JP2020087701A - 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の制御方法 - Google Patents
荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の制御方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020087701A JP2020087701A JP2018220158A JP2018220158A JP2020087701A JP 2020087701 A JP2020087701 A JP 2020087701A JP 2018220158 A JP2018220158 A JP 2018220158A JP 2018220158 A JP2018220158 A JP 2018220158A JP 2020087701 A JP2020087701 A JP 2020087701A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- current value
- charged particle
- particle beam
- coils
- maximum current
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/141—Electromagnetic lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/248—Components associated with high voltage supply
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/10—Lenses
- H01J2237/14—Lenses magnetic
- H01J2237/1405—Constructional details
- H01J2237/141—Coils
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/248—Components associated with the control of the tube
- H01J2237/2485—Electric or electronic means
Abstract
Description
を陽極で加速し電子線を放出する電子銃である。
のそれぞれに供給する電流を制御する。
i1=i2=imax/2
で表される。このとき、コイル30a,30bで消費される熱電力P1,P2(コイル30a,30bで発生するジュール熱)は、
P1=r×i1 2=r×(imax/2)2=r×imax 2/4
P2=r×i2 2=r×(imax/2)2=r×imax 2/4
で表され、電磁コイル30で消費される熱電力Pは、
P=r×imax 2/4+r×imax 2/4=r×imax 2/2
となる。電流制御部102は、電磁コイル30で消費される熱電力Pがr×imax 2/2(最大電流値imaxに応じた熱電力)で一定となるように、コイル30a,30bのそれぞれに供給する電流値i1,i2を制御する。具体的には、必要とする磁界レンズの起磁力Jから求められる電流値i(i=J/n)と、最大電流値imaxから、以下の式(1)により電流値i1,i2を求める。
imax/√2の範囲、電流値i2を−imax/√2〜imax/2の範囲)で制御して、磁界レンズの起磁力Jを−Jmax〜Jmaxの範囲で可変とすることができる。
よい。
Claims (3)
- 一対のコイルからなる電磁コイルを有する磁界レンズを備えた荷電粒子線装置であって、
ユーザの操作に基づいて、前記磁界レンズの最大起磁力を規定する最大電流値を設定する設定部と、
前記電磁コイルで消費される熱電力が、設定された最大電流値に応じた熱電力で一定となるように、設定された最大電流値に応じた電流範囲内で前記一対のコイルのそれぞれに供給する電流を制御する電流制御部とを含むことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記設定部は、
ユーザの操作により指定された加速電圧の上限に基づいて前記最大電流値を設定することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 一対のコイルからなる電磁コイルを有する磁界レンズを備えた荷電粒子線装置の制御方法であって、
ユーザの操作に基づいて、前記磁界レンズの最大起磁力を規定する最大電流値を設定する設定ステップと、
前記電磁コイルで消費される熱電力が、設定された最大電流値に応じた熱電力で一定となるように、設定された最大電流値に応じた電流範囲内で前記一対のコイルのそれぞれに供給する電流を制御する電流制御ステップとを含むことを特徴とする荷電粒子線装置の制御方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018220158A JP6954885B2 (ja) | 2018-11-26 | 2018-11-26 | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の制御方法 |
US16/682,421 US11640894B2 (en) | 2018-11-26 | 2019-11-13 | Charged particle beam apparatus and control method of charged particle beam apparatus |
EP19210689.6A EP3657527B1 (en) | 2018-11-26 | 2019-11-21 | Charged particle beam apparatus and control method of charged particle beam apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018220158A JP6954885B2 (ja) | 2018-11-26 | 2018-11-26 | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020087701A true JP2020087701A (ja) | 2020-06-04 |
JP6954885B2 JP6954885B2 (ja) | 2021-10-27 |
Family
ID=68653370
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018220158A Active JP6954885B2 (ja) | 2018-11-26 | 2018-11-26 | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の制御方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11640894B2 (ja) |
EP (1) | EP3657527B1 (ja) |
JP (1) | JP6954885B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7382299B2 (ja) | 2020-09-30 | 2023-11-16 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5755043A (en) * | 1980-08-11 | 1982-04-01 | Perkin Elmer Corp | Magnetic lens |
JPS5981850A (ja) * | 1982-11-02 | 1984-05-11 | Internatl Precision Inc | 電子レンズ |
JPH0320950A (ja) * | 1989-06-16 | 1991-01-29 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JP2009176542A (ja) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Horon:Kk | 電磁レンズ |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5442182A (en) * | 1992-11-06 | 1995-08-15 | Hitachi, Ltd. | Electron lens |
JPH0935897A (ja) * | 1995-07-24 | 1997-02-07 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 加速器システム用電磁石電源制御装置 |
US6852982B1 (en) | 2003-07-14 | 2005-02-08 | Fei Company | Magnetic lens |
JP2007265931A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置及び検査方法 |
-
2018
- 2018-11-26 JP JP2018220158A patent/JP6954885B2/ja active Active
-
2019
- 2019-11-13 US US16/682,421 patent/US11640894B2/en active Active
- 2019-11-21 EP EP19210689.6A patent/EP3657527B1/en not_active Revoked
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5755043A (en) * | 1980-08-11 | 1982-04-01 | Perkin Elmer Corp | Magnetic lens |
JPS5981850A (ja) * | 1982-11-02 | 1984-05-11 | Internatl Precision Inc | 電子レンズ |
JPH0320950A (ja) * | 1989-06-16 | 1991-01-29 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JP2009176542A (ja) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Horon:Kk | 電磁レンズ |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7382299B2 (ja) | 2020-09-30 | 2023-11-16 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3657527A1 (en) | 2020-05-27 |
EP3657527B1 (en) | 2021-05-05 |
US11640894B2 (en) | 2023-05-02 |
JP6954885B2 (ja) | 2021-10-27 |
US20200168431A1 (en) | 2020-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3065161B1 (en) | Electron gun, control method and control program thereof, and three-dimensional shaping apparatus | |
JP5290238B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
JP3323021B2 (ja) | 走査形電子顕微鏡及びそれを用いた試料像観察方法 | |
JPH0917369A (ja) | 走査形電子顕微鏡 | |
JP6954885B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の制御方法 | |
Ul-Hamid et al. | Components of the SEM | |
US10062542B2 (en) | Particle beam microscope and method for operating a particle beam microscope | |
JP2008251300A (ja) | X線検査装置 | |
CN111033677B (zh) | 带电粒子线装置 | |
JP2016025048A (ja) | コントラスト・ブライトネス調整方法、及び荷電粒子線装置 | |
JP2003151484A (ja) | 走査型荷電粒子ビーム装置 | |
JP5280174B2 (ja) | 電子線装置及び電子線装置の動作方法 | |
WO2015004981A1 (ja) | 電子銃および電子顕微鏡 | |
Williams et al. | Electron sources | |
JP2004342628A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP4470621B2 (ja) | X線発生装置 | |
Mecklenburg et al. | Adjusting the STEM sample holder potential for improved EBIC contrast | |
JPH1196954A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
JP7068069B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
JP2004087455A (ja) | 走査電子顕微鏡及び走査電子顕微鏡の制御方法 | |
US11404238B2 (en) | Control method for electron microscope and electron microscope | |
JPH07302574A (ja) | 集束イオンビーム加工観察装置 | |
JP4163393B2 (ja) | 粒子線装置におけるフォーカス調整方法 | |
JP2020027777A (ja) | 荷電粒子線装置およびその制御方法 | |
JP2023043500A (ja) | 荷電粒子線装置および画像取得方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200131 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210324 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210921 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210930 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6954885 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |