JP2020071971A - Flexible organic el display manufacturing method - Google Patents

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剛史 池田
Tsuyoshi Ikeda
剛史 池田
生芳 高松
Ikuyoshi Takamatsu
生芳 高松
山本 幸司
Koji Yamamoto
山本  幸司
東光 崔
Dong Kwang Choi
東光 崔
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Abstract

To provide a flexible organic EL display manufacturing method that does not easily reduce manufacturing efficiency.SOLUTION: A flexible organic EL display manufacturing method is related to manufacturing of a multilayer laminated substrate 10 that includes a first laminated substrate 11 in which a first glass layer 11A and a first resin layer 11B are laminated, and a second laminated substrate 12 in which a second glass layer 12A and a second resin layer 12B are laminated, and in which the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are laminated so as to face each other. The manufacturing method includes a pre-processing step of performing pre-processing for breaking on at least one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, and a post-cutting step of breaking the pre-processed glass layer with a gas generated by irradiating the first resin layer 11B and the second resin layer 12B with laser.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a flexible organic EL display.

有機EL(electro luminescence)ディスプレイは発光層、電極、および、基板が積層された発光デバイスを備える。フレキシブル有機ELディスプレイでは、基板にフレキシブル基板が用いられる。フレキシブル有機ELディスプレイの製造工程では、ガラス層に樹脂層が形成され、樹脂層に発光層等が形成される(例えば特許文献1)。   An organic EL (electro luminescence) display includes a light emitting device in which a light emitting layer, electrodes, and a substrate are laminated. In a flexible organic EL display, a flexible substrate is used as the substrate. In a manufacturing process of a flexible organic EL display, a resin layer is formed on a glass layer, and a light emitting layer and the like are formed on the resin layer (for example, Patent Document 1).

再公表特許WO2011/030716号公報Republished Patent WO2011 / 030716

新しい構造の発光デバイスが提案されている。この発光デバイスは、対向するように設けられる第1樹脂層および第2樹脂層を有する。第1樹脂層と第2樹脂層との間に発光層等が設けられる。従来の発光デバイスとは構造が異なるため、新しい構造の発光デバイスの製造に関する効率が低下するおそれがある。   A light emitting device having a new structure has been proposed. This light emitting device has a first resin layer and a second resin layer provided so as to face each other. A light emitting layer or the like is provided between the first resin layer and the second resin layer. Since the structure of the light emitting device is different from that of the conventional light emitting device, the manufacturing efficiency of the light emitting device having a new structure may be reduced.

本発明の目的は、製造効率が低下しにくいフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a flexible organic EL display in which manufacturing efficiency is less likely to decrease.

本発明に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、ガラス層と樹脂層とが積層された複数の積層基板を備え、前記複数の積層基板は第1ガラス層と第1樹脂層とが積層された第1積層基板、および、第2ガラス層と第2樹脂層とが積層された第2積層基板を含み、前記第1樹脂層と前記第2樹脂層とが対向するように積層された多層積層基板の製造に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法であって、前記複数の積層基板の少なくとも一方の前記ガラス層にブレイクのための予備加工を施す予備加工工程と、前記多層積層基板について、前記予備加工が施された前記ガラス層を前記樹脂層に対するレーザの照射にともない発生するガスでブレイクする後段切断工程とを含む。
この製造方法では、レーザにより樹脂層を切断する作業に併せてガラス層が切断される。多層積層基板の切断に関する工数が削減され、製造効率が低下しにくい。
A method for manufacturing a flexible organic EL display according to the present invention includes a plurality of laminated substrates in which a glass layer and a resin layer are laminated, and the plurality of laminated substrates include a first glass layer and a first resin layer laminated. A multi-layer laminated substrate including one laminated substrate and a second laminated substrate in which a second glass layer and a second resin layer are laminated, and laminated so that the first resin layer and the second resin layer face each other. A method of manufacturing a flexible organic EL display relating to the manufacturing of a multi-layered substrate, the pre-processing step of performing pre-processing for breaking the glass layer of at least one of the plurality of laminated substrates; And a subsequent cutting step of breaking the applied glass layer with a gas generated by irradiating the resin layer with a laser.
In this manufacturing method, the glass layer is cut along with the work of cutting the resin layer by the laser. The number of steps for cutting the multilayer laminated substrate is reduced, and the manufacturing efficiency is less likely to decrease.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記後段切断工程では、前記樹脂層に対する1回あたりのレーザの照射におけるレーザの出力を、所定温度以上のガスの発生が促進される所定出力以上に設定する。
この製造方法では、レーザによる樹脂層の切断にともない比較的高温のガスが発生し、ガラス層がガスにより適切にブレイクされる。
In one example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, in the latter cutting step, the laser output in the laser irradiation per one time with respect to the resin layer is set to be equal to or higher than a predetermined output at which gas generation at a predetermined temperature or higher is promoted. Set.
In this manufacturing method, a relatively high temperature gas is generated as the resin layer is cut by the laser, and the glass layer is appropriately broken by the gas.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記予備加工工程では、前記複数の積層基板の一方の前記ガラス層に前記予備加工を施し、前記複数の積層基板の他方の前記ガラス層に前記予備加工を施さない。
この製造方法では、一方のガラス層だけがガスでブレイクされる。両方のガラス層がガスでブレイクされる場合と比較して、ブレイク時のガラス層の状態が安定する。
In an example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, in the preliminary processing step, the preliminary processing is performed on one of the glass layers of the plurality of laminated substrates, and the preliminary operation is performed on the other glass layer of the plurality of laminated substrates. Not processed.
In this manufacturing method, only one glass layer is broken by the gas. Compared with the case where both glass layers are broken by gas, the state of the glass layers at the time of breaking becomes stable.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記後段切断工程では、前記予備加工が施されていない前記ガラス層を介して前記樹脂層にレーザを照射する。
この製造方法では、レーザがガラス層の被加工部の影響を受けることなく樹脂層に照射され、樹脂層が効率的に切断またはスクライブされる。
In one example of the method of manufacturing the flexible organic EL display, in the latter cutting step, the resin layer is irradiated with a laser through the glass layer that is not subjected to the preliminary processing.
In this manufacturing method, the laser is irradiated to the resin layer without being affected by the processed portion of the glass layer, and the resin layer is efficiently cut or scribed.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記後段切断工程では、前記複数の積層基板の両方の前記樹脂層をレーザにより切断した後に、前記複数の積層基板の他方の前記ガラス層を切断する。
この製造方法では、切断されていない他方のガラス層により両方の樹脂層が支持された状態で両方の樹脂層がレーザにより切断される。切断時の樹脂層の状態が安定する。
In one example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, in the latter cutting step, after cutting both the resin layers of the plurality of laminated substrates with a laser, the other glass layer of the plurality of laminated substrates is cut. ..
In this manufacturing method, both resin layers are cut by the laser while both resin layers are supported by the other glass layer which is not cut. The state of the resin layer at the time of cutting becomes stable.

本発明によれば、フレキシブル有機ELディスプレイの製造効率が低下しにくくなる。   According to the present invention, the manufacturing efficiency of a flexible organic EL display is less likely to decrease.

第1実施形態の製造方法に関する多層積層基板の断面図。Sectional drawing of the multilayer laminated substrate regarding the manufacturing method of 1st Embodiment. 図1の多層積層基板の平面図。The top view of the multilayer laminated substrate of FIG. レーザ加工装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of a laser processing apparatus. スクライブ加工装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of a scribe processing apparatus. 実施形態の製造方法を示すフローチャート。3 is a flowchart showing a manufacturing method of the embodiment. 予備加工工程および後段切断工程の例を示す図。The figure which shows the example of a preliminary processing process and a latter part cutting process. レーザ加工装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of a laser processing apparatus. 剥離工程の一例を示す図。The figure which shows an example of a peeling process.

(実施形態)
図面を参照してフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法について説明する。フレキシブル有機ELディスプレイは、据置型の機器および携帯機器等に用いられる。据置型の機器の一例は、パーソナルコンピュータおよびテレビ受像機である。携帯機器の一例は、携帯情報端末、ウェアラブルコンピュータ、および、ノート型パーソナルコンピュータである。携帯情報端末の一例はスマートフォン、タブレット、および、携帯ゲーム機である。ウェアラブルコンピュータの一例は、ヘッドマウントディスプレイおよびスマートウォッチである。
(Embodiment)
A method for manufacturing a flexible organic EL display will be described with reference to the drawings. Flexible organic EL displays are used in stationary devices, mobile devices, and the like. An example of a stationary device is a personal computer and a television receiver. Examples of mobile devices are personal digital assistants, wearable computers, and notebook personal computers. Examples of mobile information terminals are smartphones, tablets, and mobile game consoles. Examples of wearable computers are head mounted displays and smart watches.

フレキシブル有機ELディスプレイは、発光層、電極、および、基板が積層された発光デバイスと、発光デバイスを一方から覆う第1保護フィルムと、発光デバイスを他方から覆う第2保護フィルムとを有する。第1保護フィルムおよび第2保護フィルムはそれぞれ、例えばPET(polyethylene terephthalate)が用いられる。なお、第1保護フィルムおよび第2保護フィルムの一方は省略してもよい。発光デバイスの製造工程では、図1に示される1枚の多層積層基板10から複数の発光デバイスが製造される。   The flexible organic EL display has a light emitting device in which a light emitting layer, an electrode, and a substrate are laminated, a first protective film that covers the light emitting device from one side, and a second protective film that covers the light emitting device from the other side. PET (polyethylene terephthalate) is used for the first protective film and the second protective film, respectively. One of the first protective film and the second protective film may be omitted. In the manufacturing process of the light emitting device, a plurality of light emitting devices are manufactured from the single multilayer laminated substrate 10 shown in FIG.

