JP2020071965A - Flexible organic el display manufacturing method - Google Patents

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Tsuyoshi Ikeda
剛史 池田
生芳 高松
Ikuyoshi Takamatsu
生芳 高松
山本 幸司
Koji Yamamoto
山本  幸司
東光 崔
Dong Kwang Choi
東光 崔
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Abstract

To provide a method for manufacturing a flexible organic EL display that can reduce the complexity of work.SOLUTION: A flexible organic EL display manufacturing method is related to manufacturing of a multilayer laminated substrate 10 that includes a first laminated substrate 11 in which a first glass layer 11A and a first resin layer 11B are laminated, and a second laminated substrate 12 in which a second glass layer 12A and a second resin layer 12B are laminated, and in which the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are laminated so as to face each other. The manufacturing method includes a pre-stage step that is a step prior to a step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. The pre-stage step includes a pre-processing step of performing processing related to cutting of at least one of the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B for at least one of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a flexible organic EL display.

有機EL(electro luminescence)ディスプレイは発光層、電極、および、基板が積層された発光デバイスを備える。フレキシブル有機ELディスプレイでは、基板にフレキシブル基板が用いられる。フレキシブル有機ELディスプレイの製造工程では、ガラス層に樹脂層が形成され、樹脂層に発光層等が形成される(例えば特許文献1)。   An organic EL (electro luminescence) display includes a light emitting device in which a light emitting layer, electrodes, and a substrate are laminated. In a flexible organic EL display, a flexible substrate is used as the substrate. In a manufacturing process of a flexible organic EL display, a resin layer is formed on a glass layer, and a light emitting layer and the like are formed on the resin layer (for example, Patent Document 1).

再公表特許WO2011/030716号公報Republished Patent WO2011 / 030716

新しい構造の発光デバイスが提案されている。この発光デバイスは、対向するように設けられる第1樹脂層および第2樹脂層を有する。第1樹脂層と第2樹脂層との間に発光層等が設けられる。従来の発光デバイスとは構造が異なるため、新しい構造の発光デバイスの製造工程では、例えばガラス層および樹脂層等が積層された積層基板の切断に関して複雑な作業をともなうおそれがある。   A light emitting device having a new structure has been proposed. This light emitting device has a first resin layer and a second resin layer provided so as to face each other. A light emitting layer or the like is provided between the first resin layer and the second resin layer. Since the structure of the light emitting device is different from that of the conventional light emitting device, the manufacturing process of the light emitting device having the new structure may involve complicated work for cutting a laminated substrate having glass layers, resin layers and the like laminated.

本発明の目的は、作業の複雑さを緩和できるフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a flexible organic EL display that can reduce the complexity of work.

本発明に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、ガラス層と樹脂層とが積層された複数の積層基板を備え、前記複数の積層基板は第1ガラス層と第1樹脂層とが積層された第1積層基板、および、第2ガラス層と第2樹脂層とが積層された第2積層基板を含み、前記第1樹脂層と前記第2樹脂層とが対向するように積層された多層積層基板の製造に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法であって、前記複数の積層基板を積層する工程よりも前の工程である前段工程を含み、前記前段工程は、前記複数の積層基板の少なくとも一方について、前記ガラス層および前記樹脂層の少なくとも一方の切断に関連する加工を施す前段加工工程を含む。
ガラス層および樹脂層の少なくとも一方の切断に関連する加工は、例えばガラス層を切断する加工、樹脂層を切断する加工、ガラス層をブレイクするための予備加工、および、樹脂層をブレイクするための予備加工の1つまたは複数を含む。前段工程で上記切断に関連する加工が複数の積層基板の少なくとも一方に施されることにより、複数の積層基板を積層する工程以後の工程(以下「後段工程」)において多層積層基板に必要な切断に関する工程が削減される。積層基板よりも構造が複雑な多層積層基板に対する加工が少ないため、作業の複雑さが緩和される。
A method for manufacturing a flexible organic EL display according to the present invention includes a plurality of laminated substrates in which a glass layer and a resin layer are laminated, and the plurality of laminated substrates include a first glass layer and a first resin layer laminated. A multi-layer laminated substrate including one laminated substrate and a second laminated substrate in which a second glass layer and a second resin layer are laminated, and laminated so that the first resin layer and the second resin layer face each other. A method of manufacturing a flexible organic EL display relating to the manufacturing of, including a pre-stage step that is a step prior to the step of laminating the plurality of laminated substrates, wherein the pre-stage step is at least one of the plurality of laminated substrates, It includes a pre-processing step of performing processing related to cutting at least one of the glass layer and the resin layer.
The processing related to the cutting of at least one of the glass layer and the resin layer is, for example, the processing of cutting the glass layer, the processing of cutting the resin layer, the preprocessing for breaking the glass layer, and the processing for breaking the resin layer. Includes one or more of pre-processing. By performing the processing related to the cutting in at least one of the plurality of laminated boards in the preceding step, the cutting required for the multilayer laminated board in the steps after the step of laminating the plurality of laminated boards (hereinafter referred to as “the latter step”) The number of steps regarding is reduced. Since the number of processes for the multilayer laminated substrate having a more complicated structure than the laminated substrate is reduced, the complexity of the work is reduced.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記前段加工工程では、前記ガラス層を切断する。
この製造方法では、前段工程でガラス層が切断されるため、例えば多層積層基板の樹脂層をレーザで切断する場合にレーザの照射にともない発生するガスがガラス層の切断部分から排出され、ガスが樹脂層の品質に影響を及ぼすおそれが低くなる。
In one example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, the glass layer is cut in the pre-processing step.
In this manufacturing method, since the glass layer is cut in the previous step, for example, when cutting the resin layer of the multilayer laminated substrate with a laser, the gas generated with laser irradiation is discharged from the cut portion of the glass layer, and the gas is The risk of affecting the quality of the resin layer is reduced.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記前段加工工程では、前記樹脂層を切断する。
この製造方法では、前段工程で樹脂層が切断されるため、後段工程においてガラス層に挟まれた樹脂層を切断する必要がなく、作業の複雑さが緩和される。
In an example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, the resin layer is cut in the pre-processing step.
In this manufacturing method, since the resin layer is cut in the former step, it is not necessary to cut the resin layer sandwiched between the glass layers in the latter step, and the complexity of the work is reduced.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記複数の積層基板を積層する工程以後の工程である後段工程をさらに含み、前記前段加工工程では、前記複数の積層基板の一方を切断し、前記後段工程は、切断された前記複数の積層基板の一方を切断されていない前記複数の積層基板の他方に積層する後段積層工程を含む。
この製造方法では、前段工程で一方の積層基板が切断されるため、後段工程において多層積層基板に必要な切断に関する工程が削減され、作業の複雑さが緩和される。切断されていない他方の積層基板に一方の積層基板を積層できるため、切断された両方の積層基板を積層する場合に比較して積層作業における各積層基板の位置管理に要求される精度が緩和される。
In one example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, the method further includes a post-stage step that is a step after the step of laminating the plurality of laminated substrates, and in the pre-processing step, one of the plurality of laminated substrates is cut, The latter-stage step includes a latter-stage lamination step of laminating one of the cut laminated substrates on the other of the uncut plural laminated substrates.
In this manufacturing method, one of the laminated substrates is cut in the former step, so that the cutting step required for the multilayer laminated substrate in the latter step is reduced, and the complexity of the work is reduced. Since one laminated board can be laminated on the other uncut laminated board, the accuracy required for position management of each laminated board in the stacking work is relaxed compared to the case where both cut laminated boards are stacked. It

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記前段加工工程では、前記複数の積層基板を積層する工程以後の工程である後段工程において前記積層基板をブレイクするための予備加工を、前記複数の積層基板の少なくとも一方に施す。
この製造方法では、前段工程で予備加工が施されることにより、後段工程において多層積層基板に必要な切断に関する工程が削減され、作業の複雑さが緩和される。
In an example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, in the pre-processing step, a pre-processing for breaking the laminated substrate in a post-step that is a step after the step of laminating the plurality of laminated substrates is performed. It is applied to at least one of the laminated substrates.
In this manufacturing method, the preliminary processing is performed in the former step, so that the step related to cutting necessary for the multilayer laminated substrate in the latter step is reduced, and the complexity of the work is reduced.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記予備加工では、前記ガラス層にスクライブラインを形成する。
この製造方法では、前段工程でガラス層にスクライブラインが形成されるため、例えば多層積層基板の樹脂層をレーザで切断する場合にガスによりガラス層のスクライブラインの部分がブレイクされ、ガスが切断部分から排出される。ガスが樹脂層の品質に影響を及ぼすおそれが低くなる。
In an example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, a scribe line is formed in the glass layer in the preliminary processing.
In this manufacturing method, since the scribe line is formed in the glass layer in the previous step, for example, when cutting the resin layer of the multilayer laminated substrate with a laser, the scribe line portion of the glass layer is broken by the gas, and the gas is cut. Discharged from. There is less risk that the gas will affect the quality of the resin layer.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記前段加工工程では、前記複数の積層基板の両方を切断する。
この製造方法では、前段工程で両方の積層基板が切断されることにより、後段工程において多層積層基板に切断に関連する工程を施す必要がなくなり、作業の複雑さが緩和される。
In an example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, both of the plurality of laminated substrates are cut in the pre-processing step.
In this manufacturing method, since both laminated substrates are cut in the former step, it is not necessary to perform a cutting-related step on the multilayer laminated substrate in the latter step, and the complexity of the work is reduced.

本発明によれば、積層基板の切断に関する作業の複雑さを緩和できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the complexity of the operation | work regarding cutting of a laminated substrate can be eased.

実施形態の製造方法に関する多層積層基板の断面図。Sectional drawing of the multilayer laminated substrate regarding the manufacturing method of embodiment. 図1の第1積層基板の平面図。The top view of the 1st laminated substrate of FIG. レーザ加工装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of a laser processing apparatus. スクライブ加工装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of a scribe processing apparatus. スクライビングホイールの断面図。Sectional drawing of a scribing wheel. 実施形態の製造方法を示すフローチャート。3 is a flowchart showing a manufacturing method of the embodiment. 前段積層工程の第2の例を示す図。The figure which shows the 2nd example of a front | former stage lamination process. 前段積層工程の第3の例を示す図。The figure which shows the 3rd example of a front | former stage lamination process. 前段積層工程の第4の例を示す図。The figure which shows the 4th example of a front | former stage lamination process. 前段加工工程の加工対象および加工層数を示す図。The figure which shows the process target and the number of process layers of a front-end process process. 前段加工工程の一例を示す図。The figure which shows an example of a front-end process. 前段加工工程の第1加工手順の一部を示すフローチャート。The flowchart which shows a part of 1st processing procedure of a former process. 前段加工工程での加工順番および加工種類を示す図。The figure which shows the processing order and processing type in a front-end processing process. レーザ加工装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of a laser processing apparatus. 後段積層工程の一例を示す図。The figure which shows an example of a latter stage lamination process. 前段加工工程の第2加工手順の一部を示すフローチャート。The flowchart which shows a part of 2nd processing procedure of a former process. 後段積層工程の一例を示す図。The figure which shows an example of a latter stage lamination process. 後段加工工程の一例を示す図。The figure which shows an example of a latter process. 剥離工程の一例を示す図。The figure which shows an example of a peeling process. 単位積層基板の一例を示す断面図。Sectional drawing which shows an example of a unit laminated substrate. 変形例の製造方法に関する後段積層工程の一例を示す図。The figure which shows an example of the back | latter stage lamination process regarding the manufacturing method of a modification.

(実施形態)
図面を参照してフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法について説明する。フレキシブル有機ELディスプレイは、据置型の機器および携帯機器等に用いられる。据置型の機器の一例はパーソナルコンピュータおよびテレビ受像機である。携帯機器の一例は携帯情報端末、ウェアラブルコンピュータ、および、ノート型パーソナルコンピュータである。携帯情報端末の一例はスマートフォン、タブレット、および、携帯ゲーム機である。ウェアラブルコンピュータの一例はヘッドマウントディスプレイおよびスマートウォッチである。
(Embodiment)
A method for manufacturing a flexible organic EL display will be described with reference to the drawings. Flexible organic EL displays are used in stationary devices, mobile devices, and the like. Examples of stationary devices are personal computers and television receivers. Examples of mobile devices are personal digital assistants, wearable computers, and notebook personal computers. Examples of mobile information terminals are smartphones, tablets, and mobile game consoles. Examples of wearable computers are head mounted displays and smart watches.

フレキシブル有機ELディスプレイは、発光層、電極、および、基板が積層された発光デバイスと、発光デバイスを一方から覆う第1保護フィルムと、発光デバイスを他方から覆う第2保護フィルムとを有する。第1保護フィルムおよび第2保護フィルムはそれぞれ、例えばPET(polyethylene terephthalate)が用いられる。なお、第1保護フィルムおよび第2保護フィルムの一方は省略してもよい。発光デバイスの製造工程では、図1に示される1枚の多層積層基板10から複数の発光デバイスが製造される。   The flexible organic EL display has a light emitting device in which a light emitting layer, an electrode, and a substrate are laminated, a first protective film that covers the light emitting device from one side, and a second protective film that covers the light emitting device from the other side. PET (polyethylene terephthalate) is used for the first protective film and the second protective film, respectively. One of the first protective film and the second protective film may be omitted. In the manufacturing process of the light emitting device, a plurality of light emitting devices are manufactured from the single multilayer laminated substrate 10 shown in FIG.

多層積層基板10は、フレキシブル有機ELディスプレイの製造の途中段階で製造される。多層積層基板10は、第1ガラス層11Aと第1樹脂層11Bとが積層された第1積層基板11と、第2ガラス層12Aと第2樹脂層12Bとが積層された第2積層基板12とを有する。多層積層基板10は、第1樹脂層11Bと第2樹脂層12Bとが対向するように第1積層基板11と第2積層基板12とが積層されて構成されている。多層積層基板10は、導電層13をさらに有する。導電層13は、例えば第1積層基板11の第1樹脂層11B上に形成されている。導電層13は、第1樹脂層11Bと第2樹脂層12Bとに挟まれている。導電層13は、OLED(Organic Light Diode)、TFT(Thin Film Transistor)等の電子デバイス用部材が形成されている。第1樹脂層11B、導電層13、および、第2樹脂層12Bは、発光デバイスを構成している。   The multilayer laminated substrate 10 is manufactured at an intermediate stage of manufacturing a flexible organic EL display. The multilayer laminated substrate 10 includes a first laminated substrate 11 in which a first glass layer 11A and a first resin layer 11B are laminated, and a second laminated substrate 12 in which a second glass layer 12A and a second resin layer 12B are laminated. Have and. The multilayer laminated substrate 10 is configured by laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 such that the first resin layer 11B and the second resin layer 12B face each other. The multilayer laminated substrate 10 further includes a conductive layer 13. The conductive layer 13 is formed on the first resin layer 11B of the first laminated substrate 11, for example. The conductive layer 13 is sandwiched between the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. The conductive layer 13 is formed with an electronic device member such as an OLED (Organic Light Diode) or a TFT (Thin Film Transistor). The first resin layer 11B, the conductive layer 13, and the second resin layer 12B form a light emitting device.

第1積層基板11の第1ガラス層11Aと第2積層基板12の第2ガラス層12Aとは同じ材料が用いられ、同じサイズに形成されている。第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの組成は、特に限定されないが、例えばアルカリ金属酸化物を含有するガラス、または無アルカリガラス等の種々の組成のガラスを用いることができる。アルカリ金属酸化物を含有するガラスの一例は、ソーダライムガラスである。本実施形態では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aは、無アルカリガラスが用いられる。第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの厚さはそれぞれ、特に限定されないが、例えば0.5mm程度であることが好ましい。第1ガラス層11Aは、第1樹脂層11Bが形成される第1平面14A、および、第1平面14Aと対をなす第2平面14Bを有する。第2ガラス層12Aは、第2樹脂層12Bが形成される第1平面15A、および、第1平面15Aと対をなす第2平面15Bを有する。   The first glass layer 11A of the first laminated substrate 11 and the second glass layer 12A of the second laminated substrate 12 are made of the same material and have the same size. The composition of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is not particularly limited, but glass having various compositions such as glass containing an alkali metal oxide or non-alkali glass can be used. An example of glass containing an alkali metal oxide is soda lime glass. In this embodiment, non-alkali glass is used for the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. The thickness of each of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is not particularly limited, but is preferably about 0.5 mm, for example. The first glass layer 11A has a first flat surface 14A on which the first resin layer 11B is formed, and a second flat surface 14B paired with the first flat surface 14A. The second glass layer 12A has a first flat surface 15A on which the second resin layer 12B is formed, and a second flat surface 15B paired with the first flat surface 15A.

第1積層基板11の第1樹脂層11Bと第2積層基板12の第2樹脂層12Bとは同じ材料が用いられ、同じサイズに形成されている。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの組成は、特に限定されないが、例えばポリイミド(PI)を用いることができる。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの厚さはそれぞれ、特に限定されないが、例えば10μm以上30μm以下の範囲であることが好ましい。   The first resin layer 11B of the first laminated substrate 11 and the second resin layer 12B of the second laminated substrate 12 are made of the same material and have the same size. The compositions of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are not particularly limited, but polyimide (PI) can be used, for example. The thickness of each of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 μm or more and 30 μm or less, for example.

図2は、第1積層基板11の平面図である。
図2の破線によって示される切断予定部16に沿って第1積層基板11を格子状に切断することによって第1単位積層基板21が形成される。第2積層基板12についても同様に、切断予定部17(図2では図示略、例えば図11参照)に沿って第2積層基板12を格子状に切断することによって第2単位積層基板22が形成される。第1単位積層基板21および第2単位積層基板22の平面視におけるサイズは、平面視における発光デバイスの予め決められたサイズに相当する。本実施形態の第1単位積層基板21の平面視におけるサイズおよび第2単位積層基板22の平面視におけるサイズは、互いに等しい。第1単位積層基板21および第2単位積層基板22を第1樹脂層11Bと第2樹脂層12Bとが対向するように積層することによって、多層積層基板10としての単位積層基板20(図19参照)が構成される。
FIG. 2 is a plan view of the first laminated substrate 11.
The first unit laminated board 21 is formed by cutting the first laminated board 11 in a lattice shape along the planned cutting portion 16 indicated by the broken line in FIG. Similarly, with respect to the second laminated substrate 12, the second unit laminated substrate 22 is formed by cutting the second laminated substrate 12 in a grid shape along the planned cutting portion 17 (not shown in FIG. 2, see FIG. 11, for example). To be done. The size of the first unit laminated board 21 and the second unit laminated board 22 in plan view corresponds to a predetermined size of the light emitting device in plan view. In the present embodiment, the size of the first unit laminated board 21 in plan view and the size of the second unit laminated board 22 in plan view are equal to each other. By laminating the first unit laminated substrate 21 and the second unit laminated substrate 22 so that the first resin layer 11B and the second resin layer 12B face each other, the unit laminated substrate 20 as the multilayer laminated substrate 10 (see FIG. 19). ) Is configured.

第1積層基板11および第2積層基板12の切断には、レーザ加工装置およびスクライブ加工装置の少なくとも一方が用いられる。図3は、レーザ加工装置の構成の一例であり、図4は、スクライブ加工装置の構成の一例である。図3および図4において、X軸方向、Y軸方向、および、Z軸方向を図3および図4に示すとおり規定する。なお、第1積層基板11および第2積層基板12の切断には、ダイシング加工装置(図示略)を用いてもよい。   At least one of a laser processing device and a scribing device is used to cut the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. FIG. 3 is an example of the configuration of the laser processing apparatus, and FIG. 4 is an example of the configuration of the scribing apparatus. 3 and 4, the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction are defined as shown in FIGS. 3 and 4. A dicing machine (not shown) may be used to cut the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12.

図3に示されるように、レーザ加工装置30は、第1積層基板11および第2積層基板12を切断するためのレーザ装置31と、レーザ装置31に対して第1積層基板11および第2積層基板12を移動させるための機械駆動系32と、レーザ装置31および機械駆動系32を制御する第1制御部33とを備える。   As shown in FIG. 3, the laser processing apparatus 30 includes a laser device 31 for cutting the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, and a first laminated substrate 11 and a second laminated substrate for the laser device 31. A mechanical drive system 32 for moving the substrate 12 and a first controller 33 for controlling the laser device 31 and the mechanical drive system 32 are provided.

レーザ装置31は、第1積層基板11および第2積層基板12における樹脂層およびガラス層の一方を加工する。レーザ装置31は、第1積層基板11および第2積層基板12にレーザ光を照射するためのレーザ発振器34と、レーザ光を機械駆動系32に伝送する伝送光学系35とを有する。レーザ発振器34は、例えばUV(Ultra Violet)レーザまたはCOレーザである。レーザ加工装置30が第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを加工する場合、レーザ発振器34はUVレーザである。レーザ加工装置30が第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを加工する場合、レーザ発振器34はCOレーザまたはUVレーザである。伝送光学系35は、例えば集光レンズ、複数のミラー、プリズム、ビームエキスパンダ等から構成される。また、伝送光学系35は、例えばレーザ発振器34が組み込まれたレーザ照射ヘッドをX軸方向に移動させるためのX軸方向移動機構を備える。レーザ発振器34から照射されたレーザ光は、伝送光学系35を介して第1積層基板11および第2積層基板12に向けて照射される。 The laser device 31 processes one of the resin layer and the glass layer in the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. The laser device 31 has a laser oscillator 34 for irradiating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 with laser light, and a transmission optical system 35 for transmitting the laser light to the mechanical drive system 32. The laser oscillator 34 is, for example, a UV (Ultra Violet) laser or a CO 2 laser. When the laser processing device 30 processes the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, the laser oscillator 34 is a UV laser. When the laser processing device 30 processes the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, the laser oscillator 34 is a CO 2 laser or a UV laser. The transmission optical system 35 includes, for example, a condenser lens, a plurality of mirrors, a prism, a beam expander, and the like. Further, the transmission optical system 35 includes an X-axis direction moving mechanism for moving the laser irradiation head, in which the laser oscillator 34 is incorporated, in the X-axis direction. The laser light emitted from the laser oscillator 34 is emitted toward the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 via the transmission optical system 35.

機械駆動系32は、レーザ装置31とZ軸方向に対向して配置されている。機械駆動系32は、ベッド36、加工テーブル37、および、移動装置38から構成される。加工テーブル37上には、第1積層基板11または第2積層基板12が載置される。移動装置38は、加工テーブル37をベッド36に対して水平方向(X軸方向およびY軸方向)に移動させる。移動装置38は、ガイドレール、移動テーブル、モータ等を有する公知の機構である。   The mechanical drive system 32 is arranged to face the laser device 31 in the Z-axis direction. The mechanical drive system 32 includes a bed 36, a processing table 37, and a moving device 38. The first laminated substrate 11 or the second laminated substrate 12 is placed on the processing table 37. The moving device 38 moves the processing table 37 in the horizontal direction (X-axis direction and Y-axis direction) with respect to the bed 36. The moving device 38 is a known mechanism having a guide rail, a moving table, a motor, and the like.

第1制御部33は、予め定められる制御プログラムを実行する演算処理装置を有する。演算処理装置は、例えばCPU(Central Processing Unit)またはMPU(Micro Processing Unit)を有する。第1制御部33は、1または複数のマイクロコンピュータを有してもよい。第1制御部33は、記憶部をさらに有する。記憶部には、各種の制御プログラムおよび各種の制御処理に用いられる情報が記憶される。記憶部は、例えば不揮発性メモリおよび揮発性メモリを有する。第1制御部33は、レーザ装置31に設けられてもよいし、機械駆動系32に設けられてもよいし、レーザ装置31および機械駆動系32とは別に設けられてもよい。第1制御部33がレーザ装置31および機械駆動系32とは別に設けられる場合、第1制御部33の配置位置は任意に設定可能である。   The first controller 33 has an arithmetic processing unit that executes a predetermined control program. The arithmetic processing unit has, for example, a CPU (Central Processing Unit) or an MPU (Micro Processing Unit). The first control unit 33 may include one or more microcomputers. The first control unit 33 further includes a storage unit. The storage unit stores various control programs and information used for various control processes. The storage unit has, for example, a non-volatile memory and a volatile memory. The first control unit 33 may be provided in the laser device 31, may be provided in the mechanical drive system 32, or may be provided separately from the laser device 31 and the mechanical drive system 32. When the first control unit 33 is provided separately from the laser device 31 and the mechanical drive system 32, the arrangement position of the first control unit 33 can be set arbitrarily.

図4に示されるように、スクライブ加工装置40は、スクライビングホイール50と第1積層基板11または第2積層基板12とがX軸方向およびY軸方向に相対的に移動することによって第1積層基板11または第2積層基板12にX軸方向およびY軸方向に沿うスクライブラインを形成する。スクライブ加工装置40は、第1積層基板11または第2積層基板12を加工するための加工装置41と、第1積層基板11または第2積層基板12を搬送するための搬送装置42と、加工装置41および搬送装置42を制御する第2制御部43とを備える。   As shown in FIG. 4, in the scribing apparatus 40, the scribing wheel 50 and the first laminated substrate 11 or the second laminated substrate 12 move relative to each other in the X-axis direction and the Y-axis direction. 11 or the second laminated substrate 12 is formed with scribe lines along the X-axis direction and the Y-axis direction. The scribing processing device 40 includes a processing device 41 for processing the first laminated substrate 11 or the second laminated substrate 12, a conveying device 42 for conveying the first laminated substrate 11 or the second laminated substrate 12, and a processing device. 41 and a second control unit 43 that controls the transport device 42.

搬送装置42は、一対のレール44、テーブル45、直進駆動装置46、回転装置47等から構成される。一対のレール44は、Y軸方向に沿って延びている。図4のスクライブ加工装置40では、スクライブ加工装置40のベース(図示略)に一対のレール44が配置され、直進駆動装置46によってテーブル45が一対のレール44に沿って往復移動し、回転装置47によってテーブル45が中心軸Cまわりを回転する。テーブル45には、第1積層基板11または第2積層基板12が載置される。直進駆動装置46の一例は、送りねじ装置を有する。回転装置47は、駆動源となるモータを有する。   The transfer device 42 includes a pair of rails 44, a table 45, a linear drive device 46, a rotation device 47, and the like. The pair of rails 44 extend along the Y-axis direction. In the scribing device 40 of FIG. 4, a pair of rails 44 are arranged on the base (not shown) of the scribing device 40, and the linear drive device 46 causes the table 45 to reciprocate along the pair of rails 44, and the rotating device 47. This causes the table 45 to rotate about the central axis C. The first laminated substrate 11 or the second laminated substrate 12 is placed on the table 45. An example of the linear drive device 46 has a feed screw device. The rotating device 47 has a motor that serves as a drive source.

加工装置41は、横駆動装置48、縦駆動装置49、および、スクライビングホイール50等から構成される。スクライビングホイール50は、スクライビングホイール50を保持するためのホルダユニットに取り付けられる。ホルダユニットは、ホルダユニットを保持するためのスクライブヘッドに取り付けられる。スクライブヘッドは、横駆動装置48によってX軸方向に移動し、縦駆動装置49によってZ軸方向に移動する。スクライビングホイール50がX軸方向に移動することによって、第1積層基板11および第2積層基板12にX軸方向に沿うスクライブラインを形成する。   The processing device 41 includes a lateral drive device 48, a vertical drive device 49, a scribing wheel 50, and the like. The scribing wheel 50 is attached to a holder unit for holding the scribing wheel 50. The holder unit is attached to a scribing head for holding the holder unit. The scribing head is moved in the X-axis direction by the lateral drive device 48, and is moved in the Z-axis direction by the vertical drive device 49. By moving the scribing wheel 50 in the X-axis direction, scribe lines are formed in the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 along the X-axis direction.

スクライビングホイール50は、ホルダユニットに取り付けられるピン(図示略)に回転可能に支持される。スクライビングホイール50を構成する材料の一例は、焼結ダイヤモンド(Poly Crystalline Diamond)、超硬金属、単結晶ダイヤモンド、および、多結晶ダイヤモンドである。スクライビングホイール50は、例えば図5(a)に示される形状のスクライビングホイール50A、および、図5(b)に示される形状のスクライビングホイール50Bのいずれかを用いることができる。   The scribing wheel 50 is rotatably supported by a pin (not shown) attached to the holder unit. Examples of the material forming the scribing wheel 50 are sintered diamond (Poly Crystalline Diamond), cemented carbide, single crystal diamond, and polycrystalline diamond. As the scribing wheel 50, for example, one of the scribing wheel 50A having the shape shown in FIG. 5A and the scribing wheel 50B having the shape shown in FIG. 5B can be used.

図5(a)に示されるスクライビングホイール50Aは、円板状の本体部51と、断面V字状の刃先部52とから構成される。断面V字状とは、スクライビングホイール50Aの厚さ方向(以下「厚さ方向DT」)に沿う平面でスクライビングホイール50Aを切った断面において、スクライビングホイール50Aの外周縁に向けて先細る形状である。   The scribing wheel 50A shown in FIG. 5A is composed of a disk-shaped main body 51 and a blade edge 52 having a V-shaped cross section. The V-shaped cross section is a shape that tapers toward the outer peripheral edge of the scribing wheel 50A in a cross section obtained by cutting the scribing wheel 50A along a plane along the thickness direction of the scribing wheel 50A (hereinafter referred to as "thickness direction DT"). ..

本体部51の中心部には、本体部51を厚さ方向DTに貫通する挿入孔53が形成される。挿入孔53にはピンが挿入される。
刃先部52は、断面V字状を形成する2つの斜面である第1斜面52Aおよび第2斜面52Bを有する。第1斜面52Aおよび第2斜面52Bは、スクライビングホイール50Aの厚さ方向DTの中心であって、厚さ方向DTに直交する回転中心面RCに対して対称である。
An insertion hole 53 that penetrates the body 51 in the thickness direction DT is formed in the center of the body 51. A pin is inserted into the insertion hole 53.
The blade edge portion 52 has a first slope 52A and a second slope 52B, which are two slopes forming a V-shaped cross section. The first slope 52A and the second slope 52B are the centers of the scribing wheel 50A in the thickness direction DT and are symmetrical with respect to the rotation center plane RC orthogonal to the thickness direction DT.

図5(b)に示されるスクライビングホイール50Bは、スクライビングホイール50Aと比較して、刃先部52の形状が異なる。スクライビングホイール50Bの刃先部52における第1斜面52Aおよび第2斜面52Bは、回転中心面RCに対して非対称である。一例では、厚さ方向に沿うスクライビングホイール50Bの断面において、スクライビングホイール50Bの径方向に平行な線分L1と第1斜面52Aとがなす第1角度θ1は、線分L1と第2斜面52Bとがなす第2角度θ2よりも大きい。なお、回転中心面RCに対して線分L1に沿う方向における刃先部52の先端の位置がずれていれば、第1角度θ1は、第2角度θ2と等しくてもよい。   The scribing wheel 50B shown in FIG. 5 (b) is different from the scribing wheel 50A in the shape of the cutting edge portion 52. The first slope 52A and the second slope 52B in the cutting edge portion 52 of the scribing wheel 50B are asymmetric with respect to the rotation center plane RC. In an example, in the cross section of the scribing wheel 50B along the thickness direction, the first angle θ1 formed by the line segment L1 parallel to the radial direction of the scribing wheel 50B and the first slope surface 52A is the line segment L1 and the second slope surface 52B. Is larger than the second angle θ2 formed by. The first angle θ1 may be equal to the second angle θ2 as long as the position of the tip of the cutting edge portion 52 is displaced with respect to the rotation center plane RC in the direction along the line segment L1.

第2制御部43は、予め定められる制御プログラムを実行する演算処理装置を有する。演算処理装置は、例えばCPUまたはMPUを有する。第2制御部43は、1または複数のマイクロコンピュータを有してもよい。第2制御部43は、記憶部をさらに有する。記憶部には、各種の制御プログラムおよび各種の制御処理に用いられる情報が記憶される。記憶部は、例えば不揮発性メモリおよび揮発性メモリを有する。第2制御部43は、加工装置41に設けられてもよいし、搬送装置42に設けられてもよいし、加工装置41および搬送装置42とは別に設けられてもよい。第2制御部43が加工装置41および搬送装置42とは別に設けられる場合、第2制御部43の配置位置は任意に設定可能である。   The second control unit 43 has an arithmetic processing unit that executes a predetermined control program. The arithmetic processing unit has, for example, a CPU or MPU. The second control unit 43 may have one or more microcomputers. The second control unit 43 further includes a storage unit. The storage unit stores various control programs and information used for various control processes. The storage unit has, for example, a non-volatile memory and a volatile memory. The second controller 43 may be provided in the processing device 41, may be provided in the transport device 42, or may be provided separately from the processing device 41 and the transport device 42. When the second control unit 43 is provided separately from the processing device 41 and the transfer device 42, the arrangement position of the second control unit 43 can be set arbitrarily.

〔フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法〕
次に、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の詳細について説明する。図6は、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の工程の一例を示す。
[Method for manufacturing flexible organic EL display]
Next, details of the method for manufacturing the flexible organic EL display will be described. FIG. 6 shows an example of steps of a method for manufacturing a flexible organic EL display.

フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法では、第1ガラス層11Aと第1樹脂層11Bとが積層された第1積層基板11と、第2ガラス層12Aと第2樹脂層12Bとが積層された第2積層基板12とを有し、第1樹脂層11Bと第2樹脂層12Bとが対向するように積層された多層積層基板10が製造される。本実施形態では、第1積層基板11および第2積層基板12の少なくとも一方は、第1積層基板11と第2積層基板12とが積層される前に所定サイズに切断される。第1積層基板11および第2積層基板12がそれぞれ所定サイズに切断される場合、多層積層基板10は、所定サイズの単位積層基板20となる。第1積層基板11および第2積層基板12の一方が所定サイズに切断される場合、第1積層基板11と第2積層基板12とを積層した後、第1積層基板11および第2積層基板12の他方を所定サイズに切断して多層積層基板10としての単位積層基板20を製造する。そして単位積層基板20から第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを除去することにより発光デバイスが製造される。そして、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに第1保護フィルムおよび第2保護フィルムを取り付ける。これにより、フレキシブル有機ELディスプレイが製造される。   In the method of manufacturing a flexible organic EL display, the first laminated substrate 11 in which the first glass layer 11A and the first resin layer 11B are laminated, and the second laminated layer 11 in which the second glass layer 12A and the second resin layer 12B are laminated. A multilayer laminated substrate 10 having a laminated substrate 12 and in which the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are laminated so as to face each other is manufactured. In this embodiment, at least one of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 is cut into a predetermined size before the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are laminated. When the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are each cut into a predetermined size, the multilayer laminated substrate 10 becomes a unit laminated substrate 20 having a predetermined size. When one of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 is cut into a predetermined size, after laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are laminated. The other one is cut into a predetermined size to manufacture a unit laminated substrate 20 as the multilayer laminated substrate 10. Then, by removing the first glass layer 11A and the second glass layer 12A from the unit laminated substrate 20, a light emitting device is manufactured. Then, the first protective film and the second protective film are attached to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. Thereby, a flexible organic EL display is manufactured.

図6に示されるように、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、第1積層基板11および第2積層基板12を積層する工程よりも前の工程である前段工程と、第1積層基板11および第2積層基板12を積層する工程以後の工程である後段工程とに区分される。前段工程は、前段積層工程および前段加工工程を含む。前段積層工程は、第1積層基板11および第2積層基板12を製造する工程である。前段加工工程は、積層工程よりも前に、第1積層基板11および第2積層基板12について、切断に関連する加工を施す工程である。後段工程は、後段積層工程および剥離工程を含む。後段積層工程は、第1積層基板11および第2積層基板12を積層する工程である。剥離工程は、レーザリフトオフ(LLO:Laser Lift Off)によって第1ガラス層11Aと第1樹脂層11Bとを剥離し、第2ガラス層12Aと第2樹脂層12Bとを剥離する工程である。以下、各工程の詳細について説明する。   As shown in FIG. 6, in the method for manufacturing a flexible organic EL display, a first step, which is a step prior to the step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, a first laminated substrate 11 and a second laminated substrate 11 The two-layer substrate 12 is divided into a subsequent step, which is a step after the step of stacking the two-layer board 12. The pre-stage process includes a pre-stage lamination process and a pre-stage processing process. The pre-stage laminating step is a step of manufacturing the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. The pre-processing step is a step of performing processing related to cutting on the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 before the laminating step. The second-stage process includes a second-stage stacking process and a peeling process. The latter-stage laminating step is a step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. The peeling step is a step of peeling the first glass layer 11A and the first resin layer 11B and peeling the second glass layer 12A and the second resin layer 12B by laser lift off (LLO). The details of each step will be described below.

前段積層工程では、次の第1の例〜第4の例のいずれか1つを選択できる。前段積層工程は第1の例〜第4の例のそれぞれにおいて共通するため、図7〜図9については第1積層基板11および第2積層基板12に関する符号を併せて付している。第2の例〜第4の例では、前段積層工程は、前段加工工程の一部を兼ねている。   In the first-stage laminating step, any one of the following first to fourth examples can be selected. Since the first-stage laminating step is common to each of the first to fourth examples, the reference numerals relating to the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are also attached to FIGS. 7 to 9. In the second to fourth examples, the pre-stage stacking step also serves as part of the pre-stage processing step.

