 | 2020-10-20 | Kateeva, Inc. | Fabrication of thin-film encapsulation layer for light emitting device |
| US10586742B2 (en) | 2013-12-12 | 2020-03-10 | Kateeva, Inc. | Fabrication of thin-film encapsulation layer for light emitting device |
| JP7648866B2 (ja) | 2013-12-12 | 2025-03-19 | カティーバ, インコーポレイテッド | ハーフトーニングを用いて厚さを制御するインクベース層加工方法および装置 |
| US11088035B2 (en) | 2013-12-12 | 2021-08-10 | Kateeva, Inc. | Fabrication of thin-film encapsulation layer for light emitting device |
| US20180061720A1 (en) * | 2013-12-12 | 2018-03-01 | Kateeva, Inc. | Techniques For Layer Fencing To Improve Edge Linearity |
| JP2022008559A (ja) * | 2013-12-12 | 2022-01-13 | カティーバ, インコーポレイテッド | ハーフトーニングを用いて厚さを制御するインクベース層加工方法および装置 |
| US9806298B2 (en) | 2013-12-12 | 2017-10-31 | Kateeva, Inc. | Techniques for edge management of printed layers in the fabrication of a light emitting device |
| JP2018125308A (ja) * | 2013-12-12 | 2018-08-09 | カティーバ, インコーポレイテッド | ハーフトーニングを用いて厚さを制御するインクベース層加工 |
| US11456220B2 (en) * | 2013-12-12 | 2022-09-27 | Kateeva, Inc. | Techniques for layer fencing to improve edge linearity |
| US9831473B2 (en) | 2013-12-12 | 2017-11-28 | Kateeva, Inc. | Encapsulation layer thickness regulation in light emitting device |
| JP2018125309A (ja) * | 2013-12-12 | 2018-08-09 | カティーバ, インコーポレイテッド | ハーフトーニングを用いて厚さを制御するインクベース層加工 |
| US11551982B2 (en) | 2013-12-12 | 2023-01-10 | Kateeva, Inc. | Fabrication of thin-film encapsulation layer for light-emitting device |
| JP2015141843A (ja) * | 2014-01-29 | 2015-08-03 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
| JP7278640B2 (ja) | 2015-12-07 | 2023-05-22 | カティーバ, インコーポレイテッド | 改良された均一性および印刷速度で薄膜を製造するための技法 |
| JP7654277B2 (ja) | 2015-12-07 | 2025-04-01 | カティーバ, インコーポレイテッド | 改良された均一性および印刷速度で薄膜を製造するための技法 |
| JP2023109778A (ja) * | 2015-12-07 | 2023-08-08 | カティーバ, インコーポレイテッド | 改良された均一性および印刷速度で薄膜を製造するための技法 |
| JP2022008798A (ja) * | 2015-12-07 | 2022-01-14 | カティーバ, インコーポレイテッド | 改良された均一性および印刷速度で薄膜を製造するための技法 |
| KR102838767B1 (ko) | 2015-12-07 | 2025-07-24 | 카티바, 인크. | 개선된 균질성 및 인쇄 속도로 박막을 제조하는 기술 |
| KR102644620B1 (ko) | 2015-12-07 | 2024-03-06 | 카티바, 인크. | 개선된 균질성 및 인쇄 속도로 박막을 제조하는 기술 |
| KR20240033163A (ko) * | 2015-12-07 | 2024-03-12 | 카티바, 인크. | 개선된 균질성 및 인쇄 속도로 박막을 제조하는 기술 |
| US12059910B2 (en) | 2015-12-07 | 2024-08-13 | Kateeva, Inc. | Techniques for manufacturing thin films with improved homogeneity and print speed |
| KR20180091883A (ko) * | 2015-12-07 | 2018-08-16 | 카티바, 인크. | 개선된 균질성 및 인쇄 속도로 박막을 제조하는 기술 |
| JP2019502540A (ja) * | 2015-12-07 | 2019-01-31 | カティーバ, インコーポレイテッド | 改良された均一性および印刷速度で薄膜を製造するための技法 |
| EP3597432A4 (en) * | 2017-03-16 | 2020-03-04 | Konica Minolta, Inc. | Inkjet recording device and inkjet recording method |
| CN113019841A (zh) * | 2021-03-04 | 2021-06-25 | 业成科技(成都)有限公司 | 水胶涂布方法及其多点压电式喷涂装置 |
| JP2022144374A (ja) * | 2021-03-19 | 2022-10-03 | 東レエンジニアリング株式会社 | 膜パターン形成方法及びインクジェット塗布装置 |
| JP7428677B2 (ja) | 2021-03-19 | 2024-02-06 | 東レエンジニアリング株式会社 | 膜パターン形成方法及びインクジェット塗布装置 |
| JP2025503510A (ja) * | 2022-11-02 | 2025-02-04 | 季華実験室 | Oledインクジェット印刷の膜厚均一性の補償方法 |
| JP7777688B2 (ja) | 2022-11-02 | 2025-11-28 | 季華実験室 | Oledインクジェット印刷の膜厚均一性の補償方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3981675B2 (ja) | 2007-09-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3981675B2 (ja) | 膜形成方法及び膜形成装置 | |
| JP5095324B2 (ja) | インクジェットヘッド駆動装置及びインクジェットヘッド駆動方法 | |
| JP5939919B2 (ja) | インクジェット記録装置およびインクジェット記録方法 | |
| US8967750B2 (en) | Inkjet recording apparatus and image recording method | |
| US7784921B2 (en) | Liquid ejection head and image forming apparatus | |
| US20080273060A1 (en) | Liquid discharging apparatus and liquid discharging method | |
| US20110234676A1 (en) | Method of printing test pattern and inkjet recording apparatus | |
| JP4437805B2 (ja) | インク吐出装置及びインク吐出制御方法 | |
| JP5322786B2 (ja) | インクジェットヘッドの濃度ムラ判定方法及びその装置 | |
| JP2005238787A (ja) | インク吐出量測定方法と、これを用いたインク吐出量制御方法及びインクジェット装置 | |
| US7401896B2 (en) | Liquid droplet ejection head, liquid droplet ejection apparatus and image recording method | |
| JP2006061795A (ja) | 液滴吐出方法および液滴吐出装置 | |
| JP4364840B2 (ja) | インクジェットプリンタの吐出量制御方法及び吐出量制御装置 | |
| JP2005001346A (ja) | 液体吐出装置及び液体吐出方法 | |
| JP6837601B2 (ja) | 記録装置及び記録装置用プログラム | |
| WO2016166965A1 (ja) | 液滴吐出方法、液滴吐出装置、プログラム | |
| KR20220051396A (ko) | 인쇄 디바이스의 교정 | |
| CN110418718A (zh) | 喷墨记录装置及喷墨记录方法 | |
| JP4710258B2 (ja) | カラーフィルタの形成方法と形成装置 | |
| JP4487145B2 (ja) | 画像処理方法及び装置並びに画像形成装置 | |
| JP2025179630A (ja) | 液体吐出装置、制御方法、物品の製造方法、プログラム及び記録媒体 | |
| JP2004322332A (ja) | インクジェット記録装置 | |
| CN118844132A (zh) | 印刷装置以及印刷方法 | |
| JP2010217643A (ja) | 液滴吐出装置、液滴吐出方法、及びカラーフィルターの製造方法 | |
| JP2007190774A (ja) | 画像処理方法及び装置並びに画像形成装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061113 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061120 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070119 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070302 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070425 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070531 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070702 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3981675 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100706 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100706 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110706 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120706 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130706 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |
