JP2017092318A - パターン形成方法、インプリントシステムおよび物品製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
T1は、サンプル作成工程におけるディスペンサー110による複数の領域Rのうちの1つの領域Rに対する複数のテスト液滴の配置から該複数のテスト液滴の硬化の開始までの時間(第1時間)である。また、T2は、物品の製造のためのインプリント工程における複数のショット領域のうち前記1つの領域Rに対応するショット領域に対するディスペンサー110による複数の液滴の配置から該複数の液滴の硬化の開始までの時間(第2時間)である。つまり、第1時間T1が第2時間T2より短いことが好ましい。
T3は、物品の製造のためのインプリント工程における複数のショット領域のうち前記1つの領域Rに対応するショット領域に対するディスペンサー110による複数の液滴の配置から該複数の液滴に対する型101の接触までの時間(第3時間T3)である。つまり、第1時間T1が第3時間T3より短いことが好ましい。
更には、インプリント材120としての紫外線硬化樹脂の硬化時間(図8に示された紫外線硬化樹脂Aの場合は、便宜的に硬化時間Taとすることができる)をTcとした場合、前記タイミングは、式(4)の関係を満たすことが好ましい。
式(4)は、サンプルの作成時におけるインプリント材の硬化のタイミングを物品の製造時におけるインプリント材の液滴に対する型101の接触のタイミングより早くすることを意味する。
Claims (14)
- インプリント材を供給する供給部によってテスト領域の上にインプリント材の複数のテスト液滴を配置し、前記複数のテスト液滴にパージガスが供給された状態で前記複数のテスト液滴を硬化させることによって複数の液滴硬化物を有するサンプルを作成するサンプル作成工程と、
前記サンプルにおける前記複数の液滴硬化物を評価する評価工程と、
基板に形成すべきパターンの設計情報と前記評価工程で得られた結果とに基づいて配置レシピを生成する生成工程と、
前記配置レシピに従って前記供給部によって基板の上にインプリント材の複数の液滴を配置し、前記複数の液滴に前記パージガスが供給された状態で、前記設計情報に基づいて形成されたパターンを有する型を前記複数の液滴に接触させることにより前記複数の液滴を構成していたインプリント材を成形し、該成形されたインプリント材を硬化させることによってパターンを形成するインプリント工程と、
を含むことを特徴とするパターン形成方法。 - 前記サンプル作成工程における前記複数のテスト液滴の硬化は、前記基板の上の前記複数の液滴に前記型を接触させ硬化させる処理が行われる位置において行われる、
ことを特徴とする請求項1に記載のパターン形成方法。 - 前記サンプル作成工程および前記評価工程は、前記テスト領域の中の複数の領域のそれぞれについて実施され、
前記生成工程では、前記テスト領域の中の前記複数の領域のそれぞれについて前記評価工程で得られた結果に基づいて、前記基板の複数のショット領域に対するインプリントのために複数の配置レシピを生成する、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン形成方法。 - 前記サンプル作成工程における前記供給部による前記複数の領域のうちの1つの領域に対する前記複数のテスト液滴の配置から前記複数のテスト液滴の硬化の開始までの時間を第1時間とし、
前記インプリント工程における前記複数のショット領域のうち前記1つの領域に対応するショット領域に対する前記供給部による前記複数の液滴の配置から前記複数の液滴の硬化の開始までの時間を第2時間としたときに、
前記第1時間が前記第2時間より短い、
ことを特徴とする請求項3に記載のパターン形成方法。 - 前記インプリント工程における前記複数のショット領域のうち前記1つの領域に対応するショット領域に対する前記供給部による前記複数の液滴の配置から前記複数の液滴に対する前記型の接触までの時間を第3時間としたときに、
前記第1時間が前記第3時間より短い、
ことを特徴とする請求項4に記載のパターン形成方法。 - 前記インプリント工程における前記複数のショット領域のうち前記1つの領域に対応するショット領域に対する前記供給部による前記複数の液滴の配置から前記複数の液滴に対する前記型の接触までの時間を第3時間としたときに、
前記第1時間が前記第3時間の0.8倍以上かつ1倍未満の範囲内である、
ことを特徴とする請求項4に記載のパターン形成方法。 - 前記評価工程では、前記複数のテスト液滴の体積を計量し評価することを含む、
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のパターン形成方法。 - 前記パージガスは、前記型が配置される位置の下の空間に供給される、
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のパターン形成方法。 - 前記インプリント材は、酸素によって硬化が阻害される材料であり、
前記パージガスは、前記インプリント材の硬化を阻害しないガスである、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載のパターン形成方法。 - 前記サンプル作成工程では、前記複数の液滴に前記型を接触させることなく前記複数の液滴を硬化させる、
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載のパターン形成方法。 - 基板の上にインプリント材の複数の液滴を配置する供給部と、
前記基板の上の前記複数の液滴にパージガスを供給するパージ部と、
前記基板の上の前記複数の液滴に型を接触させることによって前記複数の液滴を構成していたインプリント材が成形された状態で、該成形されたインプリント材を硬化させる硬化部と、を備え、
第1モードでは、前記供給部によってテスト領域の上にインプリント材の複数のテスト液滴を配置し、前記複数のテスト液滴に前記パージ部によって前記パージガスが供給された状態で前記複数のテスト液滴を前記硬化部によって硬化させ、これにより複数の液滴硬化物を有するサンプルを作成し、
第2モードでは、前記基板に形成すべきパターンの設計情報と前記第1モードで作成された前記サンプルの評価結果とに基づいて生成された配置レシピに従って前記供給部によって基板の上にインプリント材の複数の液滴を配置し、前記複数の液滴に前記パージ部によって前記パージガスが供給された状態で、前記設計情報に基づいて形成されたパターンを有する型を前記複数の液滴に接触させることにより、前記複数の液滴を構成していたインプリント材を成形し、該成形されたインプリント材を前記硬化部によって硬化させる、
ことを特徴とするインプリントシステム。 - 前記サンプルを評価する評価装置と、
前記サンプルを前記評価装置に搬送する搬送装置と、
を更に備えることを特徴とする請求項11に記載のインプリントシステム。 - 請求項1乃至10のいずれか1項に記載のパターン形成方法に従って基板にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。 - 請求項11又は12に記載のインプリントシステムを用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
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