第1の例では、第1ガラス層11Aの第1平面14Aの全体にわたり第1樹脂層11Bを形成することによって第1積層基板11を製造し、第2ガラス層12Aの第1平面15Aの全体にわたり第2樹脂層12Bを形成することによって第2積層基板12を製造する。第1ガラス層11Aの第1平面14Aへの第1樹脂層11Bの形成方法、および、第2ガラス層12Aの第1平面15Aへの第2樹脂層12Bの形成方法はそれぞれ、ガラス層に樹脂層を塗布する方法、または、ガラス層に接着層を介して樹脂層をラミネートする方法を選択できる。またガラス層に樹脂層を固定する方法として、加熱硬化処理、または、プレス法による加熱および加圧処理を選択できる。   In the first example, the first laminated substrate 11 is manufactured by forming the first resin layer 11B over the entire first plane 14A of the first glass layer 11A, and the entire first plane 15A of the second glass layer 12A is produced. The second laminated substrate 12 is manufactured by forming the second resin layer 12B over the same. The method for forming the first resin layer 11B on the first flat surface 14A of the first glass layer 11A and the method for forming the second resin layer 12B on the first flat surface 15A of the second glass layer 12A are respectively the resin for the glass layer. A method of applying a layer or a method of laminating a resin layer on a glass layer via an adhesive layer can be selected. As a method for fixing the resin layer to the glass layer, heat curing treatment or heating and pressure treatment by a pressing method can be selected.

第2の例および第3の例では、第1積層基板11の第1ガラス層11Aにおける切断が予定される切断予定部16Aが第1樹脂層11Bで被覆されないように第1ガラス層11Aに第1樹脂層11Bを形成する。第2積層基板12の第2ガラス層12Aにおける切断が予定される切断予定部17Aが第2樹脂層12Bで被覆されないように第2ガラス層12Aに第2樹脂層12Bを形成する。   In the second example and the third example, the first glass layer 11A is provided with the first glass layer 11A so that the planned cut portion 16A in the first glass layer 11A of the first laminated substrate 11 that is to be cut is not covered with the first resin layer 11B. 1 Resin layer 11B is formed. The second resin layer 12B is formed on the second glass layer 12A so that the planned cutting portion 17A in the second glass layer 12A of the second laminated substrate 12 that is to be cut is not covered with the second resin layer 12B.

第2の例では、図7に示されるように、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aに溝18を形成し、溝18が露出するように第1ガラス層11Aに第1樹脂層11Bを形成し、第2ガラス層12Aの切断予定部17Aに溝19を形成し、溝19が露出するように第2ガラス層12Aに第2樹脂層12Bを形成する。溝18は、第1ガラス層11Aの第1平面14A側に開口している。溝19は、第2ガラス層12Aの第1平面15A側に開口している。例えば第1ガラス層11Aに例えばワニスからなる第1樹脂層11Bをローラ等で塗布する方法では、第1ガラス層11Aの溝18にはワニスが塗布されないため、特別な塗布方法を用いずに溝18が露出するように第1樹脂層11Bを形成できる。第2ガラス層12Aに例えばワニスからなる第2樹脂層12Bをローラ等で塗布する方法も同様である。なお、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aにのみ溝18を形成してもよいし、第2ガラス層12Aの切断予定部17Aのみに溝19を形成してもよい。   In the second example, as shown in FIG. 7, the groove 18 is formed in the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A, and the first resin layer 11B is formed in the first glass layer 11A so that the groove 18 is exposed. Then, the groove 19 is formed in the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A, and the second resin layer 12B is formed in the second glass layer 12A so that the groove 19 is exposed. The groove 18 is open to the first plane 14A side of the first glass layer 11A. The groove 19 is open to the first plane 15A side of the second glass layer 12A. For example, in the method of applying the first resin layer 11B made of, for example, varnish to the first glass layer 11A with a roller or the like, the varnish is not applied to the groove 18 of the first glass layer 11A. The first resin layer 11B can be formed so that 18 is exposed. The same applies to the method of applying the second resin layer 12B made of, for example, varnish to the second glass layer 12A with a roller or the like. The groove 18 may be formed only in the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A, or the groove 19 may be formed only in the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A.

第3の例では、図8に示されるように、第1ガラス層11Aの切断予定部16AにマスクMS1を形成し、第1ガラス層11Aに第1樹脂層11Bを形成する。マスクMS1は、第1ガラス層11Aの第1平面14A側に形成されている。この場合、マスクMS1によって第1樹脂層11Bにおける第1ガラス層11Aの切断予定部16Aに対応する部分に第1樹脂層11Bが形成されない。その後、マスクMS1を除去する。また第2ガラス層12Aの切断予定部17AにマスクMS2を形成し、第2ガラス層12Aに第2樹脂層12Bを形成する。マスクMS2は、第2ガラス層12Aの第1平面15A側に形成されている。この場合、マスクMS2によって第2樹脂層12Bにおける第2ガラス層12Aの切断予定部17Aに対応する部分に第2樹脂層12Bが形成されない。その後、マスクMS2を除去する。なお、第1ガラス層11Aの切断予定部16AにのみマスクMS1を形成してもよいし、第2ガラス層12Aの切断予定部17AのみにマスクMS2を形成してもよい。   In the third example, as shown in FIG. 8, the mask MS1 is formed on the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A, and the first resin layer 11B is formed on the first glass layer 11A. The mask MS1 is formed on the first plane 14A side of the first glass layer 11A. In this case, the first resin layer 11B is not formed on the portion of the first resin layer 11B corresponding to the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A by the mask MS1. After that, the mask MS1 is removed. Further, the mask MS2 is formed on the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A, and the second resin layer 12B is formed on the second glass layer 12A. The mask MS2 is formed on the first plane 15A side of the second glass layer 12A. In this case, the second resin layer 12B is not formed on the portion of the second resin layer 12B corresponding to the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A by the mask MS2. After that, the mask MS2 is removed. The mask MS1 may be formed only on the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A, or the mask MS2 may be formed only on the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A.

第4の例では、図9に示されるように、第1樹脂層11Bにおける第1ガラス層11Aの切断予定部16Aに対応する部分(切断予定部16B)を切断し、第2樹脂層12Bにおける第2ガラス層12Aの切断予定部17Aに対応する部分(切断予定部17B)を除去する。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bは、レーザ、ブレイク、および、ダイシングのいずれかによって除去される。なお、第1樹脂層11Bにおける第1ガラス層11Aの切断予定部16Aに対応する部分および第2樹脂層12Bにおける第2ガラス層12Aの切断予定部17Aに対応する部分の一方のみを除去してもよい。   In the fourth example, as shown in FIG. 9, a portion (planned cutting portion 16B) corresponding to the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A in the first resin layer 11B is cut, and the second resin layer 12B is cut. The portion (planned cutting portion 17B) corresponding to the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A is removed. The first resin layer 11B and the second resin layer 12B are removed by any of laser, break, and dicing. Only one of the portion of the first resin layer 11B corresponding to the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the portion of the second resin layer 12B corresponding to the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12B is removed. Good.

図10は、前段加工工程における第1積層基板11および第2積層基板12の加工の組み合わせ例、すなわち、第1ガラス層11A、第1樹脂層11B、第2樹脂層12B、および、第2ガラス層12Aの少なくとも1つについて切断に関連する加工を施すパターンの組み合わせ例を示す。前段加工工程では、図10に示すパターンのいずれかを選択できる。一例では、前段加工工程では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの一方を切断する。一例では、前段加工工程では、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの一方を切断する。一例では、前段加工工程は、第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bをそれぞれ切断する。一例では、前段加工工程は、第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bをそれぞれ切断する。一例では、前段加工工程は、第1ガラス層11A、第1樹脂層11B、第2ガラス層12A、および、第2樹脂層12Bのうちの3つを切断する。一例では、前段加工工程は、第1ガラス層11A、第1樹脂層11B、第2ガラス層12A、および、第2樹脂層12Bをそれぞれ切断する。   FIG. 10 shows an example of a combination of processing of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 in the pre-processing step, that is, the first glass layer 11A, the first resin layer 11B, the second resin layer 12B, and the second glass. An example of a combination of patterns for performing processing related to cutting on at least one of the layers 12A is shown. In the former processing step, any of the patterns shown in FIG. 10 can be selected. In one example, in the pre-processing step, one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is cut. In one example, in the pre-processing step, one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is cut. In one example, the first-stage processing step cuts the first glass layer 11A and the first resin layer 11B, respectively. In one example, the first-stage processing step cuts each of the second glass layer 12A and the second resin layer 12B. In one example, the pre-processing step cuts three of the first glass layer 11A, the first resin layer 11B, the second glass layer 12A, and the second resin layer 12B. In one example, the first-stage processing step cuts each of the first glass layer 11A, the first resin layer 11B, the second glass layer 12A, and the second resin layer 12B.

前段加工工程は、第1積層基板11および第2積層基板12の少なくとも一方をブレイクするための予備加工を第1積層基板11および第2積層基板12の少なくとも一方に施す予備加工工程を含んでもよい。予備加工の一例は、第1積層基板11の第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bのそれぞれにスクライブラインを形成し、第2積層基板12の第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bのそれぞれにスクライブラインを形成する。ガラス層および樹脂層のスクライブラインの形成には、レーザ加工装置30またはスクライブ加工装置40が用いられる。   The pre-processing step may include a preliminary processing step in which at least one of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 is subjected to preliminary processing for breaking at least one of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. .. As an example of the pre-processing, scribe lines are formed in each of the first glass layer 11A and the first resin layer 11B of the first laminated substrate 11, and the second glass layer 12A and the second resin layer 12B of the second laminated substrate 12 are formed. A scribe line is formed on each. A laser processing device 30 or a scribing device 40 is used to form the scribe lines of the glass layer and the resin layer.

予備加工工程では、例えば、第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bのそれぞれに対して異なる手段で予備加工を施し、第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bのそれぞれに対して異なる手段で予備加工を施す。予備加工工程の一例では、スクライビングホイール50によって第1ガラス層11Aの切断予定部16Aをスクライブし、レーザによって第1樹脂層11Bの切断予定部16Bをスクライブする。スクライビングホイール50によって第2ガラス層12Aの切断予定部17Aをスクライブし、レーザによって第2樹脂層12Bの切断予定部17Bをスクライブする。このように、本実施形態では、ガラス層と樹脂層とで異なる手段の予備加工を施す。   In the preprocessing step, for example, the first glass layer 11A and the first resin layer 11B are preprocessed by different means, and the second glass layer 12A and the second resin layer 12B are processed by different means. Pre-process. In one example of the pre-processing step, the scribing wheel 50 scribes the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the laser scribes the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B. The planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A is scribed by the scribing wheel 50, and the planned cutting portion 17B of the second resin layer 12B is scribed by the laser. Thus, in this embodiment, the glass layer and the resin layer are preprocessed by different means.

なお、予備加工工程において、レーザによって第1ガラス層11Aの切断予定部16Aをスクライブし、スクライビングホイール50によって第1樹脂層11Bの切断予定部16Bをスクライブしてもよい。また予備加工工程において、レーザによって第2ガラス層12Aの切断予定部17Aをスクライブし、スクライビングホイール50によって第2樹脂層12Bの切断予定部17Bをスクライブしてもよい。   In the preliminary processing step, the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A may be scribed by the laser, and the scribing wheel 50 may scribe the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B. Further, in the preliminary processing step, the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A may be scribed by a laser, and the planned cutting portion 17B of the second resin layer 12B may be scribed by the scribing wheel 50.

図11に示されるように、第1ガラス層11Aにおける切断が予定される切断予定部16Aおよび第1樹脂層11Bにおける切断が予定される切断予定部16Bにそれぞれスクライブラインが形成されている。第2ガラス層12Aにおける切断が予定される切断予定部17Aおよび第2樹脂層12Bにおける切断が予定される切断予定部17Bにそれぞれスクライブラインが形成されている。   As shown in FIG. 11, a scribe line is formed in each of the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B. A scribe line is formed in each of the planned cutting part 17A of the second glass layer 12A and the planned cutting part 17B of the second resin layer 12B.

なお、第1積層基板11および第2積層基板12の少なくとも一方をブレイクするための予備加工に代えて、ガラス層をブレイクするための予備加工、および、樹脂層をブレイクするための予備加工の少なくとも一方を、第1積層基板11および第2積層基板12の少なくとも一方に施してもよい。   Note that, in place of the pre-processing for breaking at least one of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, at least the pre-processing for breaking the glass layer and the pre-processing for breaking the resin layer One may be applied to at least one of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12.