多層積層基板10は、フレキシブル有機ELディスプレイの製造の途中段階で製造される。多層積層基板10は、第1ガラス層11Aと第1樹脂層11Bとが積層された第1積層基板11と、第2ガラス層12Aと第2樹脂層12Bとが積層された第2積層基板12とを有する。多層積層基板10は、第1樹脂層11Bと第2樹脂層12Bとが対向するように第1積層基板11と第2積層基板12とが積層されて構成されている。多層積層基板10は、導電層13をさらに有する。導電層13は、例えば第1積層基板11の第1樹脂層11B上に形成されている。導電層13は、第1樹脂層11Bと第2樹脂層12Bとに挟まれている。導電層13は、OLED(Organic Light Diode)、TFT(Thin Film Transistor)等の電子デバイス用部材が形成されている。第1樹脂層11B、導電層13、および、第2樹脂層12Bは、発光デバイスを構成している。   The multilayer laminated substrate 10 is manufactured at an intermediate stage of manufacturing a flexible organic EL display. The multilayer laminated substrate 10 includes a first laminated substrate 11 in which a first glass layer 11A and a first resin layer 11B are laminated, and a second laminated substrate 12 in which a second glass layer 12A and a second resin layer 12B are laminated. Have and. The multilayer laminated substrate 10 is configured by laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 such that the first resin layer 11B and the second resin layer 12B face each other. The multilayer laminated substrate 10 further includes a conductive layer 13. The conductive layer 13 is formed on the first resin layer 11B of the first laminated substrate 11, for example. The conductive layer 13 is sandwiched between the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. The conductive layer 13 is formed with an electronic device member such as an OLED (Organic Light Diode) or a TFT (Thin Film Transistor). The first resin layer 11B, the conductive layer 13, and the second resin layer 12B form a light emitting device.

第1積層基板11の第1ガラス層11Aと第2積層基板12の第2ガラス層12Aとは同じ材料が用いられ、同じサイズに形成されている。第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの組成は、特に限定されないが、例えばアルカリ金属酸化物を含有するガラス、または無アルカリガラス等の種々の組成のガラスを用いることができる。アルカリ金属酸化物を含有するガラスの一例は、ソーダライムガラスである。本実施形態では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aは、無アルカリガラスが用いられる。第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの厚さはそれぞれ、特に限定されないが、例えば0.5mm程度であることが好ましい。第1ガラス層11Aは、第1樹脂層11Bが形成される第1平面14A、および、第1平面14Aと対をなす第2平面14Bを有する。第2ガラス層12Aは、第2樹脂層12Bが形成される第1平面15A、および、第1平面15Aと対をなす第2平面15Bを有する。   The first glass layer 11A of the first laminated substrate 11 and the second glass layer 12A of the second laminated substrate 12 are made of the same material and have the same size. The composition of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is not particularly limited, but glass having various compositions such as glass containing an alkali metal oxide or non-alkali glass can be used. An example of glass containing an alkali metal oxide is soda lime glass. In this embodiment, non-alkali glass is used for the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. The thickness of each of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is not particularly limited, but is preferably about 0.5 mm, for example. The first glass layer 11A has a first flat surface 14A on which the first resin layer 11B is formed, and a second flat surface 14B paired with the first flat surface 14A. The second glass layer 12A has a first flat surface 15A on which the second resin layer 12B is formed, and a second flat surface 15B paired with the first flat surface 15A.

第1積層基板11の第1樹脂層11Bと第2積層基板12の第2樹脂層12Bとは同じ材料が用いられ、同じサイズに形成されている。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの組成は、特に限定されないが、例えばポリイミド(PI)を用いることができる。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの厚さはそれぞれ、特に限定されないが、例えば10μm以上30μm以下の範囲であることが好ましい。   The first resin layer 11B of the first laminated substrate 11 and the second resin layer 12B of the second laminated substrate 12 are made of the same material and have the same size. The compositions of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are not particularly limited, but polyimide (PI) can be used, for example. The thickness of each of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 μm or more and 30 μm or less, for example.

図2は、多層積層基板10の平面図である。
図2の破線によって示される切断予定部16,17に沿って多層積層基板10を格子状に切断することによって単位積層基板20が形成される。単位積層基板20の平面視におけるサイズは、平面視において発光デバイスの予め決められたサイズに相当する。
FIG. 2 is a plan view of the multilayer laminated substrate 10.
A unit laminated substrate 20 is formed by cutting the multilayer laminated substrate 10 in a lattice shape along the planned cutting portions 16 and 17 indicated by broken lines in FIG. The size of the unit laminated substrate 20 in plan view corresponds to the predetermined size of the light emitting device in plan view.

多層積層基板10の切断には、レーザ加工装置およびスクライブ加工装置の少なくとも一方が用いられる。図3は、レーザ加工装置の構成の一例であり、図4は、スクライブ加工装置の構成の一例である。図3および図4において、X軸方向、Y軸方向、および、Z軸方向を図3および図4に示すとおり規定する。   At least one of a laser processing device and a scribing device is used to cut the multilayer laminated substrate 10. FIG. 3 is an example of the configuration of the laser processing apparatus, and FIG. 4 is an example of the configuration of the scribing apparatus. 3 and 4, the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction are defined as shown in FIGS. 3 and 4.

図3に示されるように、レーザ加工装置30は、多層積層基板10を切断するためのレーザ装置31と、レーザ装置31に対して多層積層基板10を移動させるための機械駆動系32と、レーザ装置31および機械駆動系32を制御する第1制御部33とを備える。   As shown in FIG. 3, the laser processing apparatus 30 includes a laser device 31 for cutting the multilayer laminated substrate 10, a mechanical drive system 32 for moving the multilayer laminated substrate 10 with respect to the laser device 31, and a laser. A first control unit 33 that controls the device 31 and the mechanical drive system 32.

レーザ装置31は、多層積層基板10における第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bと、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aとの少なくとも一方を加工可能である。レーザ装置31は、多層積層基板10にレーザ光を照射するためのレーザ発振器34と、レーザ光を機械駆動系32に伝送する伝送光学系35とを有する。レーザ発振器34は、例えばUV(Ultra Violet)レーザまたはCOレーザである。レーザ加工装置30が第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを加工する場合、レーザ発振器34はUVレーザである。レーザ加工装置30が第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを加工する場合、レーザ発振器34はCOレーザまたはUVレーザである。伝送光学系35は、例えば集光レンズ、複数のミラー、プリズム、ビームエキスパンダ等から構成される。また、伝送光学系35は、例えばレーザ発振器34が組み込まれたレーザ照射ヘッドをX軸方向に移動させるためのX軸方向移動機構を有する。レーザ発振器34から照射されたレーザ光は、伝送光学系35を介して多層積層基板10に向けて照射される。 The laser device 31 can process at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B and the first glass layer 11A and the second glass layer 12A in the multilayer laminated substrate 10. The laser device 31 has a laser oscillator 34 for irradiating the multilayer laminated substrate 10 with laser light, and a transmission optical system 35 for transmitting the laser light to the mechanical drive system 32. The laser oscillator 34 is, for example, a UV (Ultra Violet) laser or a CO 2 laser. When the laser processing device 30 processes the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, the laser oscillator 34 is a UV laser. When the laser processing device 30 processes the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, the laser oscillator 34 is a CO 2 laser or a UV laser. The transmission optical system 35 includes, for example, a condenser lens, a plurality of mirrors, a prism, a beam expander, and the like. Further, the transmission optical system 35 has an X-axis direction moving mechanism for moving the laser irradiation head in which the laser oscillator 34 is incorporated, for example, in the X-axis direction. The laser light emitted from the laser oscillator 34 is emitted toward the multilayer laminated substrate 10 via the transmission optical system 35.

機械駆動系32は、レーザ装置31とZ軸方向に対向して配置されている。機械駆動系32は、ベッド36、加工テーブル37、および、移動装置38から構成される。加工テーブル37上には、多層積層基板10が載置される。移動装置38は、加工テーブル37をベッド36に対して水平方向(X軸方向およびY軸方向)に移動させる。移動装置38は、ガイドレール、移動テーブル、モータ等を有する公知の機構である。   The mechanical drive system 32 is arranged to face the laser device 31 in the Z-axis direction. The mechanical drive system 32 includes a bed 36, a processing table 37, and a moving device 38. The multilayer laminated substrate 10 is placed on the processing table 37. The moving device 38 moves the processing table 37 in the horizontal direction (X-axis direction and Y-axis direction) with respect to the bed 36. The moving device 38 is a known mechanism having a guide rail, a moving table, a motor, and the like.

第1制御部33は、予め定められる制御プログラムを実行する演算処理装置を有する。演算処理装置は、例えばCPU(Central Processing Unit)またはMPU(Micro Processing Unit)を有する。第1制御部33は、1または複数のマイクロコンピュータを有してもよい。第1制御部33は、記憶部をさらに有する。記憶部には、各種の制御プログラムおよび各種の制御処理に用いられる情報が記憶される。記憶部は、例えば不揮発性メモリおよび揮発性メモリを有する。第1制御部33は、レーザ装置31に設けられてもよいし、機械駆動系32に設けられてもよいし、レーザ装置31および機械駆動系32とは別に設けられてもよい。第1制御部33がレーザ装置31および機械駆動系32とは別に設けられる場合、第1制御部33の配置位置は任意に設定可能である。   The first controller 33 has an arithmetic processing unit that executes a predetermined control program. The arithmetic processing unit has, for example, a CPU (Central Processing Unit) or an MPU (Micro Processing Unit). The first control unit 33 may include one or more microcomputers. The first control unit 33 further includes a storage unit. The storage unit stores various control programs and information used for various control processes. The storage unit has, for example, a non-volatile memory and a volatile memory. The first control unit 33 may be provided in the laser device 31, may be provided in the mechanical drive system 32, or may be provided separately from the laser device 31 and the mechanical drive system 32. When the first control unit 33 is provided separately from the laser device 31 and the mechanical drive system 32, the arrangement position of the first control unit 33 can be set arbitrarily.

