JP2020053208A - Method and apparatus for cutting substrate pieces - Google Patents

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勉 上野
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Jinko Nishio
仁孝 西尾
生芳 高松
Ikuyoshi Takamatsu
生芳 高松
酒井 敏行
Toshiyuki Sakai
敏行 酒井
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Abstract

To form a cutting line for cutting out a substrate piece on a multilayer substrate while maintaining a state where a PET layer is easily peeled off from the substrate piece.SOLUTION: A method of cutting out a substrate piece SP1 that extends in an X direction and a Y direction and in which a first PET layer L2 is peeled off at one end in the Y direction, from a multilayer substrate P1 composed of the first PET layer L2, a PI layer L1, a second PET layer L3, a first adhesive layer L4, and a second adhesive layer L5, includes: a step of forming a plurality of first cutting lines SL1 extending in the Y direction on the multilayer substrate P1 at intervals corresponding to the width in the X direction of the substrate pieces SP1; and a peeling cutting line forming step of forming a fourth cutting line SL4 that extends in the X direction and peels off the first PET layer L2 from one end in the Y direction of the substrate piece SP1.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、第1PET層、PI層、第2PET層からなる多層基板から基板小片を切り出す方法、及び、上記多層基板から基板小片を切り出す切出装置に関する。   The present invention relates to a method of cutting out a substrate piece from a multilayer substrate including a first PET layer, a PI layer, and a second PET layer, and an apparatus for cutting out a substrate piece from the multilayer substrate.

従来、OLED基板のような複数の基板小片が形成された多層基板から、1つの基板小片を切り出す方法が知られている。
多層基板から基板小片を切り出す際には、各切り出し小片の辺に沿って切断ラインが形成される。上記の多層基板に切断ラインを形成する方法としては、多層基板の一方の面からレーザ光を照射して所望のラインに沿って切断ラインを形成する方法が知られている(例えば、特許文献1を参照)。
2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a method of cutting one substrate small piece from a multilayer substrate on which a plurality of substrate small pieces such as an OLED substrate are formed.
When cutting a substrate piece from a multilayer substrate, a cutting line is formed along the side of each cut piece. As a method for forming a cutting line on the multilayer substrate, there is known a method of irradiating a laser beam from one surface of the multilayer substrate to form a cutting line along a desired line (for example, Patent Document 1). See).

OLED基板のような電気回路が形成された基板小片においては、OLEDなどの酸化などに対して弱い電気回路を保護するために保護層が設けられる。従って、基板小片が切り出される多層基板は、表面に電気回路が形成されたポリイミド(PI)の基板層(PI層と呼ぶ)と、当該PI層に接着層を介して接着されたポリエチレンテレフタレート(PET)の保護層(PET層と呼ぶ)と、を有する。
また、PI層の電気回路が形成された表面には、当該電気回路と外部の回路とを接続するための接続端子が形成されている。
In a small piece of a substrate on which an electric circuit such as an OLED substrate is formed, a protective layer is provided to protect an electric circuit which is weak against oxidation of the OLED or the like. Therefore, the multilayer substrate from which the substrate pieces are cut out includes a polyimide (PI) substrate layer (hereinafter referred to as a PI layer) having an electric circuit formed on the surface thereof, and a polyethylene terephthalate (PET) bonded to the PI layer via an adhesive layer. ) And a protective layer (referred to as a PET layer).
A connection terminal for connecting the electric circuit to an external circuit is formed on the surface of the PI layer on which the electric circuit is formed.

電気回路と接続端子が形成されたPI層とそれを保護するPET層とを有する基板小片においては、PI層の電気回路の形成箇所はPET層にて保護する必要がある一方、接続端子の形成箇所は外部に露出させる必要がある。そのため、多層基板から基板小片の切り出し後に、基板小片の接続端子が形成された箇所からはPET層が剥離される。   In a small piece of substrate having a PI layer on which an electric circuit and a connection terminal are formed and a PET layer for protecting the same, a portion of the PI layer where the electric circuit is formed needs to be protected by the PET layer, while the formation of the connection terminal The part must be exposed to the outside. Therefore, after cutting out the substrate piece from the multilayer substrate, the PET layer is peeled from the portion of the substrate piece where the connection terminal is formed.

特開2018−15784号公報JP 2018-15784 A

上記のように、多層基板において、PET層は接着層(接着剤)によりPI層に接着されている。この場合に、多層基板に基板小片を切り出すための切断線をレーザ照射により形成すると、レーザ照射により接着層の状態が変化することが考えられる。この接着層の状態の変化により、基板小片からPET層を剥離しにくくなると推測される。   As described above, in the multilayer substrate, the PET layer is adhered to the PI layer by the adhesive layer (adhesive). In this case, when a cutting line for cutting out a substrate piece is formed on the multilayer substrate by laser irradiation, the state of the adhesive layer may change due to the laser irradiation. It is presumed that the change in the state of the adhesive layer makes it difficult to peel the PET layer from the substrate pieces.

本発明の目的は、多層基板から基板小片を切り出すときに、基板小片からPET層を剥離しやすい状態を維持しつつ、基板小片を切り出すための切断線を多層基板に形成することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to form a cutting line for cutting out a small piece of a substrate in a multilayer substrate while maintaining a state in which the PET layer is easily peeled from the small piece of a substrate when cutting the small piece of the substrate from the multilayer substrate.

以下に、課題を解決するための手段として複数の態様を説明する。これら態様は、必要に応じて任意に組み合せることができる。
本発明の一見地に係る切り出し方法は、多層基板から基板小片を切り出す方法である。多層基板は、第1PET層、PI層、第2PET層、第1PET層をPI層に接着する第1接着層、第2PET層をPI層に接着する第2接着層からなる。基板小片は、第1方向及び第2方向に延びる基板である。基板小片では、第1方向の一端において第1PET層が剥離されている。基板小片の切り出し方法は、以下のステップを備える。
◎第1方向に沿って延びる複数の第1切断線を、基板小片の第2方向の幅に相当する間隔を空けて多層基板に形成する第1切断線形成ステップ。
◎第1切断線形成ステップの後に、第2方向に沿って延び、基板小片の第1方向の一端から第1PET層を剥離するためのピーリング切断線を形成するピーリング切断線形成ステップ。
Hereinafter, a plurality of modes will be described as means for solving the problems. These embodiments can be arbitrarily combined as needed.
A cutting method according to an aspect of the present invention is a method of cutting a substrate piece from a multilayer substrate. The multilayer substrate includes a first PET layer, a PI layer, a second PET layer, a first adhesive layer for bonding the first PET layer to the PI layer, and a second adhesive layer for bonding the second PET layer to the PI layer. The substrate piece is a substrate extending in the first direction and the second direction. In the substrate piece, the first PET layer is peeled off at one end in the first direction. The method for cutting out a substrate piece includes the following steps.
A first cutting line forming step of forming a plurality of first cutting lines extending along the first direction on the multilayer substrate at intervals corresponding to the width of the substrate piece in the second direction;
ピ ー A peeling cutting line forming step that extends along the second direction after the first cutting line forming step and forms a peeling cutting line for peeling the first PET layer from one end of the substrate piece in the first direction.

上記の切り出し方法では、基板小片の一端から第1PET層を剥離するための第2方向に延びるピーリング切断線が、第1方向に延びる第1切断線の形成後に形成されている。
切断線の形成順を上記のようにすることで、ピーリング切断線に生じるダメージを最小限とできるので、基板小片からPET層を剥離しやすい状態を維持しつつ、基板小片を切り出すための切断線を多層基板に形成できる。
In the above cutting method, a peeling cut line extending in the second direction for peeling the first PET layer from one end of the substrate piece is formed after the formation of the first cut line extending in the first direction.
By setting the cutting lines in the above order, it is possible to minimize the damage caused to the peeling cutting lines. Therefore, the cutting lines for cutting the substrate pieces while maintaining the state where the PET layer is easily peeled from the substrate pieces are maintained. Can be formed on a multilayer substrate.

基板小片の切り出し方法は、以下のステップをさらに備えてもよい。
◎第1切断線形成ステップ後に、第2方向に沿って延びる第2切断線を、基板小片の第1PET層が剥離される側とは反対側の辺に相当する多層基板の箇所に形成する第2切断線形成ステップ。
◎第2切断線形成ステップ後に、第2方向に沿って延びる第3切断線を、基板小片の第1PET層が剥離される側の辺に相当する多層基板の箇所に形成する第3切断線形成ステップ。
これにより、基板小片からPET層を剥離しやすい状態を維持しつつ、基板小片を切り出すための切断線を多層基板に形成できる。
The method for cutting out a substrate piece may further include the following steps.
◎ After the first cutting line forming step, a second cutting line extending in the second direction is formed at a portion of the multilayer substrate corresponding to the side of the small piece of the substrate opposite to the side from which the first PET layer is peeled. 2 cutting line forming step.
◎ After forming the second cutting line, forming a third cutting line extending in the second direction at a position of the multilayer substrate corresponding to a side of the small piece of the substrate from which the first PET layer is peeled. Step.
This makes it possible to form a cutting line for cutting out the substrate piece on the multilayer substrate while maintaining a state where the PET layer is easily peeled from the substrate piece.

第1切断線、第2切断線、及び第3切断線は、第1PET層及び第1接着層に形成された溝と、PI層に形成されたPI切断線と、を有してもよい。この場合、上記の切り出し方法は、以下のステップをさらに備えてもよい。
◎第1レーザ光の照射により、第2PET層及び第2接着層の第1切断線を形成した位置に対応する位置に、第4溝を形成するステップ。
◎第1レーザ光の照射により、第2PET層及び第2接着層の第2切断線及び第3切断線を形成した位置に対応する位置に、第5溝を形成するステップ。
これにより、基板小片を確実に切り出すことができる。
The first cutting line, the second cutting line, and the third cutting line may include a groove formed in the first PET layer and the first adhesive layer, and a PI cutting line formed in the PI layer. In this case, the above-described clipping method may further include the following steps.
◎ forming a fourth groove at a position corresponding to the position where the first cutting line of the second PET layer and the second adhesive layer is formed by irradiating the first laser beam;
Forming a fifth groove at a position corresponding to a position where the second cutting line and the third cutting line of the second PET layer and the second adhesive layer are formed by irradiating the first laser beam;
This makes it possible to reliably cut out the substrate pieces.

第1切断線形成ステップは、以下のステップを有してもよい。
◎第1レーザ光の照射により、第1PET層及び第1接着層の第1切断線を形成する位置に第1溝を形成するステップ。
◎ホイール切断手段を第1溝に通しながら、PI層に第1PI切断線を形成するステップ。
これにより、PET層及びPI層に最適な切断線の形成方法により、効率よく切断線を形成できる。
The first cutting line forming step may include the following steps.
◎ forming a first groove at a position where a first cutting line of the first PET layer and the first adhesive layer is formed by irradiating the first laser beam;
Forming a first PI cutting line in the PI layer while passing the wheel cutting means through the first groove;
Thereby, the cutting line can be efficiently formed by the method of forming the cutting line most suitable for the PET layer and the PI layer.

第2切断線形成ステップは、以下のステップを有してもよい。
◎第1レーザ光の照射により、第1PET層及び第1接着層の第2切断線を形成する位置に第2溝を形成するステップ。
◎第1レーザ光の照射により、第1PET層及び第1接着層に、第1PET層を基板小片から剥離するための第4切断線を形成するステップ。
◎ホイール切断手段を第2溝に通しながら、PI層に第2PI切断線を形成するステップ。
これにより、PET層及びPI層に最適な切断線の形成方法により、効率よく切断線を形成できるとともに、ピーリング切断線を同時に形成できる。
The second cutting line forming step may include the following steps.
◎ forming a second groove at a position where a second cutting line of the first PET layer and the first adhesive layer is formed by irradiating the first laser beam;
Forming a fourth cutting line on the first PET layer and the first adhesive layer for peeling the first PET layer from the substrate piece by irradiating the first laser beam;
Forming a second PI cutting line in the PI layer while passing the wheel cutting means through the second groove;
This makes it possible to efficiently form a cutting line and simultaneously form a peeling cutting line by a method for forming a cutting line that is optimal for the PET layer and the PI layer.

第3切断線形成ステップは、以下のステップを有してもよい。
◎第1レーザ光の照射により、第1PET層及び第1接着層の第3切断線を形成する位置に第3溝を形成するステップ。
◎第2レーザ光を第3溝を通して照射することにより、PI層に第3PI切断線を形成するステップ。
PI層のPET層を剥離する箇所に切断線を形成する最適な方法により、第3PI切断線を形成できる。
The third cutting line forming step may include the following steps.
Forming a third groove at a position where a third cutting line of the first PET layer and the first adhesive layer is formed by irradiating the first laser beam;
Forming a third PI cutting line in the PI layer by irradiating the second laser beam through the third groove;
The third PI cutting line can be formed by an optimal method of forming a cutting line at a position where the PET layer of the PI layer is peeled off.

ピーリング切断線形成ステップは、第1レーザ光の照射により、第1PET層及び第1接着層にピーリング切断線に対応する溝を形成するステップを備えてもよい。
これにより、第1PET層及び第1接着層に対して最適な方法により、ピーリング切断線を形成できる。
The peeling cutting line forming step may include a step of forming a groove corresponding to the peeling cutting line in the first PET layer and the first adhesive layer by irradiating the first laser beam.
Thereby, the peeling cut line can be formed by the method most suitable for the first PET layer and the first adhesive layer.

本発明の他の見地に係る切出装置は、多層基板から基板小片を切り出す装置である。多層基板は、第1PET層、PI層、第2PET層、第1PET層をPI層に接着する第1接着層、第2PET層をPI層に接着する第2接着層からなる基板である。基板小片は、第1方向及び第2方向に延び、第1方向の一端において第1PET層が剥離された基板である。
切出装置は、第1切断線形成手段を備える。
第1切断線形成手段は、第1方向に沿って延びる複数の第1切断線を、基板小片の第2方向の幅に相当する間隔を空けて多層基板に形成する。その後、第1切断線形成手段は、第2方向に沿って延び、基板小片の第1方向の一端から第1PET層を剥離するためのピーリング切断線を形成する。
A cutting device according to another aspect of the present invention is a device for cutting a substrate piece from a multilayer substrate. The multilayer substrate is a substrate including a first PET layer, a PI layer, a second PET layer, a first adhesive layer that adheres the first PET layer to the PI layer, and a second adhesive layer that adheres the second PET layer to the PI layer. The substrate piece is a substrate that extends in the first direction and the second direction and has a first PET layer peeled off at one end in the first direction.
The cutting device includes first cutting line forming means.
The first cutting line forming means forms a plurality of first cutting lines extending along the first direction on the multilayer substrate at intervals corresponding to the width of the substrate pieces in the second direction. Thereafter, the first cutting line forming means extends along the second direction and forms a peeling cutting line for peeling the first PET layer from one end of the substrate piece in the first direction.

上記の切出装置では、第1切断線形成手段が、基板小片の一端から第1PET層を剥離するための第2方向に延びるピーリング切断線を、第1方向に延びる第1切断線の形成後に形成している。
切断線の形成順を上記のようにすることで、ピーリング切断線に生じるダメージを最小限とできるので、基板小片からPET層を剥離しやすい状態を維持しつつ、基板小片を切り出すための切断線を多層基板に形成できる。
In the above-described cutting device, the first cutting line forming means forms the peeling cutting line extending in the second direction for peeling the first PET layer from one end of the substrate piece after forming the first cutting line extending in the first direction. Has formed.
By setting the cutting lines in the above order, it is possible to minimize the damage caused to the peeling cutting lines. Therefore, the cutting lines for cutting the substrate pieces while maintaining the state where the PET layer is easily peeled from the substrate pieces are maintained. Can be formed on a multilayer substrate.

第1PET層、PI層、第2PET層からなる多層基板から、その一端において第1PET層が剥離された基板小片を切り出す際に、第2方向に沿って延び、基板小片の第1方向の一端から第1PET層を剥離するためのピーリング切断線を、第1方向に沿って延びる第1切断線を形成後に形成することにより、基板小片から第1PET層を剥離しやすい状態を維持しつつ、基板小片を切り出すための切断線を多層基板に形成できる。   When cutting out a small piece of substrate from which the first PET layer has been peeled off at one end from a multilayer substrate composed of a first PET layer, a PI layer, and a second PET layer, the small piece extends in the second direction and extends from one end of the small piece of substrate in the first direction. By forming the peeling cut line for peeling the first PET layer after forming the first cutting line extending along the first direction, the peeling line for the first PET layer is maintained while maintaining the state where the first PET layer is easily peeled off from the substrate piece. Can be formed on the multilayer substrate.

多層基板の断面構造を示す図。The figure which shows the cross-section of a multilayer substrate. 多層基板の平面構造を示す図。The figure which shows the plane structure of a multilayer substrate. 第1実施形態に係る切出装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of the cutting-out apparatus which concerns on 1st Embodiment. 切断装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of a cutting device. 剥離装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of a peeling apparatus. 基板小片の切り出し方法を多層基板の上面方向から見た場合を模式的に示す図。The figure which shows typically the case where the cutting method of the board | substrate small piece is seen from the upper surface direction of a multilayer board. 基板小片の切り出し方法を多層基板の断面方向から見た場合を模式的に示す図(その1)。FIG. 1 is a diagram schematically illustrating a method of cutting out a substrate piece when viewed from a cross-sectional direction of a multilayer substrate (part 1). 基板小片の切り出し方法を多層基板の断面方向から見た場合を模式的に示す図(その2)。The figure (the 2) which shows typically the case where the cutting method of the board piece is seen from the section direction of the multilayer board.

1.第1実施形態
(1)多層基板の構造
以下、本発明の一実施形態による多層基板から基板小片を切り出す方法について説明する。以下においては、複数のOLED層dがアレイ状に形成された多層基板から、1つのOLED層dを含む基板小片SP1を切り出す方法を、基板小片SP1の切り出す方法の一例として説明する。従って、最初に、図1及び図2を用いて、多層基板P1の構成を説明する。図1は、多層基板の断面構造を示す図である。図1の(a)は、多層基板をY方向から見た断面構造を示し、(b)は多層基板をX方向から見た断面構造を示す。図2は、多層基板の平面構造を示す図である。
図1及び図2において、多層基板P1の横方向を「X方向」と定義し、縦方向を「Y方向」と定義する。また、多層基板P1の縦方向(Y方向)を第1方向と定義し、横方向(X方向)を第2方向と定義する。
1. First Embodiment (1) Structure of Multilayer Substrate Hereinafter, a method for cutting a substrate piece from a multilayer substrate according to an embodiment of the present invention will be described. In the following, a method of cutting out a substrate piece SP1 including one OLED layer d from a multilayer substrate in which a plurality of OLED layers d are formed in an array will be described as an example of a method of cutting out the substrate piece SP1. Therefore, first, the configuration of the multilayer substrate P1 will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a diagram showing a cross-sectional structure of a multilayer substrate. FIG. 1A shows a cross-sectional structure of the multilayer substrate viewed from the Y direction, and FIG. 1B shows a cross-sectional structure of the multilayer substrate viewed from the X direction. FIG. 2 is a diagram illustrating a planar structure of the multilayer substrate.
1 and 2, the horizontal direction of the multilayer substrate P1 is defined as “X direction”, and the vertical direction is defined as “Y direction”. The vertical direction (Y direction) of the multilayer substrate P1 is defined as a first direction, and the horizontal direction (X direction) is defined as a second direction.