後段積層工程では、図12に示す前段加工工程の第1加工手順および図16に示す前段加工工程の第2加工手順のいずれかを選択できる。以下では、第1加工手順で製造された第1積層基板11および第2積層基板12の積層と、第2加工手順で製造された第1積層基板11および第2積層基板12の積層とについて説明する。なお、図15、図18、および、図19に示される第1積層基板11および第2積層基板12は、前段積層工程の第1の例によって製造された第1積層基板11および第2積層基板12を示す。   In the latter-stage laminating step, either the first machining procedure of the former-stage machining step shown in FIG. 12 or the second machining procedure of the former-stage machining step shown in FIG. 16 can be selected. Hereinafter, the lamination of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 manufactured by the first processing procedure and the lamination of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 manufactured by the second processing procedure will be described. To do. The first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 shown in FIG. 15, FIG. 18, and FIG. 19 are the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate manufactured by the first example of the preceding-stage laminating step. 12 is shown.

図12に示されるように、第1加工手順は、第1積層基板11を所定サイズに切断する第1切断工程および第2積層基板12を所定サイズに切断する第2切断工程を含む。第1加工手順は、第1切断工程および第2切断工程の順に実行される。なお、第1工程手順は、第2切断工程および第1切断工程の順に実行されてもよい。   As shown in FIG. 12, the first processing procedure includes a first cutting step of cutting the first laminated substrate 11 into a predetermined size and a second cutting step of cutting the second laminated substrate 12 into a predetermined size. The first processing procedure is executed in the order of the first cutting process and the second cutting process. The first process procedure may be performed in the order of the second cutting process and the first cutting process.

図13(a)に示されるように、第1切断工程において、第1積層基板11を切断する順番および加工種類を任意に選択できる。第1積層基板11は、第1樹脂層11Bおよび第1ガラス層11Aの順に切断してもよいし、第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bの順に切断してもよい。第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bの切断について、レーザ加工装置30およびスクライブ加工装置40のいずれかを用いてもよい。また、第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bの切断について、レーザ加工装置30またはスクライブ加工装置40によって第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第1樹脂層11Bの切断予定部16Bをスクライブした後、ブレイクしてもよいし、レーザ加工装置30によって切断してもよい。   As shown in FIG. 13A, in the first cutting step, the order of cutting the first laminated substrate 11 and the processing type can be arbitrarily selected. The first laminated substrate 11 may be cut in the order of the first resin layer 11B and the first glass layer 11A, or may be cut in the order of the first glass layer 11A and the first resin layer 11B. For cutting the first glass layer 11A and the first resin layer 11B, either the laser processing device 30 or the scribe processing device 40 may be used. Further, for cutting the first glass layer 11A and the first resin layer 11B, the laser processing device 30 or the scribing device 40 scribes the planned cutting part 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting part 16B of the first resin layer 11B. After that, it may be broken or cut by the laser processing device 30.

図13(b)に示されるように、第2切断工程において、第2積層基板12を切断する順番および加工種類を任意に選択できる。第2積層基板12は、第2樹脂層12Bおよび第2ガラス層12Aの順に切断してもよいし、第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bの順に切断してもよい。第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bの切断について、レーザ加工装置30およびスクライブ加工装置40のいずれかを用いてもよい。また、第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bの切断について、レーザ加工装置30またはスクライブ加工装置40によって第2ガラス層12Aの切断予定部17Aおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bをスクライブした後、ブレイクしてもよいし、レーザ加工装置30によって切断してもよい。なお、第1切断工程および第2切断工程の少なくとも一方において、ダイシング装置によってガラス層および樹脂層を切断してもよい。   As shown in FIG. 13B, in the second cutting step, the order of cutting the second laminated substrate 12 and the processing type can be arbitrarily selected. The second laminated substrate 12 may be cut in the order of the second resin layer 12B and the second glass layer 12A, or may be cut in the order of the second glass layer 12A and the second resin layer 12B. For cutting the second glass layer 12A and the second resin layer 12B, either the laser processing device 30 or the scribe processing device 40 may be used. Further, for cutting the second glass layer 12A and the second resin layer 12B, the laser processing device 30 or the scribing device 40 scribes the planned cutting part 17A of the second glass layer 12A and the planned cutting part 17B of the second resin layer 12B. After that, it may be broken or cut by the laser processing device 30. Note that the glass layer and the resin layer may be cut by a dicing device in at least one of the first cutting step and the second cutting step.

第1切断工程および第2切断工程において、ガラス層および樹脂層のそれぞれをレーザによって切断する場合、またはガラス層および樹脂層のそれぞれをスクライブする場合、図3に示されるレーザ加工装置30に代えて、図14に示されるレーザ加工装置30Aが用いられる。レーザ加工装置30Aは、レーザ加工装置30と比較して、レーザ装置の構成が異なる。以下、レーザ加工装置30Aのうちの異なる構成について説明する。   In the first cutting step and the second cutting step, when cutting each of the glass layer and the resin layer with a laser or when scribing each of the glass layer and the resin layer, instead of the laser processing device 30 shown in FIG. The laser processing apparatus 30A shown in FIG. 14 is used. The laser processing device 30A is different from the laser processing device 30 in the configuration of the laser device. Hereinafter, a different configuration of the laser processing device 30A will be described.

レーザ加工装置30Aのレーザ装置31Aは、第1レーザ発振器34Aおよび第2レーザ発振器34Bを有する。第1レーザ発振器34AはUVレーザであり、第2レーザ発振器34BはCOレーザである。第1レーザ発振器34Aから照射されたレーザ光、および、第2レーザ発振器34Bから照射されたレーザ光は、伝送光学系35を介して第1積層基板11および第2積層基板12に照射される。なお、伝送光学系35は、第1レーザ発振器34Aに対応する伝送光学系と、第2レーザ発振器34Bに対応する伝送光学系とが個別に設けられてもよい。 The laser device 31A of the laser processing device 30A has a first laser oscillator 34A and a second laser oscillator 34B. The first laser oscillator 34A is a UV laser and the second laser oscillator 34B is a CO 2 laser. The laser light emitted from the first laser oscillator 34A and the laser light emitted from the second laser oscillator 34B are applied to the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 via the transmission optical system 35. The transmission optical system 35 may be provided with a transmission optical system corresponding to the first laser oscillator 34A and a transmission optical system corresponding to the second laser oscillator 34B separately.

第1制御部33は、第1積層基板11および第2積層基板12に対する加工対象の種類(ガラス層または樹脂層)に応じて第1レーザ発振器34Aおよび第2レーザ発振器34Bを選択する。例えば第1制御部33は、予め記憶された制御プログラムによって加工対象の種類であるガラス層および樹脂層の加工順番を定め、定められた加工順番に応じて第1レーザ発振器34Aおよび第2レーザ発振器34Bを選択する。   The first control unit 33 selects the first laser oscillator 34A and the second laser oscillator 34B according to the type (glass layer or resin layer) of the processing target for the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. For example, the first control unit 33 determines the processing order of the glass layer and the resin layer, which are the types of processing targets, according to a control program stored in advance, and the first laser oscillator 34A and the second laser oscillator according to the determined processing order. Select 34B.

図15に示されるように、後段積層工程では、第1切断工程によって所定サイズに切断された第1積層基板11である第1単位積層基板21と、第2切断工程によって所定サイズに切断された第2積層基板12である第2単位積層基板22とが、例えば接着層SDを介して貼り合せられる。これにより、所定サイズの多層積層基板10である単位積層基板20が製造される。   As shown in FIG. 15, in the subsequent laminating step, the first unit laminated board 21 which is the first laminated board 11 cut into a predetermined size in the first cutting step, and the predetermined unit size in the second cutting step are cut. The second unit laminated substrate 22, which is the second laminated substrate 12, is bonded to the second unit laminated substrate 22 via the adhesive layer SD, for example. As a result, the unit laminated board 20 which is the multilayer laminated board 10 having a predetermined size is manufactured.

図16に示されるように、本実施形態の第2加工手順では、第2切断工程のみが実行される。なお、第2工程手順では、第1切断工程のみが実行されてもよい。このように、第1積層基板11および第2積層基板12の一方が所定サイズに切断された後、第1積層基板11および第2積層基板12の他方に第1積層基板11および第2積層基板12の一方が貼り合せられる。第1積層基板11および第2積層基板12の一方の加工順番および加工方法は、図13(a)(b)に示される加工順番および加工方法を選択できる。   As shown in FIG. 16, in the second processing procedure of this embodiment, only the second cutting step is executed. In addition, in the second step procedure, only the first cutting step may be executed. In this way, after one of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 is cut into a predetermined size, the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are provided on the other of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. One of 12 is bonded. As one of the processing order and the processing method of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, the processing order and the processing method shown in FIGS. 13A and 13B can be selected.

第2加工手順を経た後の後段積層工程は、切断された第1積層基板11および第2積層基板12の一方を切断されていない第1積層基板11および第2積層基板12の他方に積層する。一例では、図17に示されるように、後段積層工程において、第2切断工程によって所定サイズに切断された複数の第2積層基板12が所定サイズに切断される前の第1積層基板11に貼り合せられている。   In the subsequent laminating step after the second processing procedure, one of the cut first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 is laminated on the other of the uncut first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. .. In one example, as shown in FIG. 17, in the subsequent laminating step, the plurality of second laminated substrates 12 cut into the predetermined size in the second cutting step are attached to the first laminated substrate 11 before being cut into the predetermined size. It is matched.

第2加工手順を経た後の後段積層工程は、後段加工工程を含む。後段加工工程は、切断されていない第1積層基板11および第2積層基板12の他方を所定サイズに切断する工程である。一例では、図18に示されるように、第2切断工程において、第2積層基板12が所定サイズに切断されている。第2積層基板12の加工順番および加工方法は、図13(b)に示される加工順番および加工方法を選択できる。これにより、所定サイズの多層積層基板10である単位積層基板20が製造される。   The second-stage laminating step after the second processing procedure includes the second-step processing step. The post-processing step is a step of cutting the other of the uncut first laminated substrate 11 and second laminated substrate 12 into a predetermined size. In one example, as shown in FIG. 18, the second laminated substrate 12 is cut into a predetermined size in the second cutting step. As the processing order and processing method of the second laminated substrate 12, the processing order and processing method shown in FIG. 13B can be selected. As a result, the unit laminated board 20 which is the multilayer laminated board 10 having a predetermined size is manufactured.

剥離工程では、レーザリフトオフ装置(図示略)を用いる。本実施形態では、レーザリフトオフ装置のレーザとしてUVレーザが用いられる。図19(a)に示されるように、第1ガラス層11A側から第1樹脂層11Bにレーザを照射することによって第1樹脂層11Bと第1ガラス層11Aとを剥離する。第1樹脂層11Bと第1ガラス層11Aとを剥離する場合、レーザは、第1ガラス層11Aの第2平面14Bに直交するように照射される。次に、図19(b)に示されるように、第2ガラス層12A側から第2樹脂層12Bにレーザを照射することによって第2樹脂層12Bと第2ガラス層12Aとを剥離する。第2樹脂層12Bと第2ガラス層12Aとを剥離する場合、レーザは、第2ガラス層12Aの第2平面15Bに直交するように照射される。なお、単位積層基板20から第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを剥離する順番は任意に変更可能である。例えば、第2樹脂層12Bと第2ガラス層12Aとを剥離した後、第1樹脂層11Bと第1ガラス層11Aとを剥離してもよい。   A laser lift-off device (not shown) is used in the peeling process. In this embodiment, a UV laser is used as the laser of the laser lift-off device. As shown in FIG. 19A, the first resin layer 11B and the first glass layer 11A are peeled off by irradiating the first resin layer 11B with a laser from the first glass layer 11A side. When peeling off the first resin layer 11B and the first glass layer 11A, the laser is applied so as to be orthogonal to the second plane 14B of the first glass layer 11A. Next, as shown in FIG. 19B, the second resin layer 12B and the second glass layer 12A are separated by irradiating the second resin layer 12B with a laser from the second glass layer 12A side. When peeling off the second resin layer 12B and the second glass layer 12A, the laser is applied so as to be orthogonal to the second plane 15B of the second glass layer 12A. The order in which the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are peeled from the unit laminated substrate 20 can be arbitrarily changed. For example, after peeling the second resin layer 12B and the second glass layer 12A, the first resin layer 11B and the first glass layer 11A may be peeled.

多層積層基板10から第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aが取り除かれた(図19(c)参照)後、すなわち発光デバイスの製造後、第1樹脂層11Bを覆うように第1保護フィルムが取り付けられ、第2樹脂層12Bを覆うように第2保護フィルムが取り付けられることにより、フレキシブル有機ELディスプレイが製造される。   After the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are removed from the multilayer laminated substrate 10 (see FIG. 19 (c)), that is, after the production of the light emitting device, the first protective film is formed so as to cover the first resin layer 11B. Is attached, and the second protective film is attached so as to cover the second resin layer 12B, whereby a flexible organic EL display is manufactured.