図4に示されるように、スクライブ加工装置40は、スクライビングホイール50と多層積層基板10とがX軸方向およびY軸方向に相対的に移動することによって多層積層基板10にX軸方向およびY軸方向に沿うスクライブラインを形成する。スクライブ加工装置40は、多層積層基板10を加工するための加工装置41と、多層積層基板10を搬送するための搬送装置42と、加工装置41および搬送装置42を制御する第2制御部43とを備える。   As shown in FIG. 4, in the scribing apparatus 40, the scribing wheel 50 and the multilayer laminated substrate 10 are relatively moved in the X-axis direction and the Y-axis direction, whereby the multilayer laminated substrate 10 is moved in the X-axis direction and the Y-axis direction. Form a scribe line along the direction. The scribing processing device 40 includes a processing device 41 for processing the multilayer laminated substrate 10, a transport device 42 for transporting the multilayer laminated substrate 10, and a second controller 43 for controlling the processing device 41 and the transport device 42. Equipped with.

搬送装置42は、一対のレール44、テーブル45、直進駆動装置46、回転装置47等から構成される。図4のスクライブ加工装置40では、スクライブ加工装置40のベース(図示略)に一対のレール44が配置され、直進駆動装置46によってテーブル45が一対のレール44に沿って往復移動し、回転装置47によってテーブル45が中心軸Cまわりを回転する。テーブル45には、多層積層基板10が載置される。直進駆動装置46の一例は、送りねじ装置を有する。回転装置47は、駆動源となるモータを有する。   The transfer device 42 includes a pair of rails 44, a table 45, a linear drive device 46, a rotation device 47, and the like. In the scribing device 40 of FIG. 4, a pair of rails 44 are arranged on the base (not shown) of the scribing device 40, and the linear drive device 46 causes the table 45 to reciprocate along the pair of rails 44, and the rotating device 47. This causes the table 45 to rotate about the central axis C. The multilayer laminated substrate 10 is placed on the table 45. An example of the linear drive device 46 has a feed screw device. The rotating device 47 has a motor that serves as a drive source.

加工装置41は、横駆動装置48、縦駆動装置49、および、スクライビングホイール50等から構成される。スクライビングホイール50は、スクライビングホイール50を保持するためのホルダユニットに取り付けられ、ホルダユニットは、ホルダユニットを保持するためのスクライブヘッドに取り付けられる。スクライブヘッドは、横駆動装置48によってX軸方向に移動し、縦駆動装置49によってZ軸方向に移動する。スクライビングホイール50がX軸方向に移動することによって、多層積層基板10にX軸方向に沿うスクライブラインを形成する。   The processing device 41 includes a lateral drive device 48, a vertical drive device 49, a scribing wheel 50, and the like. The scribing wheel 50 is attached to a holder unit for holding the scribing wheel 50, and the holder unit is attached to a scribing head for holding the holder unit. The scribing head is moved in the X-axis direction by the lateral drive device 48, and is moved in the Z-axis direction by the vertical drive device 49. By moving the scribing wheel 50 in the X-axis direction, a scribe line is formed in the multilayer laminated substrate 10 along the X-axis direction.

スクライビングホイール50は、ホルダユニットに取り付けられるピン(図示略)に回転可能に支持される。スクライビングホイール50を構成する材料の一例は、焼結ダイヤモンド(Poly Crystalline Diamond)、超硬金属、単結晶ダイヤモンド、および、多結晶ダイヤモンドである。   The scribing wheel 50 is rotatably supported by a pin (not shown) attached to the holder unit. Examples of the material forming the scribing wheel 50 are sintered diamond (Poly Crystalline Diamond), cemented carbide, single crystal diamond, and polycrystalline diamond.

第2制御部43は、予め定められる制御プログラムを実行する演算処理装置を有する。演算処理装置は、例えばCPUまたはMPUを有する。第2制御部43は、1または複数のマイクロコンピュータを有してもよい。第2制御部43は、記憶部をさらに有する。記憶部には、各種の制御プログラムおよび各種の制御処理に用いられる情報が記憶される。記憶部は、例えば不揮発性メモリおよび揮発性メモリを有する。第2制御部43は、加工装置41に設けられてもよいし、搬送装置42に設けられてもよいし、加工装置41および搬送装置42とは別に設けられてもよい。第2制御部43が加工装置41および搬送装置42とは別に設けられる場合、第2制御部43の配置位置は任意に設定可能である。   The second control unit 43 has an arithmetic processing unit that executes a predetermined control program. The arithmetic processing unit has, for example, a CPU or MPU. The second control unit 43 may have one or more microcomputers. The second control unit 43 further includes a storage unit. The storage unit stores various control programs and information used for various control processes. The storage unit has, for example, a non-volatile memory and a volatile memory. The second controller 43 may be provided in the processing device 41, may be provided in the transport device 42, or may be provided separately from the processing device 41 and the transport device 42. When the second control unit 43 is provided separately from the processing device 41 and the transfer device 42, the arrangement position of the second control unit 43 can be set arbitrarily.

〔フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法〕
次に、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の詳細について説明する。図5は、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の工程の一例を示す。
[Method for manufacturing flexible organic EL display]
Next, details of the method for manufacturing the flexible organic EL display will be described. FIG. 5 shows an example of steps of a method for manufacturing a flexible organic EL display.

フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法では、第1積層基板11および第2積層基板12を貼り合せて多層積層基板10を製造後、多層積層基板10を所定サイズに切断して単位積層基板20を製造する。次に、単位積層基板20から第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを除去することにより、発光デバイスが製造される。そして、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに第1保護フィルムおよび第2保護フィルムを取り付ける。これにより、フレキシブル有機ELディスプレイが製造される。   In the method of manufacturing a flexible organic EL display, after the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are bonded to each other to produce the multilayer laminated substrate 10, the multilayer laminated substrate 10 is cut into a predetermined size to produce the unit laminated substrate 20. .. Next, the light emitting device is manufactured by removing the first glass layer 11A and the second glass layer 12A from the unit laminated substrate 20. Then, the first protective film and the second protective film are attached to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. Thereby, a flexible organic EL display is manufactured.

図5に示されるように、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、第1積層基板11および第2積層基板12を積層する工程よりも前の工程である前段工程と、第1積層基板11および第2積層基板12を積層する工程以後の工程である後段工程とに区分される。本実施形態の前段工程は、前段積層工程を含む。前段積層工程は、第1積層基板11および第2積層基板12を製造する工程である。後段工程は、後段積層工程、後段加工工程、および、剥離工程を含む。後段積層工程は、第1積層基板11および第2積層基板12を積層して多層積層基板10を製造する工程である。後段加工工程は、多層積層基板10の切断予定部16,17を切断することによって単位積層基板20を製造する工程である。剥離工程は、レーザリフトオフ(LLO:Laser Lift Off)によって第1ガラス層11Aと第1樹脂層11Bとを剥離し、第2ガラス層12Aと第2樹脂層12Bとを剥離する工程である。以下、各工程の詳細について説明する。   As shown in FIG. 5, in the method for manufacturing a flexible organic EL display, a first step which is a step prior to the step of stacking the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, a first laminated substrate 11 and a second laminated substrate 11 The two-layer substrate 12 is divided into a subsequent step, which is a step after the step of stacking the two-layer board 12. The pre-stage process of this embodiment includes a pre-stage lamination process. The pre-stage laminating step is a step of manufacturing the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. The post-stage process includes a post-stage laminating process, a post-stage processing process, and a peeling process. The latter-stage laminating step is a step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 to manufacture the multilayer laminated substrate 10. The post-processing step is a step of manufacturing the unit laminated substrate 20 by cutting the planned cutting portions 16 and 17 of the multilayer laminated substrate 10. The peeling step is a step of peeling the first glass layer 11A and the first resin layer 11B and peeling the second glass layer 12A and the second resin layer 12B by laser lift off (LLO). The details of each step will be described below.

前段積層工程では、第1ガラス層11Aの第1平面14Aに第1樹脂層11Bを形成することによって第1積層基板11を製造し、第2ガラス層12Aの第1平面15Aに第2樹脂層12Bを形成することによって第2積層基板12を製造する。第1ガラス層11Aの第1平面14Aへの第1樹脂層11Bの形成方法、および、第2ガラス層12Aの第1平面15Aへの第2樹脂層12Bの形成方法はそれぞれ、ガラス層に樹脂層を塗布する方法、または、ガラス層に接着層を介して樹脂層をラミネートする方法を選択できる。またガラス層に樹脂層を固定する方法として、加熱硬化処理、または、プレス法による加熱および加圧処理を選択できる。   In the first-stage laminating step, the first laminated substrate 11 is manufactured by forming the first resin layer 11B on the first plane 14A of the first glass layer 11A, and the second resin layer is formed on the first plane 15A of the second glass layer 12A. The second laminated substrate 12 is manufactured by forming 12B. The method for forming the first resin layer 11B on the first flat surface 14A of the first glass layer 11A and the method for forming the second resin layer 12B on the first flat surface 15A of the second glass layer 12A are respectively the resin for the glass layer. A method of applying a layer or a method of laminating a resin layer on a glass layer via an adhesive layer can be selected. As a method for fixing the resin layer to the glass layer, heat curing treatment or heating and pressure treatment by a pressing method can be selected.

