JP2020084010A - 硬化性組成物、硬化物、マイクロレンズ、及び光学素子 - Google Patents

Abstract

【課題】溶剤耐性が良好であり、屈折率が高く透明な硬化物を形成し得る硬化性組成物と、当該硬化性組成物の硬化物と、当該組成物の硬化物からなるマイクロレンズ、前述の硬化物又はマイクロレンズを備える光学素子とを提供すること。【解決手段】ケイ素原子、ゲルマニウム原子、又は錫原子に結合する架橋性基を有する含硫黄ポリマー（Ａ）を、含硫黄ポリマー（Ａ）が有する架橋性基と架橋し得る基を有する多官能架橋剤（Ｂ）とともに含む硬化性組成物用いる。【選択図】なし

Description

本発明は、硬化性組成物と、当該硬化性組成物の硬化物と、当該組成物の硬化物からなるマイクロレンズ、前述の硬化物又はマイクロレンズを備える光学素子とに関する。

ガラスと比較して、軽く、割れにくく、且つ、加工が容易である等の種々の利点から、透明な樹脂材料が種々の用途において使用されている。例えば、透明な樹脂材料は、画像表示素子や光学素子における、平坦化膜やマイクロレンズの形成にしばしば用いられる。これらの用途に使用される透明な樹脂材料には、良好な透明性や耐溶剤性を有し、高屈折率であることが望まれる場合がある。

透明性が良好であり、高屈折率である樹脂材料としては、ジチオール化合物と、例えば、テトラビニルシランのような多官能アルケニル化合物とをバルク重合させて得られる含硫黄ポリマーが知られている（特許文献１を参照）。

米国特許第８９７５３５６号公報

しかしながら、特許文献１に記載される含硫黄ポリマーは、溶剤耐性が低い。このため、特許文献１に記載される含硫黄ポリマーには、１又は複数回の有機溶剤との接触を含む場合がある画像表示素子やマイクロレンズの製造プロセスには適用しにくい問題がある。

本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、溶剤耐性が良好であり、屈折率が高く透明な硬化物を形成し得る硬化性組成物と、当該硬化性組成物の硬化物と、当該組成物の硬化物からなるマイクロレンズ、前述の硬化物又はマイクロレンズを備える光学素子とを提供することを目的とする。

本発明者らは、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、又は錫原子に結合する架橋性基を有する含硫黄ポリマー（Ａ）を、含硫黄ポリマー（Ａ）が有する架橋性基と架橋し得る基を有する多官能架橋剤（Ｂ）とともに含む硬化性組成物用いることにより上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のものを提供する。

本発明の第１の態様は、
含硫黄ポリマー（Ａ）と、多官能架橋剤（Ｂ）とを含む硬化性組成物であって、
含硫黄ポリマー（Ａ）が、下記式（ａ１）〜（ａ４）：

（式（ａ１）〜（ａ４）中、Ｒ^１は、単結合、又は２価の有機基であり、Ｒ^２は、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基含有基、オキセタニル基含有基、水酸基、加水分解により水酸基を生成する基、イソシアネート基含有基、水素原子、及びジカルボン酸無水物基含有基からなる群より選択される１価の架橋性基、又は非架橋性の１価の有機基であり、Ｍは、Ｓｉ、Ｇｅ、又はＳｎである。）
で表される単位を少なくとも１種含み、且つ、Ｒ^２としての架橋性基を有するポリマーであり、
Ｒ^２としての架橋性基が、エチレン性不飽和結合含有基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、エチレン性不飽和結合含有基、又はヒドロシリル基であり、
Ｒ^２としての架橋性基が、エポキシ基含有基、又はオキセタニル基含有基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、カルボキシ基、フェノール性水酸基、アミノ基、イミノ基、又はジカルボン酸無水物基であり、
Ｒ^２としての架橋性基が、水酸基、又は加水分解により水酸基を生成する基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、又はイミノ基であり、
Ｒ^２としての架橋性基が、イソシアネート基含有基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、又はイミノ基であり、
Ｒ^２としての架橋性基が、水素原子である場合、多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、エチレン性不飽和結合含有基であり、
Ｒ^２としての架橋性基が、ジカルボン酸無水物基含有基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、水酸基、アミノ基、イミノ基、エポキシ基、又はオキセタニル基である、硬化性組成物である。

本発明の第２の態様は、第１の態様にかかる硬化性組成物の硬化物である。

本発明の第３の態様は、第２の態様にかかる硬化物からなるマイクロレンズである。

本発明の第４の態様は、第２の態様にかかる硬化物を備える、光学素子である。

本発明の第５の態様は、第３の態様にかかるマイクロレンズを備える、光学素子である。

本発明によれば、溶剤耐性が良好であり、屈折率が高く透明な硬化物を形成し得る硬化性組成物と、当該硬化性組成物の硬化物と、当該組成物の硬化物からなるマイクロレンズ、前述の硬化物又はマイクロレンズを備える光学素子とを提供することができる。

≪硬化性組成物≫
硬化性組成物は、含硫黄ポリマー（Ａ）と、多官能架橋剤（Ｂ）とを含む組成物である。以下、硬化性組成物が含む、必須又は任意の成分について説明する。

＜含硫黄ポリマー＞
含硫黄ポリマー（Ａ）は、下記式（ａ１）〜（ａ４）：

（式（ａ１）〜式（ａ４）中、Ｒ^１は、単結合、又は２価の有機基であり、Ｒ^２は、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基含有基、オキセタニル基含有基、水酸基、加水分解により水酸基を生成する基、イソシアネート基含有基、水素原子、及びジカルボン酸無水物基含有基からなる群より選択される１価の架橋性基、又は非架橋性の１価の有機基であり、Ｍは、Ｓｉ、Ｇｅ、又はＳｎである。）
で表される単位を少なくとも１種含む。
また、含硫黄ポリマー（Ａ）は、Ｒ^２としての架橋性基を有する。

このため、含硫黄ポリマー（Ａ）は、後述する多官能架橋剤（Ｂ）と架橋し得る。含硫黄ポリマー（Ａ）と、多官能架橋剤（Ｂ）との架橋反応をともなう硬化によって、含硫黄ポリマーが有する透明性に優れ高屈折率であるとの利点を損なうことなく、良好な溶剤耐性を有する硬化物を形成することができる。
含硫黄ポリマー（Ａ）が有する架橋性基と、多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基との具体的な組み合わせについては詳細に後述する。

含硫黄ポリマー（Ａ）の分子鎖の構造は、上記式（ａ１）〜式（ａ４）で表される単位以外の単位において、硫黄原子を含む構造であれば特に限定されない。
含硫黄ポリマー（Ａ）の分子は、好ましくは、上記式（ａ１）〜式（ａ４）で表される単位以外の単位として、式（Ａ１）：−Ｓ−Ｒ^１０−Ｓ−で表される単位（以下、「ジチオ単位」とも記す）を含む。ここで、Ｒ^１０は２価の有機基である。
含硫黄ポリマー（Ａ）において、ジチオ単位が複数個連続して存在してもよい。この場合、含硫黄ポリマーの分子鎖中にジスルフィド結合（−Ｓ−Ｓ−）が形成される。
含硫黄ポリマー（Ａ）の分子鎖中に存在する複数のジチオ単位において、複数のＲ^１０は、同一であっても異なってもいてもよい。含硫黄ポリマー（Ａ）の分子鎖中に存在するＲ^１０の種類の数は特に限定されず、１以上４以下が好ましく、１以上３以下がより好ましく、１又は２が特に好ましい。
また、含硫黄ポリマー（Ａ）に含まれる硫黄原子は、上記式（ａ１）〜式（ａ４）で表される単位の結合手に対して直接結合するものであってもよい。

含硫黄ポリマー（Ａ）の製造方法は特に限定されない。例えば、含硫黄ポリマー（Ａ）が、上記式（ａ１）〜式（ａ４）で表される単位と、上記のジチオ単位とからなる場合、
下記式（ａＩ）〜式（ａＩＶ）で表される化合物と、式（Ａ２）：ＨＳ−Ｒ^１０−ＳＨで表される化合物（以下、「ジチオール」とも記す）との間の所謂チオール−エン反応により製造され得る。下記式（ａＩ）〜式（ａＩＶ）におけるＲ^１、Ｒ^２及びＭは、式（ａ１）〜式（ａ４）と同様である。

かかる反応は、例えば、前述の特許文献１に記載の方法に従って行うことができる。具体的には、式（ａＩ）〜式（ａＩＶ）で表される化合物と、上記のジチオールとを反応させてプレポリマーゲルを生成させた後、当該プレポリマーゲルを加熱することにより含硫黄ポリマー（Ａ）が得られる。

プレポリマーを生成させる条件は特に限定されない。例えば、式（ａＩ）〜式（ａＩＶ）で表される化合物と、上記のジチオールとを室温から１００℃程度の温度で反応させることにより、プレポリマーを生成させることができる。プレポリマーを生成させる際の反応時間は特に限定されず、例えば、０．５時間以上１０日以下が好ましく、１時間以上５日以下がより好ましい。

また、プレポリマーの生成は、光反応によっても進行する。かかる光反応は、例えば、式（ａＩ）〜式（ａＩＶ）で表される化合物と、上記のジチオールとを含む混合物に対して高圧水銀灯等によって光照射を行うことによって実施できる。

また、プレポリマーを生成させる前に、周知の方法に従って、ジスルフィド結合が生成するようにジチオール同士を反応させて、ジチオールを２量体以上に多量体化させてもよい。また、含硫黄ポリマー（Ａ）を生成させる際に、ジチオールに由来するメルカプト基同士を反応させてジスルフィド結合を生成させてもよい。

式（ａＩ）〜式（ａＩＶ）で表される化合物の使用量と、ジチオールの使用量とは、特に限定されず、取得したい含硫黄ポリマーの構造や分子量等を勘案して適宜決定される。
具体的には、ジチオールの使用量は、式（ａＩ）〜式（ａＩＶ）で表される化合物におけるＣＨ＝ＣＨ_２−Ｒ^１−で表される基のモル数１モルに対して、０．２モル以上１００モル以下が好ましく、０．３モル以上５０モル以下がより好ましい。
ジスルフィド結合を全く又はほとんど含まない含硫黄ポリマー（Ａ）を製造する場合、ジチオールの使用量は、式（ａＩ）〜式（ａＩＶ）で表される化合物におけるＣＨ＝ＣＨ_２−Ｒ^１−で表される基のモル数１モルに対して、０．２モル以上０．８モル以下が好ましく、０．３モル以上０．７モル以下がより好ましく、０．３５モル以上０．６５モル以下がさらに好ましい。

上記のようにして得られたプレポリマーを、例えば、１２０℃以上２００℃以下の温度に加熱することにより含硫黄ポリマー（Ａ）が生成する。加熱時間は特に限定されず、０．５時間以上３日以下が好ましく、１時間以上２日以下がより好ましい。

上記の含硫黄ポリマー（Ａ）の製造方法において、溶媒又は分散媒を用いても、用いなくてもよい。
上記の含硫黄ポリマー（Ａ）の製造方法において、式（ａＩ）〜式（ａＩＶ）で表される化合物、及び／又はジチオールが反応温度において液状である場合、有機溶媒を用いることなく含硫黄ポリマー（Ａ）を製造することができる。

（ジチオール）
前述の通り、ジチオールは、式（Ａ２）：ＨＳ−Ｒ^１０−ＳＨで表される化合物である。Ｒ^１０は前述の通り２価の有機基である。２価の有機基は、窒素、硫黄、酸素、リン、及びハロゲン原子等のヘテロ原子を含む有機基であってもよく、炭化水素基であってもよい。２価の有機基の中では、ジチオールの調製又は入手が容易であることや、化学的安定性や耐熱性に優れる含硫黄ポリマー（Ａ）を得やすいことから、２価の炭化水素基が好ましい。

Ｒ^１０としては、置換基を有してもよいアルキレン基、置換基を有してもよいシクロアルキレン基、置換基を有してもよいアルケニレン基、置換基を有してもよいシクロアルケニレン基、置換基を有してもよいアルキニレン基、置換基を有してもよいシクロアルキニレン基、置換基を有してもよいアリーレン基、及びこれらのうちの２以上の組み合わせが好ましい。これらの中では、置換基を有してもよいアルキレン基、及び置換基を有してもよいアリーレン基が好ましく、アルキレン基、及びアリーレン基がより好ましい。

Ｒ^１０としての、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキニレン基、及びアリーレン基が有してもよい置換基としては、含硫黄ポリマー（Ａ）を製造する際の反応を阻害しない限り特に限定されない。
置換基の具体例としては、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上６以下の脂肪族アシル基、炭素原子数２以上６以下の脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１以上６以下のアルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、及びハロゲン原子等が挙げられる。

Ｒ^１０がアルキレン基である場合、当該アルキレン基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよい。当該アルキレン基の炭素原子数は特に限定されない。アルキレン基の炭素原子数は、例えば１以上２０以下が好ましく、２以上１６以下がより好ましく、２以上１２以下が特に好ましい。
アルキレン基の好適な例としては、メチレン基、エタンジイル基、プロパンジイル基、ブタンジイル基、イソブタンジイル基、ペンタンジイル基、ヘキサンジイル基、ヘプタンジイル基、オクタンジイル基、ノナンジイル基、及びデカンジイル基が挙げられる。
これらのアルキレン基の中では、エタン−１，２−ジイル基、ｎ−プロパン−１，３−ジイル基、ｎ−プロパン−１，２−ジイル基、ｎ−ブタン−１，４−ジイル基、ｎ−ペンタン−１，５−ジイル基、及びｎ−ヘキサン１，６−ジイル基が好ましい。

つまり、Ｒ^１０がアルキレン基であるジチオールとしては、１，２−ジメルカプトエタン、１，３−ジメルカプト−ｎ−プロパン、１，２−ジメルカプト−ｎ−プロパン、１，４−ジメルカプト−ｎ−ブタン、１，５−ジメルカプト−ｎ−ペンタン、及び１，６−ジメルカプト−ｎ−ヘキサンが好ましい。

Ｒ^１０がアリーレン基である場合、当該アルキレン基は、フェニレン基であっても、２以上のベンゼン環が縮合した多環から２つの水素原子を除いた基であっても、２つ以上のアリーレン基が単結合によって互いに結合した基であってもよい。
当該アリーレン基の炭素原子数は特に限定されない。アリーレン基の炭素原子数は、６以上２０以下が好ましく６以上１２以下がより好ましい。

アリーレン基の好適な例としては、ｐ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｏ−フェニレン基、ナフタレン−１，２−ジイル基、ナフタレン−１，３−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−１，７−ジイル基、ナフタレン−１，８−ジイル基、ナフタレン−２，３−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−２，７−ジイル基、ビフェニル−４，４’−ジイル基、ビフェニル−３，４’−ジイル基、ビフェニル−３，３’−ジイル基、ビフェニル−２，４’−ジイル基、ビフェニル−２，３’−ジイル基、及びビフェニル−２，２’−ジイル基が好ましい。
これらのアリーレン基の中では、ｐ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｏ−フェニレン基、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−２，７−ジイル基、ビフェニル−４，４’−ジイル基、ビフェニル−３，４’−ジイル基、及びビフェニル−３，３’ジイル基が好ましい。

つまり、Ｒ^１０がアリーレン基であるジチオールとしては、１，４−ジメルカプトベンゼン、１，３−ジメルカプトベンゼン、１，２−ジメルカプトベンゼン、１，４−次メルカプトナフタレン、２，６−ジメルカプトナフタレン、２，７−ジメルカプトナフタレン、４，４’−ジメルカプトビフェニル、３，４’−ジメルカプトビフェニル、及び３，３’−ジメルカプトビフェニルが好ましい。

また、Ｒ^１０は以下の式（ＡＸ１）で表される２価の基であっても構わない。
―Ｙ―Ｘ−Ｙ―・・・・（ＡＸ１）
（式（ＡＸ１）中、Ｘは単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、−ＮＨ−、−ＮＲ^ａｘ２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、炭素原子数１以上３以下のアルキレン基、又はアリーレン基を表す。Ｒ^ａｘ２は炭素原子数１以下５以上のアルキル基又は炭素原子数６以下１０以上のアリール基である。複数存在するＹはそれぞれ独立に炭素原子数１以上８以下のアルキレン基、炭素原子数６以上２０以下のアリーレン基、又は炭素原子数８以上２０以下の複素環化合物から２つの水素原子が除かれた２価の基を表す。）
当該式中のアルキレン基、アリーレン基は前述の各種基の中から、炭素原子数を満足するものを選定して採用すればよい。

（式（ａＩ）〜式（ａＩＶ）で表される化合物）
上記式（ａＩ）〜式（ａＩＶ）において、Ｒ^１は、単結合、又は２価の有機基である。Ｒ^２は、１価の架橋性基、又は非架橋性の１価の有機基である。Ｍは、Ｓｉ、Ｇｅ、又はＳｎである。

Ｒ^１としての２価の有機基は、前述のＲ^１０としての２価の有機基と同様である。Ｒ^１としての２価の有機基としては、メチレン基、及びエタン−１，２−ジイル基が好ましい。
Ｒ^１としては、単結合、メチレン基、及びエタン−１，２−ジイル基が好ましく、単結合がより好ましい。

Ｒ^２は、１価の架橋性基、又は非架橋性の１価の有機基である。含硫黄ポリマー（Ａ）は、Ｒ^２としての架橋性基を必須に含有する。このため、式（ａＩ）〜式（ａＩＩＩ）で表される化合物は、Ｒ^２としての架橋性基を１つ以上有するのが好ましい。なお、含硫黄ポリマー（Ａ）は、前述の式（ａ１）〜式（ａ４）で表される単位として、式（ａ４）で表される単位のみを含むことはない。

Ｒ^２としての１価の架橋性基は、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基含有基、オキセタニル基含有基、水酸基、加水分解により水酸基を生成する基、イソシアネート基含有基、水素原子、又はジカルボン酸無水物基含有基である。

Ｒ^２としての架橋性基が、エチレン性不飽和結合含有基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、エチレン性不飽和結合含有基、又はヒドロシリル基である。
エチレン性不飽和結合含有基同士は、ラジカル重合開始剤等の作用によって架橋し得る。他方、エチレン性不飽和結合含有基と、ヒドロシリル基とは、周知のヒドロシリル化触媒の存在下に、所謂ヒドロシリル化反応によって架橋し得る。

Ｒ^２としての、エチレン性不飽和結合含有基の好ましい例としては、ビニル基、アリル基、４−ブテニル基、５−ペンテニル基、６−ヘキセニル基、７−ヘプテニル基、８−オクテニル基、９−ノネニル基、及び１０−デセニル基等のアルケニル基；４−ビニルフェニル基、３−ビニルフェニル基、及び２−ビニルフェニル基等のビニルアリール基；２−アクリロイルオキシエチル基、２−メタクリロイルオキシエチル基、３−アクリロイルオキシプロピル基、３−メタクリロイルオキシプロピル基、４−アクリロイルオキシブチル基、及び４−メタクリロイルオキシブチル基等の（メタ）アクリロイルオキシアルキル基が挙げられる。
これらの基の中では、良好な反応性と、式（ａＩ）〜式（ａＩＩＩ）で表される化合物の入手の容易性とから、ビニル基、及びアリル基が特に好ましい。

Ｒ^２としての架橋性基が、エポキシ基含有基、又はオキセタニル基含有基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、カルボキシ基、フェノール性水酸基、アミノ基、イミノ基、又はジカルボン酸無水物基である。
エポキシ基含有基、又はオキセタニル基含有基と、カルボキシ基、フェノール性水酸基、アミノ基、イミノ基、又はジカルボン酸無水物基との間の架橋反応については、エポキシ化合物及びオキセタン化合物についての硬化反応として周知である。
式（ａＩ）〜（ａＩＩＩ）で表される化合物の調製や入手が容易であることから、エポキシ基含有基、及びオキセタニル基含有基の中では、エポキシ基含有基が好ましい。

エポキシ基含有基の好ましい例としては、グリシジル基、２−グリシジルオキシエチル基、３−グリシジルオキシプロピル基、４−グリシジルオキシブチル基、及び２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基。

Ｒ^２としての架橋性基が、水酸基、又は加水分解により水酸基を生成する基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、又はイミノ基である。
Ｒ^２としての架橋性基が、水酸基、又は加水分解により水酸基を生成する基である場合、式（ａＩ）〜（ａＩＩＩ）で表される化合物は、Ｓｉ−ＯＨ（シラノール基）、Ｇｅ−ＯＨ基、又はＳｎ−ＯＨ基を有するか、これらの基を加水分解により生成させる。
Ｓｉ−ＯＨ（シラノール基）、Ｇｅ−ＯＨ基、又はＳｎ−ＯＨ基は、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、及びイミノ基等の活性水素原子を有する官能基と縮合し得る。

加水分解により水酸基を生成する基の好ましい例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、及びｎ−ブチルオキシ基等のアルコキシ基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、及びエトキシエチル基等のアルコキシアルキル基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、塩素原子、及び臭素原子等のハロゲン原子、並びにイソシアネート基が挙げられる。

Ｒ^２としての架橋性基が、イソシアネート基含有基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、水酸基、カルボキシ基、又はアミノ基である。
イソシアネート含有基の好ましい例としては、２−イソシアナトエチル基、３−イソシアナトプロピル基、及び４−イソシアナトブチル基が挙げられる。

Ｒ^２としての架橋性基が、水素原子である場合、多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、エチレン性不飽和結合含有基である。Ｍが、Ｓｉ、Ｇｅ、又はＳｎであるので、Ｒ^２としての架橋性基はＳｉ−Ｈ（ヒドロシリル基）、Ｇｅ−Ｈ、Ｓｎ−Ｈと言うこともできる。これらの架橋性基は、前述のヒドロシリル化反応、又はヒドロシリル化反応と同様の反応により、エチレン性不飽和結合含有基と架橋し得る。

Ｒ^２としての架橋性基が、ジカルボン酸無水物基含有基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、水酸基、アミノ基、イミノ基、エポキシ基、又はオキセタニル基である。ジカルボン酸無水物基と、水酸基、アミノ基、イミノ基、エポキシ基、又はオキセタニル基との反応は周知である。
ジカルボン酸無水物基含有基の好適な例としては、下記の基が挙げられる。

Ｒ^２としての非架橋性の１価の有機基としては、後述する多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基と架橋し得ない有機基であれば特に限定されない。有機基は、窒素、硫黄、酸素、リン、及びハロゲン原子等のヘテロ原子を含む有機基であってもよく、炭化水素基であってもよい。非架橋性の有機基の中では、炭化水素基が好ましい。

非架橋性の炭化水素基としては、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、及び置換基を有してもよいアラルキル基が好ましい。これらの中では、置換基を有してもよいアルキル基、及び置換基を有してもよいアリール基が好ましく、アルキル基、及びアリール基がより好ましい。

アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアラルキル基が有してもよい置換基としては、含硫黄ポリマー（Ａ）を製造する際の反応を阻害しない限り特に限定されない。
置換基の具体例としては、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上６以下の脂肪族アシル基、炭素原子数２以上６以下の脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１以上６以下のアルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、及びハロゲン原子等が挙げられる。

Ｒ^２がアルキル基である場合、当該アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよい。当該アルキル基の炭素原子数は特に限定されない。アルキル基の炭素原子数は、例えば１以上２０以下が好ましく、１以上１６以下がより好ましく、１以上１２以下がさらに好ましく、１以上８以下がさらにより好ましく、１以上４以下が特に好ましい。
アルキル基の好適な例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、及びｎ−デシル基が挙げられる。

Ｒ^２がアリール基である場合、当該アリール基は、フェニル基であっても、２以上のベンゼン環が縮合した多環から１つの水素原子を除いた基であっても、２つ以上のアリール基が単結合によって互いに結合した基であってもよい
当該アリール基の炭素原子数は特に限定されない。アリール基の炭素原子数は、６以上２０以下が好ましく６以上１２以下がより好ましい。

アリール基の好適な例としては、フェニル基、ナフタレン−１−イル基、ナフタレン−２−イル基、ｏ−フェニルフェニル基、ｍ−フェニルフェニル基、及びｐ−フェニルフェニル基が挙げられる。

前述の通り、Ｍは、Ｓｉ、Ｇｅ、又はＳｎである。式（ａＩ）〜式（ａＩＶ）で表される化合物の調製又は入手が容易であることから、ＭとしてはＳｉが好ましい。

以上説明した式（ａＩ）〜式（ａＩＶ）で表される化合物としては、テトラビニルシラン、テトラアリルシラン、メチルトリビニルシラン、エチルトリビニルシラン、メチルトリアリルシラン、エチルトリアリルシラン、トリビニルシラン、トリアリルシラン、メチルジビニルシラン、エチルジビニルシラン、メチルジアリルシラン、及びエチルジアリルシランが好ましい。

＜多官能架橋剤（Ｂ）＞
多官能架橋剤（Ｂ）は、含硫黄ポリマー（Ａ）が有するＲ^２としての架橋性基と架橋し得る２以上の架橋性基を有する多官能性化合物である。架橋反応性や、耐溶剤性に特に優れる硬化物を形成しやすいことから、多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基の数は、３官以上が好ましく、４以上がより好ましく、５以上が特に好ましい。
多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基の数について上限は特に限定されない。多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基の数は、例えば、１００以下でもよく、５０以下でもよく、１０以下でもよい。

（架橋性基としてエチレン性不飽和結合含有基を有する多官能架橋剤（Ｂ））
Ｒ^２としての架橋性基が、エチレン性不飽和結合含有基又は水素原子である場合、多官能架橋剤（Ｂ）として、２以上のエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物を用いることができる。

エチレン性不飽和結合含有基を有する多官能架橋剤（Ｂ）としては、調製及び入手が容易であることから、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等のポリオールの（メタ）アクリレートが好ましく用いられる。

エチレン性不飽和結合含有基を有する多官能架橋剤（Ｂ）の具体例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート（すなわち、トリレンジイソシアネート）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとＮ−メチロール（メタ）アクリルアミドとの縮合物等や、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能架橋剤（Ｂ）は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。
なお、エチレン性不飽和結合含有基を有する多官能架橋剤（Ｂ）としては、上記の化合物に限定されず、周知の所謂多官能ビニルモノマーを特に限定なく用いることができる。

エチレン性不飽和結合含有基を有する多官能架橋剤（Ｂ）の上記の具体例の中では、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、及びグリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレートが好ましい。

（架橋性基としてヒドロシリル基を有する多官能架橋剤（Ｂ））
Ｒ^２としての架橋性基が、エチレン性不飽和結合含有基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）として、２以上のヒドロシリル基を有する化合物を用いることができる。ヒドロシリル基を有する多官能架橋剤（Ｂ）としては、例えば、メチルハイドロジェンポシロキサン等のオルガノハイドロジェンポリシロキサンを好ましく用いることができる。
かかるオルガノハイドロジェンポリシロキサンについては、分子量や、ヒドロシリル基含有量の異なる市販品を入手可能である。

架橋性基としてヒドロシリル基を有する多官能架橋剤（Ｂ）は、ヒドロシリル化触媒とともに使用されるのが好ましい。ヒドロシリル化触媒の具体例としては、例えば、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３，−テトラメチルジシロキサン錯体、及び白金−１，３，５，７−テトラビニル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン錯体等の白金ビニルシロキサン錯体や、塩化白金酸等が挙げられる。

（架橋性基としてカルボキシ基を有する多官能架橋剤（Ｂ））
Ｒ^２としての架橋性基が、エポキシ基含有基、オキセタニル基含有基、水酸基、加水分解により水酸基を生成する基、又はイソシアネート含有基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）として、２以上のカルボキシ基を有する化合物を用いることができる。

カルボキシ基を有する多官能架橋剤（Ｂ）の具体例としては、シュウ酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、ヘキサヒドロフタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、１，２，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸等の多価カルボン酸類が挙げられる。
また、所謂（メタ）アクリル系ポリマーのような（メタ）アクリル酸等のカルボキシ基を有する不飽和化合物を含む単量体の重合体もカルボキシ基を有する多官能架橋剤（Ｂ）として好ましく用いることができる。

（架橋性基としてフェノール性水酸基を有する多官能架橋剤（Ｂ））
Ｒ^２としての架橋性基が、エポキシ基含有基、オキセタニル基含有基、水酸基、加水分解により水酸基を生成する基、イソシアネート含有基、又はジカルボン酸無水物基含有基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）として、２以上のフェノール性水酸基を有する化合物を用いることができる。

フェノール性水酸基を有する多官能架橋剤（Ｂ）の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

また、フェノール性水酸基を有する多官能架橋剤（Ｂ）として、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン等のポリヒドロキシベンゾフェノン類；トリス（４−ヒドロシキフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，３，５−トリメチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−２，４−ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシフェニルメタン、４，４’−［（３，４−ジヒドロキシフェニル）メチレン］ビス（２−シクロヘキシル−５−メチルフェノール）等のトリスフェノール型化合物；２，４−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）−５−ヒドロキシフェノール、２，６−ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール等のリニア型３核体フェノール化合物；１，１−ビス〔３−（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル〕イソプロパン、ビス［２，５−ジメチル−３−（４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−ヒドロキシフェニル］メタン、ビス［２，５−ジメチル−３−（４−ヒドロキシベンジル）−４−ヒドロキシフェニル］メタン、ビス［３−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル］メタン、ビス［３−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）−４−ヒドロキシ−５−エチルフェニル］メタン、ビス［３−（３，５−ジエチル−４−ヒドロキシベンジル）−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル］メタン、ビス［３−（３，５−ジエチル−４−ヒドロキシベンジル）−４−ヒドロキシ−５−エチルフェニル］メタン、ビス［２−ヒドロキシ−３−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシベンジル）−５−メチルフェニル］メタン、ビス［２−ヒドロキシ−３−（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−５−メチルフェニル］メタン、ビス［４−ヒドロキシ−３−（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−５−メチルフェニル］メタン、ビス［２，５−ジメチル−３−（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−ヒドロキシフェニル］メタン等のリニア型４核体フェノール化合物；２，４−ビス［２−ヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシベンジル）−５−メチルベンジル］−６−シクロヘキシルフェノール、２，４−ビス［４−ヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシベンジル）−５−メチルベンジル］−６−シクロヘキシルフェノール、２，６−ビス［２，５−ジメチル−３−（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−ヒドロキシベンジル］−４−メチルフェノール等のリニア型５核体フェノール化合物等のリニア型ポリフェノール化合物；ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、２，３，４−トリヒドロキシフェニル−４’−ヒドロキシフェニルメタン、２−（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）−２−（２’，３’，４’−トリヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−２−（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）プロパン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）−２−（３’−フルオロ−４’−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジメチルフェニル）プロパン等のビスフェノール型化合物；１−［１−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］−４−［１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン、等の多核枝分かれ型化合物；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等の縮合型フェノール化合物や、ビスフェノールＡ、ピロガロールモノメチルエテール、ピロガロール−１，３−ジメチルエーテルも好適に用いることができる。

さらに、ヒドロキシトルエンの単独重合体、ヒドロキシトルエンと他の単量体との共重合体、種々のノボラック樹脂も、フェノール性水酸基を有する多官能架橋剤（Ｂ）として用いることができる。
ノボラック樹脂の原料として使用できるフェノール類としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール等のクレゾール類；２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール等のキシレノール類；ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、２−イソプロピルフェノール、３−イソプロピルフェノール、４−イソプロピルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等のアルキルフェノール類；２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール等のトリアルキルフェノール類；レゾルシノール、カテコール、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、フロログリシノール等の多価フェノール類；アルキルレゾルシン、アルキルカテコール、アルキルハイドロキノン等のアルキル多価フェノール類（アルキル多価フェノール類に含まれるアルキル基の炭素原子数は１以上４以下である）；α−ナフトール、β−ナフトール、ヒドロキシジフェニル、ビスフェノールＡ等が挙げられる。これらのフェノール類は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

（架橋性基としてアミノ基、又はイミノ基を有する多官能架橋剤（Ｂ））
Ｒ^２としての架橋性基が、エポキシ基含有基、オキセタニル基含有基、水酸基、加水分解により水酸基を生成する基、イソシアネート含有基、又はジカルボン酸無水物基含有基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）として、２以上のアミノ基、又はイミノ基を有する化合物を用いることができる。

アミノ基、又はイミノ基を有する多官能架橋剤（Ｂ）の具体例としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジプロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、ビス（３−メチル−４−アミノシクロヘキシル）メタン、メンセンジアミン、イソフォロンジアミン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン、１，３−ジアミノメチルシクロヘキサン、メタキシリレンジアミン、キシリレンジアミン三量体、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、３，３’−ジアミノジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルフォン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルフォン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）−９Ｈ−フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−メチルフェニル）−９Ｈ−フルオレン、４，４’−［１，４−フェニレンビス（１−メチルエタン−１，１−ジイル）］ジアニリン等が挙げられる。

（架橋性基としてジカルボン酸無水物基を有する多官能架橋剤（Ｂ））
Ｒ^２としての架橋性基が、エポキシ基含有基、又はオキセタニル基含有基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）として、２以上のジカルボン酸無水物基を有する化合物を用いることができる。
ジカルボン酸無水物基を有する多官能架橋剤（Ｂ）の具体例としては、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−オキシジフタル酸無水物、及び３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。

（架橋性基としての水酸基を有する多官能架橋剤（Ｂ））
Ｒ^２としての架橋性基が、水酸基、加水分解により水酸基を生成する基、イソシアネート含有基、又はジカルボン酸無水物基含有基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）として、水酸基を有する化合物を用いることができる。なお、前述のフェノール性水酸基を有する多官能架橋剤（Ｂ）を、水酸基を有する多官能架橋剤（Ｂ）として用いることができる。ここでは、フェノール性水酸基を有する多官能架橋剤（Ｂ）についての説明を割愛する。

水酸基を有する多官能架橋剤（Ｂ）の具体例としては、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、ペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、ソルビタン、ジグリセリン、ショ糖、グルコース、マンノース、フルクトース、及びメチルグルコシド等が挙げられる。
また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコール水酸基を有する単量体に由来する単位を含む樹脂や、ポリビニルアルコール等のアルコール性水酸基を有する樹脂も、水酸基を有する多官能架橋剤（Ｂ）として用いることができる。

（架橋性基としてエポキシ基、又はオキセタニル基を有する多官能架橋剤（Ｂ））
Ｒ^２としての架橋性基が、ジカルボン酸無水物基含有基水酸基である場合、多官能架橋剤（Ｂ）として、エポキシ基、又はオキセタニル基を有する化合物を用いることができる。多官能架橋剤（Ｂ）の入手の容易性等から、多官能架橋剤（Ｂ）として、エポキシ基を有する化合物を用いることができる。
以下、エポキシ基を有する多官能架橋剤（Ｂ）について説明する。なお、エポキシ基を有する多官能架橋剤が有するオキシラニル基を有する場合、当該オキシラニル基がオキセタニル基に置換された化合物を、オキセタニル基を有する多官能架橋剤（Ｂ）として用いることができる。

エポキシ基を有する多官能架橋剤（Ｂ）として使用できる多官能エポキシ化合物は、２官能以上のエポキシ化合物であれば特に限定されない。多官能エポキシ化合物の例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、テトラブロムビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、及びビフェニル型エポキシ樹脂等の２官能エポキシ樹脂；ダイマー酸グリシジルエステル、及びトリグリシジルエステル等のグリシジルエステル型エポキシ樹脂；テトラグリシジルアミノジフェニルメタン、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン、及びテトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂；１，３−ジグリシジル−５−メチル−５−エチルヒダントイン等のヒダントイン型エポキシ樹脂；ハイドロキノン型エポキシ樹脂；フルオレン型エポキシ樹脂；トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ樹脂；フロログリシノールトリグリシジルエーテル、トリヒドロキシビフェニルトリグリシジルエーテル、トリヒドロキシフェニルメタントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、２−［４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］−２−［４−［１，１−ビス［４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］エチル］フェニル］プロパン、及び１，３−ビス［４−［１−［４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］−１−［４−［１−［４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチル］フェノキシ］−２−プロパノール等の３官能型エポキシ樹脂；テトラヒドロキシフェニルエタンテトラグリシジルエーテル、テトラグリシジルベンゾフェノン、ビスレゾルシノールテトラグリシジルエーテル、及びテトラグリシドキシビフェニル等の４官能型エポキシ樹脂が挙げられる。これらのエポキシ化合物はハロゲン化されていてもよく、水素添加されていてもよい。

市販されている多官能エポキシ化合物としては、例えばジャパンエポキシレジン社製のＪＥＲコート８２８、１００１、８０１Ｎ、８０６、８０７、１５２、６０４、６３０、８７１、ＹＸ８０００、ＹＸ８０３４、ＹＸ４０００、ＤＩＣ社製のエピクロン８３０、ＥＸＡ８３５ＬＶ、ＨＰ４０３２Ｄ、ＨＰ８２０、株式会社ＡＤＥＫＡ製のＥＰ４１００シリーズ、ＥＰ４０００シリーズ、ＥＰＵシリーズ、ダイセル社製のセロキサイドシリーズ（２０２１、２０２１Ｐ、２０８３、２０８５、３０００等）、エポリードシリーズ、ＥＨＰＥシリーズ、新日鐵化学社製のＹＤシリーズ、ＹＤＦシリーズ、ＹＤＣＮシリーズ、ＹＤＢシリーズ、フェノキシ樹脂（ビスフェノール類とエピクロルヒドリンより合成されるポリヒドロキシポリエーテルで両末端にエポキシ基を有する；ＹＰシリーズ等）、ナガセケムテックス社製のデナコールシリーズ、共栄社化学社製のエポライトシリーズ等が挙げられるがこれらに限定されない。

また、脂環式エポキシ化合物も、高硬度の硬化物を与える点で多官能エポキシ化合物として好ましい。脂環式エポキシ化合物の具体例としては、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシシクロヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、及びエポキシシクロヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル、トリシクロデセンオキサイド基を有するエポキシ樹脂や、下記式（ｂ０１−１）〜（ｂ０１−５）で表される化合物が挙げられる。

これらの脂環式エポキシ化合物の具体例の中では、高硬度の硬化物を与えることから、下記式（ｂ０１−１）〜（ｂ０１−５）で表される脂環式エポキシ化合物が好ましい。

（式（ｂ０１−１）中、Ｚ^０１は単結合又は連結基（１以上の原子を有する２価の基）を示す。Ｒ^ｂ０１〜Ｒ^ｂ０１８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、及び有機基からなる群より選択される基である。）

連結基Ｚ^０１としては、例えば、２価の炭化水素基、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、−ＣＢｒ_２−、−Ｃ（ＣＢｒ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、及び−Ｒ^ｂ０１９−Ｏ−ＣＯ−からなる群より選択される２価の基及びこれらが複数個結合した基等を挙げることができる。

連結基Ｚ^０１である２価の炭化水素基としては、例えば、炭素原子数が１以上１８以下の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基、２価の脂環式炭化水素基等を挙げることができる。炭素原子数が１以上１８以下の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基等を挙げることができる。上記２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、１，２−シクロペンチレン基、１，３−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、１，２−シクロヘキシレン基、１，３−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等のシクロアルキレン基（シクロアルキリデン基を含む）等を挙げることができる。

Ｒ^ｂ０１９は、炭素原子数１以上８以下のアルキレン基であり、メチレン基又はエチレン基であるのが好ましい。

（式（ｂ０１−２）中、Ｒ^ｂ０１〜Ｒ^ｂ０１８は、水素原子、ハロゲン原子、及び有機基からなる群より選択される基である。Ｒ^ｂ０２及びＲ^ｂ０１０は、互いに結合してもよい。Ｒ^ｂ０１３及びＲ^ｂ０１６は互いに結合して環を形成してもよい。ｍ^ｂ１は、０又は１である。）

上記式（ｂ０１−２）で表される脂環式エポキシ化合物としては、上記式（ｂ０１−２）におけるｍ^ｂ１が０である化合物に該当する、下記式（ｂ０１−２−１）で表される化合物が好ましい。

（式（ｂ０１−２−１）中、Ｒ^ｂ０１〜Ｒ^ｂ０１２は、水素原子、ハロゲン原子、及び有機基からなる群より選択される基である。Ｒ^ｂ０２及びＲ^ｂ０１０は互いに結合して環を形成してもよい。）

（式（ｂ０１−３）中、Ｒ^ｂ０１〜Ｒ^ｂ０１０は、水素原子、ハロゲン原子、及び有機基からなる群より選択される基である。Ｒ^ｂ０２及びＲ^ｂ０８は、互いに結合してもよい。）

（式（ｂ０１−４）中、Ｒ^ｂ０１〜Ｒ^ｂ０１２は、水素原子、ハロゲン原子、及び有機基からなる群より選択される基である。Ｒ^ｂ０２及びＲ^ｂ０１０は、互いに結合してもよい。）

（式（ｂ０１−５）中、Ｒ^ｂ０１〜Ｒ^ｂ０１２は、水素原子、ハロゲン原子、及び有機基からなる群より選択される基である。）

式（ｂ０１−１）〜（ｂ０１−５）中、Ｒ^ｂ０１〜Ｒ^ｂ０１８が有機基である場合、有機基は本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、炭化水素基であっても、炭素原子とハロゲン原子とからなる基であっても、炭素原子及び水素原子とともにハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、ケイ素原子のようなヘテロ原子を含むような基であってもよい。ハロゲン原子の例としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、及びフッ素原子等が挙げられる。

有機基としては、炭化水素基と、炭素原子、水素原子、及び酸素原子からなる基と、ハロゲン化炭化水素基と、炭素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる基と、炭素原子、水素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる基とが好ましい。有機基が炭化水素基である場合、炭化水素基は、芳香族炭化水素基でも、脂肪族炭化水素基でも、芳香族骨格と脂肪族骨格とを含む基でもよい。有機基の炭素原子数は１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上５以下が特に好ましい。

炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、及びｎ−イコシル基等の鎖状アルキル基；ビニル基、１−プロペニル基、２−ｎ−プロペニル基（アリル基）、１−ｎ−ブテニル基、２−ｎ−ブテニル基、及び３−ｎ−ブテニル基等の鎖状アルケニル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロヘプチル基等のシクロアルキル基；フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、ビフェニル−４−イル基、ビフェニル−３−イル基、ビフェニル−２−イル基、アントリル基、及びフェナントリル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、α−ナフチルエチル基、及びβ−ナフチルエチル基等のアラルキル基が挙げられる。

ハロゲン化炭化水素基の具体例は、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、及びパーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロヘプチル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロノニル基、及びパーフルオロデシル基等のハロゲン化鎖状アルキル基；２−クロロシクロヘキシル基、３−クロロシクロヘキシル基、４−クロロシクロヘキシル基、２，４−ジクロロシクロヘキシル基、２−ブロモシクロヘキシル基、３−ブロモシクロヘキシル基、及び４−ブロモシクロヘキシル基等のハロゲン化シクロアルキル基；２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２，３−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，５−ジクロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基等のハロゲン化アリール基；２−クロロフェニルメチル基、３−クロロフェニルメチル基、４−クロロフェニルメチル基、２−ブロモフェニルメチル基、３−ブロモフェニルメチル基、４−ブロモフェニルメチル基、２−フルオロフェニルメチル基、３−フルオロフェニルメチル基、４−フルオロフェニルメチル基等のハロゲン化アラルキル基である。

炭素原子、水素原子、及び酸素原子からなる基の具体例は、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシ−ｎ−プロピル基、及び４−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基等のヒドロキシ鎖状アルキル基；２−ヒドロキシシクロヘキシル基、３−ヒドロキシシクロヘキシル基、及び４−ヒドロキシシクロヘキシル基等のハロゲン化シクロアルキル基；２−ヒドロキシフェニル基、３−ヒドロキシフェニル基、４−ヒドロキシフェニル基、２，３−ジヒドロキシフェニル基、２，４−ジヒドロキシフェニル基、２，５−ジヒドロキシフェニル基、２，６−ジヒドロキシフェニル基、３，４−ジヒドロキシフェニル基、及び３，５−ジヒドロキシフェニル基等のヒドロキシアリール基；２−ヒドロキシフェニルメチル基、３−ヒドロキシフェニルメチル基、及び４−ヒドロキシフェニルメチル基等のヒドロキシアラルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−トリデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基、ｎ−ヘプタデシルオキシ基、ｎ−オクタデシルオキシ基、ｎ−ノナデシルオキシ基、及びｎ−イコシルオキシ基等の鎖状アルコキシ基；ビニルオキシ基、１−プロペニルオキシ基、２−ｎ−プロペニルオキシ基（アリルオキシ基）、１−ｎ−ブテニルオキシ基、２−ｎ−ブテニルオキシ基、及び３−ｎ−ブテニルオキシ基等の鎖状アルケニルオキシ基；フェノキシ基、ｏ−トリルオキシ基、ｍ−トリルオキシ基、ｐ−トリルオキシ基、α−ナフチルオキシ基、β−ナフチルオキシ基、ビフェニル−４−イルオキシ基、ビフェニル−３−イルオキシ基、ビフェニル−２−イルオキシ基、アントリルオキシ基、及びフェナントリルオキシ基等のアリールオキシ基；ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、α−ナフチルメチルオキシ基、β−ナフチルメチルオキシ基、α−ナフチルエチルオキシ基、及びβ−ナフチルエチルオキシ基等のアラルキルオキシ基；メトキシメチル基、エトキシメチル基、ｎ−プロポキシメチル基、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−ｎ−プロポキシエチル基、３−メトキシ−ｎ−プロピル基、３−エトキシ−ｎ−プロピル基、３−ｎ−プロポキシ−ｎ−プロピル基、４−メトキシ−ｎ−ブチル基、４−エトキシ−ｎ−ブチル基、及び４−ｎ−プロポキシ−ｎ−ブチル基等のアルコキシアルキル基；メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、ｎ−プロポキシメトキシ基、２−メトキシエトキシ基、２−エトキシエトキシ基、２−ｎ−プロポキシエトキシ基、３−メトキシ−ｎ−プロポキシ基、３−エトキシ−ｎ−プロポキシ基、３−ｎ−プロポキシ−ｎ−プロポキシ基、４−メトキシ−ｎ−ブチルオキシ基、４−エトキシ−ｎ−ブチルオキシ基、及び４−ｎ−プロポキシ−ｎ−ブチルオキシ基等のアルコキシアルコキシ基；２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、及び４−メトキシフェニル基等のアルコキシアリール基；２−メトキシフェノキシ基、３−メトキシフェノキシ基、及び４−メトキシフェノキシ基等のアルコキシアリールオキシ基；ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、及びデカノイル基等の脂肪族アシル基；ベンゾイル基、α−ナフトイル基、及びβ−ナフトイル基等の芳香族アシル基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、ｎ−ノニルオキシカルボニル基、及びｎ−デシルオキシカルボニル基等の鎖状アルキルオキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基、α−ナフトキシカルボニル基、及びβ−ナフトキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基；ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、オクタノイルオキシ基、ノナノイルオキシ基、及びデカノイルオキシ基等の脂肪族アシルオキシ基；ベンゾイルオキシ基、α−ナフトイルオキシ基、及びβ−ナフトイルオキシ基等の芳香族アシルオキシ基である。

Ｒ^ｂ０１〜Ｒ^ｂ０１８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、及び炭素原子数１以上５以下のアルコキシ基からなる群より選択される基が好ましく、特に機械的特性に優れる硬化膜を形成しやすいことから、Ｒ^ｂ０１〜Ｒ^ｂ０１８が全て水素原子であるのがより好ましい。

式（ｂ０１−２）〜（ｂ０１−５）中、Ｒ^ｂ０１〜Ｒ^ｂ０１８は、式（ｂ０１−１）におけるＲ^ｂ０１〜Ｒ^ｂ０１８と同様である。式（ｂ０１−２）及び式（ｂ０１−４）において、Ｒ^ｂ０２及びＲ^ｂ０１０が、互いに結合する場合、式（ｂ０１−２）において、Ｒ^ｂ０１３及びＲ^ｂ０１６が、互いに結合する場合、及び式（ｂ０１−３）において、Ｒ^ｂ０２及びＲ^ｂ０８が、互いに結合する場合に形成される２価の基としては、例えば、−ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−が挙げられる。

式（ｂ０１−１）で表される脂環式エポキシ化合物のうち、好適な化合物の具体例としては、下記式（ｂ０１−１ａ）、式（ｂ０１−１ｂ）、及び式（ｂ０１−１ｃ）で表される脂環式エポキシ化合物や、２，２−ビス（３，４−エポキシシクロヘキサン−１−イル）プロパン［＝２，２−ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロパン］等を挙げることができる。

式（ｂ０１−２）で表される脂環式エポキシ化合物のうち、好適な化合物の具体例としては、下記式（ｂ０１−２ａ）及び下記式（ｂ０１−２ｂ）で表される脂環式エポキシ化合物が挙げられる。

式（ｂ０１−３）で表される脂環式エポキシ化合物のうち、好適な化合物の具体例としては、Ｓスピロ［３−オキサトリシクロ［３．２．１．０^２，４］オクタン−６，２’−オキシラン］等が挙げられる。

式（ｂ０１−４）で表される脂環式エポキシ化合物のうち、好適な化合物の具体例としては、４−ビニルシクロヘキセンジオキシド、ジペンテンジオキシド、リモネンジオキシド、１−メチルー４−（３−メチルオキシラン−２−イル）−７−オキサビシクロ［４．１．０］ヘプタン等が挙げられる。

式（ｂ０１−５）で表される脂環式エポキシ化合物のうち、好適な化合物の具体例としては、１，２，５，６−ジエポキシシクロオクタン等が挙げられる。

さらに、下記式（ｂ１−Ｉ）で表される化合物をエポキシ樹脂前駆体として好適に使用し得る。

（式（ｂ１−Ｉ）中、Ｘ^ｂ１、Ｘ^ｂ２、及びＸ^ｂ３は、それぞれ独立に、水素原子、又はエポキシ基を含んでいてもよい有機基であり、Ｘ^ｂ１、Ｘ^ｂ２、及びＸ^ｂ３が有するエポキシ基の総数が２以上である。）

上記式（ｂ１−Ｉ）で表される化合物としては、下記式（ｂ１−ＩＩ）で表される化合物が好ましい。

（式（ｂ１−ＩＩ）中、Ｒ^ｂ２０〜Ｒ^ｂ２２は、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−及びこれらの組み合わせからなる基であり、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。Ｅ^１〜Ｅ^３は、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和基、アルコキシシリル基、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、チオール基、カルボキシ基、水酸基及びコハク酸無水物基からなる群より選択される少なくとも１種の置換基又は水素原子である。ただし、Ｅ^１〜Ｅ^３のうち少なくとも２つは、エポキシ基及びオキセタニル基からなる群より選択される少なくとも１種である。）

式（ｂ１−ＩＩ）中、Ｒ^ｂ２０とＥ^１、Ｒ^ｂ２１とＥ^２、及びＲ^ｂ２２とＥ^３で示される基は、例えば、少なくとも２つが、それぞれ、下記式（ｂ１−ＩＩａ）で表される基であることが好ましく、いずれもが、それぞれ、下記式（ｂ１−ＩＩａ）で表される基であることがより好ましい。１つの化合物に結合する複数の式（ｂ１−ＩＩａ）で表される基は、同じ基であることが好ましい。
−Ｌ−Ｃ^ｂ （ｂ１−ＩＩａ）
（式（ｂ１−ＩＩａ）中、Ｌは直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−及びこれらの組み合わせからなる基であり、Ｃ^ｂはエポキシ基である。式（ｂ１−ＩＩａ）中、ＬとＣ^ｂとが結合して環状構造を形成していてもよい。）

式（ｂ１−ＩＩａ）中、Ｌとしての直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基としては、炭素原子数１以上１０以下であるアルキレン基が好ましく、また、Ｌとしてのアリーレン基としては、炭素原子数５以上１０以下であるアリーレン基が好ましい。式（ｂ１−ＩＩａ）中、Ｌは、直鎖状の炭素原子数が１以上３以下であるアルキレン基、フェニレン基、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−及びこれらの組み合わせからなる基であることが好ましく、メチレン基等の直鎖状の炭素原子数が１以上３以下であるアルキレン基及びフェニレン基の少なくとも１種、又は、これらと、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−及びＮＨ−の少なくとも１種との組み合わせからなる基が好ましい。

式（ｂ１−ＩＩａ）中、ＬとＣ^ｂとが結合して環状構造を形成している場合としては、例えば、分岐鎖状のアルキレン基とエポキシ基とが結合して環状構造（脂環構造のエポキシ基を有する構造）を形成している場合、下記式（ｂ１−ＩＩｂ）〜（ｂ１−ＩＩｄ）で表される有機基が挙げられる。

（式（ｂ１−ＩＩｂ）中、Ｒ^ｂ２３は、水素原子又はメチル基である。）

以下、式（ｂ１−ＩＩ）で表される化合物の例としてオキシラニル基、又は脂環式エポキシ基を有するエポキシ化合物の例を示すが、これらに限定されるものではない。

また、分子内に２以上のグリシジル基を有するシロキサン化合物（以下、単に「シロキサン化合物」とも記す。）をエポキシ樹脂前駆体として好適に使用し得る。

シロキサン化合物は、シロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）により構成されたシロキサン骨格と、２以上のグリシジル基とを分子内に有する化合物である。
シロキサン化合物におけるシロキサン骨格としては、例えば、環状シロキサン骨格やかご型やラダー型のポリシルセスキオキサン骨格を挙げることができる。

シロキサン化合物としては、なかでも、下記式（ｂ１−ＩＩＩ）で表される環状シロキサン骨格を有する化合物（以下、「環状シロキサン」と記す場合がある）が好ましい。

式（ｂ１−ＩＩＩ）中、Ｒ^ｂ２４、及びＲ^ｂ２５は、エポキシ基を含有する１価の基又はアルキル基を示す。ただし、式（ｂ１−ＩＩＩ）で表される化合物におけるｘ１個のＲ^ｂ２４及びｘ１個のＲ^ｂ２５のうち、少なくとも２個はエポキシ基を含有する１価の基である。また、式（ｂ１−ＩＩＩ）中のｘ１は３以上の整数を示す。尚、式（ｂ１−ＩＩＩ）で表される化合物におけるＲ^ｂ２４、Ｒ^ｂ２５は同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、複数のＲ^ｂ２４は同一であってもよいし、異なっていてもよい。複数のＲ^ｂ２５も同一であってもよいし、異なっていてもよい。
上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の炭素原子数が１以上１８以下である（好ましくは炭素原子数１以上６以下、特に好ましくは炭素原子数１以上３以下）直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。

式（ｂ１−ＩＩＩ）中のｘ１は３以上の整数を示し、なかでも、硬化膜を形成する際の架橋反応性に優れる点で３以上６以下の整数が好ましい。

シロキサン化合物が分子内に有するエポキシ基の数は２個以上であり、硬化膜を形成する際の架橋反応性に優れる点から２個以上６個以下が好ましく、特に好ましくは２個以上４個以下である。

上記エポキシ基を含有する１価の基としては、脂環式エポキシ基、及び−Ｄ−Ｏ−Ｒ^ｂ２６で表されるグリシジルエーテル基［Ｄはアルキレン基を示し、Ｒ^ｂ２６はグリシジル基を示す］が好ましく、脂環式エポキシ基がより好ましく、下記式（ｂ１−ＩＩＩａ）又は下記式（ｂ１−ＩＩＩｂ）で表される脂環式エポキシ基がさらに好ましい。上記Ｄ（アルキレン基）としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基等の炭素原子数が１以上１８以下である直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基等を挙げることができる。

（上記式（ｂ１−ＩＩＩａ）及び式（ｂ１−ＩＩＩｂ）中、Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立にアルキレン基を表し、ｍｓは０以上２以下の整数を表す。）

式（ｂ１−ＩＩＩ）で表されるシロキサン化合物以外にも、脂環式エポキシ基含有環状シロキサン、特開２００８−２４８１６９号公報に記載の脂環式エポキシ基含有シリコーン樹脂、及び特開２００８−１９４２２号公報に記載の１分子中に少なくとも２個のエポキシ官能性基を有するオルガノポリシルセスキオキサン樹脂等のシロキサン骨格を有する化合物をエポキシ基を有する多官能架橋剤（Ｂ）として用いることができる。

シロキサン化合物としては、より具体的には、下記式で表される、分子内に２以上のグリシジル基を有する環状シロキサン等を挙げることができる。また、シロキサン化合物としては、例えば、商品名「Ｘ−４０−２６７０」、「Ｘ−４０−２７０１」、「Ｘ−４０−２７２８」、「Ｘ−４０−２７３８」、「Ｘ−４０−２７４０」（以上、信越化学工業社製）等の市販品を用いることができる。

以上説明した多官能架橋剤（Ｂ）の使用量は、硬化性組成物が良好に硬化する限り特に限定されない。多官能架橋剤（Ｂ）の使用量は、含硫黄ポリマー（Ａ）が有する架橋性基の量を勘案して決定することができる。多官能架橋剤（Ｂ）の使用量は、典型的には、含硫黄ポリマー（Ａ）１００質量部に対して、１質量部以上５００質量部以下が好ましく、３質量部以上２００質量部以下がより好ましく、５質量部以上１５０質量部以下がさらに好ましい。

＜硬化剤（Ｃ）＞
以上説明した硬化性組成物は、含硫黄ポリマー（Ａ）及び多官能架橋剤がそれぞれ有する架橋性基の種類に応じて選択される硬化剤（Ｃ）を含んでいてもよい。

以上説明した硬化性組成物としては、Ｒ^２としての架橋性基としてエチレン性不飽和結合含有基を有する含硫黄ポリマー（Ａ）と、架橋性基としてエチレン性不飽和結合含有基を有する多官能架橋剤（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）としての光重合開始剤及び／又は熱重合開始剤とを含む硬化性組成物が好ましい。
かかる硬化性組成物は、含硫黄ポリマー（Ａ）の調製が容易であること、露光による硬化が可能であり、耐熱性の低い材料を用いるプロセスへ適用可能であること、硬化性が良好であること等の利点を有する。

光重合開始剤として具体的には、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ケトン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾル−３−イル］，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、（９−エチル−６−ニトロ−９Ｈ−カルバゾール−３−イル）［４−（２−メトキシ−１−メチルエトキシ）−２−メチルフェニル］メタノンＯ−アセチルオキシム、２−（ベンゾイルオキシイミノ）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１−オクタノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、４−ベンゾイル−４’−メチルジメチルスルフィド、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４−ジメチルアミノ−２−エチルヘキシル安息香酸、４−ジメチルアミノ−２−イソアミル安息香酸、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、２−クロロチオキサンテン、２，４−ジエチルチオキサンテン、２−メチルチオキサンテン、２−イソプロピルチオキサンテン、２−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンヒドロペルオキシド、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）−イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、α，α−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス−（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−ビス−（９−アクリジニル）ペンタン、１，３−ビス−（９−アクリジニル）プロパン、ｐ−メトキシトリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４−メトキシ）フェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（２−ブロモ−４−メトキシ）フェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４−メトキシ）スチリルフェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（２−ブロモ−４−メトキシ）スチリルフェニル−ｓ−トリアジン等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

これらの中でも、オキシムエステル系の光重合開始剤を用いることが、感度の面で特に好ましい。オキシム系の光重合開始剤の中で、特に好ましいものとしては、Ｏ−アセチル−１−［６−（２−メチルベンゾイル）−９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノンオキシム、エタノン，１−［９−エチル−６−（ピロール−２−イルカルボニル）−９Ｈ−カルバゾル−３−イル］，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、及び２−（ベンゾイルオキシイミノ）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１−オクタノンが挙げられる。

光重合開始剤としては、また、下記式（ｃ１）で表されるオキシムエステル化合物を用いることも好ましい。

（Ｒ^ｃ１は、１価の有機基、アミノ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、
ｎ１は０以上４以下の整数であり、
ｎ２は０、又は１であり、
Ｒ^ｃ２は、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基であり、
Ｒ^ｃ３は、水素原子、又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基である。）

式（ｃ１）中、Ｒ^ｃ１は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から適宜選択される。Ｒ^ｃ１が有機基である場合の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、アミノ基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−１−イル基、及びピペラジン−１−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。ｎ１が２以上４以下の整数である場合、Ｒ^ｃ１は同一であっても異なっていてもよい。また、置換基の炭素原子数には、置換基がさらに有する置換基の炭素原子数を含まない。

Ｒ^ｃ１がアルキル基である場合、炭素原子数１以上２０以下が好ましく、炭素原子数１以上６以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ１がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ^ｃ１がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ１がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（−Ｏ−）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ１がアルコキシ基である場合、炭素原子数１以上２０以下が好ましく、炭素原子数１以上６以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ１がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ^ｃ１がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ−ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ−オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ１がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合（−Ｏ−）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ１がシクロアルキル基、又はシクロアルコキシ基である場合、炭素原子数３以上１０以下が好ましく、炭素原子数３以上６以下がより好ましい。Ｒ^ｃ１がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Ｒ^ｃ１がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ１が飽和脂肪族アシル基、又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、炭素原子数２以上２０以下が好ましく、炭素原子数２以上７以下がより好ましい。Ｒ^ｃ１が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、ｎ−ブタノイル基、２−メチルプロパノイル基、ｎ−ペンタノイル基、２，２−ジメチルプロパノイル基、ｎ−ヘキサノイル基、ｎ−ヘプタノイル基、ｎ−オクタノイル基、ｎ−ノナノイル基、ｎ−デカノイル基、ｎ−ウンデカノイル基、ｎ−ドデカノイル基、ｎ−トリデカノイル基、ｎ−テトラデカノイル基、ｎ−ペンタデカノイル基、及びｎ−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Ｒ^ｃ１が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ｎ−ブタノイルオキシ基、２−メチルプロパノイルオキシ基、ｎ−ペンタノイルオキシ基、２，２−ジメチルプロパノイルオキシ基、ｎ−ヘキサノイルオキシ基、ｎ−ヘプタノイルオキシ基、ｎ−オクタノイルオキシ基、ｎ−ノナノイルオキシ基、ｎ−デカノイルオキシ基、ｎ−ウンデカノイルオキシ基、ｎ−ドデカノイルオキシ基、ｎ−トリデカノイルオキシ基、ｎ−テトラデカノイルオキシ基、ｎ−ペンタデカノイルオキシ基、及びｎ−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ１がアルコキシカルボニル基である場合、炭素原子数２以上２０以下が好ましく、炭素原子数２以上７以下がより好ましい。Ｒ^ｃ１がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−オクチルオキシルカルボニル基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシカルボニル基、ｎ−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、ｎ−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ１がフェニルアルキル基である場合、炭素原子数７以上２０以下が好ましく、炭素原子数７以上１０以下がより好ましい。またＲ^ｃ１がナフチルアルキル基である場合、炭素原子数１１以上２０以下が好ましく、炭素原子数１１以上１４以下がより好ましい。Ｒ^ｃ１がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、及び４−フェニルブチル基が挙げられる。Ｒ^ｃ１がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、２−（α−ナフチル）エチル基、及び２−（β−ナフチル）エチル基が挙げられる。Ｒ^ｃ１が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Ｒ^ｃ１は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。

Ｒ^ｃ１がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数３までのものとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。Ｒ^ｃ１がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。

Ｒ^ｃ１が１、又は２の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルキル基、炭素原子数２以上２０以下の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Ｒ^ｃ１と同様である。１、又は２の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ｎ−ペンチルアミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、ｎ−ヘプチルアミノ基、ｎ−オクチルアミノ基、ｎ−ノニルアミノ基、ｎ−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ｎ−ブタノイルアミノ基、ｎ−ペンタノイルアミノ基、ｎ−ヘキサノイルアミノ基、ｎ−ヘプタノイルアミノ基、ｎ−オクタノイルアミノ基、ｎ−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上７以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Ｒ^ｃ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１以上４以下が好ましい。Ｒ^ｃ１に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。

Ｒ^ｃ１の中では、化学的に安定であることや、立体的な障害が少なく、オキシムエステル化合物の合成が容易であること等から、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、及び炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基からなる群より選択される基が好ましく、炭素原子数１以上６以下のアルキルがより好ましく、メチル基が特に好ましい。

Ｒ^ｃ１がフェニル基に結合する位置は、Ｒ^ｃ１が結合するフェニル基について、フェニル基とオキシムエステル化合物の主骨格との結合手の位置を１位とし、メチル基の位置を２位とする場合に、４位、又は５位が好ましく、５位がよりに好ましい。また、ｎ１は、０以上３以下の整数が好ましく、０以上２以下の整数がより好ましく、０、又は１が特に好ましい。

Ｒ^ｃ２は、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基である。また、Ｒ^ｃ２が置換基を有してもよいカルバゾリル基である場合、カルバゾリル基上の窒素原子は、炭素原子数１以上６以下のアルキル基で置換されていてもよい。

Ｒ^ｃ２において、フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。フェニル基、又はカルバゾリル基が、炭素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数１以上２０以下のアルコキシ基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルキル基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルコキシ基、炭素原子数２以上２０以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上２０以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２以上２０以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−１−イル基、及びピペラジン−１−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ２がカルバゾリル基である場合、カルバゾリル基が窒素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルキル基、炭素原子数２以上２０以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上２０以下のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。これらの置換基の中では、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数１以上６以下のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。

フェニル基、又はカルバゾリル基が有してもよい置換基の具体例について、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び１、又は２の有機基で置換されたアミノ基に関しては、Ｒ^ｃ１と同様である。

Ｒ^ｃ２において、フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基の例としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基；炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基；炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基；炭素原子数２以上７以下のアルコキシカルボニル基；炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシルオキシ基；フェニル基；ナフチル基；ベンゾイル基；ナフトイル基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基；モルホリン−１−イル基；ピペラジン−１−イル基；ハロゲン；ニトロ基；シアノ基が挙げられる。フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１以上４以下が好ましい。フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。

Ｒ^ｃ２の中では、感度に優れる光重合開始剤を得やすい点から、下記式（ｃ２）、又は（ｃ３）で表される基が好ましく、下記式（ｃ２）で表される基がより好ましく、下記式（ｃ２）で表される基であって、ＡがＳである基が特に好ましい。

（Ｒ^ｃ４は、１価の有機基、アミノ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、ＡはＳ又はＯであり、ｎ３は、０以上４以下の整数である。）

（Ｒ^ｃ５及びＲ^ｃ６は、それぞれ、１価の有機基である。）

式（ｃ２）におけるＲ^ｃ４が有機基である場合、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。式（ｃ２）においてＲ^ｃ４が有機基である場合の好適な例としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基；炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基；炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基；炭素原子数２以上７以下のアルコキシカルボニル基；炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシルオキシ基；フェニル基；ナフチル基；ベンゾイル基；ナフトイル基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基；モルホリン−１−イル基；ピペラジン−１−イル基；ハロゲン；ニトロ基；シアノ基が挙げられる。

Ｒ^ｃ４の中では、ベンゾイル基；ナフトイル基；炭素原子数１以上６以下のアルキル基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基；ニトロ基が好ましく、ベンゾイル基；ナフトイル基；２−メチルフェニルカルボニル基；４−（ピペラジン−１−イル）フェニルカルボニル基；４−（フェニル）フェニルカルボニル基がより好ましい。

また、式（ｃ２）において、ｎ３は、０以上３以下の整数が好ましく、０以上２以下の整数がより好ましく、０、又は１であるのが特に好ましい。ｎ３が１である場合、Ｒ^ｃ４の結合する位置は、Ｒ^ｃ４が結合するフェニル基が酸素原子又は硫黄原子と結合する結合手に対して、パラ位であるのが好ましい。

式（ｃ３）におけるＲ^ｃ５は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。Ｒ^ｃ５の好適な例としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルキル基、炭素原子数２以上２０以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上２０以下のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ５の中では、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数１以上６以下のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。

式（ｃ３）におけるＲ^ｃ６は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Ｒ^ｃ６として好適な基の具体例としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Ｒ^ｃ６として、これらの基の中では置換基を有してもよいフェニル基がより好ましく、２−メチルフェニル基が特に好ましい。

Ｒ^ｃ４、Ｒ^ｃ５、又はＲ^ｃ６に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上７以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Ｒ^ｃ４、Ｒ^ｃ５、又はＲ^ｃ６に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１以上４以下が好ましい。Ｒ^ｃ４、Ｒ^ｃ５、又はＲ^ｃ６に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。

式（ｃ１）におけるＲ^ｃ３は、水素原子、又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基である。Ｒ^ｃ３としては、メチル基、又はエチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。

式（ｃ１）で表されるオキシムエステル化合物の中でも特に好適な化合物としては、下記のＰＩ−１〜ＰＩ−４２が挙げられる。

また、下記式（ｃ４）で表されるオキシムエステル化合物も、光重合開始剤として好ましい。

（Ｒ^ｃ７は水素原子、ニトロ基又は１価の有機基であり、Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子であり、Ｒ^ｃ８とＲ^ｃ９とは相互に結合して環を形成してもよく、Ｒ^ｃ１０は１価の有機基であり、Ｒ^ｃ１１は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１以上１１以下のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、ｎ４は０以上４以下の整数であり、ｎ５は０又は１である。）

ここで、式（ｃ４）のオキシムエステル化合物を製造するためのオキシム化合物としては、下式（ｃ５）で表される化合物が好適である。

（Ｒ^ｃ７、Ｒ^ｃ８、Ｒ^ｃ９、Ｒ^ｃ１０、ｎ４、及びｎ５は、式（ｃ４）と同様である。）

式（ｃ４）及び（ｃ５）中、Ｒ^ｃ７は、水素原子、ニトロ基又は１価の有機基である。Ｒ^ｃ７は、式（ｃ４）中のフルオレン環上で、−（ＣＯ）_ｎ５−で表される基に結合する６員芳香環とは、異なる６員芳香環に結合する。式（ｃ４）中、Ｒ^ｃ７のフルオレン環に対する結合位置は特に限定されない。式（ｃ４）で表される化合物が１以上のＲ^ｃ７を有する場合、式（ｃ４）で表される化合物の合成が容易であること等から、１以上のＲ^ｃ７のうちの１つがフルオレン環中の２位に結合するのが好ましい。Ｒ^ｃ７が複数である場合、複数のＲ^ｃ７は同一であっても異なっていてもよい。

Ｒ^ｃ７が有機基である場合、Ｒ^ｃ７は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から適宜選択される。Ｒ^ｃ７が有機基である場合の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−１−イル基、及びピペラジン−１−イル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ７がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ７がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ^ｃ７がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ７がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（−Ｏ−）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ７がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ７がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ^ｃ７がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ−ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ−オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ７がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合（−Ｏ−）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ７がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、３以上１０以下が好ましく、３以上６以下がより好ましい。Ｒ^ｃ７がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Ｒ^ｃ７がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ７が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、２以上２１以下が好ましく、２以上７以下がより好ましい。Ｒ^ｃ７が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、ｎ−ブタノイル基、２−メチルプロパノイル基、ｎ−ペンタノイル基、２，２−ジメチルプロパノイル基、ｎ−ヘキサノイル基、ｎ−ヘプタノイル基、ｎ−オクタノイル基、ｎ−ノナノイル基、ｎ−デカノイル基、ｎ−ウンデカノイル基、ｎ−ドデカノイル基、ｎ−トリデカノイル基、ｎ−テトラデカノイル基、ｎ−ペンタデカノイル基、及びｎ−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Ｒ^ｃ７が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ｎ−ブタノイルオキシ基、２−メチルプロパノイルオキシ基、ｎ−ペンタノイルオキシ基、２，２−ジメチルプロパノイルオキシ基、ｎ−ヘキサノイルオキシ基、ｎ−ヘプタノイルオキシ基、ｎ−オクタノイルオキシ基、ｎ−ノナノイルオキシ基、ｎ−デカノイルオキシ基、ｎ−ウンデカノイルオキシ基、ｎ−ドデカノイルオキシ基、ｎ−トリデカノイルオキシ基、ｎ−テトラデカノイルオキシ基、ｎ−ペンタデカノイルオキシ基、及びｎ−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ７がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２以上２０以下が好ましく、２以上７以下がより好ましい。Ｒ^ｃ７がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−オクチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシカルボニル基、ｎ−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、ｎ−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ７がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、７以上２０以下が好ましく、７以上１０以下がより好ましい。また、Ｒ^ｃ７がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、１１以上２０以下が好ましく、１１以上１４以下がより好ましい。Ｒ^ｃ７がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、及び４−フェニルブチル基が挙げられる。Ｒ^ｃ７がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、２−（α−ナフチル）エチル基、及び２−（β−ナフチル）エチル基が挙げられる。Ｒ^ｃ７が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Ｒ^ｃ７は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。

Ｒ^ｃ７がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数３までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基（ヘテロアリール基）であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。Ｒ^ｃ７がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。

Ｒ^ｃ７がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、Ｒ^ｃ７がヘテロシクリル基である場合と同様である。

Ｒ^ｃ７が１又は２の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数３以上１０以下のシクロアルキル基、炭素原子数２以上２１以下の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数７以上２０以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数１１以上２０以下のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Ｒ^ｃ７と同様である。１、又は２の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ｎ−ペンチルアミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、ｎ−ヘプチルアミノ基、ｎ−オクチルアミノ基、ｎ−ノニルアミノ基、ｎ−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ｎ−ブタノイルアミノ基、ｎ−ペンタノイルアミノ基、ｎ−ヘキサノイルアミノ基、ｎ−ヘプタノイルアミノ基、ｎ−オクタノイルアミノ基、ｎ−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ７に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数２以上７以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２以上７以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−１−イル基、ピペラジン−１−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Ｒ^ｃ７に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、１以上４以下が好ましい。Ｒ^ｃ７に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。

以上説明した基の中でも、Ｒ^ｃ７としては、ニトロ基、又はＲ^ｃ１２−ＣＯ−で表される基であると、感度が向上する傾向があり好ましい。Ｒ^ｃ１２は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Ｒ^ｃ１２として好適な基の例としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Ｒ^ｃ１２として、これらの基の中では、２−メチルフェニル基、チオフェン−２−イル基、及びα−ナフチル基が特に好ましい。
また、Ｒ^ｃ７が水素原子であると、透明性が良好となる傾向があり好ましい。なお、Ｒ^ｃ７が水素原子であり且つＲ^ｃ１０が後述の式（ｃ４ａ）又は（ｃ４ｂ）で表される基であると透明性はより良好となる傾向がある。

式（ｃ４）中、Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子である。Ｒ^ｃ８とＲ^ｃ９とは相互に結合して環を形成してもよい。これらの基の中では、Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９として、置換基を有してもよい鎖状アルキル基が好ましい。Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が置換基を有してもよい鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基は直鎖アルキル基でも分岐鎖アルキル基でもよい。

Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が置換基を持たない鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上６以下が特に好ましい。Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が鎖状アルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、イソノニル基、ｎ−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合（−Ｏ−）を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が置換基を有する鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上６以下が特に好ましい。この場合、置換基の炭素原子数は、鎖状アルキル基の炭素原子数に含まれない。置換基を有する鎖状アルキル基は、直鎖状であるのが好ましい。
アルキル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。置換基の好適な例としては、シアノ基、ハロゲン原子、環状有機基、及びアルコキシカルボニル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中では、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。環状有機基としては、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。シクロアルキル基の具体例としては、Ｒ^ｃ７がシクロアルキル基である場合の好適な例と同様である。芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。ヘテロシクリル基の具体例としては、Ｒ^ｃ７がヘテロシクリル基である場合の好適な例と同様である。Ｒ^ｃ７がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。

鎖状アルキル基が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されない。好ましい置換基の数は鎖状アルキル基の炭素原子数に応じて変わる。置換基の数は、典型的には、１以上２０以下であり、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。

Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が環状有機基である場合、環状有機基は、脂環式基であっても、芳香族基であってもよい。環状有機基としては、脂肪族環状炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が環状有機基である場合に、環状有機基が有してもよい置換基は、Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が鎖状アルキル基である場合と同様である。

Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が芳香族炭化水素基である場合、芳香族炭化水素基は、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が炭素−炭素結合を介して結合して形成される基であるか、複数のベンゼン環が縮合して形成される基であるのが好ましい。芳香族炭化水素基が、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が結合又は縮合して形成される基である場合、芳香族炭化水素基に含まれるベンゼン環の環数は特に限定されず、３以下が好ましく、２以下がより好ましく、１が特に好ましい。芳香族炭化水素基の好ましい具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が脂肪族環状炭化水素基である場合、脂肪族環状炭化水素基は、単環式であっても多環式であってもよい。脂肪族環状炭化水素基の炭素原子数は特に限定されないが、３以上２０以下が好ましく、３以上１０以下がより好ましい。単環式の環状炭化水素基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基、及びアダマンチル基等が挙げられる。

Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、１以上のＮ、Ｓ、Ｏを含む５員又は６員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数３までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基（ヘテロアリール基）であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。

Ｒ^ｃ８とＲ^ｃ９とは相互に結合して環を形成してもよい。Ｒ^ｃ８とＲ^ｃ９とが形成する環からなる基は、シクロアルキリデン基であるのが好ましい。Ｒ^ｃ８とＲ^ｃ９とが結合してシクロアルキリデン基を形成する場合、シクロアルキリデン基を構成する環は、５員環〜６員環であるのが好ましく、５員環であるのがより好ましい。

Ｒ^ｃ８とＲ^ｃ９とが結合して形成する基がシクロアルキリデン基である場合、シクロアルキリデン基は、１以上の他の環と縮合していてもよい。シクロアルキリデン基と縮合していてもよい環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、及びピリミジン環等が挙げられる。

以上説明したＲ^ｃ８及びＲ^ｃ９の中でも好適な基の例としては、式−Ａ^１−Ａ^２で表される基が挙げられる。式中、Ａ^１は直鎖アルキレン基であり、Ａ^２は、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、又はアルコキシカルボニル基である。

Ａ^１の直鎖アルキレン基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。Ａ^２がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシ基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましい。Ａ^２がハロゲン原子である場合、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。Ａ^２がハロゲン化アルキル基である場合、ハロゲン化アルキル基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。ハロゲン化アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ａ^２が環状有機基である場合、環状有機基の例は、Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が置換基として有する環状有機基と同様である。Ａ^２がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の例は、Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９が置換基として有するアルコキシカルボニル基と同様である。

Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９の好適な具体例としては、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、及びｎ−オクチル基等のアルキル基；２−メトキシエチル基、３−メトキシ−ｎ−プロピル基、４−メトキシ−ｎ−ブチル基、５−メトキシ−ｎ−ペンチル基、６−メトキシ−ｎ−ヘキシル基、７−メトキシ−ｎ−ヘプチル基、８−メトキシ−ｎ−オクチル基、２−エトキシエチル基、３−エトキシ−ｎ−プロピル基、４−エトキシ−ｎ−ブチル基、５−エトキシ−ｎ−ペンチル基、６−エトキシ−ｎ−ヘキシル基、７−エトキシ−ｎ−ヘプチル基、及び８−エトキシ−ｎ−オクチル基等のアルコキシアルキル基；２−シアノエチル基、３−シアノ−ｎ−プロピル基、４−シアノ−ｎ−ブチル基、５−シアノ−ｎ−ペンチル基、６−シアノ−ｎ−ヘキシル基、７−シアノ−ｎ−ヘプチル基、及び８−シアノ−ｎ−オクチル基等のシアノアルキル基；２−フェニルエチル基、３−フェニル−ｎ−プロピル基、４−フェニル−ｎ−ブチル基、５−フェニル−ｎ−ペンチル基、６−フェニル−ｎ−ヘキシル基、７−フェニル−ｎ−ヘプチル基、及び８−フェニル−ｎ−オクチル基等のフェニルアルキル基；２−シクロヘキシルエチル基、３−シクロヘキシル−ｎ−プロピル基、４−シクロヘキシル−ｎ−ブチル基、５−シクロヘキシル−ｎ−ペンチル基、６−シクロヘキシル−ｎ−ヘキシル基、７−シクロヘキシル−ｎ−ヘプチル基、８−シクロヘキシル−ｎ−オクチル基、２−シクロペンチルエチル基、３−シクロペンチル−ｎ−プロピル基、４−シクロペンチル−ｎ−ブチル基、５−シクロペンチル−ｎ−ペンチル基、６−シクロペンチル−ｎ−ヘキシル基、７−シクロペンチル−ｎ−ヘプチル基、及び８−シクロペンチル−ｎ−オクチル基等のシクロアルキルアルキル基；２−メトキシカルボニルエチル基、３−メトキシカルボニル−ｎ−プロピル基、４−メトキシカルボニル−ｎ−ブチル基、５−メトキシカルボニル−ｎ−ペンチル基、６−メトキシカルボニル−ｎ−ヘキシル基、７−メトキシカルボニル−ｎ−ヘプチル基、８−メトキシカルボニル−ｎ−オクチル基、２−エトキシカルボニルエチル基、３−エトキシカルボニル−ｎ−プロピル基、４−エトキシカルボニル−ｎ−ブチル基、５−エトキシカルボニル−ｎ−ペンチル基、６−エトキシカルボニル−ｎ−ヘキシル基、７−エトキシカルボニル−ｎ−ヘプチル基、及び８−エトキシカルボニル−ｎ−オクチル基等のアルコキシカルボニルアルキル基；２−クロロエチル基、３−クロロ−ｎ−プロピル基、４−クロロ−ｎ−ブチル基、５−クロロ−ｎ−ペンチル基、６−クロロ−ｎ−ヘキシル基、７−クロロ−ｎ−ヘプチル基、８−クロロ−ｎ−オクチル基、２−ブロモエチル基、３−ブロモ−ｎ−プロピル基、４−ブロモ−ｎ−ブチル基、５−ブロモ−ｎ−ペンチル基、６−ブロモ−ｎ−ヘキシル基、７−ブロモ−ｎ−ヘプチル基、８−ブロモ−ｎ−オクチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、及び３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロ−ｎ−ペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。

Ｒ^ｃ８及びＲ^ｃ９として、上記の中でも好適な基は、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−メトキシエチル基、２−シアノエチル基、２−フェニルエチル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、及び３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロ−ｎ−ペンチル基である。

Ｒ^ｃ１０の好適な有機基の例としては、Ｒ^ｃ７と同様に、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、１、又は２の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−１−イル基、及びピペラジン−１−イル基等が挙げられる。これらの基の具体例は、Ｒ^ｃ７について説明した基と同様である。また、Ｒ^ｃ１０としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、Ｒ^ｃ７に含まれるフェニル基が有していてもよい置換基と同様である。

有機基の中でも、Ｒ^ｃ１０としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数１以上８以下のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１以上４以下のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、２−メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、５以上１０以下が好ましく、５以上８以下がより好ましく、５又は６が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１以上８以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、２が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、１以上８以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、２が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、２−（４−クロロフェニルチオ）エチル基が好ましい。

また、Ｒ^ｃ１０としては、−Ａ^３−ＣＯ−Ｏ−Ａ^４で表される基も好ましい。Ａ^３は、２価の有機基であり、２価の炭化水素基であるのが好ましく、アルキレン基であるのが好ましい。Ａ^４は、１価の有機基であり、１価の炭化水素基であるのが好ましい。

Ａ^３がアルキレン基である場合、アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Ａ^３がアルキレン基である場合、アルキレン基の炭素原子数は１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましく、１以上４以下が特に好ましい。

Ａ^４の好適な例としては、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数７以上２０以下のアラルキル基、及び炭素原子数６以上２０以下の芳香族炭化水素基が挙げられる。Ａ^４の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、及びβ−ナフチルメチル基等が挙げられる。