図20は、図5(b)に示されるスクライビングホイール50Bによって第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをスクライブした場合の所定サイズの多層積層基板10である単位積層基板20を示す。図20に示される単位積層基板20の断面において、単位積層基板20の厚さ方向Tと直交する方向を幅方向Wと規定する。単位積層基板20の断面において、単位積層基板20の幅方向Wの中心に向かう側を内側とし、幅方向Wの端部に向かう方向を外側とする。   FIG. 20 shows a unit laminated substrate 20 which is a multilayer laminated substrate 10 of a predetermined size when the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are scribed by the scribing wheel 50B shown in FIG. 5B. In the cross section of the unit laminated substrate 20 shown in FIG. 20, the direction orthogonal to the thickness direction T of the unit laminated substrate 20 is defined as the width direction W. In the cross section of the unit laminated substrate 20, the side toward the center of the unit laminated substrate 20 in the width direction W is the inside, and the direction toward the end in the width direction W is the outside.

図20に示されるように、第1切断工程では、単位積層基板20の第1ガラス層11Aの切断面23Aが第1樹脂層11Bの切断面23Bに対して外側に位置するように第1ガラス層11Aを切断する。第2切断工程では、単位積層基板20の第2ガラス層12Aの切断面24Aが第2樹脂層12Bの切断面24Bに対して外側に位置するように第2ガラス層12Aを切断する。より詳細には、第1切断工程において第1ガラス層11Aの第2平面14Bから第1平面14Aに向かうにつれて第1ガラス層11Aの幅WD1が狭くなる切断面23Aが形成されるように第1ガラス層11Aが切断されている。第2切断工程において第2ガラス層12Aの第2平面15Bから第1平面15Aに向かうにつれて第2ガラス層12Aの幅WD2が狭くなる切断面24Aが形成されるように第2ガラス層12Aが切断されている。スクライビングホイール50Bによって第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをスクライブするため、第1切断工程では、スクライブ加工装置40は、図20に示す断面視において第1ガラス層11Aの第2平面14Bから第1平面14Aに向かうにつれて第1ガラス層11Aの幅WD1が狭くなるスクライブライン(クラック)が形成されるように第1ガラス層11Aをスクライブする。次にスクライブした第1ガラス層11Aをブレイクする。第2切断工程では、スクライブ加工装置40は、図20に示す断面視において第2ガラス層12Aの第2平面15Bから第1平面15Aに向かうにつれて第2ガラス層12Aの幅WD2が狭くなるスクライブライン(クラック)が形成されるように第2ガラス層12Aをスクライブする。次にスクライブした第2ガラス層12Aをブレイクする。なお、スクライビングホイール50Bに代えて、レーザ加工装置30によって図20に示される第1ガラス層11Aの切断面23Aおよび第2ガラス層12Aの切断面24Aを形成してもよい。   As shown in FIG. 20, in the first cutting step, the first glass layer 11A of the unit laminated substrate 20 is positioned so that the cutting surface 23A of the first glass layer 11A is located outside the cutting surface 23B of the first resin layer 11B. Cut layer 11A. In the second cutting step, the second glass layer 12A is cut such that the cut surface 24A of the second glass layer 12A of the unit laminated substrate 20 is located outside the cut surface 24B of the second resin layer 12B. More specifically, in the first cutting step, the first cut surface 23A is formed such that the width WD1 of the first glass layer 11A becomes narrower from the second plane 14B of the first glass layer 11A toward the first plane 14A. The glass layer 11A is cut. In the second cutting step, the second glass layer 12A is cut so as to form a cutting surface 24A in which the width WD2 of the second glass layer 12A becomes narrower from the second plane 15B of the second glass layer 12A toward the first plane 15A. Has been done. Since the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are scribed by the scribing wheel 50B, in the first cutting step, the scribing processing device 40 moves from the second plane 14B of the first glass layer 11A in the cross-sectional view shown in FIG. The first glass layer 11A is scribed so that a scribe line (crack) in which the width WD1 of the first glass layer 11A becomes narrower toward the first plane 14A is formed. Next, the scribed first glass layer 11A is broken. In the second cutting step, the scribing device 40 has a scribe line in which the width WD2 of the second glass layer 12A becomes narrower from the second plane 15B of the second glass layer 12A toward the first plane 15A in the cross-sectional view shown in FIG. The second glass layer 12A is scribed so that (cracks) are formed. Next, the scribed second glass layer 12A is broken. Instead of the scribing wheel 50B, the laser processing apparatus 30 may form the cut surface 23A of the first glass layer 11A and the cut surface 24A of the second glass layer 12A shown in FIG.

図20に示される単位積層基板20では、第1樹脂層11Bの幅方向Wの端縁まで第1ガラス層11Aの第2平面14Bが形成され、第2樹脂層12Bの幅方向Wの端縁まで第2ガラス層12Aの第2平面15Bが形成されている。すなわち、厚さ方向Tにおいて、第1樹脂層11Bの幅方向Wの端縁と第1ガラス層11Aの切断面23Aとが重ならず、第2樹脂層12Bの幅方向Wの端縁と第2ガラス層12Aの切断面24Aとが重なっていない。このため、第1樹脂層11Bの幅方向Wの端縁および第2樹脂層12Bの幅方向Wの端縁に対してレーザリフトオフ装置のレーザを照射する場合、レーザが第1ガラス層11Aの切断面23Aおよび第2ガラス層12Aの切断面24Aを通過しない。   In the unit laminated substrate 20 shown in FIG. 20, the second flat surface 14B of the first glass layer 11A is formed up to the edge of the first resin layer 11B in the width direction W, and the edge of the second resin layer 12B in the width direction W is formed. The second plane 15B of the second glass layer 12A is formed up to. That is, in the thickness direction T, the edge in the width direction W of the first resin layer 11B and the cut surface 23A of the first glass layer 11A do not overlap each other, and the edge in the width direction W of the second resin layer 12B and the edge 2 The cut surface 24A of the glass layer 12A does not overlap. Therefore, when the laser of the laser lift-off device is irradiated to the widthwise W edge of the first resin layer 11B and the widthwise W edge of the second resin layer 12B, the laser cuts the first glass layer 11A. It does not pass through the surface 23A and the cut surface 24A of the second glass layer 12A.

本実施形態の作用について説明する。
前段加工工程の第1加工手順では、第1積層基板11および第2積層基板12をそれぞれ所定サイズに切断して第1単位積層基板21および第2単位積層基板22を製造した後、第1単位積層基板21と第2単位積層基板22とを貼り合せることにより多層積層基板10である単位積層基板20を製造する。例えばレーザ加工装置30,30Aによって第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを切断する場合、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bが露出しているため、レーザによって第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを加工する場合に発生するガスが第1積層基板11および第2積層基板12の外部に排出される。
The operation of this embodiment will be described.
In the first processing procedure of the pre-processing step, the first unit board 11 and the second unit board 12 are cut into a predetermined size to manufacture the first unit board 21 and the second unit board 22, and then the first unit board is manufactured. By laminating the laminated substrate 21 and the second unit laminated substrate 22, the unit laminated substrate 20 which is the multilayer laminated substrate 10 is manufactured. For example, when the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cut by the laser processing devices 30 and 30A, the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are exposed, and therefore the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are exposed by the laser. Gas generated when processing the second resin layer 12B is discharged to the outside of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12.

前段加工工程の第2加工手順では、第1積層基板11と第2積層基板12とを貼り合せる前に第1積層基板11および第2積層基板12の一方を所定サイズに切断する。例えばレーザ加工装置30,30Aによって第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの一方を切断する場合、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの一方が露出しているため、レーザによって第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの一方を加工する場合に発生するガスが第1積層基板11および第2積層基板12の一方の外部に排出される。第1積層基板11および第2積層基板12の一方が第1積層基板11および第2積層基板12の他方に貼り合せられた状態では、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの一部が露出する。このため、レーザ加工装置30,30Aによって第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの他方を切断する場合、レーザによって第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの他方を加工する場合に発生するガスが第1積層基板11および第2積層基板12の外部に排出される。   In the second processing procedure of the first-stage processing step, one of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 is cut into a predetermined size before the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are bonded together. For example, when one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is cut by the laser processing device 30 or 30A, one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is exposed, so that the first Gas generated when processing one of the resin layer 11B and the second resin layer 12B is discharged to the outside of one of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. When one of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 is bonded to the other of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, part of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is Exposed. Therefore, this occurs when the other of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is cut by the laser processing devices 30 and 30A, and when the other of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is processed by the laser. The gas is discharged to the outside of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12.

本実施形態の効果について説明する。
(1)フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、第1ガラス層11A、第1樹脂層11B、第2樹脂層12B、および、第2ガラス層12Aの少なくとも1つの切断に関連する加工を施す前段加工工程を含む。このため、後段加工工程において多層積層基板10に必要な切断に関する工程が削除される。第1積層基板11および第2積層基板12よりも構造が複雑な多層積層基板10に対する加工が少ないため、作業の煩雑さが緩和される。
The effects of this embodiment will be described.
(1) A method of manufacturing a flexible organic EL display includes a pre-stage process of performing a process related to cutting at least one of the first glass layer 11A, the first resin layer 11B, the second resin layer 12B, and the second glass layer 12A. Including steps. For this reason, the steps relating to cutting necessary for the multilayer laminated substrate 10 in the subsequent processing step are deleted. Since the number of processes for the multilayer laminated substrate 10 having a complicated structure is smaller than that of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, the complexity of the work is alleviated.

(2)前段加工工程において第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの少なくとも一方を切断することによって、例えば多層積層基板10の第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの少なくとも一方をレーザで切断する場合に発生するガスが第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aのうちの切断されたガラス層から排出される。樹脂層とガラス層との間にガスが滞留することが抑制されるため、ガスが第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの少なくとも一方の品質に影響を及ぼすおそれが低くなる。   (2) By cutting at least one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A in the pre-processing step, for example, at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B of the multilayer laminated substrate 10 is laser-cut. The gas generated when cutting is discharged from the cut glass layer of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. Since the gas is suppressed from staying between the resin layer and the glass layer, it is less likely that the gas affects the quality of at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B.

(3)前段加工工程において第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの少なくとも一方を切断することによって、後段工程において第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aに挟まれた第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの少なくとも一方を切断する必要がなく、作業の煩雑さが緩和される。   (3) The first resin layer 11B sandwiched between the first glass layer 11A and the second glass layer 12A in the latter step by cutting at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B in the former step. Also, it is not necessary to cut at least one of the second resin layer 12B, and the complexity of the work is alleviated.

(4)前段加工工程において第1積層基板11および第2積層基板12の一方を切断する場合、後段積層工程は、切断された第1積層基板11および第2積層基板12の一方を切断されていない第1積層基板11および第2積層基板12の他方に積層する。前段工程において第1積層基板11および第2積層基板12の一方が切断されるため、後段工程において多層積層基板10に必要な切断に関する工程が削除され、作業の煩雑さが緩和される。切断されていない第1積層基板11および第2積層基板12の他方に切断された第1積層基板11および第2積層基板12の一方が積層されるため、第1単位積層基板21および第2単位積層基板22を積層する場合に比較して、後段積層工程における第1単位積層基板21および第2単位積層基板22の位置管理に要求される精度が緩和される。加えて、次工程を実施するために多層積層基板10を搬送する場合、第1単位積層基板21および第2単位積層基板22に分離されていない状態で搬送できるため、多層積層基板10を容易に搬送できる。   (4) When one of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 is cut in the former processing step, one of the cut first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 is cut in the latter laminating step. It is laminated on the other of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 which are not present. Since one of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 is cut in the former step, the step relating to the cutting necessary for the multilayer laminated substrate 10 in the latter step is deleted, and the complexity of the work is eased. Since one of the cut first laminated board 11 and the cut second laminated board 12 is laminated on the other of the uncut first laminated board 11 and the second laminated board 12, the first unit laminated board 21 and the second unit laminated board 21 are formed. Compared with the case where the laminated substrates 22 are laminated, the accuracy required for position management of the first unit laminated substrate 21 and the second unit laminated substrate 22 in the subsequent laminating step is relaxed. In addition, when the multilayer laminated substrate 10 is carried to perform the next step, the multilayer laminated substrate 10 can be easily carried because the first unit laminated substrate 21 and the second unit laminated substrate 22 can be conveyed without being separated. Can be transported.

(5)前段加工工程では、後段工程において第1積層基板11および第2積層基板12をブレイクするための予備加工を第1積層基板11および第2積層基板12の少なくとも一方に施す。この製造方法では、前段工程において予備加工が施されることによって、後段工程において多層積層基板10に必要な切断に関する工程が削減され、作業の複雑さが緩和される。   (5) In the pre-processing step, pre-processing for breaking the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 in the latter step is performed on at least one of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. In this manufacturing method, the preliminary processing is performed in the former step, so that the steps relating to cutting necessary for the multilayer laminated substrate 10 in the latter step are reduced, and the complexity of the work is reduced.

