KR20200049473A - Method of manufacturing flexible organic electro luminescence dispaly - Google Patents

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Abstract

Provided is a manufacturing method of a flexible organic electroluminescence (EL) display in which the quality of a resin layer peeled from a glass layer is difficult to deteriorate. The manufacturing method of the flexible organic EL display includes a cutting step of cutting out the unit laminated substrate (70) of a predetermined size from a laminated substrate (60) on which the glass layer (61) and the resin layer (62) are laminated. In the cutting process, the glass layer (61) is cut so that the cut surface (66) of the glass layer (61) of the unit laminated substrate (70) is located outside the cut surface (67) of the resin layer (62).

Description

플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법{METHOD OF MANUFACTURING FLEXIBLE ORGANIC ELECTRO LUMINESCENCE DISPALY}Manufacturing method of flexible organic EL display {METHOD OF MANUFACTURING FLEXIBLE ORGANIC ELECTRO LUMINESCENCE DISPALY}

본 발명은, 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a flexible organic EL display.

유기 EL(electro luminescence) 디스플레이는 발광층, 전극 및, 기판이 적층된 발광 디바이스를 구비한다. 플렉시블 유기 EL 디스플레이에서는, 기판에 플렉시블 기판이 이용된다. 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 공정에서는, 유리층에 수지층이 형성되고 수지층에 발광층 등이 형성된다(예를 들면 특허문헌 1).An organic electroluminescence (EL) display includes a light emitting device in which a light emitting layer, an electrode, and a substrate are stacked. In a flexible organic EL display, a flexible substrate is used for the substrate. In the manufacturing process of a flexible organic EL display, a resin layer is formed on the glass layer, and a light emitting layer or the like is formed on the resin layer (for example, Patent Document 1).

일본재공표특허공보 WO2011/030716호Japanese Patent Publication No. WO2011 / 030716

플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 공정에서는, 발광층 등이 형성된 수지층과 유리층은 박리된다. 박리의 수단은, 예를 들면 레이저 리프트 오프이다. 조사 대상에 대한 레이저의 조사의 상태가, 박리되는 수지층의 품질에 영향을 미치는 경우가 있다.In the manufacturing process of the flexible organic EL display, the resin layer and the glass layer on which the light emitting layer or the like is formed are peeled off. The means of peeling is laser lift off, for example. The state of irradiation of the laser with respect to the irradiation target may affect the quality of the resin layer to be peeled off.

본 발명의 목적은, 유리층으로부터 박리되는 수지층의 품질이 저하하기 어려운 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a flexible organic EL display in which the quality of the resin layer peeled from the glass layer is difficult to deteriorate.

본 발명에 관한 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법은, 유리층과 수지층이 적층된 적층 기판으로부터 소정 사이즈의 단위 적층 기판을 잘라내는 절단 공정을 포함하고, 상기 절단 공정에서는, 상기 단위 적층 기판의 상기 유리층의 절단면이 상기 수지층의 절단면에 대하여 외측에 위치하도록 상기 유리층을 절단한다.The method for manufacturing a flexible organic EL display according to the present invention includes a cutting step of cutting out a unit stacked substrate of a predetermined size from a stacked substrate on which a glass layer and a resin layer are stacked, and in the cutting step, the The glass layer is cut so that the cut surface of the glass layer is located outside the cut surface of the resin layer.

이 제조 방법에서는, 레이저가 유리층의 절단면의 영향을 받는 일 없이 수지층에 조사된다. 수지층에 적절히 레이저가 조사되기 때문에, 유리층으로부터 박리되는 수지층의 품질이 저하하기 어렵다.In this manufacturing method, the laser is irradiated onto the resin layer without being affected by the cut surface of the glass layer. Since the resin layer is properly irradiated with a laser, the quality of the resin layer peeled from the glass layer is difficult to deteriorate.

상기 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 일 예로는, 상기 유리층은, 상기 수지층이 형성되는 제1 평면 및, 상기 제1 평면과 쌍을 이루는 제2 평면을 포함하고, 상기 절단 공정에서는, 상기 제2 평면으로부터 상기 제1 평면으로 향함에 따라 상기 유리층의 폭이 좁아지는 절단면이 형성되도록 상기 유리층을 절단한다.As an example of a method of manufacturing the flexible organic EL display, the glass layer includes a first plane on which the resin layer is formed, and a second plane paired with the first plane, and in the cutting step, the The glass layer is cut so as to form a cut surface in which the width of the glass layer is narrowed from the second plane to the first plane.

수직면에 대하여 평행한 절단면의 형성을 의도하여 유리층을 절단한 경우라도 제조 오차에 의해 절단면이 수직면에 대하여 경사지는 경우가 있다. 이러한 절단면의 형성을 정확하게 관리하는 것에는 곤란을 수반한다. 상기 제조 방법에서는, 경사진 절단면의 형성을 의도하여 유리층을 절단하기 때문에, 제조 오차의 영향을 고려해도 의도한 방향과는 상이한 방향으로 경사진 절단면이 형성되기 어렵다.Even when the glass layer is cut with the intention of forming a cut surface parallel to the vertical surface, the cut surface may be inclined with respect to the vertical surface due to manufacturing errors. It is difficult to accurately manage the formation of such cut surfaces. In the above manufacturing method, since the glass layer is cut with the intention of forming an inclined cut surface, it is difficult to form an inclined cut surface in a direction different from the intended direction even if the effect of manufacturing error is considered.

상기 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 일 예로는, 상기 절단 공정에서는, 상기 제2 평면으로부터 상기 제1 평면으로 향함에 따라 상기 유리층의 폭이 좁아지는 스크라이브 라인이 형성되도록 상기 유리층을 스크라이브하고, 스크라이브된 상기 유리층을 브레이크한다.As an example of a method of manufacturing the flexible organic EL display, in the cutting step, the glass layer is scribed to form a scribe line in which the width of the glass layer is narrowed toward the first plane from the second plane. , Break the scribed glass layer.

이 제조 방법에서는, 수지층의 절단면에 대하여 외측에 위치하는 유리층의 절단면을 효율적으로 형성할 수 있다.In this manufacturing method, the cut surface of the glass layer positioned outside the cut surface of the resin layer can be efficiently formed.

상기 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 일 예로는, 상기 절단 공정에서는, 회전 중심면에 대하여 비대칭인 형상의 날끝부를 갖는 스크라이빙 휠을 이용하여 상기 유리층을 스크라이브한다.As an example of a method of manufacturing the flexible organic EL display, in the cutting step, the glass layer is scribed using a scribing wheel having a blade end having an asymmetric shape with respect to a rotational center surface.

이 제조 방법에서는, 수직면에 대하여 경사지는 유리층의 절단면의 형상이 날끝부의 형상에 의해 규정되고, 유리층을 용이하게 절단할 수 있다.In this manufacturing method, the shape of the cut surface of the glass layer inclined with respect to the vertical surface is defined by the shape of the blade end portion, and the glass layer can be easily cut.

상기 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 일 예로는, 레이저 리프트 오프에 의해 상기 단위 적층 기판의 상기 유리층과 상기 수지층을 박리하는 박리 공정을 추가로 포함한다.An example of a method of manufacturing the flexible organic EL display further includes a peeling step of peeling the glass layer and the resin layer of the unit stacked substrate by laser lift-off.

이 제조 방법에 의하면, 수지층과 유리층을 효율적으로 박리할 수 있다.According to this manufacturing method, a resin layer and a glass layer can be peeled efficiently.

상기 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 일 예로는, 상기 절단 공정에서는, 복수의 상기 적층 기판을 구비하고, 상기 복수의 적층 기판은 제1 유리층과 제1 수지층이 적층된 제1 적층 기판 및, 제2 유리층과 제2 수지층이 적층된 제2 적층 기판을 포함하고, 상기 제1 수지층과 상기 제2 수지층이 대향하도록 적층된 다층 적층 기판으로부터 단위 적층 기판을 잘라낸다.As an example of a method of manufacturing the flexible organic EL display, in the cutting step, a plurality of the laminated substrates are provided, and the plurality of laminated substrates include a first laminated substrate in which a first glass layer and a first resin layer are stacked, and , A second laminated substrate on which a second glass layer and a second resin layer are stacked, and the unit laminated substrate is cut out from the multilayer laminated substrate stacked so that the first resin layer and the second resin layer face each other.

이 제조 방법에서는, 단위 적층 기판을 잘라내는 근원이 되는 적층 기판이 다층 적층 기판인 경우에도, 레이저가 유리층의 절단면의 영향을 받는 일 없이 수지층에 조사되고, 유리층으로부터 박리되는 수지층의 품질이 저하하기 어렵다.In this manufacturing method, even when the laminated substrate serving as a source for cutting out the unit laminated substrate is a multilayer laminated substrate, the laser is irradiated to the resin layer without being affected by the cut surface of the glass layer, and the resin layer peeled from the glass layer. Quality is difficult to deteriorate.

본 발명에 의하면, 유리층으로부터 박리되는 수지층의 품질이 저하하기 어려워진다.According to the present invention, the quality of the resin layer peeled from the glass layer is difficult to deteriorate.

도 1은 제1 실시 형태의 제조 방법에 관한 다층 적층 기판의 단면도이다.
도 2는 도 1의 다층 적층 기판의 평면도이다.
도 3은 레이저 가공 장치의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 4는 스크라이브 가공 장치의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 5는 스크라이빙 휠의 단면도이다.
도 6은 제1 실시 형태의 제조 방법을 나타내는 플로우 차트이다.
도 7은 후단(後段) 가공 공정의 가공 순번과 가공 종류의 관계를 나타내는 도면이다.
도 8은 레이저 가공 장치의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 9는 단위 적층 기판의 일 예의 단면도이다.
도 10은 박리 공정의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 11은 제2 실시 형태의 제조 방법에 관한 다층 적층 기판의 단면도이다.
도 12는 제2 실시 형태의 제조 방법을 나타내는 플로우 차트이다.
도 13은 절단 공정의 가공 순번과 가공 종류의 관계를 나타내는 도면이다.
도 14는 박리 공정의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 15는 변형예의 제조 방법에 관한 다층 적층 기판의 단면도이다.
1 is a cross-sectional view of a multi-layer laminated substrate according to the manufacturing method of the first embodiment.
FIG. 2 is a plan view of the multilayer laminated substrate of FIG. 1.
3 is a schematic view showing the configuration of a laser processing apparatus.
4 is a schematic view showing the configuration of a scribe processing apparatus.
5 is a cross-sectional view of the scribing wheel.
6 is a flow chart showing the manufacturing method of the first embodiment.
7 is a view showing a relationship between a processing sequence number and a processing type in a post-processing process.
8 is a schematic view showing the configuration of a laser processing apparatus.
9 is a cross-sectional view of an example of a unit laminated substrate.
10 is a view showing an example of a peeling process.
11 is a cross-sectional view of a multi-layer laminated substrate according to the manufacturing method of the second embodiment.
12 is a flow chart showing the manufacturing method of the second embodiment.
13 is a view showing the relationship between the processing sequence number and the processing type of the cutting process.
14 is a view showing an example of a peeling process.
15 is a cross-sectional view of a multi-layer laminated substrate according to a manufacturing method of a modified example.

(발명을 실시하기 위한 형태)(Form for carrying out the invention)

(제1 실시 형태)(First embodiment)

도면을 참조하여 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법에 대해서 설명한다. 플렉시블 유기 EL 디스플레이는, 거치형의 기기 및 휴대 기기 등에 이용된다. 거치형의 기기의 일 예는, 퍼스널 컴퓨터 및 텔레비전 수상기이다. 휴대 기기의 일 예는, 휴대 정보 단말, 웨어러블 컴퓨터 및, 노트형 퍼스널 컴퓨터이다. 휴대 정보 단말의 일 예는 스마트폰, 태블릿 및, 휴대 게임기이다. 웨어러블 컴퓨터의 일 예는, 헤드 마운트 디스플레이 및 스마트 워치이다.A method of manufacturing a flexible organic EL display will be described with reference to the drawings. The flexible organic EL display is used in stationary devices and portable devices. Examples of stationary devices are personal computers and television receivers. Examples of portable devices are portable information terminals, wearable computers, and notebook personal computers. An example of a portable information terminal is a smart phone, a tablet, and a portable game machine. One example of a wearable computer is a head mounted display and a smart watch.

플렉시블 유기 EL 디스플레이는, 발광층, 전극 및, 기판이 적층된 발광 디바이스와, 발광 디바이스를 한쪽으로부터 덮는 제1 보호 필름과, 발광 디바이스를 다른 한쪽으로부터 덮는 제2 보호 필름을 갖는다. 제1 보호 필름 및 제2 보호 필름은 각각, 예를 들면 PET(polyethylene terephthalate)가 이용된다. 또한, 제1 보호 필름 및 제2 보호 필름의 한쪽은 생략해도 좋다. 발광 디바이스의 제조 공정에서는, 도 1에 나타나는 1매의 다층 적층 기판(10)으로부터 복수의 발광 디바이스가 제조된다.The flexible organic EL display has a light emitting device in which a light emitting layer, an electrode, and a substrate are stacked, a first protective film covering the light emitting device from one side, and a second protective film covering the light emitting device from the other side. Each of the first protective film and the second protective film is, for example, PET (polyethylene terephthalate). Further, one of the first protective film and the second protective film may be omitted. In the manufacturing process of the light emitting device, a plurality of light emitting devices are manufactured from a single multilayer laminated substrate 10 shown in FIG. 1.

다층 적층 기판(10)은, 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조의 도중 단계에서 제조된다. 다층 적층 기판(10)은, 제1 유리층(11A)과 제1 수지층(11B)이 적층된 제1 적층 기판(11)과, 제2 유리층(12A)과 제2 수지층(12B)이 적층된 제2 적층 기판(12)을 갖는다. 다층 적층 기판(10)은, 제1 수지층(11B)과 제2 수지층(12B)이 대향하도록 제1 적층 기판(11)과 제2 적층 기판(12)이 적층되어 구성되어 있다. 다층 적층 기판(10)은, 도전층(13)을 추가로 갖는다. 도전층(13)은, 예를 들면 제1 적층 기판(11)의 제1 수지층(11B) 상에 형성되어 있다. 도전층(13)은, 제1 수지층(11B)과 제2 수지층(12B)의 사이에 끼워져 있다. 도전층(13)은, OLED(Organic Light Diode), TFT(Thin Film Transistor) 등의 전자 디바이스용 부재가 형성되어 있다. 제1 수지층(11B), 도전층(13) 및, 제2 수지층(12B)은, 발광 디바이스를 구성하고 있다.The multi-layered laminated substrate 10 is produced in the middle of the production of a flexible organic EL display. The multilayer laminated substrate 10 includes a first laminated substrate 11 on which the first glass layer 11A and the first resin layer 11B are stacked, and a second glass layer 12A and the second resin layer 12B. This laminated second laminated substrate 12 is provided. The multilayer laminated substrate 10 is configured by stacking the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 so that the first resin layer 11B and the second resin layer 12B face each other. The multilayer laminated substrate 10 further includes a conductive layer 13. The conductive layer 13 is formed on the first resin layer 11B of the first laminated substrate 11, for example. The conductive layer 13 is sandwiched between the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. The conductive layer 13 is formed of a member for an electronic device such as an organic light diode (OLED) or a thin film transistor (TFT). The first resin layer 11B, the conductive layer 13, and the second resin layer 12B constitute a light emitting device.

제1 적층 기판(11)의 제1 유리층(11A)과 제2 적층 기판(12)의 제2 유리층(12A)은 동일한 재료가 이용되고, 동일한 사이즈로 형성되어 있다. 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 조성은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 알칼리 금속 산화물을 함유하는 유리, 또는 무알칼리 유리 등의 여러 가지 조성의 유리를 이용할 수 있다. 알칼리 금속 산화물을 함유하는 유리의 일 예는, 소다 라임 유리이다. 본 실시 형태에서는, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)은, 무알칼리 유리가 이용된다. 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 두께는 각각, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 0.5㎜ 정도인 것이 바람직하다. 제1 유리층(11A)은, 제1 수지층(11B)이 형성되는 제1 평면(14A) 및, 제1 평면(14A)과 쌍을 이루는 제2 평면(14B)을 갖는다. 제2 유리층(12A)은, 제2 수지층(12B)이 형성되는 제1 평면(15A) 및, 제1 평면(15A)과 쌍을 이루는 제2 평면(15B)을 갖는다.The first glass layer 11A of the first laminated substrate 11 and the second glass layer 12A of the second laminated substrate 12 are made of the same material and are formed in the same size. Although the composition of the 1st glass layer 11A and the 2nd glass layer 12A is not specifically limited, Glass of various compositions, such as glass containing alkali metal oxide, or alkali free glass, can be used, for example. . One example of a glass containing an alkali metal oxide is soda lime glass. In the present embodiment, alkali-free glass is used for the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. Although the thickness of the 1st glass layer 11A and the 2nd glass layer 12A is not specifically limited respectively, It is preferable that it is about 0.5 mm, for example. The first glass layer 11A has a first plane 14A on which the first resin layer 11B is formed, and a second plane 14B paired with the first plane 14A. The second glass layer 12A has a first plane 15A on which the second resin layer 12B is formed, and a second plane 15B paired with the first plane 15A.

제1 적층 기판(11)의 제1 수지층(11B)과 제2 적층 기판(12)의 제2 수지층(12B)은 동일한 재료가 이용되고, 동일한 사이즈로 형성되어 있다. 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 조성은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 폴리이미드(PI)를 이용할 수 있다. 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 두께는 각각, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 10㎛ 이상 30㎛ 이하의 범위인 것이 바람직하다.The first resin layer 11B of the first laminated substrate 11 and the second resin layer 12B of the second laminated substrate 12 are made of the same material and are formed in the same size. The composition of the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B is not specifically limited, For example, polyimide (PI) can be used. Although the thickness of the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B is not specifically limited, It is preferable that it is 10 micrometers or more and 30 micrometers or less, for example.

도 2는, 다층 적층 기판(10)의 평면도이다.2 is a plan view of the multilayer laminated substrate 10.

도 2의 파선에 의해 나타나는 절단 예정부(16, 17)를 따라 다층 적층 기판(10)을 격자 형상으로 절단함으로써 단위 적층 기판(20)이 형성된다. 단위 적층 기판(20)의 평면에서 볼 때에 있어서의 사이즈는, 평면에서 볼 때에 있어서 발광 디바이스의 미리 결정된 사이즈에 상당한다.The unit stacked substrate 20 is formed by cutting the multilayer stacked substrate 10 in a lattice shape along the cut scheduled portions 16 and 17 indicated by the broken line in FIG. 2. The size of the unit laminated substrate 20 when viewed from the plane corresponds to a predetermined size of the light emitting device when viewed from the plane.

다층 적층 기판(10)의 절단에는, 레이저 가공 장치 및 스크라이브 가공 장치의 적어도 한쪽이 이용된다. 도 3은, 레이저 가공 장치의 구성의 일 예이고, 도 4는, 스크라이브 가공 장치의 구성의 일 예이다. 도 3 및 도 4에 있어서, X축 방향, Y축 방향 및, Z축 방향을 도 3 및 도 4에 나타내는 대로 규정한다. 또한, 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)의 절단에는, 다이싱 가공 장치(도시 생략)를 이용해도 좋다.At least one of a laser processing apparatus and a scribe processing apparatus is used for cutting of the multilayer laminated substrate 10. 3 is an example of the configuration of the laser processing apparatus, and FIG. 4 is an example of the configuration of the scribing processing apparatus. 3 and 4, the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction are defined as shown in Figs. In addition, a dicing processing apparatus (not shown) may be used for cutting the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12.

도 3에 나타나는 바와 같이, 레이저 가공 장치(30)는, 다층 적층 기판(10)을 절단하기 위한 레이저 장치(31)와, 레이저 장치(31)에 대하여 다층 적층 기판(10)을 이동시키기 위한 기계 구동계(32)와, 레이저 장치(31) 및 기계 구동계(32)를 제어하는 제1 제어부(33)를 구비한다.As shown in FIG. 3, the laser processing device 30 includes a laser device 31 for cutting the multilayer laminated substrate 10 and a machine for moving the multilayer laminated substrate 10 relative to the laser device 31. A driving system 32, a laser device 31, and a first control unit 33 for controlling the mechanical driving system 32 are provided.

레이저 장치(31)는, 다층 적층 기판(10)에 있어서의 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)과, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)의 적어도 한쪽을 가공 가능하다. 레이저 장치(31)는, 다층 적층 기판(10)에 레이저광을 조사하기 위한 레이저 발진기(34)와, 레이저광을 기계 구동계(32)에 전송하는 전송 광학계(35)를 갖는다. 레이저 발진기(34)는, 예를 들면 UV(Ultra Violet) 레이저 또는 CO2 레이저이다. 레이저 가공 장치(30)가 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 가공하는 경우, 레이저 발진기(34)는 UV 레이저이다. 레이저 가공 장치(30)가 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)을 가공하는 경우, 레이저 발진기(34)는 CO2 레이저 또는 UV 레이저이다. 전송 광학계(35)는, 예를 들면 집광 렌즈, 복수의 미러, 프리즘, 빔 익스팬더 등으로 구성된다. 또한, 전송 광학계(35)는, 예를 들면 레이저 발진기(34)가 조입된(incorported) 레이저 조사 헤드를 X축 방향으로 이동시키기 위한 X축 방향 이동 기구를 갖는다. 레이저 발진기(34)로부터 조사된 레이저광은, 전송 광학계(35)를 통하여 다층 적층 기판(10)을 향하여 조사된다.The laser device 31 includes at least the first resin layer 11B and the second resin layer 12B and the first glass layer 11A and the second glass layer 12A in the multilayer laminated substrate 10. One side can be processed. The laser device 31 has a laser oscillator 34 for irradiating laser light on the multilayer laminated substrate 10 and a transmission optical system 35 that transmits the laser light to the mechanical drive system 32. The laser oscillator 34 is, for example, a UV (Ultra Violet) laser or a CO 2 laser. When the laser processing device 30 processes the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, the laser oscillator 34 is a UV laser. When the laser processing apparatus 30 processes the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, the laser oscillator 34 is a CO 2 laser or a UV laser. The transmission optical system 35 is composed of, for example, a condenser lens, a plurality of mirrors, a prism, a beam expander, or the like. In addition, the transmission optical system 35 has an X-axis direction movement mechanism for moving the laser irradiation head in which the laser oscillator 34 is embedded, for example, in the X-axis direction. The laser light irradiated from the laser oscillator 34 is irradiated toward the multilayer laminated substrate 10 through the transmission optical system 35.

기계 구동계(32)는, 레이저 장치(31)와 Z축 방향으로 대향하여 배치되어 있다. 기계 구동계(32)는, 베드(36), 가공 테이블(37) 및, 이동 장치(38)로 구성된다. 가공 테이블(37) 상에는, 다층 적층 기판(10)이 올려 놓여진다. 이동 장치(38)는, 가공 테이블(37)을 베드(36)에 대하여 수평 방향(X축 방향 및 Y축 방향)으로 이동시킨다. 이동 장치(38)는, 가이드 레일, 이동 테이블, 모터 등을 갖는 공지의 기구이다.The mechanical drive system 32 is disposed facing the laser device 31 in the Z-axis direction. The mechanical drive system 32 is composed of a bed 36, a processing table 37, and a moving device 38. On the processing table 37, a multilayer laminated substrate 10 is placed. The moving device 38 moves the machining table 37 in the horizontal direction (X-axis direction and Y-axis direction) with respect to the bed 36. The moving device 38 is a known mechanism having a guide rail, a moving table, a motor, and the like.

제1 제어부(33)는, 미리 정해지는 제어 프로그램을 실행하는 연산 처리 장치를 갖는다. 연산 처리 장치는, 예를 들면 CPU(Central Processing Unit) 또는 MPU(Micro Processing Unit)를 갖는다. 제1 제어부(33)는, 1 또는 복수의 마이크로 컴퓨터를 가져도 좋다. 제1 제어부(33)는, 기억부를 추가로 갖는다. 기억부에는, 각종의 제어 프로그램 및 각종의 제어 처리에 이용되는 정보가 기억된다. 기억부는, 예를 들면 불휘발성 메모리 및 휘발성 메모리를 갖는다. 제1 제어부(33)는, 레이저 장치(31)에 형성되어도 좋고, 기계 구동계(32)에 형성되어도 좋고, 레이저 장치(31) 및 기계 구동계(32)와는 별도로 형성되어도 좋다. 제1 제어부(33)가 레이저 장치(31) 및 기계 구동계(32)와는 별도로 형성되는 경우, 제1 제어부(33)의 배치 위치는 임의로 설정 가능하다.The first control unit 33 has an arithmetic processing device that executes a predetermined control program. The arithmetic processing unit has, for example, a CPU (Central Processing Unit) or an MPU (Micro Processing Unit). The first control unit 33 may have one or a plurality of microcomputers. The first control unit 33 further has a storage unit. In the storage unit, information used for various control programs and various control processes is stored. The storage unit has, for example, a nonvolatile memory and a volatile memory. The first control unit 33 may be formed in the laser device 31, may be formed in the machine drive system 32, or may be formed separately from the laser device 31 and the machine drive system 32. When the first control unit 33 is formed separately from the laser device 31 and the mechanical drive system 32, the arrangement position of the first control unit 33 can be arbitrarily set.

도 4에 나타나는 바와 같이, 스크라이브 가공 장치(40)는, 스크라이빙 휠(50)과 다층 적층 기판(10)이 X축 방향 및 Y축 방향으로 상대적으로 이동함으로써 다층 적층 기판(10)에 X축 방향 및 Y축 방향을 따르는 스크라이브 라인을 형성한다. 스크라이브 가공 장치(40)는, 다층 적층 기판(10)을 가공하기 위한 가공 장치(41)와, 다층 적층 기판(10)을 반송하기 위한 반송 장치(42)와, 가공 장치(41) 및 반송 장치(42)를 제어하는 제2 제어부(43)를 구비한다.As shown in FIG. 4, the scribe processing apparatus 40 is X on the multi-layer laminated substrate 10 as the scribing wheel 50 and the multi-layer laminated substrate 10 move relatively in the X-axis direction and the Y-axis direction. A scribe line along the axial direction and the Y-axis direction is formed. The scribing processing device 40 includes a processing device 41 for processing the multilayer laminated substrate 10, a transport device 42 for transporting the multilayer laminated substrate 10, a processing device 41 and a transport device It is equipped with the 2nd control part 43 which controls 42.

반송 장치(42)는, 한 쌍의 레일(44), 테이블(45), 직진 구동 장치(46), 회전 장치(47) 등으로 구성된다. 한 쌍의 레일(44)은, Y축 방향을 따라 연장되어 있다. 도 4의 스크라이브 가공 장치(40)에서는, 스크라이브 가공 장치(40)의 베이스(도시 생략)에 한 쌍의 레일(44)이 배치되고, 직진 구동 장치(46)에 의해 테이블(45)이 한 쌍의 레일(44)을 따라 왕복 이동하고, 회전 장치(47)에 의해 테이블(45)이 중심축(C) 주위를 회전한다. 테이블(45)에는, 다층 적층 기판(10)이 올려 놓여진다. 직진 구동 장치(46)의 일 예는, 이송 나사 장치를 갖는다. 회전 장치(47)는, 구동원이 되는 모터를 갖는다.The conveying device 42 is composed of a pair of rails 44, a table 45, a straight drive device 46, a rotating device 47, and the like. The pair of rails 44 extend along the Y-axis direction. In the scribe processing apparatus 40 of Fig. 4, a pair of rails 44 are arranged on the base (not shown) of the scribing processing apparatus 40, and the table 45 is paired by the straight drive device 46. It reciprocates along the rail 44 of the table, and the table 45 is rotated around the central axis C by the rotation device 47. On the table 45, a multi-layer laminated substrate 10 is placed. An example of the straight drive device 46 has a feed screw device. The rotating device 47 has a motor serving as a driving source.

가공 장치(41)는, 가로 구동 장치(48), 세로 구동 장치(49) 및, 스크라이빙 휠(50) 등으로 구성된다. 스크라이빙 휠(50)은, 스크라이빙 휠(50)을 보유지지(保持)하기 위한 홀더 유닛에 부착된다. 홀더 유닛은, 홀더 유닛을 보유지지하기 위한 스크라이브 헤드에 부착된다. 스크라이브 헤드는, 가로 구동 장치(48)에 의해 X축 방향으로 이동하고, 세로 구동 장치(49)에 의해 Z축 방향으로 이동한다. 스크라이빙 휠(50)이 X축 방향으로 이동함으로써, 다층 적층 기판(10)에 X축 방향을 따르는 스크라이브 라인을 형성한다.The processing device 41 is composed of a horizontal driving device 48, a vertical driving device 49, a scribing wheel 50, and the like. The scribing wheel 50 is attached to a holder unit for holding the scribing wheel 50. The holder unit is attached to a scribe head for holding the holder unit. The scribe head moves in the X-axis direction by the horizontal drive device 48, and moves in the Z-axis direction by the vertical drive device 49. As the scribing wheel 50 moves in the X-axis direction, a scribe line along the X-axis direction is formed on the multi-layer laminated substrate 10.

스크라이빙 휠(50)은, 홀더 유닛에 부착되는 핀(도시 생략)으로 회전 가능하게 지지된다. 스크라이빙 휠(50)을 구성하는 재료의 일 예는, 소결 다이아몬드(Poly Crystalline Diamond), 초경 금속, 단결정 다이아몬드 및, 다결정 다이아몬드이다. 스크라이빙 휠(50)은, 예를 들면 도 5(a)에 나타나는 형상의 스크라이빙 휠(50A) 및, 도 5(b)에 나타나는 형상의 스크라이빙 휠(50B) 중 어느 하나를 이용할 수 있다.The scribing wheel 50 is rotatably supported by a pin (not shown) attached to the holder unit. Examples of materials constituting the scribing wheel 50 are sintered diamond (Poly Crystalline Diamond), cemented metal, single crystal diamond, and polycrystalline diamond. The scribing wheel 50 is, for example, any one of the scribing wheel 50A of the shape shown in Fig. 5 (a) and the scribing wheel 50B of the shape shown in Fig. 5 (b). Can be used.

도 5(a)에 나타나는 스크라이빙 휠(50A)은, 원판 형상의 본체부(51)와, 단면 V자 형상의 날끝부(52)로 구성된다. 단면 V자 형상이란, 스크라이빙 휠(50A)의 두께 방향(이하 「두께 방향(DT)」)을 따르는 평면에서 스크라이빙 휠(50A)을 자른 단면에 있어서, 스크라이빙 휠(50A)의 외주연을 향하여 끝이 가늘어지는 형상이다.The scribing wheel 50A shown in Fig. 5 (a) is composed of a disk-shaped main body portion 51 and a cross-section V-shaped blade end portion 52. The cross-section V-shape is a scribing wheel 50A in a cross section in which the scribing wheel 50A is cut in a plane along the thickness direction (hereinafter “thickness direction (DT)”) of the scribing wheel 50A. It has a tapered shape toward the outer periphery of.

본체부(51)의 중심부에는, 본체부(51)를 두께 방향(DT)으로 관통하는 삽입 구멍(53)이 형성된다. 삽입 구멍(53)에는 핀이 삽입된다.In the central portion of the body portion 51, an insertion hole 53 is formed through the body portion 51 in the thickness direction DT. A pin is inserted into the insertion hole 53.

날끝부(52)는, 단면 V자 형상을 형성하는 2개의 경사면인 제1 경사면(52A) 및 제2 경사면(52B)을 갖는다. 제1 경사면(52A) 및 제2 경사면(52B)은, 스크라이빙 휠(50A)의 두께 방향(DT)의 중심이며, 두께 방향(DT)에 직교하는 회전 중심면(RC)에 대하여 대칭이다.The blade end portion 52 has a first inclined surface 52A and a second inclined surface 52B, which are two inclined surfaces forming a V-shaped cross section. The first inclined surface 52A and the second inclined surface 52B are the center of the thickness direction DT of the scribing wheel 50A, and are symmetrical with respect to the rotational center surface RC orthogonal to the thickness direction DT. .

도 5(b)에 나타나는 스크라이빙 휠(50B)은, 스크라이빙 휠(50A)과 비교하여, 날끝부(52)의 형상이 상이하다. 스크라이빙 휠(50B)의 날끝부(52)에 있어서의 제1 경사면(52A) 및 제2 경사면(52B)은, 회전 중심면(RC)에 대하여 비대칭이다. 보다 상세하게는, 두께 방향을 따르는 스크라이빙 휠(50B)의 단면에 있어서, 스크라이빙 휠(50B)의 지름 방향에 평행한 선분(L1)과 제1 경사면(52A)이 이루는 제1 각도(θ1)는, 선분(L1)과 제2 경사면(52B)이 이루는 제2 각도(θ2)보다도 크다. 또한, 회전 중심면(RC)에 대하여 선분(L1)을 따르는 방향에 있어서의 날끝부(52)의 선단의 위치가 어긋나 있으면, 제1 각도(θ1)는, 제2 각도(θ2)와 동일해도 좋다.The scribing wheel 50B shown in FIG. 5 (b) has a different shape of the blade end 52 as compared with the scribing wheel 50A. The first inclined surface 52A and the second inclined surface 52B at the blade end portion 52 of the scribing wheel 50B are asymmetrical with respect to the rotational center surface RC. More specifically, in the cross section of the scribing wheel 50B along the thickness direction, the first angle formed by the line segment L1 and the first inclined surface 52A parallel to the radial direction of the scribing wheel 50B. (θ1) is greater than the second angle θ2 formed by the line segment L1 and the second inclined surface 52B. Further, if the position of the tip end of the blade end 52 in the direction along the line segment L1 with respect to the rotational center surface RC is misaligned, the first angle θ1 may be the same as the second angle θ2 good.

제2 제어부(43)는, 미리 정해지는 제어 프로그램을 실행하는 연산 처리 장치를 갖는다. 연산 처리 장치는, 예를 들면 CPU 또는 MPU를 갖는다. 제2 제어부(43)는, 1 또는 복수의 마이크로 컴퓨터를 가져도 좋다. 제2 제어부(43)는, 기억부를 추가로 갖는다. 기억부에는, 각종의 제어 프로그램 및 각종의 제어 처리에 이용되는 정보가 기억된다. 기억부는, 예를 들면 불휘발성 메모리 및 휘발성 메모리를 갖는다. 제2 제어부(43)는, 가공 장치(41)에 형성되어도 좋고, 반송 장치(42)에 형성되어도 좋고, 가공 장치(41) 및 반송 장치(42)와는 별도로 형성되어도 좋다. 제2 제어부(43)가 가공 장치(41) 및 반송 장치(42)와는 별도로 형성되는 경우, 제2 제어부(43)의 배치 위치는 임의로 설정 가능하다.The second control unit 43 has an arithmetic processing device that executes a predetermined control program. The arithmetic processing unit has, for example, a CPU or an MPU. The second control unit 43 may have one or a plurality of microcomputers. The second control unit 43 further has a storage unit. In the storage unit, information used for various control programs and various control processes is stored. The storage unit has, for example, a nonvolatile memory and a volatile memory. The 2nd control part 43 may be provided in the processing apparatus 41, may be provided in the conveying apparatus 42, or may be formed separately from the processing apparatus 41 and the conveying apparatus 42. When the second control part 43 is formed separately from the processing device 41 and the transfer device 42, the arrangement position of the second control part 43 can be set arbitrarily.

〔플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법〕(Method of manufacturing flexible organic EL display)

다음으로, 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 상세에 대해서 설명한다. 도 6은, 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법의 공정의 일 예를 나타낸다.Next, details of the manufacturing method of the flexible organic EL display will be described. 6 shows an example of a process of a method for manufacturing a flexible organic EL display.

플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법에서는, 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)을 접합하여 다층 적층 기판(10)을 제조 후, 다층 적층 기판(10)을 소정 사이즈로 절단하여 단위 적층 기판(20)을 제조한다. 다음으로, 단위 적층 기판(20)으로부터 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)을 제거함으로써, 발광 디바이스가 제조된다. 그리고, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 제1 보호 필름 및 제2 보호 필름을 부착한다. 이에 따라, 플렉시블 유기 EL 디스플레이가 제조된다.In the method of manufacturing a flexible organic EL display, the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are joined to produce a multilayer laminated substrate 10, and then the multilayer laminated substrate 10 is cut into a predetermined size to unit The laminated substrate 20 is manufactured. Next, the light emitting device is manufactured by removing the first glass layer 11A and the second glass layer 12A from the unit laminated substrate 20. Then, the first protective film and the second protective film are attached to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. Thus, a flexible organic EL display is produced.

도 6에 나타나는 바와 같이, 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법은, 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)을 적층하는 공정보다도 전(前)의 공정인 전단(前段) 공정과, 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)을 적층하는 공정 이후의 공정인 후단 공정으로 구분된다. 전단 공정은, 전단 적층 공정을 포함한다. 전단 적층 공정은, 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)을 제조하는 공정이다. 후단 공정은, 후단 적층 공정, 후단 가공 공정 및, 박리 공정을 포함한다. 후단 적층 공정은, 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)을 적층하여 다층 적층 기판(10)을 제조하는 공정이다. 후단 가공 공정은, 다층 적층 기판(10)의 절단 예정부(16, 17)를 따라 다층 적층 기판(10)을 절단함으로써, 즉 다층 적층 기판(10)을 소정 사이즈로 절단함으로써, 단위 적층 기판(20)을 제조하는 공정이다. 박리 공정은, 레이저 리프트 오프(LLO: Laser Lift Off)에 의해 제1 유리층(11A)과 제1 수지층(11B)을 박리하고, 제2 유리층(12A)과 제2 수지층(12B)을 박리하는 공정이다. 이하, 각 공정의 상세에 대해서 설명한다.As shown in FIG. 6, the manufacturing method of the flexible organic EL display includes a shearing step, which is a step prior to the step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, It is divided into a rear end process, which is a process after the process of stacking the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. The shearing step includes a shearing laminating step. The shear lamination process is a process of manufacturing the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. The rear end step includes a rear end lamination step, a rear end step, and a peeling step. The back-end lamination process is a process of manufacturing the multi-layer laminated substrate 10 by laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. In the post-processing step, the multi-layer laminated substrate 10 is cut along a predetermined cutting portion 16, 17 of the multi-layer laminated substrate 10, that is, by cutting the multi-layer laminated substrate 10 to a predetermined size. 20). In the peeling process, the first glass layer 11A and the first resin layer 11B are separated by laser lift off (LLO), and the second glass layer 12A and the second resin layer 12B are removed. It is a process of peeling. Hereinafter, the detail of each process is demonstrated.

전단 적층 공정에서는, 제1 유리층(11A)의 제1 평면(14A)의 전체에 걸쳐 제1 수지층(11B)을 형성함으로써 제1 적층 기판(11)을 제조하고, 제2 유리층(12A)의 제1 평면(15A)의 전체에 걸쳐 제2 수지층(12B)을 형성함으로써 제2 적층 기판(12)을 제조한다. 제1 유리층(11A)의 제1 평면(14A)으로의 제1 수지층(11B)의 형성 방법 및, 제2 유리층(12A)의 제1 평면(15A)으로의 제2 수지층(12B)의 형성 방법은 각각, 유리층에 수지층을 도포하는 방법, 또는, 유리층에 접착층을 통하여 수지층을 라미네이트하는 방법을 선택할 수 있다. 또한 유리층에 수지층을 고정하는 방법으로서, 가열 경화 처리, 또는, 프레스법에 의한 가열 및 가압 처리를 선택할 수 있다.In the shear lamination process, the first laminated substrate 11 is manufactured by forming the first resin layer 11B over the entire first plane 14A of the first glass layer 11A, and the second glass layer 12A The second laminated substrate 12 is manufactured by forming the second resin layer 12B over the entire first plane 15A of). Method of forming the first resin layer 11B in the first plane 14A of the first glass layer 11A, and second resin layer 12B in the first plane 15A of the second glass layer 12A ), Respectively, the method of applying a resin layer to the glass layer or the method of laminating the resin layer through the adhesive layer to the glass layer can be selected. In addition, as a method of fixing the resin layer to the glass layer, heat curing treatment or heating and pressing treatment by a pressing method can be selected.

후단 적층 공정에서는, 소정 사이즈로 절단되어 있지 않은 제1 적층 기판(11)과 소정 사이즈로 절단되어 있지 않은 제2 적층 기판(12)을 적층한다. 일 예로는, 제1 적층 기판(11)과 제2 적층 기판(12)이, 예를 들면 접착층(SD)을 통하여 접합된다. 이에 따라, 다층 적층 기판(10)이 제조된다.In the subsequent stacking step, the first laminated substrate 11 that is not cut to a predetermined size and the second laminated substrate 12 that is not cut to a predetermined size are stacked. As an example, the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are bonded, for example, through an adhesive layer SD. Thereby, the multilayer laminated substrate 10 is manufactured.

후단 가공 공정은, 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)을 각각 절단하는 후단 절단 공정을 포함한다. 후단 가공 공정의 후단 절단 공정에서는, 예를 들면 도 7(a), 도 7(b)에 나타나는 바와 같이, 다층 적층 기판(10)을 절단하는 순번 및 가공 종류를 임의로 선택할 수 있다. 도 7(a)의 표는, 제1 적층 기판(11) 및 제2 적층 기판(12)의 순서로 절단하는 경우의 각층의 가공 순번과 가공 종류의 관계의 일 예를 나타낸다. 도 7(b)는, 제2 적층 기판(12) 및 제1 적층 기판(11)의 순서로 절단하는 경우의 각층의 가공 순번과 가공 종류의 관계의 일 예를 나타낸다. 도 7(a), 도 7(b)에 나타나는 대로, 제1 수지층(11B)을 제1 유리층(11A)보다도 전에 절단 또는 스크라이브하는 경우 및, 제2 수지층(12B)을 제2 유리층(12A)보다도 전에 절단 또는 스크라이브하는 경우, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 가공에 스크라이브 가공 장치(40)를 이용할 수는 없다. 제1 유리층(11A), 제2 유리층(12A), 제1 수지층(11B) 및, 제2 수지층(12B)을 레이저로 절단하는 경우, 예를 들면 다음의 제1 방법 및 제2 방법을 선택할 수 있다. 제1 방법은, 레이저에 의해 제1 유리층(11A), 제2 유리층(12A), 제1 수지층(11B) 및, 제2 수지층(12B)을 스크라이브한 후, 제1 유리층(11A), 제2 유리층(12A), 제1 수지층(11B) 및, 제2 수지층(12B)을 브레이크한다. 제2 방법은, 레이저에 의해 제1 유리층(11A), 제2 유리층(12A), 제1 수지층(11B) 및, 제2 수지층(12B)을 절단한다. 또한, 제1 공정예의 후단 가공 공정의 후단 절단 공정에서는, 제1 유리층(11A), 제2 유리층(12A), 제1 수지층(11B) 및, 제2 수지층(12B)에 대하여, 절단하는 층 및 스크라이브 후에 브레이크하는 층 중 어느 하나를 임의로 선택할 수 있다.The rear end processing step includes a rear end cutting step in which the first stacked substrate 11 and the second stacked substrate 12 are respectively cut. In the rear end cutting step of the rear end processing step, as shown in, for example, FIGS. 7 (a) and 7 (b), the sequence number and the type of processing for cutting the multi-layer laminated substrate 10 can be arbitrarily selected. The table in FIG. 7A shows an example of the relationship between the processing sequence number and the processing type of each layer when cutting in the order of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. Fig. 7B shows an example of the relationship between the processing sequence number and the processing type of each layer when cutting in the order of the second laminated substrate 12 and the first laminated substrate 11. 7 (a) and 7 (b), when the first resin layer 11B is cut or scribed before the first glass layer 11A, and the second resin layer 12B is the second glass When cutting or scribing before the layer 12A, the scribing apparatus 40 cannot be used for the processing of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. When the 1st glass layer 11A, the 2nd glass layer 12A, the 1st resin layer 11B, and the 2nd resin layer 12B are cut by laser, for example, the following 1st method and 2nd You can choose a method. In the first method, after scribing the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B by laser, the first glass layer ( 11A), the 2nd glass layer 12A, the 1st resin layer 11B, and the 2nd resin layer 12B are braked. In the second method, the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B are cut by a laser. Moreover, in the post-cutting process of the post-processing process of the 1st process example, about 1st glass layer 11A, 2nd glass layer 12A, 1st resin layer 11B, and 2nd resin layer 12B, Any of the layers to cut and the layer to break after scribing can be arbitrarily selected.

제1 수지층(11B) 또는 제2 수지층(12B)을 레이저로 절단하는 경우, 제1 수지층(11B) 또는 제2 수지층(12B)에 대한 레이저의 조사에 있어서의 레이저의 출력을, 소정 온도 이상의 가스의 발생이 억제되는 소정 출력 미만으로 설정하고, 제1 수지층(11B) 또는 제2 수지층(12B)에 레이저를 복수회 조사하는 것이 바람직하다. 레이저에 의한 제1 수지층(11B) 또는 제2 수지층(12B)의 가공 시에 발생하는 가스가 시간의 경과와 함께 냉각되기 때문에, 다층 적층 기판(10)의 내부의 가스의 체적의 증대를 억제할 수 있다.When cutting the 1st resin layer 11B or the 2nd resin layer 12B with a laser, the output of the laser in irradiation of the laser to the 1st resin layer 11B or the 2nd resin layer 12B, It is desirable to set the gas at a predetermined temperature or less to a predetermined output that is suppressed, and irradiate the first resin layer 11B or the second resin layer 12B multiple times. Since the gas generated during the processing of the first resin layer 11B or the second resin layer 12B by the laser is cooled over time, the increase in the volume of the gas inside the multilayer laminated substrate 10 is increased. Can be suppressed.

레이저 또는 스크라이빙 휠(50)에 의해 제1 유리층(11A)을 스크라이브한 후, 레이저에 의해 제2 수지층(12B)을 절단 또는 제2 수지층(12B)을 스크라이브하는 경우, 제2 유리층(12A)측으로부터 레이저를 조사하는 것이 바람직하다. 레이저에 의해 제2 수지층(12B)을 절단하는 경우, 제2 수지층(12B)을 절단 후, 동일 조사 방향의 레이저에 의해 제1 수지층(11B)을 절단 또는 제1 수지층(11B)을 스크라이브해도 좋다. 레이저 또는 스크라이빙 휠(50)에 의해 제2 유리층(12A)을 스크라이브한 후, 레이저에 의해 제1 수지층(11B)을 절단 또는 제1 수지층(11B)을 스크라이브하는 경우, 제1 유리층(11A)측으로부터 레이저를 조사하는 것이 바람직하다. 레이저에 의해 제1 수지층(11B)을 절단하는 경우, 제1 수지층(11B)을 절단 후, 동일 조사 방향의 레이저에 의해 제2 수지층(12B)을 절단 또는 제2 수지층(12B)을 스크라이브해도 좋다.When the first glass layer 11A is scribed by a laser or a scribing wheel 50, the second resin layer 12B is cut by a laser or the second resin layer 12B is scribed. It is preferable to irradiate the laser from the glass layer 12A side. In the case of cutting the second resin layer 12B by laser, after cutting the second resin layer 12B, the first resin layer 11B is cut by the laser in the same irradiation direction or the first resin layer 11B You may scribe. When the second glass layer 12A is scribed by a laser or a scribing wheel 50, the first resin layer 11B is cut by a laser or the first resin layer 11B is scribed by the laser. It is preferable to irradiate the laser from the glass layer 11A side. When cutting the 1st resin layer 11B with a laser, after cutting the 1st resin layer 11B, the 2nd resin layer 12B is cut with the laser of the same irradiation direction, or the 2nd resin layer 12B You may scribe.

유리층 및 수지층의 각각을 레이저에 의해 절단 또는 유리층 및 수지층의 각각을 스크라이브하는 경우, 도 3에 나타나는 레이저 가공 장치(30)를 대신하여, 도 8에 나타나는 레이저 가공 장치(30A)가 이용된다. 레이저 가공 장치(30A)는, 레이저 가공 장치(30)와 비교하여, 레이저 장치의 구성이 상이하다. 이하, 레이저 가공 장치(30A) 중의 상이한 구성에 대해서 설명한다.In the case of cutting each of the glass layer and the resin layer by laser or scribing each of the glass layer and the resin layer, instead of the laser processing device 30 shown in FIG. 3, the laser processing device 30A shown in FIG. 8 is used. Is used. The laser processing device 30A has a different configuration of the laser device compared to the laser processing device 30. Hereinafter, different structures in the laser processing apparatus 30A will be described.

레이저 가공 장치(30A)의 레이저 장치(31A)는, 제1 레이저 발진기(34A) 및 제2 레이저 발진기(34B)를 갖는다. 제1 레이저 발진기(34A)는 UV 레이저이고, 제2 레이저 발진기(34B)는 CO2 레이저이다. 제1 레이저 발진기(34A)로부터 조사된 레이저광 및, 제2 레이저 발진기(34B)로부터 조사된 레이저광은, 전송 광학계(35)를 통하여 다층 적층 기판(10)에 조사된다. 또한, 전송 광학계(35)는, 제1 레이저 발진기(34A)에 대응하는 전송 광학계와, 제2 레이저 발진기(34B)에 대응하는 전송 광학계가 개별적으로 형성되어도 좋다.The laser device 31A of the laser processing device 30A has a first laser oscillator 34A and a second laser oscillator 34B. The first laser oscillator 34A is a UV laser, and the second laser oscillator 34B is a CO 2 laser. The laser light irradiated from the first laser oscillator 34A and the laser light irradiated from the second laser oscillator 34B are irradiated to the multilayer laminated substrate 10 through the transmission optical system 35. In addition, the transmission optical system 35 may have a transmission optical system corresponding to the first laser oscillator 34A and a transmission optical system corresponding to the second laser oscillator 34B individually.

제1 제어부(33)는, 다층 적층 기판(10)에 대한 가공 대상의 종류(유리층 또는 수지층)에 따라서 제1 레이저 발진기(34A) 및 제2 레이저 발진기(34B)를 선택한다. 예를 들면 제1 제어부(33)는, 미리 기억된 제어 프로그램에 의해 가공 대상의 종류인 유리층 및 수지층의 가공 순번을 정하고, 정해진 가공 순번에 따라서 제1 레이저 발진기(34A) 및 제2 레이저 발진기(34B)를 선택한다.The first control unit 33 selects the first laser oscillator 34A and the second laser oscillator 34B according to the type of processing object (glass layer or resin layer) for the multilayer laminated substrate 10. For example, the first control unit 33 determines the processing sequence of the glass layer and the resin layer, which are the types of objects to be processed, by the previously stored control program, and the first laser oscillator 34A and the second laser according to the determined processing sequence. Select the oscillator 34B.

도 9는, 후단 절단 공정에 있어서 제조된 단위 적층 기판(20)의 일 예를 나타낸다. 도 9에 나타나는 단위 적층 기판(20)은, 도 5(b)에 나타나는 스크라이빙 휠(50B)에 의해 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)이 스크라이브된 후에 브레이크됨으로써 제조된다. 도 9에 나타나는 단위 적층 기판(20)의 단면에 있어서, 단위 적층 기판(20)의 두께 방향(T)과 직교하는 방향을 폭 방향(W)으로 규정한다. 단위 적층 기판(20)의 단면에 있어서, 단위 적층 기판(20)의 폭 방향(W)의 중심을 향하는 측을 내측으로 하고, 폭 방향(W)의 단부를 향하는 방향을 외측으로 한다.9 shows an example of the unit stacked substrate 20 manufactured in the rear end cutting process. The unit laminated substrate 20 shown in FIG. 9 is manufactured by being braked after the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are scribed by the scribing wheel 50B shown in FIG. 5 (b). do. In the cross section of the unit laminated substrate 20 shown in FIG. 9, the direction orthogonal to the thickness direction T of the unit laminated substrate 20 is defined as the width direction W. In the cross section of the unit laminated substrate 20, the side facing the center of the width direction W of the unit laminated substrate 20 is made inside, and the direction toward the end of the width direction W is made outward.

후단 절단 공정에서는, 단위 적층 기판(20)의 제1 유리층(11A)의 절단면(23A)이 제1 수지층(11B)의 절단면(23B)에 대하여 외측에 위치하도록 제1 유리층(11A)을 절단한다. 단위 적층 기판(20)의 제2 유리층(12A)의 절단면(24A)이 제2 수지층(12B)의 절단면(24B)에 대하여 외측에 위치하도록 제2 유리층(12A)을 절단한다. 보다 상세하게는, 제1 유리층(11A)의 제2 평면(14B)으로부터 제1 평면(14A)으로 향함에 따라 제1 유리층(11A)의 폭(WD1)이 좁아지는 절단면(23A)이 형성되도록 제1 유리층(11A)이 절단되어 있다. 제2 유리층(12A)의 제2 평면(15B)으로부터 제1 평면(15A)으로 향함에 따라 제2 유리층(12A)의 폭(WD2)이 좁아지는 절단면(24A)이 형성되도록 제2 유리층(12A)이 절단되어 있다. 스크라이빙 휠(50B)에 의해 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)을 스크라이브하기 위해, 스크라이브 가공 장치(40)는, 도 9에 나타내는 단면에서 볼 때에 있어서 제1 유리층(11A)의 제2 평면(14B)으로부터 제1 평면(14A)으로 향함에 따라 제1 유리층(11A)의 폭(WD1)이 좁아지는 스크라이브 라인(크랙)이 형성되도록 제1 유리층(11A)을 스크라이브한다. 다음으로 스크라이브한 제1 유리층(11A)을 브레이크한다. 스크라이브 가공 장치(40)는, 도 9에 나타내는 단면에서 볼 때에 있어서 제2 유리층(12A)의 제2 평면(15B)으로부터 제1 평면(15A)으로 향함에 따라 제2 유리층(12A)의 폭(WD2)이 좁아지는 스크라이브 라인(크랙)이 형성되도록 제2 유리층(12A)을 스크라이브한다. 다음으로 스크라이브한 제2 유리층(12A)을 브레이크한다. 또한, 스크라이빙 휠(50B)을 대신하여, 레이저 가공 장치(30)의 레이저에 의해 도 9에 나타나는 제1 유리층(11A)의 절단면(23A) 및 제2 유리층(12A)의 절단면(24A)을 형성해도 좋다.In the rear end cutting process, the first glass layer 11A is such that the cut surface 23A of the first glass layer 11A of the unit laminated substrate 20 is located outside the cut surface 23B of the first resin layer 11B. Cut it. The second glass layer 12A is cut so that the cut surface 24A of the second glass layer 12A of the unit laminated substrate 20 is located outside the cut surface 24B of the second resin layer 12B. More specifically, the cutting surface 23A of which the width WD1 of the first glass layer 11A is narrowed as it goes from the second plane 14B of the first glass layer 11A to the first plane 14A. The first glass layer 11A is cut so as to be formed. The second glass so that the cutting surface 24A in which the width WD2 of the second glass layer 12A narrows as it goes from the second plane 15B of the second glass layer 12A toward the first plane 15A Layer 12A is cut. In order to scribe the 1st glass layer 11A and the 2nd glass layer 12A with the scribing wheel 50B, the scribing processing apparatus 40 is a 1st glass layer from the cross section shown in FIG. The first glass layer 11A so that a scribe line (crack) in which the width WD1 of the first glass layer 11A narrows as it goes from the second plane 14B of 11A to the first plane 14A ). Next, the scribed first glass layer 11A is braked. The scribe processing apparatus 40 is seen from the second plane 15B of the second glass layer 12A toward the first plane 15A from the second glass layer 12A when viewed from the cross section shown in FIG. 9. The second glass layer 12A is scribed so that a scribe line (crack) in which the width WD2 is narrowed is formed. Next, the scribed second glass layer 12A is braked. In addition, instead of the scribing wheel 50B, the cut surfaces 23A of the first glass layer 11A and the cut surfaces of the second glass layer 12A shown in FIG. 9 by the laser of the laser processing apparatus 30 ( 24A) may be formed.

박리 공정에서는, 레이저 리프트 오프 장치(도시 생략)를 이용한다. 본 실시 형태에서는, 레이저 리프트 오프 장치의 레이저로서 UV 레이저가 이용된다. 도 10(a)에 나타나는 바와 같이, 제1 유리층(11A)측으로부터 제1 수지층(11B)에 레이저를 조사함으로써 제1 수지층(11B)과 제1 유리층(11A)을 박리한다. 제1 수지층(11B)과 제1 유리층(11A)을 박리하는 경우, 레이저는, 제1 유리층(11A)의 제2 평면(14B)에 직교하도록 조사된다. 다음으로, 도 10(b)에 나타나는 바와 같이, 제2 유리층(12A)측으로부터 제2 수지층(12B)에 레이저를 조사함으로써 제2 수지층(12B)과 제2 유리층(12A)을 박리한다. 제2 수지층(12B)과 제2 유리층(12A)을 박리하는 경우, 레이저는, 제2 유리층(12A)의 제2 평면(15B)에 직교하도록 조사된다. 또한, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)을 박리하는 순번은 임의로 변경 가능하다. 예를 들면, 제2 수지층(12B)과 제2 유리층(12A)을 박리한 후, 제1 수지층(11B)과 제1 유리층(11A)을 박리해도 좋다.In the peeling process, a laser lift-off device (not shown) is used. In this embodiment, a UV laser is used as the laser of the laser lift-off device. As shown in Fig. 10 (a), the first resin layer 11B and the first glass layer 11A are peeled by irradiating a laser to the first resin layer 11B from the first glass layer 11A side. In the case of peeling the first resin layer 11B and the first glass layer 11A, the laser is irradiated to be perpendicular to the second plane 14B of the first glass layer 11A. Next, as shown in FIG. 10 (b), the second resin layer 12B and the second glass layer 12A are irradiated by irradiating a laser to the second resin layer 12B from the second glass layer 12A side. Peel off. In the case of peeling the second resin layer 12B and the second glass layer 12A, the laser is irradiated to be perpendicular to the second plane 15B of the second glass layer 12A. In addition, the order of peeling the 1st glass layer 11A and the 2nd glass layer 12A can be arbitrarily changed. For example, after peeling the 2nd resin layer 12B and the 2nd glass layer 12A, you may peel the 1st resin layer 11B and the 1st glass layer 11A.

다층 적층 기판(10)으로부터 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)이 제거된(도 10(c) 참조) 후, 제1 수지층(11B)을 덮도록 제1 보호 필름이 부착되고, 제2 수지층(12B)을 덮도록 제2 보호 필름이 부착됨으로써, 플렉시블 유기 EL 디스플레이가 제조된다.After the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are removed from the multilayer laminated substrate 10 (see FIG. 10 (c)), the first protective film is covered to cover the first resin layer 11B. By attaching and attaching the second protective film to cover the second resin layer 12B, a flexible organic EL display is produced.

도 9에 나타나는 단위 적층 기판(20)에서는, 제1 수지층(11B)의 폭 방향(W)의 단연(端緣)까지 제1 유리층(11A)의 제2 평면(14B)이 형성되고, 제2 수지층(12B)의 폭 방향(W)의 단연까지 제2 유리층(12A)의 제2 평면(15B)이 형성되어 있다. 즉, 두께 방향(T)에 있어서, 제1 수지층(11B)의 폭 방향(W)의 단연과 제1 유리층(11A)의 절단면(23A)이 겹치지 않고, 제2 수지층(12B)의 폭 방향(W)의 단연과 제2 유리층(12A)의 절단면(24A)이 겹쳐 있지 않다. 이 때문에, 제1 수지층(11B)의 폭 방향(W)의 단연 및 제2 수지층(12B)의 폭 방향(W)의 단연에 대하여 레이저 리프트 오프 장치의 레이저를 조사하는 경우, 레이저가 제1 유리층(11A)의 절단면(23A) 및 제2 유리층(12A)의 절단면(24A)을 통과하지 않는다.In the unit laminated substrate 20 shown in FIG. 9, the second plane 14B of the first glass layer 11A is formed up to the edge of the width direction W of the first resin layer 11B, The second plane 15B of the second glass layer 12A is formed up to the edge of the width direction W of the second resin layer 12B. That is, in the thickness direction T, the edge of the width direction W of the first resin layer 11B and the cut surface 23A of the first glass layer 11A do not overlap, and the second resin layer 12B The edge of the width direction W and the cutting surface 24A of the second glass layer 12A do not overlap. For this reason, when irradiating the laser of the laser lift-off device with respect to the edge of the width direction W of the 1st resin layer 11B and the edge of the width direction W of the 2nd resin layer 12B, a laser is removed. It does not pass through the cutting surface 23A of the 1 glass layer 11A and the cutting surface 24A of the second glass layer 12A.

본 실시 형태의 효과에 대해서 설명한다.The effects of this embodiment will be described.

(1-1) 단위 적층 기판(20)의 제1 유리층(11A)의 절단면(23A)이 제1 수지층(11B)의 절단면(23B)보다도 폭 방향(W)의 외측에 위치하고, 제2 유리층(12A)의 절단면(24A)이 제2 수지층(12B)의 절단면(24B)보다도 폭 방향(W)의 외측에 위치하고 있다. 이 제조 방법에 의하면, 레이저가 제1 유리층(11A)의 절단면(23A) 및 제2 유리층(12A)의 절단면(24A)의 영향을 받는 일 없이, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 조사된다. 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 각각 레이저가 적절히 조사되기 때문에, 제1 유리층(11A)으로부터 박리되는 제1 수지층(11B)의 품질 및, 제2 유리층(12A)으로부터 박리되는 제2 수지층(12B)의 품질이 각각 저하하기 어렵다.(1-1) The cut surface 23A of the first glass layer 11A of the unit laminated substrate 20 is located outside the width direction W than the cut surface 23B of the first resin layer 11B, and the second The cutting surface 24A of the glass layer 12A is located outside the width direction W than the cutting surface 24B of the second resin layer 12B. According to this manufacturing method, the first resin layer 11B and the second without the laser being affected by the cutting surface 23A of the first glass layer 11A and the cutting surface 24A of the second glass layer 12A The resin layer 12B is irradiated. Since the laser is properly irradiated to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, respectively, the quality of the first resin layer 11B peeled from the first glass layer 11A and the second glass layer ( The quality of the second resin layer 12B peeled from the 12A) is difficult to deteriorate, respectively.

(1-2) 후단 절단 공정에서는, 제2 평면(14B)으로부터 제1 평면(14A)으로 향함에 따라 제1 유리층(11A)의 폭(WD1)이 좁아지는 절단면(23A)이 형성되도록 제1 유리층(11A)을 절단한다. 제2 평면(15B)으로부터 제1 평면(15A)으로 향함에 따라 제2 유리층(12A)의 폭(WD2)이 좁아지는 절단면(24A)이 형성되도록 제2 유리층(12A)을 절단한다. 이 제조 방법에서는, 경사진 절단면(23A, 24A)의 형성을 의도하여 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)을 절단하기 때문에, 제조 오차의 영향을 고려해도 의도한 방향과는 상이한 방향으로 경사진 절단면이 형성되기 어렵다.(1-2) In the rear end cutting process, the cutting surface 23A is formed so that the width WD1 of the first glass layer 11A is narrowed as it goes from the second plane 14B to the first plane 14A. 1 Cut the glass layer 11A. The second glass layer 12A is cut so that the cutting surface 24A, in which the width WD2 of the second glass layer 12A is narrowed as it is directed from the second plane 15B to the first plane 15A, is cut. In this manufacturing method, since the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are cut with the intention of forming the inclined cutting surfaces 23A, 24A, even if the effect of manufacturing error is taken into consideration, It is difficult to form a cut surface inclined in different directions.

(1-3) 후단 절단 공정에서는, 제2 평면(14B)으로부터 제1 평면(14A)으로 향함에 따라 제1 유리층(11A)의 폭(WD1)이 좁아지는 스크라이브 라인(크랙)이 형성되도록 제1 유리층(11A)을 스크라이브하고, 스크라이브된 제1 유리층(11A)을 브레이크한다. 제2 평면(15B)으로부터 제1 평면(15A)으로 향함에 따라 제2 유리층(12A)의 폭(WD2)이 좁아지는 스크라이브 라인(크랙)이 형성되도록 제2 유리층(12A)을 스크라이브하고, 스크라이브된 제2 유리층(12A)을 브레이크한다. 이 제조 방법에서는, 제1 수지층(11B)의 절단면(23B)에 대하여 외측에 위치하는 제1 유리층(11A)의 절단면(23A)을 효율적으로 형성할 수 있고, 제2 수지층(12B)의 절단면(24B)에 대하여 외측에 위치하는 제2 유리층(12A)의 절단면(24A)을 효율적으로 형성할 수 있다.(1-3) In the rear end cutting process, a scribe line (crack) is formed in which the width (WD1) of the first glass layer 11A is narrowed as it goes from the second plane 14B to the first plane 14A. The first glass layer 11A is scribed, and the scribed first glass layer 11A is braked. The second glass layer 12A is scribed to form a scribe line (crack) in which the width (WD2) of the second glass layer 12A is narrowed from the second plane 15B toward the first plane 15A. , Break the scribed second glass layer 12A. In this manufacturing method, the cut surface 23A of the first glass layer 11A located outside the cut surface 23B of the first resin layer 11B can be efficiently formed, and the second resin layer 12B The cutting surface 24A of the second glass layer 12A located outside the cutting surface 24B of can be efficiently formed.

(1-4) 후단 절단 공정에서는, 도 5(b)에 나타나는 회전 중심면(RC)에 대하여 비대칭인 형상의 날끝부(52)를 갖는 스크라이빙 휠(50B)을 이용하여 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)을 스크라이브한다. 이 제조 방법에서는, 제2 평면(14B)에 대하여 경사지는 제1 유리층(11A)의 절단면(23A)의 형상 및, 제2 평면(15B)에 대하여 경사지는 제2 유리층(12A)의 절단면(24A)의 형상이 날끝부(52)의 형상에 의해 규정되어, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)을 용이하게 절단할 수 있다.(1-4) In the rear end cutting process, the first glass layer is used by using a scribing wheel 50B having a blade end 52 having an asymmetrical shape with respect to the center of rotation RC shown in FIG. 5 (b). (11A) and the second glass layer 12A are scribed. In this manufacturing method, the shape of the cut surface 23A of the first glass layer 11A inclined with respect to the second plane 14B and the cut surface of the second glass layer 12A inclined with respect to the second plane 15B The shape of (24A) is defined by the shape of the blade end portion 52, so that the first glass layer 11A and the second glass layer 12A can be easily cut.

(1-5) 레이저 리프트 오프에 의해 제1 유리층(11A)과 제1 수지층(11B)을 박리하고, 제2 유리층(12A)과 제2 수지층(12B)을 박리하는 박리 공정을 추가로 포함한다. 이 제조 방법에서는, 제1 유리층(11A)과 제1 수지층(11B)을 효율적으로 박리할 수 있고, 제2 유리층(12A)과 제2 수지층(12B)을 효율적으로 박리할 수 있다.(1-5) A peeling process of peeling the first glass layer 11A and the first resin layer 11B by laser lift-off, and peeling the second glass layer 12A and the second resin layer 12B Included additionally. In this manufacturing method, the 1st glass layer 11A and the 1st resin layer 11B can be peeled efficiently, and the 2nd glass layer 12A and the 2nd resin layer 12B can be peeled efficiently. .

(1-6) 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법은, 제1 적층 기판(11)과 제2 적층 기판(12)을 적층하는 공정 이후의 공정인 후단 공정에 있어서, 다층 적층 기판(10)을 소정 사이즈로 절단한다. 이 제조 방법에서는, 제1 적층 기판(11)과 제2 적층 기판(12)이 적층된 다층 적층 기판(10)의 상태로 절단되기 때문에, 적층 작업이 간소화된다. 이 때문에, 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 효율이 저하하기 어렵다.(1-6) The manufacturing method of the flexible organic EL display is a step subsequent to the step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, and the multilayer laminated substrate 10 is predetermined. Cut to size. In this manufacturing method, since the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are cut in the state of the laminated multilayer substrate 10, the lamination operation is simplified. For this reason, the manufacturing efficiency of the flexible organic EL display is unlikely to decrease.

(1-7) 후단 가공 공정의 후단 절단 공정에서는, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)을 우선 절단하고, 다음으로 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 절단한다. 이 제조 방법에서는, 제1 유리층(11A) 및 제2 유리층(12A)이 먼저 절단되기 때문에, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 절단하는 공정에서는 제1 수지층(11B)에 있어서의 제1 유리층(11A)에 덮여 있지 않은 부분 및, 제2 수지층(12B)에 있어서의 제2 유리층(12A)에 덮여 있지 않은 부분을 각각 절단할 수 있다. 예를 들면, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 레이저로 절단하는 경우, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 대한 레이저의 조사에 수반하여 발생하는 가스가 제1 유리층(11A)의 절단 부분 및 제2 유리층(12A)의 절단 부분으로부터 배출된다. 이 때문에, 가스가 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 품질에 영향을 미칠 우려가 낮아진다.(1-7) In the post-cutting step of the post-processing step, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are first cut, and then the first resin layer 11B and the second resin layer 12B ). In this manufacturing method, since the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are cut first, the first resin layer is used in the step of cutting the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. The portion not covered by the first glass layer 11A in (11B) and the portion not covered by the second glass layer 12A in the second resin layer 12B can be cut, respectively. For example, when cutting the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B with a laser, it arises with the laser irradiation to the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B. The gas to be discharged is discharged from the cut portion of the first glass layer 11A and the cut portion of the second glass layer 12A. For this reason, there is less possibility that the gas affects the quality of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B.

(1-8) 후단 절단 공정에서는, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 레이저에 의해 절단한다. 이 때문에, 예를 들면 스크라이빙 휠(50)을 이용한 절단과 비교하여, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 절단 시의 발열량이 적어, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 품질이 저하하기 어렵다.(1-8) In the rear end cutting step, the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cut with a laser. For this reason, compared with cutting using, for example, the scribing wheel 50, the amount of heat generated when cutting the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is small, and the first resin layer 11B And it is difficult for the quality of the second resin layer 12B to deteriorate.

(1-9) 후단 절단 공정에서는, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 대한 1회당의 레이저의 조사에 있어서의 레이저의 출력을, 소정 온도 이상의 가스의 발생이 억제되는 소정 출력 미만으로 설정한다. 이 제조 방법에 의하면, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 레이저가 조사된 경우에 고온의 가스가 발생하기 어려워, 가스의 영향에 의해 제1 유리층(11A), 제2 유리층(12A), 제1 수지층(11B) 및, 제2 수지층(12B)의 품질이 저하할 우려가 저감된다.(1-9) In the post-cutting step, the output of the laser in the irradiation of the laser per one time to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is suppressed from being generated at a temperature above a predetermined temperature. Set below the specified output. According to this manufacturing method, when a laser is irradiated to the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B, high-temperature gas is hard to generate | occur | produce, and the 1st glass layer 11A and the 1st glass layer are influenced by gas. 2 The possibility that the quality of the glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B decreases is reduced.

(제2 실시 형태)(Second embodiment)

도 11∼도 14를 참조하여, 제2 실시 형태의 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법에 대해서 설명한다. 본 실시 형태에서는, 제1 실시 형태와 비교하여, 다층 적층 기판(10)을 대신하여 적층 기판(60)을 제조하는 점이 상이하다.The manufacturing method of the flexible organic electroluminescent display of 2nd Embodiment is demonstrated with reference to FIGS. 11-14. In this embodiment, compared with the first embodiment, the point of manufacturing the laminated substrate 60 in place of the multilayer laminated substrate 10 is different.

도 11에 나타나는 바와 같이, 적층 기판(60)은, 유리층(61)과 수지층(62)이 적층되어 구성된다. 유리층(61)은, 수지층(62)이 형성되는 제1 평면(63A) 및, 제1 평면(63A)과 쌍을 이루는 제2 평면(63B)을 갖는다. 적층 기판(60)은, 도전층(68)을 추가로 갖는다. 도전층(68)은, 제1 실시 형태의 도전층(13)과 동일하다. 수지층(62) 및 도전층(68)은, 발광 디바이스를 구성하고 있다. 유리층(61)의 조성은, 예를 들면 제1 실시 형태의 제1 유리층(11A) 또는 제2 유리층(12A)의 조성과 동일하다. 수지층(62)의 조성은, 예를 들면 제1 실시 형태의 제1 수지층(11B) 또는 제2 수지층(12B)의 조성과 동일하다.As shown in FIG. 11, the laminated substrate 60 is configured by laminating a glass layer 61 and a resin layer 62. The glass layer 61 has a first plane 63A on which the resin layer 62 is formed, and a second plane 63B paired with the first plane 63A. The laminated substrate 60 further has a conductive layer 68. The conductive layer 68 is the same as the conductive layer 13 of the first embodiment. The resin layer 62 and the conductive layer 68 constitute a light emitting device. The composition of the glass layer 61 is the same as the composition of the 1st glass layer 11A or the 2nd glass layer 12A of 1st Embodiment, for example. The composition of the resin layer 62 is, for example, the same as the composition of the first resin layer 11B or the second resin layer 12B of the first embodiment.

도 12에 나타나는 바와 같이, 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법은, 적층 공정, 절단 공정 및, 박리 공정을 포함한다. 적층 공정은, 유리층(61)에 수지층(62)을 적층하여 적층 기판(60)을 제조하는 공정이다. 절단 공정은, 적층 기판(60)으로부터 소정 사이즈의 단위 적층 기판(70)(도 14(a) 참조)을 잘라내는 공정이다. 박리 공정은, 레이저 리프트 오프에 의해 단위 적층 기판(70)의 수지층(62)과 유리층(61)을 박리하는 공정이다. 이하, 각 공정의 상세에 대해서 설명한다.12, the manufacturing method of a flexible organic EL display includes a lamination process, a cutting process, and a peeling process. The lamination process is a process of manufacturing the laminated substrate 60 by laminating the resin layer 62 on the glass layer 61. The cutting process is a process of cutting out the unit laminated substrate 70 (see FIG. 14 (a)) of a predetermined size from the laminated substrate 60. The peeling step is a step of peeling the resin layer 62 and the glass layer 61 of the unit laminated substrate 70 by laser lift-off. Hereinafter, the detail of each process is demonstrated.

적층 공정에서는, 유리층(61)의 제1 평면(63A)의 전체에 걸쳐 수지층(62)을 형성함으로써 적층 기판(60)을 제조한다. 유리층(61)의 제1 평면(63A)으로의 수지층(62)의 형성 방법은, 유리층(61)에 수지층(62)을 도포하는 방법, 또는, 유리층(61)에 접착층을 통하여 수지층(62)을 라미네이트하는 방법을 선택할 수 있다. 또한 유리층(61)에 수지층(62)을 고정하는 방법으로서, 가열 경화 처리, 또는, 프레스법에 의한 가열 및 가압 처리를 선택할 수 있다.In the lamination process, the laminated substrate 60 is manufactured by forming the resin layer 62 over the entire first plane 63A of the glass layer 61. The method of forming the resin layer 62 in the first plane 63A of the glass layer 61 is a method of applying the resin layer 62 to the glass layer 61 or an adhesive layer on the glass layer 61. Through this, a method of laminating the resin layer 62 can be selected. In addition, as a method of fixing the resin layer 62 to the glass layer 61, heat curing treatment or heating and pressing treatment by a pressing method can be selected.

절단 공정에서는, 도 11에 나타나는 유리층(61)의 절단 예정부(64A) 및 수지층(62)의 절단 예정부(64B)를 따라 유리층(61) 및 수지층(62)을 각각 절단한다. 절단 예정부(64A, 64B)는, 적층 기판(60)을 소정 사이즈로 절단하기 위한 절단 부분이다. 도 13에 나타나는 바와 같이, 절단 공정에서는, 적층 기판(60)을 절단하는 순번 및 가공 종류를 임의로 선택할 수 있다. 적층 기판(60)은, 수지층(62) 및 유리층(61)의 순서로 절단해도 좋고, 유리층(61) 및 수지층(62)의 순서로 절단해도 좋다. 유리층(61) 및 수지층(62)의 절단에 대해서, 레이저 가공 장치(30) 및 스크라이브 가공 장치(40) 중 어느 하나를 이용해도 좋다. 또한, 유리층(61) 및 수지층(62)의 절단에 대해서, 레이저 가공 장치(30) 또는 스크라이브 가공 장치(40)에 의해 스크라이브한 후, 브레이크해도 좋고, 레이저 가공 장치(30)에 의해 절단해도 좋다.In the cutting step, the glass layer 61 and the resin layer 62 are respectively cut along the cutting scheduled portion 64A of the glass layer 61 shown in FIG. 11 and the cutting scheduled portion 64B of the resin layer 62, respectively. . The cutting schedule parts 64A and 64B are cut parts for cutting the laminated substrate 60 to a predetermined size. As shown in Fig. 13, in the cutting step, the sequence number and type of processing for cutting the laminated substrate 60 can be arbitrarily selected. The laminated substrate 60 may be cut in the order of the resin layer 62 and the glass layer 61, or may be cut in the order of the glass layer 61 and the resin layer 62. For the cutting of the glass layer 61 and the resin layer 62, any one of the laser processing device 30 and the scribe processing device 40 may be used. In addition, with respect to the cutting of the glass layer 61 and the resin layer 62, after scribing with the laser processing apparatus 30 or the scribe processing apparatus 40, you may brake, and it cuts with the laser processing apparatus 30. You may do it.

절단 공정에 있어서, 유리층(61)의 절단 예정부(64A) 및 수지층(62)의 절단 예정부(64B)의 각각을 레이저에 의해 스크라이브 또는 절단하는 경우, 도 3에 나타나는 레이저 가공 장치(30)를 대신하여, 도 8에 나타나는 레이저 가공 장치(30A)가 이용된다.In a cutting process, when scribing or cutting each of the to-be-cut part 64A of the glass layer 61 and the to-be-cut part 64B of the resin layer 62 by laser, the laser processing device shown in FIG. 3 ( Instead of 30), the laser processing apparatus 30A shown in Fig. 8 is used.

도 14(a)는, 절단 공정에 있어서 도 5(b)에 나타나는 스크라이빙 휠(50B)에 의해 유리층(61)을 스크라이브 및 브레이크한 경우의 소정 사이즈의 적층 기판(60)인 단위 적층 기판(70)을 나타낸다. 도 14(a)에 나타나는 단위 적층 기판(70)의 단면에 있어서, 단위 적층 기판(70)의 두께 방향(T)과 직교하는 방향을 폭 방향(W)으로 규정한다. 단위 적층 기판(70)의 단면에 있어서, 단위 적층 기판(70)의 폭 방향(W)의 중심을 향하는 측을 내측으로 하고, 폭 방향(W)의 단부를 향하는 방향을 외측으로 한다.FIG. 14 (a) is a unit stack of a laminated substrate 60 of a predetermined size when the glass layer 61 is scribed and braked by the scribing wheel 50B shown in FIG. 5 (b) in the cutting step. The substrate 70 is shown. In the cross section of the unit laminated substrate 70 shown in Fig. 14 (a), the direction orthogonal to the thickness direction T of the unit laminated substrate 70 is defined as the width direction W. In the cross section of the unit laminated substrate 70, the side facing the center of the width direction W of the unit laminated substrate 70 is made inside, and the direction toward the end of the width direction W is made outward.

절단 공정에서는, 단위 적층 기판(70)의 유리층(61)의 절단면(66)이 수지층(62)의 절단면(67)에 대하여 외측에 위치하도록 유리층(61)의 절단 예정부(64A)(도 11 참조)를 절단한다. 보다 상세하게는, 절단 공정에 있어서 유리층(61)의 제2 평면(63B)으로부터 제1 평면(63A)으로 향함에 따라 유리층(61)의 폭(WD)이 좁아지는 절단면(66)이 형성되도록 유리층(61)의 절단 예정부(64A)가 절단되어 있다. 스크라이빙 휠(50B)에 의해 유리층(61)을 스크라이브하기 위해, 절단 공정에서는, 스크라이브 가공 장치(40)는, 도 14(a)의 단면에서 볼 때에 있어서 유리층(61)의 제2 평면(63B)으로부터 제1 평면(63A)으로 향함에 따라 유리층(61)의 폭(WD)이 좁아지는 스크라이브 라인(크랙)이 형성되도록 유리층(61)의 절단 예정부(64A)를 스크라이브한다. 다음으로 스크라이브한 유리층(61)의 절단 예정부(64A)를 브레이크한다. 또한, 스크라이빙 휠(50B)을 대신하여, 레이저 가공 장치(30)의 레이저에 의해 도 14(a)에 나타나는 유리층(61)의 절단면(66)을 형성해도 좋다.In the cutting step, the cut portion 64A of the glass layer 61 is positioned such that the cut surface 66 of the glass layer 61 of the unit laminated substrate 70 is located outside the cut surface 67 of the resin layer 62. (See FIG. 11). More specifically, in the cutting process, the cutting surface 66 in which the width WD of the glass layer 61 narrows as it goes from the second plane 63B of the glass layer 61 to the first plane 63A. The planned cutting portion 64A of the glass layer 61 is cut so as to be formed. In order to scribe the glass layer 61 by the scribing wheel 50B, in the cutting step, the scribe processing apparatus 40 is the second of the glass layer 61 when viewed from the cross section of Fig. 14 (a). Scribe the cutting scheduled portion 64A of the glass layer 61 so that a scribe line (crack) in which the width WD of the glass layer 61 narrows as it goes from the plane 63B to the first plane 63A. do. Next, the cut portion 64A of the scribed glass layer 61 is braked. Further, instead of the scribing wheel 50B, a cut surface 66 of the glass layer 61 shown in Fig. 14 (a) may be formed by the laser of the laser processing apparatus 30.

박리 공정에서는, 제1 실시 형태와 동일한 레이저 리프트 오프 장치(도시 생략)를 이용하고, 도 14(a)에 나타나는 바와 같이, 유리층(61)으로부터 수지층(62)에 레이저를 조사함으로써 수지층(62)과 유리층(61)을 박리한다.In the peeling step, the resin layer is obtained by irradiating a laser to the resin layer 62 from the glass layer 61 as shown in Fig. 14 (a), using the same laser lift-off device (not shown) as in the first embodiment. The 62 and the glass layer 61 are peeled off.

다층 적층 기판(10)으로부터 유리층(61)이 제거된(도 14(b) 참조) 후, 수지층(62)의 두께 방향(T)의 한쪽을 덮도록 제1 보호 필름이 부착되고, 수지층(62)의 두께 방향(T)의 다른 한쪽을 덮도록 제2 보호 필름이 부착됨으로써, 플렉시블 유기 EL 디스플레이가 제조된다.After the glass layer 61 is removed from the multilayer laminated substrate 10 (see FIG. 14 (b)), a first protective film is attached to cover one side in the thickness direction T of the resin layer 62, and A flexible organic EL display is manufactured by attaching a second protective film to cover the other side of the thickness direction T of the base layer 62.

도 14(a)에 나타나는 단위 적층 기판(70)에서는, 수지층(62)의 폭 방향(W)의 단연까지 유리층(61)의 제2 평면(63B)이 형성되어 있다. 즉, 두께 방향(T)에 있어서, 수지층(62)의 폭 방향(W)의 단연과 유리층(61)의 절단면(66)이 겹쳐 있지 않다. 이 때문에, 수지층(62)의 폭 방향(W)의 단연에 대하여 레이저 리프트 오프 장치의 레이저를 조사하는 경우, 레이저가 유리층(61)의 절단면(66)을 통과하지 않는다.In the unit laminated substrate 70 shown in Fig. 14 (a), the second plane 63B of the glass layer 61 is formed until the edge of the resin layer 62 in the width direction W. That is, in the thickness direction T, the edge of the width direction W of the resin layer 62 and the cut surface 66 of the glass layer 61 do not overlap. For this reason, when irradiating the laser of the laser lift-off device with respect to the edge of the width direction W of the resin layer 62, the laser does not pass through the cut surface 66 of the glass layer 61.

본 실시 형태의 효과에 대해서 설명한다.The effects of this embodiment will be described.

(2-1) 단위 적층 기판(70)의 유리층(61)의 절단면(66)이 수지층(62)의 절단면(67)보다도 폭 방향(W)의 외측에 위치하고 있다. 이 제조 방법에 의하면, 레이저 리프트 오프 장치의 레이저가 유리층(61)의 절단면(66) 및 유리층(61)의 절단면(67)의 영향을 받는 일 없이, 수지층(62)에 조사된다. 수지층(62)에 레이저 리프트 오프 장치의 레이저가 적절히 조사되기 때문에, 유리층(61)으로부터 박리되는 수지층(62)의 품질이 저하하기 어렵다.(2-1) The cut surface 66 of the glass layer 61 of the unit laminated substrate 70 is located outside the width direction W than the cut surface 67 of the resin layer 62. According to this manufacturing method, the laser of the laser lift-off device is irradiated to the resin layer 62 without being affected by the cut surface 66 of the glass layer 61 and the cut surface 67 of the glass layer 61. Since the laser of the laser lift-off device is properly irradiated to the resin layer 62, the quality of the resin layer 62 peeled from the glass layer 61 is difficult to deteriorate.

(2-2) 절단 공정에서는, 제2 평면(63B)으로부터 제1 평면(63A)으로 향함에 따라 유리층(61)의 폭(WD)이 좁아지는 절단면(66)이 형성되도록 유리층(61)을 절단한다. 이 제조 방법에서는, 경사진 절단면(66)의 형성을 의도하여 유리층(61)을 절단하기 때문에, 제조 오차의 영향을 고려해도 의도한 방향과는 상이한 방향으로 경사진 절단면이 형성되기 어렵다.(2-2) In the cutting process, the glass layer 61 is formed so that the cutting surface 66 in which the width WD of the glass layer 61 becomes narrower as it goes from the second plane 63B to the first plane 63A. ). In this manufacturing method, since the glass layer 61 is cut with the intention of forming the inclined cutting surface 66, it is difficult to form an inclined cutting surface in a direction different from the intended direction even when considering the influence of manufacturing error.

(2-3) 절단 공정에서는, 제2 평면(63B)으로부터 제1 평면(63A)으로 향함에 따라 유리층(61)의 폭(WD)이 좁아지는 스크라이브 라인(크랙)이 형성되도록 유리층(61)을 스크라이브하고, 스크라이브된 유리층(61)을 브레이크한다. 이 제조 방법에서는, 수지층(62)의 절단면(67)에 대하여 외측에 위치하는 유리층(61)의 절단면(66)을 효율적으로 형성할 수 있다.(2-3) In the cutting step, the glass layer (crack) is formed so that a scribe line (crack) in which the width (WD) of the glass layer 61 narrows as it goes from the second plane 63B to the first plane 63A. 61) is scribed, and the scribed glass layer 61 is braked. In this manufacturing method, the cut surface 66 of the glass layer 61 located outside the cut surface 67 of the resin layer 62 can be efficiently formed.

(2-4) 도 5(b)에 나타나는 회전 중심면(RC)에 대하여 비대칭인 형상의 날끝부(52)를 갖는 스크라이빙 휠(50B)을 이용하여 유리층(61)을 스크라이브한다. 이 제조 방법에서는, 제2 평면(63B)에 대하여 경사지는 유리층(61)의 절단면(66)의 형상이 날끝부(52)의 형상에 의해 규정되고, 유리층(61)을 용이하게 절단할 수 있다.(2-4) The glass layer 61 is scribed by using the scribing wheel 50B having the blade end 52 having an asymmetric shape with respect to the rotational center surface RC shown in FIG. 5 (b). In this manufacturing method, the shape of the cut surface 66 of the glass layer 61 inclined with respect to the second plane 63B is defined by the shape of the blade end 52, and the glass layer 61 can be easily cut. Can be.

(2-5) 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법은, 레이저 리프트 오프에 의해 유리층(61)과 수지층(62)을 박리하는 박리 공정을 추가로 포함한다. 이 제조 방법에서는, 유리층(61)과 수지층(62)을 효율적으로 박리할 수 있다.(2-5) The method of manufacturing a flexible organic EL display further includes a peeling step of peeling the glass layer 61 and the resin layer 62 by laser lift-off. In this manufacturing method, the glass layer 61 and the resin layer 62 can be peeled efficiently.

(변형예)(Modified example)

상기 각 실시 형태는 본 개시에 관한 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법을 취할 수 있는 형태의 예시로서, 그 형태를 제한하는 것을 의도하고 있지 않다. 본 개시에 관한 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법은 각 실시 형태에 예시된 형태와는 상이한 형태를 취할 수 있다. 그 일 예는, 각 실시 형태의 구성의 일부를 치환, 변경, 혹은, 생략한 형태, 또는, 각 실시 형태에 새로운 구성을 부가한 형태이다. 이하의 변형예에 있어서, 각 실시 형태의 형태와 공통되는 부분에 대해서는, 각 실시 형태와 동일한 부호를 붙이고 그 설명을 생략한다.Each of the above-described embodiments is an example of a form that can take the manufacturing method of the flexible organic EL display according to the present disclosure, and is not intended to limit the form. The method for manufacturing a flexible organic EL display according to the present disclosure can take a form different from the form illustrated in each embodiment. An example is a form in which a part of the configuration of each embodiment is replaced, changed, or omitted, or a new configuration is added to each embodiment. In the following modified examples, parts common to those of the respective embodiments are given the same reference numerals as those of the respective embodiments, and descriptions thereof are omitted.

·제1 실시 형태에 있어서, 후단 절단 공정에서는, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 절단하는 경우, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 대한 레이저의 조사에 수반하여 발생하는 가스를 흡인하는 흡인 기구(80)가 형성되어도 좋다. 도 15에 나타나는 바와 같이, 흡인 기구(80)는, 다층 적층 기판(10)의 주면(周面)(10A)을 통하여 가스를 흡인하도록 구성된다. 흡인 기구(80)의 일 예는, 흡기 팬을 갖는다. 흡인 기구(80)는, 흡기 팬이 구동함으로써, 다층 적층 기판(10)의 주면(10A)에 있어서의 공기를 흡인한다. 이 경우, 다층 적층 기판(10) 내에 발생한 가스가 주면(10A)을 통하여 다층 적층 기판(10)의 외부로 배출된다.In the first embodiment, in the rear end cutting step, when cutting the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, the first resin layer 11B and the second resin layer 12B A suction mechanism 80 for sucking gas generated in response to laser irradiation may be formed. As shown in FIG. 15, the suction mechanism 80 is configured to suck gas through the main surface 10A of the multilayer laminated substrate 10. An example of the suction mechanism 80 has an intake fan. The suction mechanism 80 sucks air in the main surface 10A of the multi-layer laminated substrate 10 by driving the intake fan. In this case, gas generated in the multilayer laminated substrate 10 is discharged to the outside of the multilayer laminated substrate 10 through the main surface 10A.

·제1 실시 형태에 있어서, 복수회의 레이저의 조사에 의해, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 절단하는 경우, 레이저를 소정 출력 미만으로 설정하는 것을 대신하여 또는 더하여, 일정한 시간을 두고 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 레이저를 복수회 조사함으로써 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)을 절단해도 좋다. 이 제조 방법에서는, 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 한쪽에 레이저가 조사되고, 레이저의 조사가 일시적으로 중단되어, 일정한 시간이 경과한 후에 재차 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 한쪽에 레이저가 조사되고, 이들 레이저의 조사 및 일시적인 조사의 중단이 복수회에 걸쳐 반복된다. 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)의 다른 한쪽에 레이저가 조사되는 경우도 동일하다. 제1 수지층(11B) 및 제2 수지층(12B)에 대한 레이저의 조사에 수반하여 발생한 가스가, 레이저의 조사가 일시적으로 중단되어 있을 때에 냉각되어, 가스의 영향에 의해 제1 유리층(11A), 제2 유리층(12A), 제1 수지층(11B) 및, 제2 수지층(12B)의 품질이 저하할 우려가 저감된다.In the first embodiment, when the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cut by irradiation of a plurality of lasers, instead of or in addition to setting the laser to be less than a predetermined output, You may cut | disconnect the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B by irradiating the 1st resin layer 11B and the 2nd resin layer 12B with a laser several times over a fixed time. In this manufacturing method, the laser is irradiated to one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, the laser irradiation is temporarily stopped, and after a certain time has elapsed, the first resin layer 11B ) And one of the second resin layers 12B is irradiated, and the interruption of irradiation of these lasers and temporary irradiation is repeated multiple times. The same applies to the case where the laser is irradiated to the other of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. The gas generated upon irradiation of the laser to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is cooled when the laser irradiation is temporarily stopped, and the first glass layer ( 11A), the possibility that the quality of the 2nd glass layer 12A, the 1st resin layer 11B, and the 2nd resin layer 12B will fall is reduced.

·제1 실시 형태에 있어서, 소정 사이즈의 제1 적층 기판(11)인 제1 단위 적층 기판과, 소정 사이즈의 제2 적층 기판(12)인 제2 단위 적층 기판을 접합하여 단위 적층 기판(20)을 제조해도 좋다. 즉 전단 공정은, 제1 적층 기판(11)을 소정 사이즈로 절단하는 제1 절단 공정과, 제2 적층 기판(12)을 소정 사이즈로 절단하는 제2 절단 공정을 포함한다. 후단 적층 공정에서는, 제1 단위 적층 기판과 제2 단위 적층 기판을 적층한다. 이 경우, 제1 단위 적층 기판의 제1 유리층(11A)에는 절단면(23A)이 형성되고, 제2 단위 적층 기판의 제2 유리층(12A)에는 절단면(24A)이 형성된다.In the first embodiment, the unit stacked substrate 20 is formed by joining a first unit stacked substrate, which is a first stacked substrate 11 of a predetermined size, and a second unit stacked substrate, which is the second stacked substrate 12, of a predetermined size. ). That is, the shearing process includes a first cutting process for cutting the first laminated substrate 11 to a predetermined size, and a second cutting process for cutting the second laminated substrate 12 to a predetermined size. In the rear stage lamination process, the first unit laminated substrate and the second unit laminated substrate are laminated. In this case, a cut surface 23A is formed on the first glass layer 11A of the first unit laminated substrate, and a cut surface 24A is formed on the second glass layer 12A of the second unit laminated substrate.

·제1 실시 형태에 있어서, 소정 사이즈의 제1 적층 기판(11)인 제1 단위 적층 기판과, 소정 사이즈로 절단되기 전의 제2 적층 기판(12)을 접합한 후, 제2 적층 기판(12)을 소정 사이즈로 절단하여 단위 적층 기판(20)을 제조해도 좋다. 또한 소정 사이즈의 제2 적층 기판(12)인 제2 단위 적층 기판과, 소정 사이즈로 절단되기 전의 제1 적층 기판(11)을 접합한 후, 제1 적층 기판(11)을 소정 사이즈로 절단하여 단위 적층 기판(20)을 제조해도 좋다. 즉, 전단 공정은, 제1 적층 기판(11)을 소정 사이즈로 절단하는 제1 절단 공정과, 제2 적층 기판(12)을 소정 사이즈로 절단하는 제2 절단 공정의 한쪽을 포함한다. 후단 공정은, 제1 적층 기판(11)을 소정 사이즈로 절단하는 제1 절단 공정과, 제2 적층 기판(12)을 소정 사이즈로 절단하는 제2 절단 공정의 다른 한쪽을 포함한다. 이 경우, 후단 가공 공정 후에는, 도 9에 나타나는 단위 적층 기판(20)이 제조된다.In the first embodiment, after bonding the first unit stacked substrate, which is the first stacked substrate 11 of a predetermined size, and the second stacked substrate 12 before being cut to a predetermined size, the second stacked substrate 12 is joined. ) May be cut to a predetermined size to manufacture the unit laminated substrate 20. In addition, after the second unit laminated substrate 12, which is the second laminated substrate 12 of a predetermined size, is bonded to the first laminated substrate 11 before being cut to a predetermined size, the first laminated substrate 11 is cut to a predetermined size. The unit laminated substrate 20 may be manufactured. That is, the shearing step includes one of a first cutting step of cutting the first laminated substrate 11 to a predetermined size, and a second cutting step of cutting the second laminated substrate 12 to a predetermined size. The rear end step includes the other of the first cutting step of cutting the first laminated substrate 11 to a predetermined size, and the second cutting step of cutting the second laminated substrate 12 to a predetermined size. In this case, after the post-processing step, the unit laminated substrate 20 shown in FIG. 9 is manufactured.

·제1 실시 형태에 있어서, 제1 적층 기판(11)에 도전층(13)이 형성되는 것을 대신하여, 또는 제1 적층 기판(11)에 도전층(13)이 형성되는 것에 더하여, 제2 적층 기판(12)에 도전층(13)이 형성되어도 좋다.In the first embodiment, instead of the formation of the conductive layer 13 on the first laminated substrate 11 or in addition to the formation of the conductive layer 13 on the first laminated substrate 11, the second The conductive layer 13 may be formed on the laminated substrate 12.

10 : 다층 적층 기판
11 : 제1 적층 기판
11A : 제1 유리층
11B : 제1 수지층
12 : 제2 적층 기판
12A : 제2 유리층
12B : 제2 수지층
14A : 제1 평면
14B : 제2 평면
15A : 제1 평면
15B : 제2 평면
20 : 단위 적층 기판
23A : 절단면
23B : 절단면
24A : 절단면
24B : 절단면
50, 50A, 50B : 스크라이빙 휠
52 : 날끝부
60 : 적층 기판
61 : 유리층
62 : 수지층
63A : 제1 평면
63B : 제2 평면
66 : 절단면
67 : 절단면
70 : 단위 적층 기판
RC : 회전 중심면
10: multilayer laminated substrate
11: first laminated substrate
11A: first glass layer
11B: 1st resin layer
12: second laminated substrate
12A: second glass layer
12B: Second resin layer
14A: 1st plane
14B: second plane
15A: 1st plane
15B: second plane
20: unit laminated substrate
23A: Cutting surface
23B: Cutting surface
24A: cut surface
24B: cutting surface
50, 50A, 50B: scribing wheel
52: end of the blade
60: laminated substrate
61: glass layer
62: resin layer
63A: 1st plane
63B: 2nd plane
66: cutting surface
67: cut surface
70: unit laminated substrate
RC: Center of rotation

Claims (6)

유리층과 수지층이 적층된 적층 기판으로부터 소정 사이즈의 단위 적층 기판을 잘라내는 절단 공정을 포함하고,
상기 절단 공정에서는, 상기 단위 적층 기판의 상기 유리층의 절단면이 상기 수지층의 절단면에 대하여 외측에 위치하도록 상기 유리층을 절단하는 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
And a cutting step of cutting out a unit laminated substrate of a predetermined size from a laminated substrate in which a glass layer and a resin layer are laminated,
In the cutting step, a method of manufacturing a flexible organic EL display in which the glass layer is cut so that the cut surface of the glass layer of the unit laminated substrate is located outside the cut surface of the resin layer.
제1항에 있어서,
상기 유리층은, 상기 수지층이 형성되는 제1 평면 및, 상기 제1 평면과 쌍을 이루는 제2 평면을 포함하고,
상기 절단 공정에서는, 상기 제2 평면으로부터 상기 제1 평면으로 향함에 따라 상기 유리층의 폭이 좁아지는 절단면이 형성되도록 상기 유리층을 절단하는 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
According to claim 1,
The glass layer includes a first plane on which the resin layer is formed, and a second plane paired with the first plane,
In the cutting step, a method of manufacturing a flexible organic EL display, in which the glass layer is cut so that a cutting surface in which the width of the glass layer is narrowed is formed from the second plane to the first plane.
제2항에 있어서,
상기 절단 공정에서는, 상기 제2 평면으로부터 상기 제1 평면으로 향함에 따라 상기 유리층의 폭이 좁아지는 스크라이브 라인이 형성되도록 상기 유리층을 스크라이브하고, 스크라이브된 상기 유리층을 브레이크하는 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
According to claim 2,
In the cutting process, a flexible organic EL display that scribes the glass layer so as to form a scribe line that narrows the width of the glass layer as it moves from the second plane to the first plane, and breaks the scribed glass layer. Method of manufacture.
제3항에 있어서,
상기 절단 공정에서는, 회전 중심면에 대하여 비대칭인 형상의 날끝부를 갖는 스크라이빙 휠을 이용하여 상기 유리층을 스크라이브하는 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
According to claim 3,
In the cutting step, a method of manufacturing a flexible organic EL display using a scribing wheel having a blade end having an asymmetric shape with respect to a rotational center surface.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
레이저 리프트 오프에 의해 상기 단위 적층 기판의 상기 유리층과 상기 수지층을 박리하는 박리 공정을 추가로 포함하는 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 4,
A method of manufacturing a flexible organic EL display, further comprising a peeling step of peeling the glass layer and the resin layer of the unit laminated substrate by laser lift-off.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 절단 공정에서는, 복수의 상기 적층 기판을 구비하고, 상기 복수의 적층 기판은 제1 유리층과 제1 수지층이 적층된 제1 적층 기판 및, 제2 유리층과 제2 수지층이 적층된 제2 적층 기판을 포함하고, 상기 제1 수지층과 상기 제2 수지층이 대향하도록 적층된 다층 적층 기판으로부터 단위 적층 기판을 잘라내는 플렉시블 유기 EL 디스플레이의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 5,
In the cutting step, a plurality of the laminated substrates are provided, and the plurality of laminated substrates is a first laminated substrate on which a first glass layer and a first resin layer are laminated, and a second glass layer and a second resin layer are laminated. A method of manufacturing a flexible organic EL display including a second laminated substrate, and cutting the unit laminated substrate from the multilayer laminated substrate stacked such that the first resin layer and the second resin layer are opposed to each other.
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