−Ａ^３−ＣＯ−Ｏ−Ａ^４で表される基の好適な具体例としては、２−メトキシカルボニルエチル基、２−エトキシカルボニルエチル基、２−ｎ−プロピルオキシカルボニルエチル基、２−ｎ−ブチルオキシカルボニルエチル基、２−ｎ−ペンチルオキシカルボニルエチル基、２−ｎ−ヘキシルオキシカルボニルエチル基、２−ベンジルオキシカルボニルエチル基、２−フェノキシカルボニルエチル基、３−メトキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−エトキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−ｎ−プロピルオキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−ｎ−ブチルオキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−ｎ−ペンチルオキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−ｎ−ヘキシルオキシカルボニル−ｎ−プロピル基、３−ベンジルオキシカルボニル−ｎ−プロピル基、及び３−フェノキシカルボニル−ｎ−プロピル基等が挙げられる。

以上、Ｒ^ｃ１０について説明したが、Ｒ^ｃ１０としては、下記式（ｃ４ａ）又は（ｃ４ｂ）で表される基が好ましい。

（式（ｃ４ａ）及び（ｃ４ｂ）中、Ｒ^ｃ１３及びＲ^ｃ１４はそれぞれ有機基であり、ｎ６は０以上４以下の整数であり、Ｒ^ｃ１３及びＲ^ｃ１４がベンゼン環上の隣接する位置に存在する場合、Ｒ^ｃ１３とＲ^ｃ１４とが互いに結合して環を形成してもよく、ｎ７は１以下８以下の整数であり、ｎ８は１以上５以下の整数であり、ｎ９は０以上（ｎ８＋３）以下の整数であり、Ｒ^ｃ１５は有機基である。）

式（ｃ４ａ）中のＲ^ｃ１３及びＲ^ｃ１４についての有機基の例は、Ｒ^ｃ７と同様である。Ｒ^ｃ１３としては、アルキル基又はフェニル基が好ましい。Ｒ^ｃ１３がアルキル基である場合、その炭素原子数は、１以下１０以上が好ましく、１以上５以下がより好ましく、１以上３以下が特に好ましく、１が最も好ましい。つまり、Ｒ^ｃ１３はメチル基であるのが最も好ましい。Ｒ^ｃ１３とＲ^ｃ１４とが結合して環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。式（ｃ４ａ）で表される基であって、Ｒ^ｃ１３とＲ^ｃ１４とが環を形成している基の好適な例としては、ナフタレン−１−イル基や、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−５−イル基等が挙げられる。上記式（ｃ４ａ）中、ｎ６は０以上４以下の整数であり、０又は１であるのが好ましく、０であるのがより好ましい。

上記式（ｃ４ｂ）中、Ｒ^ｃ１５は有機基である。有機基としては、Ｒ^ｃ７について説明した有機基と同様の基が挙げられる。有機基の中では、アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。アルキル基の炭素原子数は１以上１０以下が好ましく、１以上５以下がより好ましく、１以上３以下が特に好ましい。Ｒ^ｃ１５としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。

上記式（ｃ４ｂ）中、ｎ８は１以上５以下の整数であり、１以上３以下の整数が好ましく、１又は２がより好ましい。上記式（ｃ４ｂ）中、ｎ９は０以上（ｎ８＋３）以下であり、０以上３以下の整数が好ましく、０以上２以下の整数がより好ましく、０が特に好ましい。上記式（ｃ４ｂ）中、ｎ７は１以上８以下の整数であり、１以上５以下の整数が好ましく、１以上３以下の整数がより好ましく、１又は２が特に好ましい。

式（ｃ４）中、Ｒ^ｃ１１は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数１以上１１以下のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基である。Ｒ^ｃ１１がアルキル基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。また、Ｒ^ｃ７がアリール基である場合に有してもよい置換基としては、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましく例示される。

式（ｃ４）中、Ｒ^ｃ１１としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、ナフチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基又はフェニル基がより好ましい。

式（ｃ４）で表される化合物は、前述の式（ｃ５）で表される化合物に含まれるオキシム基（＞Ｃ＝Ｎ−ＯＨ）を、＞Ｃ＝Ｎ−Ｏ−ＣＯＲ^ｃ１１で表されるオキシムエステル基に変換する工程を含む方法により製造される。Ｒ^ｃ１１は、式（ｃ４）中のＲ^ｃ１１と同様である。

オキシム基（＞Ｃ＝Ｎ−ＯＨ）の、＞Ｃ＝Ｎ−Ｏ−ＣＯＲ^ｃ１１で表されるオキシムエステル基への変換は、前述の式（ｃ５）で表される化合物と、アシル化剤とを反応させることにより行われる。
−ＣＯＲ^ｃ１１で表されるアシル基を与えるアシル化剤としては、（Ｒ^ｃ１１ＣＯ）_２Ｏで表される酸無水物や、Ｒ^ｃ１１ＣＯＨａｌ（Ｈａｌはハロゲン原子）で表される酸ハライドが挙げられる。

式（ｃ４）で表される化合物の好適な具体例としては、以下のＰＩ−４３〜ＰＩ−８３が挙げられる。

また、熱重合開始剤としては、例えば有機過酸化物を用いることができる。
有機過酸化物の具体例としては、ジ（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ヘキシルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）−２−メチルシクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、クミルパーオキシネオデカノエート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシネオヘプタノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ヘキシルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシマレイン酸、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシ−３−メチルベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ（２−エチルヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、ｎ−ブチル４，４−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、２，２−ジ（４，４−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキシル）プロパン、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ジイソブチリルパーオキサイド、ジ（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド、ジスクシン酸パーオキサイド、ジ−（３−メチルベンゾイル）パーオキサイド、ベンゾイル（３−メチルベンゾイル）パーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジ（４−メチルベンゾイル）パーオキサイド等が挙げられる。

硬化剤（Ｃ）を含む場合、その含有量は、硬化性組成物の固形分１００質量部に対して０．５質量部以上２０質量部以下であることが好ましい。上記の範囲とすることにより、十分な耐熱性、耐薬品性を得ることができ、また塗布膜形成能を向上させ、硬化不良を抑制することができる。

＜金属酸化物（Ｄ）＞
硬化性組成物が含硫黄ポリマー（Ａ）を含むことにより、硬化性組成物を用いて屈折率の高い硬化物を形成しうる。屈折率の高い硬化物の形成を容易にする観点から、硬化性組成物が金属酸化物（Ｄ）を含むのも好ましい。
金属酸化物（Ｄ）は、硬化性組成物の硬化物の高屈折率化に寄与する。また、金属酸化物（Ｄ）において、その表面にキャッピング剤が共有結合しているのが好ましい。

硬化性組成物に、例えば、ＺｒＯ_２微粒子のような金属酸化物（Ｄ）を配合すれば、高屈折率化が見込まれる。しかしながら、キャッピング剤が表面に共有結合していない金属酸化物（Ｄ）を硬化性組成物に配合する場合、耐屈曲性が良好な硬化物を形成しにくい場合がある。そこで、耐屈曲性が良好であり割れにくい硬化物の形成が望まれる場合は、キャッピング剤が表面に共有結合している金属酸化物（Ｄ）を硬化性組成物に配合するのが好ましい。

金属酸化物（Ｄ）は、通常、微粒子の形態である。金属酸化物（Ｄ）の微粒子（表面に共有結合しているキャッピング剤部分も含み、以下同じ）の平均粒子径は、本発明の目的を阻害しない範囲で、特に限定されない。金属酸化物（Ｄ）の微粒子の平均粒子径は、例えば，５０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましく、５ｎｍ以下が特に好ましい。また、金属酸化物（Ｄ）の微粒子の平均粒子径の下限は、例えば、１ｎｍ以上であり、２ｎｍ以上であってもよい。
なお、金属酸化物（Ｄ）の微粒子の平均粒子径は、動的光散乱法を用いて測定される体積平均粒子径である。
金属酸化物（Ｄ）の微粒子の、累積粒度体積分布において、累積値９９．９９％における粒子径は、高屈折率化の点で、例えば５０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下がさらに好ましい。下限値は特にないが、例えば５ｎｍ以上である。金属酸化物（Ｄ）の微粒子の粒度分布（累積粒度体積分布）も動的光散乱法を用いて測定される。

金属酸化物（Ｄ）の種類は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。金属酸化物（Ｄ）の微粒子は、単一の金属酸化物からなる微粒子であってもよく、２種以上の金属酸化物からなる微粒子であってもよい。また、硬化性組成物は、２種以上の金属酸化物（Ｄ）を組み合わせて含んでいてもよい。
金属酸化物（Ｄ）の微粒子を構成する金属酸化物の好ましい例としては、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化イットリウム（Ｙ_２Ｏ_３）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ_２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）等が挙げられる。

金属酸化物（Ｄ）においては、前述の通り、その表面にキャッピング剤が結合しているのが好ましい。金属酸化物（Ｄ）の表面には通常、水酸基が存在している。かかる水酸基とキャッピング剤が有する反応性基とを反応させることにより、金属酸化物（Ｄ）の表面にキャッピング剤が共有結合する。
キャッピング剤が有する反応性基の好ましい例としては、トリメトキシシリル基、トリエトキシリル基等のトリアルコキシシリル基；ジメトキシシリル基、ジエトキシシリル基等のジアルコキシシリル基；モノメトキシシリル基、モノエトキシシリル基等のモノアルコキシシリル基；トリクロロシリル基等のトリハロシリル基；ジクロロシリル基等のジハロシリル基；モノクロロシリル基等のモノハロシリル基；カルボキシ基；クロロカルボニル基等のハロカルボニル基；水酸基；ホスホノ基（−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）_２）；ホスフェート基（−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）_２）が挙げられる。

トリアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、モノアルコキシシリル基、トリハロシリル基、ジハロシリル基、及びモノハロシリル基は、金属酸化物（Ｄ）の表面とシロキサン結合を形成する。
カルボキシ基、及びハロカルボニル基は、金属酸化物（Ｄ）の表面と、（金属酸化物−Ｏ−ＣＯ−）で表される結合を形成する。
水酸基は、金属酸化物（Ｄ）の表面と、（金属酸化物−Ｏ−）で表される結合を形成する。
ホスホノ基、及びホスフェート基は、金属酸化物（Ｄ）の表面と、（金属酸化物−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）＜）で表される結合を形成する。

キャッピング剤において、上記の反応性基に結合する基としては、水素原子と、種々の有機基が挙げられる。有機基は、Ｏ、Ｎ、Ｓ、Ｐ、Ｂ、Ｓｉ、ハロゲン原子等のヘテロ原子を含んでいてもよい。
上記の反応性基に結合する基としては、例えば、直鎖状でも分岐鎖状であってもよく、酸素原子（−Ｏ−）で中断されていてもよいアルキル基、直鎖状でも分岐鎖状であってもよく、酸素原子（−Ｏ−）で中断されていてもよいアルケニル基、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、酸素原子（−Ｏ−）で中断されていてもよいアルキニル基、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、及び複素環基等が挙げられる。
これらの基は、ハロゲン原子、グリシジル基等のエポキシ基含有基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、（メタ）アクリロイル基、及びイソシアネート基等の置換基で置換されていてもよい。また、置換基の数は特に限定されない。

また、上記の反応性基に結合する基としては、−（ＳｉＲ^ｄ１Ｒ^ｄ２−Ｏ−）_ｒ−（ＳｉＲ^ｄ３Ｒ^ｄ４−Ｏ−）_ｓ−Ｒ^ｄ５で表される基も好ましい。Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｄ２、Ｒ^ｄ３、及びＲ^ｄ４は、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい有機基である。有機基の好適な例としては、メチル基、エチル基等のアルキル基；ビニル基、アリル基等のアルケニル基；フェニル基、ナフチル基、トリル基等の芳香族炭化水素基；３−グリシドキシプロピル基等のエポキシ基含有基；（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられる。
上記式中Ｒ^ｄ５としては、例えば、−Ｓｉ（ＣＨ_３）_３、−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｈ、−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ＝ＣＨ_２）、及び−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３）等の末端基が挙げられる。
上記式中のｒ及びｓは、それぞれ独立に０以上６０以下の整数である。上記式中のｒ及びｓは双方が０であることはない。

キャッピング剤の好適な具体例としては、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリエトキシシラン、ｎ−ドデシルトリメトキシシラン、ｎ−ドデシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェネチルフェニルトリメトキシシラン、フェネチルエチルトリエトキシシラン、３−｛２−メトキシ［ポリ（エチレンオキシ）］｝プロピルトリメトキシシラン、３−｛２−メトキシ［ポリ（エチレンオキシ）］｝プロピルトリエトキシシラン、３−｛２−メトキシ［トリ（エチレンオキシ）］｝プロピルトリメトキシシラン、３−｛２−メトキシ［トリ（エチレンオキシ）］｝プロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、１−ヘキセニルトリメトキシシラン，１−ヘキセニルトリエトキシシラン、１−オクテニルトリメトキシシラン、１−オクテニルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、及び３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のアルコキシシラン；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−ヘキサノール、ｎ−オクタノール、オレイルアルコール、ｎ−ドデシルアルコール、ｎ−オクタデカノール、ベンジルアルコール、フェノール、及びトリエチレングリコールモノメチルエーテル等のフェノール類又はアルコール類；オクタン酸、酢酸、プロピオン酸、２−［２−（メトキシエトキシ）エトキシ］酢酸、オレイン酸、ラウリン酸、安息香酸、及びこれらの酸の酸ハライド（好ましくは酸クロライド）等が挙げられる。

金属酸化物（Ｄ）の表面に、キャッピング剤を共有結合させる際のキャッピング剤の使用量は特に限定されない。好ましくは、金属酸化物（Ｄ）の表面の水酸基のほぼ全てと反応するのに十分な量のキャッピング剤が使用される。

また、キャッピング剤が末端にビニル基を有する場合、金属酸化物（Ｄ）の表面のキャッピング剤に由来する末端ビニル基に、ヒドロシリル基を有するポリマーをグラフトすることができる。この場合、末端ビニル基と、ポリマーが有するヒドロシリル基とは、周知のヒドロシリル化反応により結合する。ヒドロシリル化反応は、周知のヒドロシリル化触媒により進行する。
キャッピング剤が末端にヒドロシリル基を有する場合、金属酸化物（Ｄ）の表面のキャッピング剤に由来するヒドロシリル基に、ビニル基を有するポリマーをグラフトすることができる。ヒドロシリル化反応は、上記と同様の方法で行われる。
金属酸化物（Ｄ）の表面にグラフトされるポリマーとしては、ビニル基を含む単位を含むポリオルガノシロキサンや、ヒドロシリル基を含む単位を含むポリオルガノシロキサンを用いることができる。金属酸化物（Ｄ）の表面にグラフトされるポリマーは、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。