後段積層工程では、所定サイズに切断されていない第1積層基板11と所定サイズに切断されていない第2積層基板12とを積層する。一例では、第1積層基板11と第2積層基板12とが、例えば接着層SDを介して貼り合せられる。これにより、図1に示されるように、予備加工が施された多層積層基板10が製造される。   In the latter-stage laminating step, the first laminated substrate 11 not cut into a predetermined size and the second laminated substrate 12 not cut into a predetermined size are laminated. In one example, the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are attached to each other via, for example, the adhesive layer SD. Thereby, as shown in FIG. 1, the preliminarily processed multilayer laminated substrate 10 is manufactured.

後段加工工程は、予備加工工程および後段切断工程を含む。予備加工工程は、多層積層基板10の第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの少なくとも一方にブレイクのための予備加工を施す工程である。予備加工は、レーザ加工装置30またはスクライブ加工装置40によるスクライブによって施される。予備加工の一例は、スクライビングホイール50によって第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの少なくとも一方にクラックを形成する。後段切断工程は、予備加工が施されたガラス層を第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに対するレーザの照射にともない発生するガスでブレイクする工程を含む。   The post-processing step includes a pre-processing step and a post-cutting step. The pre-processing step is a step in which at least one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A of the multilayer laminated substrate 10 is pre-processed for breaking. The preliminary processing is performed by scribing by the laser processing device 30 or the scribing device 40. As an example of the pre-processing, the scribing wheel 50 forms cracks in at least one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. The second-stage cutting step includes a step of breaking the preliminarily processed glass layer with a gas generated by the laser irradiation of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B.

予備加工工程は、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの一方に予備加工を施し、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの他方に予備加工を施さない。図6は、第2ガラス層12Aに予備加工が施された例を示す。図6に示されるように、予備加工は、第2ガラス層12Aの切断予定部17Aに施され、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aに施されていない。切断予定部17Aには、スクライビングホイール50によってクラックが形成されている。   In the pre-processing step, one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is pre-processed, and the other of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is not pre-processed. FIG. 6 shows an example in which the second glass layer 12A is preliminarily processed. As shown in FIG. 6, the pre-processing is performed on the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A and not on the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A. A crack is formed by the scribing wheel 50 in the planned cutting portion 17A.

後段切断工程では、レーザによって第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bの少なくとも一方を切断、またはレーザによって第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bの少なくとも一方にスクライブラインを形成する。本実施形態では、後段切断工程では、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに対する1回あたりのレーザの照射におけるレーザの出力を、所定温度以上のガスの発生が促進される所定出力以上に設定する。所定出力以上に設定すると、第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bへのレーザの照射にともない多層積層基板10内に発生したガスが予備加工を施されたガラス層をブレイク可能な力をガラス層に作用させる。   In the latter cutting step, at least one of the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B and the planned cutting portion 17B of the second resin layer 12B is cut by laser, or the planned cutting portion 16B and the second cutting portion 16B of the first resin layer 11B are cut by laser. A scribe line is formed on at least one of the cut portions 17B of the resin layer 12B. In the present embodiment, in the second-stage cutting step, the laser output in the laser irradiation per one time with respect to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is set to be equal to or higher than a predetermined output that promotes the generation of gas at a predetermined temperature or higher. Set. When the output is set to be equal to or higher than the predetermined output, the gas generated in the multilayer laminated substrate 10 due to the laser irradiation to the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B and the planned cutting portion 17B of the second resin layer 12B is preliminarily processed. The force capable of breaking the glass layer is applied to the glass layer.

このように、後段切断工程では、多層積層基板10について、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aのうちの予備加工が施されたガラス層を、第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bに対するレーザの照射にともない発生するガスでブレイクする。   As described above, in the subsequent cutting step, the pre-processed glass layer of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A of the multilayer laminated substrate 10 is cut into the cut portion 16B of the first resin layer 11B. A break is caused by the gas generated by the irradiation of the laser on the planned cutting portion 17B of the second resin layer 12B.

一例では、第2ガラス層12Aの切断予定部17Aに予備加工が施された場合、第2ガラス層12A側から第2樹脂層12Bの切断予定部17Bに対してレーザを照射する。レーザによって第2樹脂層12Bの切断予定部17Bが切断されるときに発生するガスで第2ガラス層12Aの切断予定部17Aがブレイクされる。一例では、第2ガラス層12Aの切断予定部17Aに予備加工が施された場合、第1ガラス層11A側から第1樹脂層11Bの切断予定部16Bに対してレーザを照射して第1樹脂層11Bの切断予定部16Bを切断した後、同一の照射方向で第2樹脂層12Bの切断予定部17Bにレーザを照射して第2樹脂層12Bの切断予定部17Bを切断または第2樹脂層12Bの切断予定部17Bにスクライブラインを形成する。レーザによって第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bが加工されるときに発生するガスで第2ガラス層12Aの切断予定部17Aがブレイクされる。   In one example, when the pre-cut portion 17A of the second glass layer 12A is preliminarily processed, the pre-cut portion 17B of the second resin layer 12B is irradiated with a laser from the second glass layer 12A side. The planned cutting part 17A of the second glass layer 12A is broken by the gas generated when the planned cutting part 17B of the second resin layer 12B is cut by the laser. In one example, when the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A is preliminarily processed, the first glass layer 11A side is irradiated with laser to the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B to emit the first resin. After cutting the planned cutting part 16B of the layer 11B, the planned cutting part 17B of the second resin layer 12B is irradiated with laser in the same irradiation direction to cut the planned cutting part 17B of the second resin layer 12B or the second resin layer. A scribe line is formed on the planned cutting portion 17B of 12B. The gas to be cut when the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B and the planned cutting portion 17B of the second resin layer 12B are processed by the laser breaks the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A.