(6)前段加工工程において第1積層基板11および第2積層基板12の両方を切断することによって、後段工程において多層積層基板10に切断に関する工程を施す必要がなくなり、作業の煩雑さが緩和される。   (6) By cutting both the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 in the pre-processing step, it becomes unnecessary to perform a cutting-related step on the multi-layer laminated substrate 10 in the post-process, and the complexity of the work is eased. It

(7)前段積層工程において第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第2ガラス層12Aの切断予定部17Aの少なくとも一方が樹脂で被覆されないように第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを形成する。この製造方法では、後段工程において第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bの少なくとも一方を切断する必要がない。第1積層基板11および第2積層基板12よりも複雑な構成を有する多層積層基板10に対して必要な加工が少なくなり、作業の煩雑さが緩和される。   (7) The first resin layer 11B and the second resin layer 12B are formed so that at least one of the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A is not covered with the resin in the preceding laminating step. Form. In this manufacturing method, it is not necessary to cut at least one of the planned cutting part 16B of the first resin layer 11B and the planned cutting part 17B of the second resin layer 12B in the subsequent step. The number of processes required for the multilayer laminated substrate 10 having a more complicated structure than the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 is reduced, and the complexity of the work is eased.

(8)前段積層工程において第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aに溝18,19を形成し、溝18が露出するように第1ガラス層11Aに第1樹脂層11Bを形成し、溝19が露出するように第2ガラス層12Aに第2樹脂層12Bを形成する。例えば第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aに第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの元になるワニスが塗布される場合、溝18,19が形成される部分には塗布装置のワニスが接触せず、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第2ガラス層12Aの切断予定部17Aを除いた部分にワニスが塗布される。切断予定部16A,17Aに対応する第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを除去する作業が不要となり、作業の煩雑さが緩和される。なお、第1ガラス層11Aに溝18が形成され、第2ガラス層12Aに溝19が形成されない場合では、切断予定部16Aに対応する第1樹脂層11Bを除去する作業が不要となり、多層積層基板10の加工作業の煩雑さが緩和される。第2ガラス層12Aに溝19が形成され、第1ガラス層11Aに溝18が形成されない場合では、切断予定部17Aに対応する第2樹脂層12Bを除去する作業が不要となり、多層積層基板10の加工作業の煩雑さが緩和される。   (8) Grooves 18 and 19 are formed in the first glass layer 11A and the second glass layer 12A in the first-stage laminating step, the first resin layer 11B is formed in the first glass layer 11A so that the groove 18 is exposed, and the groove is formed. A second resin layer 12B is formed on the second glass layer 12A so that 19 is exposed. For example, when the varnish that is the base of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is applied to the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, the varnish of the application device is applied to the portions where the grooves 18 and 19 are formed. However, the varnish is applied to the portions of the first glass layer 11A other than the planned cutting portion 16A and the second glass layer 12A other than the planned cutting portion 17A. The work of removing the first resin layer 11B and the second resin layer 12B corresponding to the planned cutting portions 16A and 17A becomes unnecessary, and the complexity of the work is reduced. In addition, when the groove 18 is formed in the first glass layer 11A and the groove 19 is not formed in the second glass layer 12A, the work of removing the first resin layer 11B corresponding to the planned cutting portion 16A becomes unnecessary, and the multilayer stacking is performed. The complexity of the work of processing the substrate 10 is alleviated. When the groove 19 is formed in the second glass layer 12A and the groove 18 is not formed in the first glass layer 11A, the work of removing the second resin layer 12B corresponding to the planned cutting portion 17A becomes unnecessary, and the multilayer laminated substrate 10 The complexity of the processing work is reduced.

(9)前段積層工程において第1ガラス層11Aに第1樹脂層11Bを形成し、第2ガラス層12Aに第2樹脂層12Bを形成し、第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bの少なくとも一方を除去する。この製造方法では、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第2ガラス層12Aの切断予定部17Aの少なくとも一方が樹脂で被覆されていない状態を正確に形成できる。   (9) In the first-stage laminating step, the first resin layer 11B is formed on the first glass layer 11A, the second resin layer 12B is formed on the second glass layer 12A, and the cut portion 16B and the second cut portion 16B of the first resin layer 11B are formed. At least one of the planned cutting portions 17B of the resin layer 12B is removed. With this manufacturing method, it is possible to accurately form a state in which at least one of the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A is not covered with the resin.

(10)前段積層工程において第1ガラス層11Aの切断予定部16AにマスクMS1を形成し、第1ガラス層11Aに第1樹脂層11Bを形成し、マスクMS1を除去する。第2ガラス層12Aの切断予定部17AにマスクMS2を形成し、第2ガラス層12Aに第2樹脂層12Bを形成し、マスクMS2を除去する。この製造方法では、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第2ガラス層12Aの切断予定部17Aが樹脂で被覆されていない状態を正確に形成できる。なお、第1ガラス層11Aの切断予定部16AにマスクMS1が形成され、第2ガラス層12Aの切断予定部17AにマスクMS2が形成されない場合では、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aが樹脂で被覆されていない状態を正確に形成できる。第2ガラス層12Aの切断予定部17AにマスクMS2が形成され、第1ガラス層11Aの切断予定部16AにマスクMS1が形成されない場合では、第2ガラス層12Aの切断予定部17Aが樹脂で被覆されていない状態を正確に形成できる。   (10) In the pre-stage laminating step, the mask MS1 is formed on the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A, the first resin layer 11B is formed on the first glass layer 11A, and the mask MS1 is removed. The mask MS2 is formed on the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A, the second resin layer 12B is formed on the second glass layer 12A, and the mask MS2 is removed. With this manufacturing method, it is possible to accurately form a state in which the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A are not covered with the resin. If the mask MS1 is formed on the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the mask MS2 is not formed on the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A, the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A is made of resin. The state not covered with can be accurately formed. When the mask MS2 is formed on the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A and the mask MS1 is not formed on the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A, the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A is covered with the resin. It is possible to accurately form a state that is not performed.

(11)前段加工工程は、第1積層基板11から所定サイズの第1単位積層基板21を切り出す第1切断工程と、第2積層基板12から所定サイズの第2単位積層基板22を切り出す第2切断工程とを含む。図20に示されるように、第1切断工程では、第1単位積層基板21の第1ガラス層11Aの切断面23Aが第1樹脂層11Bの切断面23Bに対して外側に位置するように第1ガラス層11Aを切断する。第2切断工程では、第2単位積層基板22の第2ガラス層12Aの切断面24Aが第2樹脂層12Bの切断面24Bに対して外側に位置するように第2ガラス層12Aを切断する。この製造方法では、ガラス層と樹脂層とを剥離するためのレーザが第1ガラス層11Aの切断面23Aおよび第2ガラス層12Aの切断面24Aの影響を受けることなく第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに照射される。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに適切にレーザが照射されるため、第1ガラス層11Aから剥離される第1樹脂層11Bの品質および第2ガラス層12Aから剥離される第2樹脂層12Bの品質が低下しにくい。   (11) The first-stage processing step is a first cutting step of cutting out a first unit laminated board 21 of a predetermined size from the first laminated board 11 and a second cutting step of cutting out a second unit laminated board 22 of a predetermined size from the second laminated board 12. And a cutting step. As shown in FIG. 20, in the first cutting step, the cutting surface 23A of the first glass layer 11A of the first unit laminated substrate 21 is positioned outside the cutting surface 23B of the first resin layer 11B. 1 Glass layer 11A is cut. In the second cutting step, the second glass layer 12A is cut such that the cut surface 24A of the second glass layer 12A of the second unit laminated substrate 22 is located outside the cut surface 24B of the second resin layer 12B. In this manufacturing method, the laser for separating the glass layer and the resin layer is not affected by the cut surface 23A of the first glass layer 11A and the cut surface 24A of the second glass layer 12A and the first resin layer 11B and the first resin layer 11B. 2 The resin layer 12B is irradiated. Since the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are appropriately irradiated with laser, the quality of the first resin layer 11B peeled from the first glass layer 11A and the second resin peeled from the second glass layer 12A. The quality of the layer 12B does not easily deteriorate.

(12)図20に示されるように、第1切断工程では、第2平面14Bから第1平面14Aに向かうにつれて第1ガラス層11Aの幅WD1が狭くなる切断面23Aが形成されるように第1ガラス層11Aを切断する。第2切断工程では、第2平面15Bから第1平面15Aに向かうにつれて第2ガラス層12Aの幅WD2が狭くなる切断面24Aが形成されるように第2ガラス層12Aを切断する。この製造方法では、傾斜した切断面23A,24Aの形成を意図して第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを切断するため、製造誤差の影響を考慮しても意図した方向とは異なる方向に傾斜した切断面が形成されにくい。   (12) As shown in FIG. 20, in the first cutting step, a cutting surface 23A is formed so that the width WD1 of the first glass layer 11A becomes narrower from the second plane 14B toward the first plane 14A. 1 Glass layer 11A is cut. In the second cutting step, the second glass layer 12A is cut so that the cutting surface 24A in which the width WD2 of the second glass layer 12A becomes narrower from the second flat surface 15B toward the first flat surface 15A is formed. In this manufacturing method, since the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are cut with the intention of forming the inclined cut surfaces 23A and 24A, even if the influence of the manufacturing error is taken into consideration, a direction different from the intended direction. It is difficult to form an inclined cut surface.

(13)図20に示されるように、第1切断工程では、第2平面14Bから第1平面14Aに向かうにつれて第1ガラス層11Aの幅WD1が狭くなるスクライブライン(クラック)が形成されるように第1ガラス層11Aをスクライブし、スクライブされた第1ガラス層11Aをブレイクする。第2切断工程では、第2平面15Bから第1平面15Aに向かうにつれて第2ガラス層12Aの幅WD2が狭くなるスクライブライン(クラック)が形成されるように第2ガラス層12Aをスクライブし、スクライブされた第2ガラス層12Aをブレイクする。この製造方法では、第1樹脂層11Bの切断面23Bに対して外側に位置する第1ガラス層11Aの切断面23Aを効率的に形成でき、第2樹脂層12Bの切断面24Bに対して外側に位置する第2ガラス層12Aの切断面24Aを効率的に形成できる。   (13) As shown in FIG. 20, in the first cutting step, scribe lines (cracks) are formed in which the width WD1 of the first glass layer 11A becomes narrower from the second plane 14B toward the first plane 14A. Then, the first glass layer 11A is scribed, and the scribed first glass layer 11A is broken. In the second cutting step, the second glass layer 12A is scribed and scribed so that a scribe line (crack) is formed in which the width WD2 of the second glass layer 12A becomes narrower from the second plane 15B toward the first plane 15A. The broken second glass layer 12A is broken. In this manufacturing method, the cut surface 23A of the first glass layer 11A located outside the cut surface 23B of the first resin layer 11B can be efficiently formed, and the cut surface 24B of the second resin layer 12B is cut outside. It is possible to efficiently form the cut surface 24A of the second glass layer 12A located at the position.

(14)第1切断工程および第2切断工程では、図5(b)に示される回転中心面RCに対して非対称な形状の刃先部52を有するスクライビングホイール50Bを用いて第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをスクライブする。この製造方法では、第2平面14Bに対して傾斜する第1ガラス層11Aの切断面23Aの形状、および第2平面15Bに対して傾斜する第2ガラス層12Aの切断面24Aの形状が刃先部52の形状により規定され、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを容易に切断できる。   (14) In the first cutting process and the second cutting process, the first glass layer 11A and the first glass layer 11A are formed by using the scribing wheel 50B having the cutting edge portion 52 having an asymmetric shape with respect to the rotation center plane RC shown in FIG. 5B. The second glass layer 12A is scribed. In this manufacturing method, the shape of the cutting surface 23A of the first glass layer 11A inclined with respect to the second plane 14B and the shape of the cutting surface 24A of the second glass layer 12A inclined with respect to the second plane 15B are the cutting edge portions. It is defined by the shape of 52, and the first glass layer 11A and the second glass layer 12A can be easily cut.

(15)レーザリフトオフによって第1ガラス層11Aと第1樹脂層11Bとを剥離し、第2ガラス層12Aと第2樹脂層12Bとを剥離する剥離工程をさらに含む。この製造方法では、第1ガラス層11Aと第1樹脂層11Bとを効率的に剥離でき、第2ガラス層12Aと第2樹脂層12Bとを効率的に剥離できる。   (15) The method further includes a peeling step of peeling off the first glass layer 11A and the first resin layer 11B by laser lift-off and peeling off the second glass layer 12A and the second resin layer 12B. In this manufacturing method, the first glass layer 11A and the first resin layer 11B can be efficiently peeled off, and the second glass layer 12A and the second resin layer 12B can be efficiently peeled off.