硬化性組成物における金属酸化物（Ｄ）の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。硬化物についての高屈折率と、良好な屈曲性とを両立させやすい点から、典型的には、含硫黄ポリマー（Ａ）及び多官能架橋剤（Ｂ）と、金属酸化物（Ｄ）の質量比（（Ａ＋Ｂ）：Ｄ）が、１：９９〜９５：５であり、好ましくは５：９５〜９０：１０であり、さらに好ましくは１０：９０〜８５：１５であり、特に好ましくは３０：７０〜８０：２０である。また、金属酸化物（Ｄ）の含有量は、後述の溶媒（Ｓ）を除いた硬化性組成物の質量に対して、例えば、５質量％以上９５質量％以下が好ましく、１０質量％以上９３質量％以下がより好ましく、１５質量％以上９０質量％以下がさらに好ましく、２０質量％以上８０質量％以下が特に好ましい。

＜その他の成分＞
硬化性組成物には、必要に応じて、界面活性剤、熱重合禁止剤、消泡剤、シランカップリング剤、着色剤（顔料、染料）、樹脂（熱可塑性樹脂、アルカリ可溶性樹脂等）、有機フィラー等の添加剤を含有させることができる。いずれの添加剤も、従来公知のものを用いることができる。

＜溶媒（Ｓ）＞
硬化性組成物は、塗布性の調整等の目的で溶媒（Ｓ）を含んでいてもよい。溶媒（Ｓ）としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタンメチル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、下記式（Ｓ０１）で表される化合物等のアミド類等が挙げられる。これらの有機溶剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

（式（Ｓ０１）中、Ｒ^ｓ０１及びＲ^ｓ０２は、それぞれ独立に炭素原子数１以上３以下のアルキル基であり、Ｒ^ｓ０３は下式（Ｓ０１−１）又は下式（Ｓ０１−２）：

で表される基である。
式（Ｓ０１−１）中、Ｒ^ｓ０４は、水素原子又は水酸基であり、Ｒ^ｓ０５及びＲ^ｓ０６は、それぞれ独立に炭素原子数１以上３以下のアルキル基である。式（Ｓ０１−２）中、Ｒ^ｓ０７及びＲ^ｓ０８は、それぞれ独立に水素原子、又は炭素原子数１以上３以下のアルキル基である。）

式（Ｓ０１）で表される化合物のうち、Ｒ^ｓ０３が式（Ｓ０１−１）で表される基である場合の具体例としては、Ｎ，Ｎ，２−トリメチルプロピオンアミド、Ｎ−エチル，Ｎ，２−ジメチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，２−トリメチル−２−ヒドロキシプロピオンアミド、Ｎ−エチル−Ｎ，２−ジメチル−２−ヒドロキシプロピオンアミド、及びＮ，Ｎ−ジエチル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオンアミド等が挙げられる。

式（Ｓ０１）で表される化合物のうち、Ｒ^ｓ０３が式（Ｓ０１−２）で表される基である場合の具体例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウレア、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルウレア等が挙げられる。

式（Ｓ０１）で表される化合物のうち、特に好ましいものとしては、Ｎ，Ｎ，２−トリメチルプロピオンアミド、及びＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウレアが好ましい。

溶媒（Ｓ）の含有量は、硬化性組成物の固形分濃度が１質量％以上５０質量％以下である量が好ましく、５質量％以上３０質量％以下である量がより好ましい。

≪硬化物≫
以上説明した硬化性組成物の硬化物は高屈折率を示す。このため、硬化物は、高屈折率であることが要求される種々の光学素子において好適に用いられる。このような光学素子としては、前述の硬化性組成物の硬化物からなるマイクロレンズを備える素子等が挙げられる。マイクロレンズを備える光学素子の例としては、例えばＣＭＯＳイメージセンサ等が挙げられる。

硬化物の屈折率は特に限定されないが、波長５５０ｎｍでの屈折率として１．７０以上が好ましく、１．７５以上がより好ましい。

以下、硬化物の形成方法について、マイクロレンズの製造方法を代表として説明する。以下説明するマイクロレンズの製造方法では、レンズ材料層として硬化物が形成される。

≪マイクロレンズの製造方法≫
マイクロレンズの製造方法は、以上説明した硬化性組成物を基材上に塗布して得られる塗布膜を硬化させてレンズ材料層を形成するレンズ材料層形成工程と、
レンズ材料層上にレジストパターンを形成したのち、加熱により上記レジストパターンをリフローさせてレンズパターンを形成するレンズパターン形成工程と、
レンズパターンをマスクとしてレンズ材料層及びレンズパターンをドライエッチングして、レンズパターンの形状をレンズ材料層に転写する形状転写工程とを含む。

基材としては、フォトダイオード（有機フォトダイオード、無機フォトダイオード等）等を含む画像素子、カラーフィルタ層等が設けられたシリコンウエハー、場合により反射防止膜がさらに形成されたシリコンウエハー等の基板等が挙げられる。

硬化性組成物を塗布する方法は、特に限定されない。例えば、ロールコーター、リバースコーター、バーコーター、スリットコーター等の接触転写型塗布装置や、スピンナー（回転式塗布装置）、カーテンフローコーター等の非接触型塗布装置を用いて、硬化性組成物を塗布できる。

硬化性組成物が溶媒を含む場合、硬化性組成物を基材上に、所望の膜厚となるよう塗布して塗布膜を形成した後、適宜、加熱処理（プレベーク（ポストアプライベーク（ＰＡＢ））処理）して塗布膜中の溶媒を除去してもよい。

プレベークの方法としては、特に限定されない。プレベークの方法として、例えば、（ｉ）ホットプレートを用いて８０℃以上１２０℃以下程度の温度において６０秒以上１２０秒以下程度の時間乾燥する方法、（ｉｉ）室温において数時間から数日間塗布膜を放置する方法、（ｉｉｉ）数十分以上数時間以下程度の時間、塗布膜を温風ヒーターや赤外線ヒーター中に入れて溶媒を除去する方法が挙げられる。

次いで、架橋性基の組み合わせに応じて、塗布膜に対して露光、及び／又は加熱を行い、塗布膜を硬化させてレンズ材料層を形成する。露光量は、硬化性組成物の組成によっても異なるが、例えば５ｍＪ／ｃｍ^２以上２０００ｍＪ／ｃｍ^２以下が好ましい。
熱硬化の場合の加熱温度は、８０℃以上３００℃以下が好ましく、１１０℃以上２５０℃以下がより好ましく、１２０℃以上２００℃以下がさらに好ましい。

有機フォトダイオードを用いる場合等に好適な低温硬化の観点から、レンズ材料層形成工程における硬化を行う温度は、２００℃以下が好ましく、１００℃以上１８０℃以下がより好ましく、１１０℃以上１５０℃以下がさらに好ましく、１２０℃以上１５０℃以下が特に好ましい。

レンズ材料層の厚さは、例えば、１００ｎｍ以上４．０μｍ以下が好ましく、４００ｎｍ以上２．０μｍ以下がより好ましい。

レンズパターン形成工程におけるリフローの加熱条件は、レジストパターン形成用の組成物中の各成分の種類、配合割合、塗布膜厚等によって異なる。加熱温度は、例えば、６０℃以上１５０℃以下が好ましく、７０℃以上１４０℃以下がより好ましい。加熱時間は、例えば、０．５分以上６０分以下が好ましく、１分以上５０分以下がより好ましい。
リフロー前のレジストパターンの膜厚は、１００ｎｍ以上４．０μｍ以下が好ましく、４００ｎｍ以上２．０μｍ以下がより好ましい。

形状転写工程におけるドライエッチングの方法は、特に限定されない。ドライエッチングの方法としては、例えば、プラズマ（酸素、アルゴン、ＣＦ_４等）、コロナ放電等によるドライエッチングが挙げられる。

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されない。

実施例１及び比較例１において、テトラビニルシラン１モルに対して、１，３−ジメルカプトベンゼン１モルを用いることの他は、前述の特許文献１に記載の実施例４と同様の方法によって得られた、ベンゼン−１，３−ジチオ単位を含み、架橋性基としてケイ素原子に結合したビニル基を有する含硫黄ポリマー（Ａ）を用いた。

〔実施例１〕
上記の含硫黄ポリマー（Ａ）８０質量部と、多官能架橋剤（Ｂ）としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０質量部と、硬化剤（Ｃ）（光重合開始剤）としての２−（ベンゾイルオキシイミノ）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１−オクタノン２質量部と、界面活性剤０．０３質量部と、重合禁止剤としてのメチルハイドロキノン０．５質量とを、固形分濃度２０質量％となるようにシクロペンタノンに溶解させて、硬化性組成物を得た。

〔比較例１〕
含硫黄ポリマー（Ａ）の使用量を１００質量部に変えることと、多官能架橋剤（Ｂ）を用いないこととの他は、実施例１と同様にして硬化性組成物を得た。

得られた硬化性組成物を用いて、以下の方法に従って、屈折率（波長５５０ｎｍ）、透過率（波長４００ｎｍ）、ＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）耐性、及び耐熱性を評価した。これらの評価結果を表１に記す。

＜硬化膜の作製＞
まず、シリコン基板に対して、各硬化性組成物をスピンコートして、１００℃２分の条件でプリベークし、厚み１．５μｍの塗布膜を得た。続いて、高圧水銀ランプを備えた露光機にて、上述の塗膜に対して全面露光（露光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）した。その後、ホットプレートにて、２２０℃１０分の条件で露光後の塗布膜に対する加熱を行い、硬化膜を得た。
＜屈折率の測定＞
得られた硬化膜について、分光エリプソメーター（Ｊ．Ａ．ＷＯＯＬＬＡＭ社製ＶＵＶ−ＶＡＳＥ ＶＵ３０２）を用いて波長５５０ｎｍにおける屈折率を測定した。
＜透過率の測定＞
得られた硬化膜について、大塚電子社製分光光度計ＭＣＰＤ−３０００にて波長４００ｎｍにおける透過率を測定した。
＜ＮＭＰ耐性＞
得られた硬化膜について、ＮＭＰに室温で５分浸漬し、浸漬前後の硬化膜の厚みの変動を測定した。
＜耐熱性＞
得られた硬化膜について、５分間２６０℃で加熱し、加熱前後の硬化膜の厚みの変動を測定した。

表１によれば、架橋性基を有する含硫黄ポリマー（Ａ）と、光重合開始剤とを含む比較例１の硬化性組成物を硬化させても、有機溶剤（ＮＭＰ）に容易に溶解し、耐熱性にやや劣る硬化物しか形成できないことが分かる。
他方、架橋性基を有する含硫黄ポリマー（Ａ）及び光重合開始剤とともに、多官能架橋剤（Ｂ）を含む実施例１の硬化性組成物を硬化させることにより、ＮＭＰ耐性に顕著に優れ、且つ耐熱性にも優れる硬化物を形成できることが分かる。

Claims (10)

1. 含硫黄ポリマー（Ａ）と、多官能架橋剤（Ｂ）とを含む硬化性組成物であって、
   前記含硫黄ポリマー（Ａ）が、下記式（ａ１）〜式（ａ４）：
   

   

   （式（ａ１）〜式（ａ４）中、Ｒ^１は、単結合、又は２価の有機基であり、Ｒ^２は、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基含有基、オキセタニル基含有基、水酸基、加水分解により水酸基を生成する基、イソシアネート基含有基、水素原子、及びジカルボン酸無水物基含有基からなる群より選択される１価の架橋性基、又は非架橋性の１価の有機基であり、Ｍは、Ｓｉ、Ｇｅ、又はＳｎである。）
   で表される単位を少なくとも１種含み、且つ、前記Ｒ^２としての架橋性基を有するポリマーであり、
   前記Ｒ^２としての前記架橋性基が、エチレン性不飽和結合含有基である場合、前記多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、エチレン性不飽和結合含有基、又はヒドロシリル基であり、
   前記Ｒ^２としての前記架橋性基が、エポキシ基含有基、又はオキセタニル基含有基である場合、前記多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、カルボキシ基、フェノール性水酸基、アミノ基、イミノ基、又はジカルボン酸無水物基であり、
   前記Ｒ^２としての前記架橋性基が、水酸基、又は加水分解により水酸基を生成する基である場合、前記多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、又はイミノ基であり、
   前記Ｒ^２としての前記架橋性基が、イソシアネート基含有基である場合、前記多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、又はイミノ基であり、
   前記Ｒ^２としての前記架橋性基が、水素原子である場合、前記多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、エチレン性不飽和結合含有基であり、
   前記Ｒ^２としての前記架橋性基が、ジカルボン酸無水物基含有基である場合、前記多官能架橋剤（Ｂ）が有する架橋性基が、水酸基、アミノ基、イミノ基、エポキシ基、又はオキセタニル基である、硬化性組成物。
2. 前記Ｍが、Ｓｉである、請求項１に記載の硬化性組成物。
3. 前記多官能架橋剤（Ｂ）が、３つ以上の前記架橋性基を有する、請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
4. 前記Ｒ^２としての前記架橋性基が、エチレン性不飽和結合含有基であり、
   前記多官能架橋剤（Ｂ）が有する前記架橋性基が、エチレン性不飽和結合含有基であり、
   硬化剤（Ｃ）として光重合開始剤を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
5. 前記Ｒ^２としての前記架橋性基が、ビニル基、又はアリル基である、請求項４に記載の硬化性組成物。
6. 前記多官能架橋剤（Ｂ）が、多官能（メタ）アクリレート化合物である、請求項４又は５に記載の硬化性組成物。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の硬化性組成物の硬化物。
8. 請求項７に記載の硬化物からなるマイクロレンズ。
9. 請求項８に記載の硬化物を備える、光学素子。
10. 請求項８に記載のマイクロレンズを備える、光学素子。