多層基板P1は、X方向及びY方向に延びる矩形の基板である。多層基板P1は、三層構造を有し、PI層L1と、第1PET層L2と、第2PET層L3と、を有している。
PI層L1は、ポリイミド(PI)製の基板である。図2に示すように、PI層L1の一方の表面には、複数のOLED層d(有機LED)がX方向及びY方向にアレイ状に並んで形成されている。具体的には、例えば、発光層と、発光層による発光を制御するための駆動用素子(例えば、TFT(薄膜トランジスタ))と、OLED層dの配線と、が形成されている。
多層基板P1に形成された各OLED層dは、基板小片SP1として、多層基板P1から切り出される。
The multilayer substrate P1 is a rectangular substrate extending in the X and Y directions. The multilayer substrate P1 has a three-layer structure, and includes a PI layer L1, a first PET layer L2, and a second PET layer L3.
The PI layer L1 is a substrate made of polyimide (PI). As shown in FIG. 2, on one surface of the PI layer L1, a plurality of OLED layers d (organic LEDs) are formed in an array in the X and Y directions. Specifically, for example, a light emitting layer, a driving element (for example, a TFT (thin film transistor)) for controlling light emission by the light emitting layer, and a wiring of the OLED layer d are formed.
Each OLED layer d formed on the multilayer substrate P1 is cut out from the multilayer substrate P1 as a substrate piece SP1.

OLED層dのY方向(第1方向)の一端には、OLED層dを外部の回路と接続するための接続部d1が形成されている。接続部d1には、OLED層dを空気中の水分から保護するための保護膜(例えば、SiO膜)が形成されている。 At one end of the OLED layer d in the Y direction (first direction), a connection portion d1 for connecting the OLED layer d to an external circuit is formed. A protective film (for example, a SiO 2 film) for protecting the OLED layer d from moisture in the air is formed at the connection part d1.

第1PET層L2及び第2PET層L3は、ポリエチレンテレフタレート(PET)製のフィルムであり、PI層L1の表面に形成されたOLED層dを保護する。ただし、OLED層dの接続部d1に対応する箇所の第1PET層L2は、OLED層dを基板小片SP1として切り出す際に剥離される。
第1PET層L2は、第1接着層L4により、PI層L1のOLED層dが形成された側の表面に接着されている。第1接着層L4は、例えば、アクリル系又はウレタン系の接着剤により形成される。
一方、第2PET層L3は、第2接着層L5により、PI層L1のOLED層dが形成された側とは反対側の表面に接着されている。第2接着層L5は、例えば、アクリル系又はウレタン系の接着剤により形成される。
The first PET layer L2 and the second PET layer L3 are films made of polyethylene terephthalate (PET), and protect the OLED layer d formed on the surface of the PI layer L1. However, the first PET layer L2 corresponding to the connection part d1 of the OLED layer d is peeled off when the OLED layer d is cut out as the substrate piece SP1.
The first PET layer L2 is bonded to the surface of the PI layer L1 on the side where the OLED layer d is formed by the first adhesive layer L4. The first adhesive layer L4 is formed of, for example, an acrylic or urethane-based adhesive.
On the other hand, the second PET layer L3 is bonded to the surface of the PI layer L1 on the side opposite to the side on which the OLED layer d is formed by the second adhesive layer L5. The second adhesive layer L5 is formed of, for example, an acrylic or urethane-based adhesive.

(2)切出装置
次に、図3を用いて、本実施形態の切出装置1の構成を説明する。図3は、第1実施形態に係る切出装置の構成を示す図である。切出装置1は、上記の構成を有する多層基板P1から、OLED層dを1つ含む基板小片SP1を切り出し、当該基板小片SP1のOLED層dの接続部d1に対応する領域の第1PET層L2及び第1接着層L4を、基板小片SP1から剥離するための装置である。
切出装置1は、搬送装置3と、切断装置5と、剥離装置7と、を備える。
搬送装置3は、多層基板P1を切断装置5及び剥離装置7へ搬送するための装置である。搬送装置3は、例えば、ベルトコンベヤである。切断装置5は、搬送装置3において、多層基板P1の搬送方向の上流側に設置されている。剥離装置7は、搬送装置3において、切断装置5よりも多層基板P1の搬送方向の下流側に設置されている。
(2) Extraction device Next, the configuration of the extraction device 1 of the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of the cutting device according to the first embodiment. The cutting device 1 cuts out the substrate small piece SP1 including one OLED layer d from the multilayer substrate P1 having the above configuration, and the first PET layer L2 in the region corresponding to the connection part d1 of the OLED layer d of the substrate small piece SP1. And an apparatus for separating the first adhesive layer L4 from the substrate small piece SP1.
The cutting device 1 includes a transport device 3, a cutting device 5, and a peeling device 7.
The transport device 3 is a device for transporting the multilayer substrate P1 to the cutting device 5 and the peeling device 7. The transport device 3 is, for example, a belt conveyor. The cutting device 5 is installed in the transport device 3 on the upstream side in the transport direction of the multilayer substrate P1. The peeling device 7 is installed in the transport device 3 on the downstream side of the cutting device 5 in the transport direction of the multilayer substrate P1.

(2−1)切断装置
切断装置5は、多層基板P1から基板小片SP1を切り出すための切断線(スクライブライン)を形成する装置である。以下、図4を用いて、切断装置の構成を説明する。図4は、切断装置の構成を示す図である。
切断装置5は、第1切断線形成手段51と、第2切断線形成手段53と、機械駆動系55と、制御部57と、を備える。
(2-1) Cutting Apparatus The cutting apparatus 5 is an apparatus that forms a cutting line (scribe line) for cutting out the substrate piece SP1 from the multilayer substrate P1. Hereinafter, the configuration of the cutting device will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a diagram illustrating a configuration of the cutting device.
The cutting device 5 includes a first cutting line forming unit 51, a second cutting line forming unit 53, a mechanical drive system 55, and a control unit 57.

第1切断線形成手段51は、多層基板P1から基板小片SP1を切り出すための切断線(スクライブライン)、及び、基板小片SP1の一端から第1PET層L2を剥離するための第4切断線SL4(ピーリング切断線の一例)を形成する装置である。第1切断線形成手段51は、基板小片SP1を切り出すための切断線を形成する際には、レーザ光の照射により多層基板P1のPET層及び接着層に溝を形成し、当該溝にスクライブホイールSW(後述)を通してPI層L1に切断線(PI切断線と呼ぶ)を形成する。
一方、第1切断線形成手段51は、基板小片SP1の一端から第1PET層L2を剥離するための第4切断線SL4を形成する際には、レーザ光の照射により多層基板P1のPET層及び接着層に、第4切断線SL4に対応する溝を形成する。
具体的には、第1切断線形成手段51は、第1レーザ装置51Aと、スクライブホイール切断装置51Bと、を有する。
The first cutting line forming means 51 includes a cutting line (scribe line) for cutting out the substrate piece SP1 from the multilayer substrate P1, and a fourth cutting line SL4 (for separating the first PET layer L2 from one end of the substrate piece SP1). This is an apparatus for forming a peeling cutting line. When forming the cutting line for cutting out the substrate piece SP1, the first cutting line forming means 51 forms a groove in the PET layer and the adhesive layer of the multilayer substrate P1 by irradiating a laser beam, and a scribe wheel in the groove. A cutting line (referred to as a PI cutting line) is formed in the PI layer L1 through the SW (described later).
On the other hand, when forming the fourth cutting line SL4 for peeling off the first PET layer L2 from one end of the substrate piece SP1, the first cutting line forming means 51 uses the laser beam to irradiate the PET layer of the multilayer substrate P1 with the PET layer. A groove corresponding to the fourth cutting line SL4 is formed in the adhesive layer.
Specifically, the first cutting line forming means 51 includes a first laser device 51A and a scribe wheel cutting device 51B.

第1レーザ装置51Aは、第1レーザ光LA1を出力するレーザ発振器と、当該第1レーザ光LA1を後述する機械駆動系55に伝送する伝送光学系と、を有している(いずれも図示せず)。伝送光学系は、例えば、図示しないが、集光レンズ、複数のミラー、プリズム、ビームエキスパンダ等を有する。また、伝送光学系は、例えば、レーザ発振器及び他の光学系が組み込まれたレーザ照射ヘッド(図示せず)をX軸方向に移動させるためのX軸方向移動機構(図示せず)を有している。第1レーザ装置51Aのレーザ発振器は、例えば、COレーザである。 The first laser device 51A has a laser oscillator that outputs the first laser light LA1, and a transmission optical system that transmits the first laser light LA1 to a mechanical drive system 55 described later (both are shown). Zu). Although not shown, the transmission optical system includes, for example, a condenser lens, a plurality of mirrors, a prism, a beam expander, and the like. The transmission optical system has, for example, an X-axis direction moving mechanism (not shown) for moving a laser irradiation head (not shown) incorporating a laser oscillator and other optical systems in the X-axis direction. ing. The laser oscillator of the first laser device 51A is, for example, a CO 2 laser.

スクライブホイール切断装置51Bは、スクライブホイールSW(ホイール切断手段の一例)を転動させて基板を切断する装置である。本実施形態では、スクライブホイール切断装置51Bは、多層基板P1のPI層L1にPI切断線を形成するために用いられる。
スクライブホイールSWは、外周部分がV字形に形成された円板状の部材である。スクライブホイールSWの上記外周部分が、PI層L1にPI切断線を形成する刃となる。スクライブホイールSWは、例えば、直径が5〜15mmであり、V字形の刃先の頂角が20〜50°とされている。
The scribe wheel cutting device 51B is a device that cuts a substrate by rolling a scribe wheel SW (an example of a wheel cutting unit). In the present embodiment, the scribe wheel cutting device 51B is used for forming a PI cutting line on the PI layer L1 of the multilayer substrate P1.
The scribe wheel SW is a disk-shaped member having an outer peripheral portion formed in a V-shape. The outer peripheral portion of the scribe wheel SW serves as a blade for forming a PI cutting line in the PI layer L1. The scribe wheel SW has a diameter of, for example, 5 to 15 mm, and the apex angle of the V-shaped cutting edge is set to 20 to 50 °.

第2切断線形成手段53は、第1PET層L2及び第1接着層L4に形成された溝を通して、第2レーザ光LA2をPI層L1に照射することで、PI層L1にPI切断線を形成する装置である。
第2切断線形成手段53は、第2レーザ光LA2を出力するレーザ発振器と、当該第2レーザ光LA2を後述する機械駆動系55に伝送する伝送光学系と、を有している(いずれも図示せず)。伝送光学系は、例えば、図示しないが、集光レンズ、複数のミラー、プリズム、ビームエキスパンダ等を有する。また、伝送光学系は、例えば、レーザ発振器及び他の光学系が組み込まれたレーザ照射ヘッド(図示せず)をX軸方向に移動させるためのX軸方向移動機構(図示せず)を有している。第2切断線形成手段53のレーザ発振器は、例えば、UVレーザである。
The second cutting line forming means 53 forms a PI cutting line on the PI layer L1 by irradiating the PI layer L1 with the second laser beam LA2 through a groove formed in the first PET layer L2 and the first adhesive layer L4. It is a device to do.
The second cutting line forming means 53 includes a laser oscillator that outputs the second laser light LA2, and a transmission optical system that transmits the second laser light LA2 to a mechanical drive system 55 to be described later (all of them). Not shown). Although not shown, the transmission optical system includes, for example, a condenser lens, a plurality of mirrors, a prism, a beam expander, and the like. The transmission optical system has, for example, an X-axis direction moving mechanism (not shown) for moving a laser irradiation head (not shown) incorporating a laser oscillator and other optical systems in the X-axis direction. ing. The laser oscillator of the second cutting line forming means 53 is, for example, a UV laser.

上記のように、OLED層dの接続部d1は、SiOなどの保護膜が形成されており、脆くなっている。脆い接続部d1にスクライブホイールSWなどにより切断線を形成しようとすると、接続部d1及び/又はOLED層dが破壊される可能性がある。
従って、OLED層dの接続部d1については、第2レーザ光LA2の照射により切断線を形成する。これにより、脆い保護層等を破壊することなく、接続部d1の近傍において基板小片SP1を切り出すための切断線を形成できる。
As described above, the connection portion d1 of the OLED layer d has the protective film such as SiO 2 formed thereon and is brittle. If an attempt is made to form a cutting line on the brittle connection part d1 using a scribe wheel SW or the like, the connection part d1 and / or the OLED layer d may be broken.
Therefore, the connection line d1 of the OLED layer d forms a cutting line by irradiation with the second laser beam LA2. This makes it possible to form a cutting line for cutting out the substrate piece SP1 in the vicinity of the connection portion d1 without breaking the brittle protective layer or the like.

機械駆動系55は、多層基板P1を水平方向に移動させ、中心軸回りに回転する機構である。具体的には、機械駆動系55は、ベッド55Aと、多層基板P1が載置される加工テーブル55Bと、加工テーブル55Bをベッド55Aに対して水平方向に移動させる移動装置55Cとを有している。移動装置55Cは、ガイドレール、移動テーブル、回転機構、モータ等を有する公知の機構である。
本実施形態の切断装置5においては、移動装置55Cが、多層基板P1を第1切断線形成手段51及び第2切断線形成手段53に対して相対的に移動させることにより、多層基板P1に切断線を形成する。
The mechanical drive system 55 is a mechanism that moves the multilayer substrate P1 in the horizontal direction and rotates around the central axis. Specifically, the mechanical drive system 55 includes a bed 55A, a processing table 55B on which the multilayer substrate P1 is placed, and a moving device 55C that moves the processing table 55B in the horizontal direction with respect to the bed 55A. I have. The moving device 55C is a known mechanism having a guide rail, a moving table, a rotating mechanism, a motor, and the like.
In the cutting device 5 of the present embodiment, the moving device 55C moves the multilayer substrate P1 relative to the first cutting line forming unit 51 and the second cutting line forming unit 53, thereby cutting the multilayer substrate P1. Form a line.

また、機械駆動系55は、多層基板P1(加工テーブル55B)を回転させる機構、及び、多層基板P1の表裏を反転させる機構(いずれも図示せず)を備えている。   The mechanical drive system 55 includes a mechanism for rotating the multilayer board P1 (the processing table 55B) and a mechanism for turning the multilayer board P1 upside down (both not shown).

制御部57は、プロセッサ(例えば、CPU)と、記憶装置(例えば、ROM、RAM、HDD、SSDなど)と、各種インターフェース(例えば、A/Dコンバータ、D/Aコンバータ、通信インターフェースなど)を有するコンピュータシステムである。制御部57は、記憶部(記憶装置の記憶領域の一部又は全部に対応)に保存されたプログラムを実行することで、各種制御動作を行う。
制御部57は、単一のプロセッサで構成されていてもよいが、各制御のために独立した複数のプロセッサから構成されていてもよい。
The control unit 57 has a processor (for example, CPU), a storage device (for example, ROM, RAM, HDD, SSD, etc.), and various interfaces (for example, A / D converter, D / A converter, communication interface, etc.). It is a computer system. The control unit 57 performs various control operations by executing a program stored in the storage unit (corresponding to part or all of the storage area of the storage device).
The control unit 57 may be configured by a single processor, or may be configured by a plurality of independent processors for each control.

制御部57には、図示しないが、多層基板P1の大きさ、形状及び位置を検出するセンサ、各装置の状態を検出するためのセンサ及びスイッチ、並びに情報入力装置が接続されている。
この実施形態では、制御部57は、第1切断線形成手段51、第2切断線形成手段53、及び、移動装置55Cを制御できる。
Although not shown, a sensor for detecting the size, shape and position of the multilayer board P1, sensors and switches for detecting the state of each device, and an information input device are connected to the control unit 57, although not shown.
In this embodiment, the control unit 57 can control the first cutting line forming unit 51, the second cutting line forming unit 53, and the moving device 55C.

(2−2)剥離装置
剥離装置7は、基板小片SP1(多層基板P1)の第1方向の一端に形成された接続部d1から、第1PET層L2を剥離するための装置である。本実施形態の剥離装置7は、剥離したい第1PET層L2をテープにて接着し、当該テープを多層基板P1に対して離反させることにより、第1PET層L2を基板小片SP1から剥離する装置である。
以下、図5を用いて、剥離装置の構成を説明する。図5は、剥離装置の構成を示す図である。剥離装置7は、テーブル71と、粘着テープ73と、加圧ローラ75と、を主に備える。
(2-2) Peeling Device The peeling device 7 is a device for peeling the first PET layer L2 from the connection part d1 formed at one end in the first direction of the substrate piece SP1 (multilayer substrate P1). The peeling device 7 of the present embodiment is a device that peels off the first PET layer L2 from the substrate piece SP1 by bonding the first PET layer L2 to be peeled off with a tape and separating the tape from the multilayer substrate P1. .
Hereinafter, the configuration of the peeling device will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a diagram illustrating a configuration of the peeling device. The peeling device 7 mainly includes a table 71, an adhesive tape 73, and a pressure roller 75.

テーブル71は、第1PET層L2を剥離したい多層基板P1を固定して載置するためのテーブルである。本実施形態において、テーブル71は、多層基板P1とテーブル71との間を真空状態とすることで、多層基板P1をテーブル71に固定する。   The table 71 is a table for fixing and mounting the multilayer substrate P1 from which the first PET layer L2 is to be peeled. In the present embodiment, the table 71 fixes the multilayer substrate P1 to the table 71 by bringing the space between the multilayer substrate P1 and the table 71 into a vacuum state.

粘着テープ73は、接着面を多層基板P1側に向け、送出ボビン73Aと巻取ボビン73Bとの間に橋渡しされた状態で配置されている。送出ボビン73Aは、粘着テープ73を送り出すボビンである。巻取ボビン73Bは、送出ボビン73Aから送り出された粘着テープ73を巻き取るボビンである。   The adhesive tape 73 is arranged in a state of being bridged between the delivery bobbin 73A and the winding bobbin 73B with the adhesive surface facing the multilayer substrate P1 side. The delivery bobbin 73A is a bobbin that sends out the adhesive tape 73. The take-up bobbin 73B is a bobbin that takes up the adhesive tape 73 sent from the sending bobbin 73A.

加圧ローラ75は、送出ボビン73Aと巻取ボビン73Bとの間に橋渡された粘着テープ73の接着面を、所定の力で第1PET層L2の表面に押圧するローラである。また、加圧ローラ75は、粘着テープ73の接着面を第1PET層L2の表面に押圧した状態で、多層基板P1の第1方向に移動可能となっている。
加圧ローラ75が第1方向に移動することで、第1PET層L2に押圧されていた粘着テープ73の接着面が多層基板P1から離反し、それと同時に当該接着面に付着したPET層が多層基板P1(基板小片SP1)から剥離される。
The pressure roller 75 is a roller that presses the adhesive surface of the adhesive tape 73 bridged between the delivery bobbin 73A and the winding bobbin 73B against the surface of the first PET layer L2 with a predetermined force. Further, the pressure roller 75 is movable in the first direction of the multilayer substrate P1 in a state where the adhesive surface of the adhesive tape 73 is pressed against the surface of the first PET layer L2.
As the pressure roller 75 moves in the first direction, the adhesive surface of the adhesive tape 73 pressed by the first PET layer L2 separates from the multilayer substrate P1, and at the same time, the PET layer adhered to the adhesive surface becomes the multilayer substrate. Peeled from P1 (substrate piece SP1).

なお、PET層を剥離する際の加圧ローラ75の移動方向は、多層基板P1の第1方向に限られず、第1方向とは垂直の第2方向であってもよい。または、加圧ローラ75は、水平面(多層基板P1の主面と平行な面)内の任意の方向に移動してもよい。   The moving direction of the pressure roller 75 when the PET layer is peeled off is not limited to the first direction of the multilayer substrate P1, but may be a second direction perpendicular to the first direction. Alternatively, the pressure roller 75 may move in an arbitrary direction within a horizontal plane (a plane parallel to the main surface of the multilayer substrate P1).

その他、剥離装置7は、加圧ローラ75、送出ボビン73A、巻取ボビン73Bを制御する制御部(図示せず)を備えている。制御部は、プロセッサと、記憶装置と、各種インターフェースを有するコンピュータシステムである。   In addition, the peeling device 7 includes a control unit (not shown) that controls the pressure roller 75, the delivery bobbin 73A, and the winding bobbin 73B. The control unit is a computer system having a processor, a storage device, and various interfaces.

(3)基板小片の切り出し方法
以下、図6〜図8を用いて、複数のOLED層dがアレイ状に形成された多層基板P1から、1つのOLED層dを含む基板小片SP1を切り出す方法を説明する。図6は、基板小片の切り出し方法を多層基板の上面方向から見た場合を模式的に示す図である。図7及び図8は、基板小片の切り出し方法を多層基板の断面方向から見た場合を模式的に示す図である。
なお、説明を簡単にするため、図6においては、多層基板P1のうち、横方向に2個及び縦方向に2個の合計4個のOLED層dが形成された部分を切り抜いて、基板小片SP1の切り出し方法を示している。一方、図7及び図8では、多層基板P1のうち、1つのOLED層dが形成された部分を切り抜いて、基板小片SP1の切り出し方法を示している。
(3) Cutting Method of Substrate Piece Hereinafter, a method of cutting a substrate piece SP1 including one OLED layer d from a multilayer substrate P1 in which a plurality of OLED layers d are formed in an array will be described with reference to FIGS. explain. FIG. 6 is a diagram schematically illustrating a method of cutting out a substrate piece when viewed from the upper surface direction of the multilayer substrate. 7 and 8 are diagrams schematically showing a method of cutting out a small piece of a substrate when viewed from a cross-sectional direction of a multilayer substrate.
For simplicity of description, in FIG. 6, a portion of the multilayer substrate P1 where two OLED layers d, two in the horizontal direction and two in the vertical direction, are formed is cut out to obtain a small piece of substrate. The method for cutting out SP1 is shown. On the other hand, FIGS. 7 and 8 show a method of cutting out a substrate piece SP1 by cutting out a portion where one OLED layer d is formed in the multilayer substrate P1.

以下の説明においては、切断装置5の移動装置55Cは、加工テーブル55B上の多層基板P1を一方向に直線的に移動可能であるとする。すなわち、以下の説明において、切断装置5は、第1切断線形成手段51及び第2切断線形成手段53を、加工テーブル55Bに載置された多層基板P1の一方向にのみ走査可能であるとする。   In the following description, it is assumed that the moving device 55C of the cutting device 5 can linearly move the multilayer substrate P1 on the processing table 55B in one direction. That is, in the following description, it is assumed that the cutting device 5 can scan the first cutting line forming unit 51 and the second cutting line forming unit 53 only in one direction of the multilayer substrate P1 placed on the processing table 55B. I do.

切り出しをする前に、多層基板P1の第1PET層L2を上にし、かつ、多層基板P1のY方向と切断装置5における多層基板P1の移動方向とが平行になるように、加工テーブル55B上に多層基板P1を載置する。
加工テーブル55Bに多層基板P1を載置後、第1切断線形成手段51が、Y方向(第1方向)に沿って延びる複数の第1切断線SL1を、基板小片SP1のX方向(第2方向)の幅に相当する間隔を空けて、多層基板P1に形成する(第1切断線形成ステップ)。
Before cutting, the first PET layer L2 of the multilayer substrate P1 is placed on the processing table 55B so that the Y direction of the multilayer substrate P1 is parallel to the moving direction of the multilayer substrate P1 in the cutting device 5. The multilayer substrate P1 is placed.
After placing the multilayer substrate P1 on the processing table 55B, the first cutting line forming means 51 sets the plurality of first cutting lines SL1 extending along the Y direction (first direction) in the X direction (second direction) of the substrate piece SP1. ) Is formed on the multilayer substrate P1 with an interval corresponding to the width in the (direction) (first cutting line forming step).

具体的には、図6の(a)及び図7の(a)に示すように、第1PET層L2及び第1接着層L4の第1切断線SL1を形成する位置に、第1溝G1を形成する。
第1溝G1は、第1レーザ装置51Aにより、第1PET層L2及び第1接着層L4の第1切断線SL1を形成する位置に第1レーザ光LA1を照射しつつ、移動装置55Cの移動により第1レーザ光LA1を多層基板P1のY方向に沿って走査することより形成できる。
なお、第1レーザ光LA1にて形成する溝は、その開口角度θを45°〜100°の範囲とすることが好ましい。開口角度θは、溝の2つの側壁がなす角度と定義される。また、溝幅は40μm〜200μmの範囲とすることが好ましい。
Specifically, as shown in FIGS. 6A and 7A, a first groove G1 is formed at a position where the first cutting line SL1 of the first PET layer L2 and the first adhesive layer L4 is formed. Form.
The first groove G1 is moved by the moving device 55C while the first laser device 51A irradiates the first laser beam LA1 to the position where the first cutting line SL1 of the first PET layer L2 and the first adhesive layer L4 is formed by the first laser device 51A. The first laser beam LA1 can be formed by scanning the multilayer substrate P1 along the Y direction.
It is preferable that the groove formed by the first laser beam LA1 has an opening angle θ in a range of 45 ° to 100 °. The opening angle θ is defined as the angle formed by the two side walls of the groove. Further, the groove width is preferably in the range of 40 μm to 200 μm.

第1溝G1を形成後、図6の(b)及び図7の(b)に示すように、スクライブホイールSWを第1溝G1に通して、PI層L1の第1溝G1に対応する位置に、第1PI切断線PS1を形成する。
具体的には、第1溝G1内にスクライブホイールSWを通し、所定の荷重をかけてスクライブホイールSWの刃先をPI層L1に押し込んだ状態で多層基板P1をY方向に移動させ、さらにスクライブホイールSWを転動させることで、第1PI切断線PS1を形成できる。
上記のようにして、基板小片SP1のY方向(第1方向)に延びる辺に対応する位置に、第1溝G1と第1PI切断線PS1とにより構成される第1切断線SL1を形成できる。
After forming the first groove G1, as shown in FIG. 6B and FIG. 7B, the scribe wheel SW is passed through the first groove G1, and the position corresponding to the first groove G1 of the PI layer L1 is formed. Then, a first PI cutting line PS1 is formed.
Specifically, the multi-layer substrate P1 is moved in the Y direction while the scribe wheel SW is passed through the first groove G1 and the cutting edge of the scribe wheel SW is pushed into the PI layer L1 while applying a predetermined load. The first PI cutting line PS1 can be formed by rolling the SW.
As described above, the first cutting line SL1 constituted by the first groove G1 and the first PI cutting line PS1 can be formed at a position corresponding to the side extending in the Y direction (first direction) of the substrate piece SP1.

第1切断線SL1を形成後、多層基板P1を90°回転して、多層基板P1のX方向が移動装置55Cによる多層基板P1の移動方向と平行になるようにする。
多層基板P1を90°回転後、基板小片SP1のX方向(第2方向)の辺に対応する位置に切断線を形成する。
本実施形態においては、基板小片SP1のX方向に延びる2辺のうち、まずは、基板小片SP1の第1PET層L2が剥離される側とは反対側の辺に相当する多層基板P1の箇所に、第2切断線SL2を形成する(第2切断線形成ステップ)。
After forming the first cutting line SL1, the multilayer substrate P1 is rotated by 90 ° so that the X direction of the multilayer substrate P1 is parallel to the moving direction of the multilayer substrate P1 by the moving device 55C.
After rotating the multilayer substrate P1 by 90 °, a cutting line is formed at a position corresponding to a side in the X direction (second direction) of the substrate piece SP1.
In the present embodiment, among the two sides of the substrate piece SP1 extending in the X direction, first, at a position of the multilayer substrate P1 corresponding to the side of the substrate piece SP1 opposite to the side where the first PET layer L2 is peeled off, The second cutting line SL2 is formed (second cutting line forming step).

具体的には、図6の(c)及び図7の(c)に示すように、第1PET層L2及び第1接着層L4の第2切断線SL2を形成する位置(接続部d1が存在する側とは反対側の辺に対応する位置)に、第2溝G2を形成する。
第2溝G2は、第1レーザ装置51Aにより、第1PET層L2及び第1接着層L4の第2切断線SL2を形成する位置に第1レーザ光LA1を照射しつつ、移動装置55Cの移動により第1レーザ光LA1を多層基板P1のX方向に沿って走査することにより形成できる。
Specifically, as shown in (c) of FIG. 6 and (c) of FIG. 7, a position (connection part d1) where the second cutting line SL2 of the first PET layer L2 and the first adhesive layer L4 is formed exists. A second groove G2 is formed at a position corresponding to the side opposite to the side).
The second groove G2 is moved by the moving device 55C while the first laser device 51A irradiates the first laser beam LA1 to the position where the second cutting line SL2 of the first PET layer L2 and the first adhesive layer L4 is formed by the first laser device 51A. The first laser beam LA1 can be formed by scanning the multilayer substrate P1 along the X direction.

また、図6の(c)及び図7の(c)に示すように、本実施形態においては、第2溝G2の形成と同時に、第1レーザ光LA1の照射により形成できる多層基板P1のX方向に延びる他の溝も形成される。具体的には、第1PET層L2及び第1接着層L4に、第3溝G3と第4切断線SL4が同時に形成される(ピーリング切断線形成ステップ)。
第3溝G3は、後述する第3切断線SL3を形成するための溝である。第4切断線SL4は、基板小片SP1のY方向の一端から第1PET層L2を剥離するための溝である。
In addition, as shown in FIGS. 6C and 7C, in the present embodiment, the X of the multilayer substrate P1 that can be formed by irradiating the first laser beam LA1 simultaneously with the formation of the second groove G2. Other grooves extending in the direction are also formed. Specifically, the third groove G3 and the fourth cutting line SL4 are simultaneously formed in the first PET layer L2 and the first adhesive layer L4 (peeling cutting line forming step).
The third groove G3 is a groove for forming a third cutting line SL3 described later. The fourth cutting line SL4 is a groove for peeling the first PET layer L2 from one end of the substrate piece SP1 in the Y direction.

第3溝G3は、第1レーザ装置51Aにより、第1PET層L2及び第1接着層L4の第3切断線SL3を形成する位置(接続部d1が存在する側の辺に対応する位置)に第1レーザ光LA1を照射しつつ、移動装置55Cの移動により第1レーザ光LA1を多層基板P1のX方向に沿って走査することにより形成できる。
第4切断線SL4は、第1レーザ装置51Aにより、第1PET層L2及び第1接着層L4の第4切断線SL4を形成する位置(OLED層dと接続部d1との境界線に対応する位置)に第1レーザ光LA1を照射しつつ、移動装置55Cの移動により第1レーザ光LA1を多層基板P1のX方向に沿って走査することにより形成できる。
The third groove G3 is formed by the first laser device 51A at a position where the third cutting line SL3 of the first PET layer L2 and the first adhesive layer L4 is formed (a position corresponding to the side on the side where the connection portion d1 exists). It can be formed by scanning the first laser beam LA1 along the X direction of the multilayer substrate P1 by moving the moving device 55C while irradiating one laser beam LA1.
The fourth cutting line SL4 is located at a position where the first laser device 51A forms the fourth cutting line SL4 of the first PET layer L2 and the first adhesive layer L4 (a position corresponding to a boundary between the OLED layer d and the connection part d1). ) Is irradiated with the first laser beam LA1, while the moving device 55C moves to scan the first laser beam LA1 along the X direction of the multilayer substrate P1.

第2溝G2、第3溝G3、及び第4切断線SL4を形成後、図6の(d)及び図7の(d)に示すように、スクライブホイールSWを第2溝G2に通して、PI層L1の第2溝G2に対応する位置に、第2PI切断線PS2を形成する。
これにより、基板小片SP1のX方向(第2方向)に延びる2辺のうち、第1PET層L2を剥離しない側の辺に対応する位置に、第2溝G2と第2PI切断線PS2とにより構成される第2切断線SL2を形成できる。
After forming the second groove G2, the third groove G3, and the fourth cutting line SL4, as shown in FIGS. 6D and 7D, the scribe wheel SW is passed through the second groove G2, A second PI cutting line PS2 is formed in the PI layer L1 at a position corresponding to the second groove G2.
Accordingly, the second groove G2 and the second PI cutting line PS2 are formed at positions corresponding to the side of the substrate piece SP1 extending in the X direction (second direction) on the side where the first PET layer L2 is not peeled. A second cutting line SL2 to be formed can be formed.

第2切断線SL2を形成後、基板小片SP1のX方向(第2方向)に延びる2辺のうちのもう一方の辺、すなわち、第1PET層L2が剥離される側の辺に相当する多層基板P1の箇所に、第3切断線SL3を形成する(第3切断線形成ステップ)。
具体的には、図6の(e)及び図8の(e)に示すように、第2切断線形成手段53から出力される第2レーザ光LA2を、上記のようにして既に形成された第3溝G3を通してPI層L1に照射することにより、PI層L1に第3PI切断線PS3を形成する。
これにより、第1PET層L2を剥離する側の辺に対応する位置に、第3溝G3と第3PI切断線PS3とにより構成される第3切断線SL3を形成できる。
After the formation of the second cutting line SL2, the multilayer substrate corresponding to the other of the two sides of the substrate piece SP1 extending in the X direction (second direction), that is, the side on which the first PET layer L2 is peeled off. A third cutting line SL3 is formed at the position P1 (third cutting line forming step).
Specifically, as shown in (e) of FIG. 6 and (e) of FIG. 8, the second laser beam LA2 output from the second cutting line forming means 53 has already been formed as described above. By irradiating the PI layer L1 through the third groove G3, a third PI cutting line PS3 is formed in the PI layer L1.
Thereby, a third cutting line SL3 constituted by the third groove G3 and the third PI cutting line PS3 can be formed at a position corresponding to the side on which the first PET layer L2 is peeled off.

第1切断線SL1〜第4切断線SL4を形成後、多層基板P1の表裏を反転し、さらに、多層基板P1を90°回転する。これにより、多層基板P1の第2PET層L3が上を向いた状態で、多層基板P1のY方向が移動装置55Cによる多層基板P1の移動方向と平行となる。   After forming the first to fourth cutting lines SL1 to SL4, the multilayer substrate P1 is turned upside down, and the multilayer substrate P1 is further rotated by 90 °. Accordingly, in a state where the second PET layer L3 of the multilayer substrate P1 faces upward, the Y direction of the multilayer substrate P1 is parallel to the moving direction of the multilayer substrate P1 by the moving device 55C.

多層基板P1の表裏の反転及び90°回転の後、図6の(f)及び図8の(f)に示すように、第2PET層L3及び第2接着層L5の第1切断線SL1に対応する位置に、第4溝G4を形成する。
第4溝G4は、第1レーザ装置51Aにより、第2PET層L3及び第2接着層L5の第1切断線SL1に対応する位置に第1レーザ光LA1を照射しつつ、移動装置55Cの移動により第1レーザ光LA1を多層基板P1のY方向に沿って走査することにより形成できる。
After the reversal of the front and back of the multilayer substrate P1 and the 90 ° rotation, as shown in FIGS. 6F and 8F, the multilayer substrate P1 corresponds to the first cutting line SL1 of the second PET layer L3 and the second adhesive layer L5. A fourth groove G4 is formed at the position where the fourth groove G4 will be formed.
The fourth groove G4 is moved by the moving device 55C while irradiating the first laser beam LA1 to the position corresponding to the first cutting line SL1 of the second PET layer L3 and the second adhesive layer L5 by the first laser device 51A. The first laser beam LA1 can be formed by scanning the multilayer substrate P1 along the Y direction.

第2PET層L3に第4溝G4を形成後、多層基板P1を90°回転させて、多層基板P1のX方向が移動装置55Cによる多層基板P1の移動方向と平行となるようにする。
その後、図6の(g)及び図8の(g)に示すように、第2PET層L3及び第2接着層L5の第2切断線SL2及び第3切断線SL3に対応する位置に、第5溝G5を形成する。
After forming the fourth groove G4 in the second PET layer L3, the multilayer substrate P1 is rotated by 90 ° so that the X direction of the multilayer substrate P1 is parallel to the moving direction of the multilayer substrate P1 by the moving device 55C.
Thereafter, as shown in FIG. 6G and FIG. 8G, a fifth PET line L3 and a second adhesive layer L5 are placed at positions corresponding to the second cutting line SL2 and the third cutting line SL3. A groove G5 is formed.

第5溝G5は、第1レーザ装置51Aにより、第2PET層L3及び第2接着層L5の第2切断線SL2及び第3切断線SL3に対応する位置に第1レーザ光LA1を照射しつつ、移動装置55Cの移動により第1レーザ光LA1を多層基板P1のX方向に沿って走査することにより形成できる。   The fifth groove G5 is irradiated with the first laser beam LA1 by the first laser device 51A at a position corresponding to the second cutting line SL2 and the third cutting line SL3 of the second PET layer L3 and the second adhesive layer L5, The first laser beam LA1 can be formed by scanning the multilayer substrate P1 along the X direction by moving the moving device 55C.

上記のようにして、多層基板P1から基板小片SP1を切り出すための第1切断線SL1〜第4切断線SL4を形成後、これらの切断線が形成された多層基板P1は、搬送装置3により剥離装置7に搬送される。剥離装置7によって、基板小片SP1の接続部d1に対応する領域に存在する第1PET層L2が剥離される。   After forming the first cutting line SL1 to the fourth cutting line SL4 for cutting the substrate piece SP1 from the multilayer substrate P1 as described above, the multilayer substrate P1 on which these cutting lines are formed is separated by the transport device 3. It is transported to the device 7. The first PET layer L2 existing in the region corresponding to the connection portion d1 of the substrate piece SP1 is peeled by the peeling device 7.

さらに、多層基板P1に形成された第1切断線SL1〜第3切断線SL3により、図6の(h)及び図8の(h)に示すように、X方向(第2方向)及びY方向(第1方向)に延び、1つのOLED層dを含む基板小片SP1を、多層基板P1から切り出すことができる。
また、図8の(h)に示すように、切り出された基板小片SP1において、OLED層dの接続部d1に対応する箇所には第1PET層L2及び第1接着層L4が存在せず、その他の箇所には第1PET層L2及び第2PET層L3が存在する。
すなわち、接続部d1のみが露出され、OLED層dのその他の箇所は第1PET層L2及び第2PET層L3により保護されている。
Further, the first cutting line SL1 to the third cutting line SL3 formed on the multilayer substrate P1, as shown in FIGS. 6H and 8H, the X direction (second direction) and the Y direction. A substrate piece SP1 extending in the (first direction) and including one OLED layer d can be cut out from the multilayer substrate P1.
In addition, as shown in FIG. 8H, in the cut-out substrate piece SP1, the first PET layer L2 and the first adhesive layer L4 do not exist at a position corresponding to the connection portion d1 of the OLED layer d. A first PET layer L2 and a second PET layer L3 are present at the position.
That is, only the connection portion d1 is exposed, and other portions of the OLED layer d are protected by the first PET layer L2 and the second PET layer L3.

(4)まとめ
上記の図6〜図8を用いて説明した、多層基板P1から基板小片SP1を切り出す切り出し方法では、基板小片SP1のY方向の一端から第1PET層L2を剥離するためのX方向に延びる第4切断線SL4が、Y方向に延びる第1切断線SL1の形成後に形成されている。また、X方向に延びる他の切断線(第2切断線SL2及び第3切断線SL3)も、第1切断線SL1の形成後に形成されている。
(4) Summary In the cutting method for cutting out the substrate piece SP1 from the multilayer substrate P1 described with reference to FIGS. 6 to 8 described above, the X direction for peeling the first PET layer L2 from one end of the substrate piece SP1 in the Y direction. Is formed after the formation of the first cutting line SL1 extending in the Y direction. Further, other cutting lines (second cutting lines SL2 and third cutting lines SL3) extending in the X direction are also formed after the formation of the first cutting lines SL1.

上記の多層基板P1に切断線を形成する場合、一般的に、一方向に延びる切断線を形成後に、この切断線と交わる他の方向に延びる切断線を形成すると、先に形成した切断線により切断されていたPET層が再融着するなど、先に形成した切断線にダメージが生じることがある。   When forming a cutting line in the above-mentioned multilayer substrate P1, generally, after forming a cutting line extending in one direction and then forming a cutting line extending in another direction intersecting this cutting line, the cutting line formed first The cut line formed earlier may be damaged, for example, when the cut PET layer is re-fused.

従って、Y方向に延びる第1切断線SL1の形成後に、X方向に延びる第4切断線SL4を形成することで、第4切断線SL4(及び第3切断線SL3)に生じるダメージを最小限とできるので、基板小片SP1から第1PET層L2を剥離しやすい状態を維持しつつ、基板小片SP1を切り出すための切断線を多層基板P1に形成できる。   Therefore, by forming the fourth cutting line SL4 extending in the X direction after forming the first cutting line SL1 extending in the Y direction, damage to the fourth cutting line SL4 (and the third cutting line SL3) is minimized. Since the first PET layer L2 can be easily peeled off from the substrate piece SP1, a cutting line for cutting out the substrate piece SP1 can be formed on the multilayer substrate P1.

その一方、第1切断線SL1については、第4切断線SL4の形成によりダメージを受けていても、多層基板P1から基板小片SP1を切り出す際に問題とはならない。なぜなら、多層基板P1から基板小片SP1の切り出しは、多層基板P1の第1切断線SL1付近を押さえつつ、基板小片SP1を吸着して多層基板P1から基板小片SP1を離反させることにより行われるため、当該離反時に切断線形成時のPET層の融着を破壊できるからである。   On the other hand, even if the first cutting line SL1 is damaged by the formation of the fourth cutting line SL4, there is no problem in cutting the substrate piece SP1 from the multilayer substrate P1. This is because the cutting of the substrate piece SP1 from the multilayer substrate P1 is performed by holding the vicinity of the first cutting line SL1 of the multilayer substrate P1 and adsorbing the substrate piece SP1 to separate the substrate piece SP1 from the multilayer substrate P1. This is because the fusion of the PET layer at the time of forming the cutting line can be broken at the time of the separation.

上記の効果を確認するために、比較例として、第1PET層L2を剥離するための第4切断線SL4及び基板小片SP1のX方向に延びる2辺の切断線(第2切断線SL2、第3切断線SL3)を最初に形成し、その後、Y方向に延びる2辺の切断線(第1切断線SL1)を形成して、第1PET層L2を基板小片SP1から剥離した。
その結果、上記の比較例においては、第1PET層L2の剥離を720回試行したうち、30回の試行において第1PET層L2を適切に剥離できなかった。つまり、比較例の場合、第1PET層L2の剥離の失敗率は約4%であった。
In order to confirm the above effects, as a comparative example, as a comparative example, a fourth cutting line SL4 for separating the first PET layer L2 and a cutting line on two sides extending in the X direction of the substrate piece SP1 (second cutting line SL2, third cutting line SL3). A cutting line SL3) was first formed, and then two side cutting lines (first cutting lines SL1) extending in the Y direction were formed, and the first PET layer L2 was peeled off from the substrate piece SP1.
As a result, in the comparative example described above, the first PET layer L2 could not be appropriately peeled after 30 trials out of 720 trials of the first PET layer L2. That is, in the case of the comparative example, the failure rate of the peeling of the first PET layer L2 was about 4%.

その一方、上記にて説明した本実施形態の切り出し方法を用いた場合、すなわち、第1切断線SL1の形成後に第4切断線SL4を形成した場合には、第1PET層L2の剥離を240回試行しても、第1PET層L2の剥離に失敗することはなかった。つまり、本実施形態の場合、第1PET層L2の剥離の失敗率は0%であった。   On the other hand, when the above-described cutting method of the present embodiment is used, that is, when the fourth cutting line SL4 is formed after the formation of the first cutting line SL1, the peeling of the first PET layer L2 is performed 240 times. Even if it tried, peeling of the first PET layer L2 did not fail. That is, in the case of the present embodiment, the failure rate of the peeling of the first PET layer L2 was 0%.

また、本実施形態においては、多層基板P1の各層を切断する手段を異ならせている。具体的には、PET層及び接着層への切断線(溝)の形成を第1レーザ光LA1の照射により実行している。接続部d1のX方向に延びる辺以外の3辺に対応する切断線のPI層L1への形成をスクライブホイールSWにより実行している。さらに、接続部d1のX方向に延びる辺に対応する切断線のPI層L1への形成を第2レーザ光LA2への照射により実行している。
これにより、PET層及びPI層に最適な切断線の形成方法により、効率よく切断線を形成できる。
In the present embodiment, means for cutting each layer of the multilayer substrate P1 is different. Specifically, the formation of the cutting line (groove) in the PET layer and the adhesive layer is performed by irradiating the first laser beam LA1. The cutting lines corresponding to the three sides other than the side extending in the X direction of the connection portion d1 are formed on the PI layer L1 by the scribe wheel SW. Further, formation of a cutting line corresponding to a side extending in the X direction of the connection portion d1 on the PI layer L1 is performed by irradiating the second laser beam LA2.
Thereby, the cutting line can be efficiently formed by the method of forming the cutting line most suitable for the PET layer and the PI layer.

2.他の実施形態
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。特に、本明細書に書かれた複数の実施形態及び変形例は必要に応じて任意に組み合せ可能である。
PI層L1に形成されるデバイスはOLED層dに限られず、他のフレキシブルなデバイスをPI層L1に形成した場合でも、上記の基板小片SP1の切り出し方法を使用できる。
2. Other Embodiments One embodiment of the present invention has been described above, but the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. In particular, a plurality of embodiments and modifications described in this specification can be arbitrarily combined as needed.
The device formed in the PI layer L1 is not limited to the OLED layer d. Even when another flexible device is formed in the PI layer L1, the above-described method for cutting out the substrate small piece SP1 can be used.

上記において、多層基板P1は3つの層(PI層L1、第1PET層L2、第2PET層L3)を有していたが、2層を有する基板、及び、4層以上の層を有する基板に対しても、上記の切断方法を適用できる。
多層基板P1及び/又は基板小片SP1の形状は、特に限定されない。
In the above description, the multilayer substrate P1 has three layers (the PI layer L1, the first PET layer L2, and the second PET layer L3). However, the multilayer substrate P1 has two layers and a substrate having four or more layers. However, the above cutting method can be applied.
The shape of the multilayer substrate P1 and / or the substrate piece SP1 is not particularly limited.

切断装置5及び/又は剥離装置7の構成は、上記の実施形態にて説明した構成に限定されない。例えば、切断装置5の機械駆動系55は、加工テーブル55B及び移動装置55Cを回転させる機構を有していてもよい。   The configuration of the cutting device 5 and / or the peeling device 7 is not limited to the configuration described in the above embodiment. For example, the mechanical drive system 55 of the cutting device 5 may have a mechanism for rotating the processing table 55B and the moving device 55C.

移動装置55Cは、多層基板P1を一方向に直線的に移動させることに限られず、水平方向において任意の方向に移動可能となっていてもよい。この場合、移動装置55Cは、多層基板P1を回転させることなく、多層基板P1をX方向及びY方向の両方に移動可能となっていてもよい。
これにより、移動装置55Cによる移動のみで、多層基板P1のX方向及びY方向の両方に第1切断線形成手段51及び第2切断線形成手段53を走査できる。
The moving device 55C is not limited to linearly moving the multilayer substrate P1 in one direction, but may be movable in any horizontal direction. In this case, the moving device 55C may be capable of moving the multilayer substrate P1 in both the X direction and the Y direction without rotating the multilayer substrate P1.
Accordingly, the first cutting line forming means 51 and the second cutting line forming means 53 can be scanned in both the X direction and the Y direction of the multilayer substrate P1 only by the movement of the moving device 55C.

本発明は、多層基板からの基板小片の切り出しに広く適用できる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be widely applied to cutting out a small piece of a substrate from a multilayer substrate.

1 切出装置
3 搬送装置
5 切断装置
51 第1切断線形成手段
51A 第1レーザ装置
LA1 第1レーザ光
51B スクライブホイール切断装置
SW スクライブホイール
53 第2切断線形成手段
LA2 第2レーザ光
55 機械駆動系
55A ベッド
55B 加工テーブル
55C 移動装置
57 制御部
7 剥離装置
71 テーブル
73 粘着テープ
73A 送出ボビン
73B 巻取ボビン
75 加圧ローラ
P1 多層基板
SP1 基板小片
d OLED層
d1 接続部
L1 PI層
L2 第1PET層
L3 第2PET層
L4 第1接着層
L5 第2接着層
SL1 第1切断線
SL2 第2切断線
SL3 第3切断線
SL4 第4切断線
G1 第1溝
G2 第2溝
G3 第3溝
G4 第4溝
G5 第5溝
PS1 第1PI切断線
PS2 第2PI切断線
PS3 第3PI切断線
θ 開口角度
REFERENCE SIGNS LIST 1 cutout device 3 transfer device 5 cutting device 51 first cutting line forming means 51A first laser device LA1 first laser beam 51B scribe wheel cutting device SW scribe wheel 53 second cutting line forming device LA2 second laser beam 55 mechanical drive System 55A Bed 55B Processing table 55C Moving device 57 Control unit 7 Peeling device 71 Table 73 Adhesive tape 73A Feeding bobbin 73B Winding bobbin 75 Pressure roller P1 Multilayer substrate SP1 Substrate d d OLED layer d1 Connection part L1 PI layer L2 First PET layer L3 Second PET layer L4 First adhesive layer L5 Second adhesive layer SL1 First cutting line SL2 Second cutting line SL3 Third cutting line SL4 Fourth cutting line G1 First groove G2 Second groove G3 Third groove G4 Fourth groove G5 Fifth groove PS1 First PI cutting line PS2 Second PI cutting line PS3 Third PI cutting line θ Opening angle

Claims (8)

第1PET層、PI層、第2PET層、前記第1PET層を前記PI層に接着する第1接着層、前記第2PET層を前記PI層に接着する第2接着層からなる多層基板から、第1方向及び第2方向に延び、前記第1方向の一端において前記第1PET層が剥離された基板小片を切り出す方法であって、
前記第1方向に沿って延びる複数の第1切断線を、前記基板小片の前記第2方向の幅に相当する間隔を空けて前記多層基板に形成する第1切断線形成ステップと、
前記第1切断線形成ステップの後に、前記第2方向に沿って延び、前記基板小片の前記第1方向の一端から前記第1PET層を剥離するためのピーリング切断線を形成するピーリング切断線形成ステップと、
を備える、切り出し方法。
From a multilayer substrate comprising a first PET layer, a PI layer, a second PET layer, a first adhesive layer for bonding the first PET layer to the PI layer, and a second adhesive layer for bonding the second PET layer to the PI layer, A method of cutting out a substrate piece extending in a first direction and a second direction, wherein the first PET layer is peeled off at one end in the first direction,
A first cutting line forming step of forming a plurality of first cutting lines extending along the first direction on the multilayer substrate at intervals corresponding to the width of the substrate piece in the second direction;
Forming a peeling cut line extending along the second direction and forming a peeling cut line for peeling the first PET layer from one end of the substrate piece in the first direction after the first cutting line forming step; When,
A cutting method comprising:
前記第1切断線形成ステップの後に、前記第2方向に沿って延びる第2切断線を、前記基板小片の前記第1PET層が剥離される側とは反対側の辺に相当する前記多層基板の箇所に形成する第2切断線形成ステップと、
前記第2切断線形成ステップの後に、前記第2方向に沿って延びる第3切断線を、前記基板小片の前記第1PET層が剥離される側の辺に相当する前記多層基板の箇所に形成する第3切断線形成ステップと、
をさらに備える、請求項1に記載の切り出し方法。
After the first cutting line forming step, a second cutting line extending in the second direction is formed on the multi-layer substrate corresponding to a side of the substrate piece opposite to a side on which the first PET layer is peeled off. Forming a second cutting line at a location;
After the second cutting line forming step, a third cutting line extending in the second direction is formed at a position of the multilayer substrate corresponding to a side of the substrate piece on which the first PET layer is peeled. A third cutting line forming step;
The clipping method according to claim 1, further comprising:
前記第1切断線、前記第2切断線、及び前記第3切断線は、前記第1PET層及び前記第1接着層に形成された溝と、前記PI層に形成されたPI切断線と、を有し、
第1レーザ光の照射により、前記第2PET層及び前記第2接着層の前記第1切断線を形成した位置に対応する位置に、第4溝を形成するステップと、
前記第1レーザ光の照射により、前記第2PET層及び前記第2接着層の前記第2切断線を及び前記第3切断線を形成した位置に対応する位置に、第5溝を形成するステップと、
をさらに備える、請求項2に記載の切り出し方法。
The first cutting line, the second cutting line, and the third cutting line include a groove formed in the first PET layer and the first adhesive layer, and a PI cutting line formed in the PI layer. Have
Forming a fourth groove at a position corresponding to the position where the first cutting line of the second PET layer and the second adhesive layer is formed by irradiating the first laser beam;
Forming a fifth groove at a position corresponding to the position where the second cutting line and the third cutting line of the second PET layer and the second adhesive layer are formed by the irradiation of the first laser light; ,
The clipping method according to claim 2, further comprising:
前記第1切断線形成ステップは、
前記第1レーザ光の照射により、前記第1PET層及び前記第1接着層の前記第1切断線を形成する位置に第1溝を形成するステップと、
ホイール切断手段を前記第1溝に通しながら、前記PI層に第1PI切断線を形成するステップと、
を有する、請求項3に記載の切り出し方法。
The first cutting line forming step includes:
Forming a first groove in the first PET layer and the first adhesive layer at a position where the first cutting line is formed by irradiating the first laser beam;
Forming a first PI cutting line in the PI layer while passing a wheel cutting means through the first groove;
The cutting method according to claim 3, comprising:
前記第2切断線形成ステップは、
前記第1レーザ光の照射により、前記第1PET層及び前記第1接着層の前記第2切断線を形成する位置に第2溝を形成するステップと、
前記第1レーザ光の照射により、前記第1PET層及び前記第1接着層に、前記ピーリング切断線を形成するステップと、
ホイール切断手段を前記第2溝に通しながら、前記PI層に第2PI切断線を形成するステップと、
を有する、請求項3又は4に記載の切り出し方法。
The second cutting line forming step includes:
Forming a second groove in the first PET layer and the first adhesive layer at a position where the second cutting line is formed by irradiating the first laser beam;
Forming the peeling cut line on the first PET layer and the first adhesive layer by irradiating the first laser beam;
Forming a second PI cutting line in the PI layer while passing a wheel cutting means through the second groove;
The clipping method according to claim 3, comprising:
前記第3切断線形成ステップは、
前記第1レーザ光の照射により、前記第1PET層及び前記第1接着層の前記第3切断線を形成する位置に第3溝を形成するステップと、
第2レーザ光を前記第3溝を通して照射することにより、前記PI層に第3PI切断線を形成するステップと、
を有する、請求項3〜5のいずれかに記載の切り出し方法。
The third cutting line forming step includes:
Forming a third groove in the first PET layer and the first adhesive layer at a position where the third cutting line is formed by irradiating the first laser beam;
Irradiating a second laser beam through the third groove to form a third PI cutting line in the PI layer;
The cutting method according to any one of claims 3 to 5, comprising:
前記ピーリング切断線形成ステップは、第1レーザ光の照射により、前記第1PET層及び前記第1接着層に前記ピーリング切断線に対応する溝を形成するステップを備える、請求項1〜6のいずれかに記載の切り出し方法。   The peeling cutting line forming step includes a step of forming a groove corresponding to the peeling cutting line in the first PET layer and the first adhesive layer by irradiating a first laser beam. Cutting method described in 1. 第1PET層、PI層、第2PET層、前記第1PET層を前記PI層に接着する第1接着層、前記第2PET層を前記PI層に接着する第2接着層からなる多層基板から、第1方向及び第2方向に延び、前記第1方向の一端において前記第1PET層が剥離された基板小片を切り出す切出装置であって、
前記第1方向に沿って延びる複数の第1切断線を、前記基板小片の前記第2方向の幅に相当する間隔を空けて前記多層基板に形成し、その後、前記第2方向に沿って延び、前記基板小片の前記第1方向の一端から前記第1PET層を剥離するためのピーリング切断線を形成する第1切断線形成手段を備える、切出装置。
From a multilayer substrate comprising a first PET layer, a PI layer, a second PET layer, a first adhesive layer for bonding the first PET layer to the PI layer, and a second adhesive layer for bonding the second PET layer to the PI layer, A cutting device that cuts out a substrate piece that extends in a first direction and a second direction and has the first PET layer peeled off at one end in the first direction,
A plurality of first cutting lines extending along the first direction are formed on the multilayer substrate at intervals corresponding to the width of the substrate piece in the second direction, and then extend along the second direction. A cutting device, comprising: a first cutting line forming unit that forms a peeling cutting line for peeling the first PET layer from one end of the substrate piece in the first direction.
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