(16)前段加工工程の予備加工において第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bのそれぞれに対して異なる手段で予備加工を施し、第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bのそれぞれに対して異なる手段で予備加工を施す。この製造方法では、第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bのそれぞれに適した予備加工を選択でき、第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bのそれぞれに適した予備加工を選択できる。第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bが適切に予備加工され、第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bが適切に予備加工され、切断時の品質が向上する。   (16) In the pre-processing of the pre-processing step, the first glass layer 11A and the first resin layer 11B are pre-processed by different means, and the second glass layer 12A and the second resin layer 12B are respectively processed. Pre-processing by different means. In this manufacturing method, the pre-processing suitable for each of the first glass layer 11A and the first resin layer 11B can be selected, and the pre-processing suitable for each of the second glass layer 12A and the second resin layer 12B can be selected. The first glass layer 11A and the first resin layer 11B are appropriately pre-processed, and the second glass layer 12A and the second resin layer 12B are appropriately pre-processed, and the quality at the time of cutting is improved.

(17)前段加工工程の予備加工において第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをスクライビングホイール50によりスクライブし、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bをレーザによりスクライブする。この製造方法では、既存の装置を用いて第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bをそれぞれスクライブできる。   (17) In the preliminary processing of the first-stage processing step, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are scribed by the scribing wheel 50, and the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are scribed by a laser. In this manufacturing method, the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B can be scribed using an existing device.

(18)予備加工が後段積層工程よりも前の前段工程に含まれることによって、第1積層基板11および第2積層基板12が積層されていない状態で予備加工される。このため、例えば多層積層基板10の第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bをレーザで予備加工する場合とは異なり、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの予備加工にレーザを用いても、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bにレーザを照射することにともない発生するガスが多層積層基板10内に滞留することが抑制される。このため、ガスの影響により第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの品質が低下するおそれが低減される。   (18) Since the pre-processing is included in the pre-stage process before the post-stage laminating process, the pre-fabrication is performed in a state where the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are not laminated. Therefore, unlike the case where the first resin layer 11B and the second resin layer 12B of the multilayer laminated substrate 10 are pre-processed by laser, for example, the laser is used for pre-processing the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. Also, the gas generated by irradiating the first resin layer 11B and the second resin layer 12B with laser is prevented from staying in the multilayer laminated substrate 10. Therefore, the possibility that the quality of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is deteriorated due to the influence of gas is reduced.

(変形例)
上記実施形態は本開示に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法が取り得る形態の例示であり、その形態を制限することを意図していない。本開示に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は実施形態に例示された形態とは異なる形態を取り得る。その一例は、実施形態の構成の一部を置換、変更、もしくは、省略した形態、または、実施形態に新たな構成を付加した形態である。以下の変形例において、実施形態の形態と共通する部分については、実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
(Modification)
The above embodiment is an example of a form that the method for manufacturing a flexible organic EL display according to the present disclosure can take, and is not intended to limit the form. The method for manufacturing the flexible organic EL display according to the present disclosure may take a form different from the form exemplified in the embodiment. An example thereof is a form in which a part of the configuration of the embodiment is replaced, changed, or omitted, or a configuration in which a new configuration is added to the embodiment. In the following modified examples, the same parts as those of the embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

・上記実施形態において、第1積層基板11に導電層13が形成されることに代えて、または第1積層基板11に導電層13が形成されることに加えて、第2積層基板12に導電層13が形成されてもよい。   In the above-described embodiment, instead of forming the conductive layer 13 on the first laminated substrate 11 or in addition to forming the conductive layer 13 on the first laminated substrate 11, the conductive layer 13 is formed on the second laminated substrate 12. Layer 13 may be formed.

・上記実施形態において、前段積層工程の第2の例〜第4の例のいずれかによって第1積層基板11および第2積層基板12が製造された場合、前段加工工程における第1切断工程および第2切断工程を省略してもよい。この場合、後段積層工程において所定サイズに切断されていない第1積層基板11と所定サイズに切断されていない第2積層基板12とを積層して多層積層基板10を製造する。図21は、前段積層工程の第3の例または第4の例によって製造された第1積層基板11および第2積層基板12を後段積層工程において積層した多層積層基板10の一例である。この場合、後段工程は、後段積層工程と剥離工程との間に実施される後段加工工程を有する。後段加工工程では、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第2ガラス層12Aの切断予定部17Aを切断することによって単位積層基板20が製造される。   In the above embodiment, when the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are manufactured by any of the second to fourth examples of the pre-stage laminating step, the first cutting step and the The two cutting steps may be omitted. In this case, the multi-layer laminated substrate 10 is manufactured by laminating the first laminated substrate 11 that is not cut to the predetermined size and the second laminated substrate 12 that is not cut to the predetermined size in the subsequent laminating step. FIG. 21 is an example of a multilayer laminated substrate 10 in which the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 manufactured by the third example or the fourth example of the former laminating step are laminated in the latter laminating step. In this case, the latter-stage process has a latter-stage processing process performed between the latter-stage laminating process and the peeling process. In the subsequent processing step, the unit laminated substrate 20 is manufactured by cutting the planned cutting part 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting part 17A of the second glass layer 12A.

・上記実施形態の予備加工工程において、第1ガラス層11A、第1樹脂層11B、第2樹脂層12B、および、第2ガラス層12Aに対して施す予備加工の種類は任意に変更可能である。一例では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aのそれぞれに対して異なる手段で予備加工を施してもよいし、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bのそれぞれに対して異なる手段で予備加工を施してもよい。第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bのそれぞれに対して同じ手段の予備加工を施してもよいし、第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bのそれぞれに対して同じ手段の予備加工を施してもよい。第1ガラス層11A、第1樹脂層11B、第2樹脂層12B、および、第2ガラス層12Aのそれぞれに対して同じ手段の予備加工を施してもよい。   In the pre-processing step of the above embodiment, the types of pre-processing performed on the first glass layer 11A, the first resin layer 11B, the second resin layer 12B, and the second glass layer 12A can be arbitrarily changed. .. In one example, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A may be pre-processed by different means, or the first resin layer 11B and the second resin layer 12B may be pre-processed by different means. Pre-processing may be performed. The first glass layer 11A and the first resin layer 11B may be pre-processed by the same means, or the second glass layer 12A and the second resin layer 12B may be pre-processed by the same means. May be given. The first glass layer 11A, the first resin layer 11B, the second resin layer 12B, and the second glass layer 12A may be pre-processed by the same means.

・上記実施形態の予備加工工程において、第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bのいずれかに予備加工を施してもよいし、第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bのいずれかに予備加工を施してもよい。第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの少なくとも一方に予備加工を施し、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに予備加工を施さない場合、後段工程において次のように第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをブレイクしてもよい。すなわち、前段加工工程の第1切断工程および第2切断工程が省略され、後段積層工程において所定サイズに切断されていない第1積層基板11と所定サイズに切断されていない第2積層基板12とを積層して多層積層基板10を製造する。そして後段加工工程において例えば多層積層基板10の第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの少なくとも一方をレーザで切断する。この場合、レーザによる第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの加工時に発生するガスによってスクライブラインが形成されたガラス層がブレイクされる。ガスは、ブレイクされたガラス層の切断部分から多層積層基板10の外部に排出される。このため、ガスが第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの品質に影響を及ぼすおそれが低くなる。   In the pre-processing step of the above embodiment, either the first glass layer 11A or the first resin layer 11B may be pre-processed, or the second glass layer 12A or the second resin layer 12B may be pre-processed. It may be processed. In the case where at least one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is preliminarily processed and the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are not preliminarily processed, the first glass layer is formed as follows in a subsequent step. You may break 11A and 12 A of 2nd glass layers. That is, the first cutting step and the second cutting step of the former processing step are omitted, and the first laminated substrate 11 that is not cut to the predetermined size and the second laminated substrate 12 that is not cut to the predetermined size in the latter laminating step are provided. The layers are laminated to manufacture the multilayer laminated substrate 10. Then, in the subsequent processing step, for example, at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B of the multilayer laminated substrate 10 is cut with a laser. In this case, the glass layer on which the scribe line is formed is broken by the gas generated when the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are processed by the laser. The gas is discharged to the outside of the multilayer laminated substrate 10 from the cut portion of the broken glass layer. For this reason, the gas is less likely to affect the quality of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B.

・上記実施形態の後段積層工程において第1積層基板11および第2積層基板12がそれぞれ所定サイズに切断されていない場合、前段加工工程におけるレーザによる第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの切断を次のように実施してもよい。レーザによって第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを連続して切断する場合、第1ガラス層11A側からレーザを照射して第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの順に切断してもよいし、第2ガラス層12A側からレーザを照射して第2樹脂層12Bおよび第1樹脂層11Bの順に切断してもよい。   When the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are not cut to a predetermined size in the latter-stage laminating step of the above embodiment, the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cut by the laser in the former-stage machining step. May be implemented as follows. When the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are continuously cut by the laser, even if the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cut in this order by irradiating the laser from the first glass layer 11A side. Alternatively, the second resin layer 12B and the first resin layer 11B may be cut in this order by irradiating a laser from the second glass layer 12A side.

10 :多層積層基板
11 :第1積層基板
11A:第1ガラス層
11B:第1樹脂層
12 :第2積層基板
12A:第2ガラス層
12B:第2樹脂層
10: multilayer laminated substrate 11: first laminated substrate 11A: first glass layer 11B: first resin layer 12: second laminated substrate 12A: second glass layer 12B: second resin layer

Claims (7)

ガラス層と樹脂層とが積層された複数の積層基板を備え、前記複数の積層基板は第1ガラス層と第1樹脂層とが積層された第1積層基板、および、第2ガラス層と第2樹脂層とが積層された第2積層基板を含み、前記第1樹脂層と前記第2樹脂層とが対向するように積層された多層積層基板の製造に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法であって、
前記複数の積層基板を積層する工程よりも前の工程である前段工程を含み、
前記前段工程は、前記複数の積層基板の少なくとも一方について、前記ガラス層および前記樹脂層の少なくとも一方の切断に関連する加工を施す前段加工工程を含む
フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
A plurality of laminated substrates in which a glass layer and a resin layer are laminated, wherein the plurality of laminated substrates are a first laminated substrate in which a first glass layer and a first resin layer are laminated, and a second glass layer and a first laminated substrate. A method for manufacturing a flexible organic EL display, which comprises a second laminated substrate in which two resin layers are laminated, and a multilayer laminated substrate in which the first resin layer and the second resin layer are laminated so as to face each other. hand,
Including a preceding step which is a step prior to the step of stacking the plurality of laminated substrates,
The pre-stage process includes a pre-stage process process of performing a process related to cutting at least one of the glass layer and the resin layer on at least one of the plurality of laminated substrates.
前記前段加工工程では、前記ガラス層を切断する
請求項1に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method for manufacturing a flexible organic EL display according to claim 1, wherein the glass layer is cut in the pre-processing step.
前記前段加工工程では、前記樹脂層を切断する
請求項1または2に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method for manufacturing a flexible organic EL display according to claim 1, wherein the resin layer is cut in the pre-processing step.
前記複数の積層基板を積層する工程以後の工程である後段工程をさらに含み、
前記前段加工工程では、前記複数の積層基板の一方を切断し、
前記後段工程は、切断された前記複数の積層基板の一方を切断されていない前記複数の積層基板の他方に積層する後段積層工程を含む
請求項1〜3のいずれか一項に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method further includes a subsequent step that is a step after the step of stacking the plurality of laminated substrates
In the pre-processing step, one of the plurality of laminated substrates is cut,
The flexible organic material according to any one of claims 1 to 3, wherein the post-stage step includes a post-stage lamination step of laminating one of the cut laminated substrates on the other of the uncut laminated substrates. Manufacturing method of EL display.
前記前段加工工程では、前記複数の積層基板を積層する工程以後の工程である後段工程において前記積層基板をブレイクするための予備加工を、前記複数の積層基板の少なくとも一方に施す
請求項1に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The at least one of the plurality of laminated substrates is subjected to preliminary processing for breaking the laminated substrate in a latter step that is a step after the step of laminating the plurality of laminated substrates in the first-stage processing step. Flexible organic EL display manufacturing method.
前記予備加工では、前記ガラス層にスクライブラインを形成する
請求項5に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method for manufacturing a flexible organic EL display according to claim 5, wherein a scribe line is formed in the glass layer in the preliminary processing.
前記前段加工工程では、前記複数の積層基板の両方を切断する
請求項1に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method of manufacturing a flexible organic EL display according to claim 1, wherein both of the plurality of laminated substrates are cut in the pre-processing step.
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