一例では、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aに予備加工が施された場合、第1ガラス層11A側から第1樹脂層11Bの切断予定部16Bに対してレーザを照射する。レーザによって第1樹脂層11Bの切断予定部16Bが切断されるときに発生するガスで第1ガラス層11Aの切断予定部16Aがブレイクされる。一例では、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aに予備加工が施された場合、第2ガラス層12A側から第2樹脂層12Bの切断予定部17Bに対してレーザを照射して第2樹脂層12Bの切断予定部17Bを切断した後、同一の照射方向で第1樹脂層11Bの切断予定部16Bにレーザを照射して第1樹脂層11Bの切断予定部16Bを切断または第1樹脂層11Bの切断予定部16Bにスクライブラインを形成する。レーザによって第2樹脂層12Bの切断予定部17Bおよび第1樹脂層11Bの切断予定部16Bが加工されるときに発生するガスで第1ガラス層11Aの切断予定部16Aがブレイクされる。   In one example, when the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A is preliminarily processed, the laser is irradiated from the first glass layer 11A side to the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B. The gas to be cut when cutting the cut portion 16B of the first resin layer 11B by the laser breaks the cut portion 16A of the first glass layer 11A. In one example, when the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A is preliminarily processed, a laser is applied to the planned cutting portion 17B of the second resin layer 12B from the second glass layer 12A side to apply the second resin. After cutting the planned cutting portion 17B of the layer 12B, the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B is irradiated with a laser in the same irradiation direction to cut the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B or the first resin layer. A scribe line is formed on the planned cutting portion 16B of 11B. The planned cutting part 16A of the first glass layer 11A is broken by the gas generated when the planned cutting part 17B of the second resin layer 12B and the planned cutting part 16B of the first resin layer 11B are processed by the laser.

後段切断工程は、予備加工が施されていない第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの他方を切断する。一例では、後段切断工程では、レーザ加工装置30またはスクライブ加工装置40によって第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの他方にスクライブラインを形成した後、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの他方をスクライブラインに沿ってブレイクする。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの一方にスクライブラインが形成されている場合、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aのブレイク時に併せてブレイクする。これにより、単位積層基板20が製造される。一例では、後段切断工程では、レーザまたはダイシングによって第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの他方を切断する。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの一方にスクライブラインが形成されている場合、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの他方の切断後、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの一方をブレイクする。これにより、単位積層基板20が製造される。   In the latter-stage cutting step, the other of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A which has not been preliminarily processed is cut. In one example, in the second-stage cutting step, after the scribe line is formed on the other of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A by the laser processing device 30 or the scribing device 40, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are formed. Break the other along the scribe line. When the scribe line is formed on one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are also broken at the time of breaking. As a result, the unit laminated substrate 20 is manufactured. In one example, in the latter cutting step, the other of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is cut by laser or dicing. When the scribe line is formed on one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, the first resin layer 11B and the second resin layer are cut after the other of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is cut. Break one of 12B. As a result, the unit laminated substrate 20 is manufactured.

予備加工工程および後段切断工程において、ガラス層および樹脂層のそれぞれをレーザによって切断する場合、または、ガラス層および樹脂層のそれぞれにレーザによってクラックを形成する場合、図3に示されるレーザ加工装置30に代えて、図7に示されるレーザ加工装置30Aが用いられる。レーザ加工装置30Aは、レーザ加工装置30と比較して、レーザ装置の構成が異なる。以下、レーザ加工装置30Aのうちの異なる構成について説明する。   In the pre-processing step and the subsequent cutting step, when the glass layer and the resin layer are each cut by laser, or when the cracks are formed in each of the glass layer and the resin layer by laser, the laser processing device 30 shown in FIG. Instead, the laser processing apparatus 30A shown in FIG. 7 is used. The laser processing device 30A is different from the laser processing device 30 in the configuration of the laser device. Hereinafter, a different configuration of the laser processing device 30A will be described.

レーザ加工装置30Aのレーザ装置31Aは、第1レーザ発振器34Aおよび第2レーザ発振器34Bを含む。第1レーザ発振器34AはUVレーザであり、第2レーザ発振器34BはCOレーザである。第1レーザ発振器34Aから照射されたレーザ光、および、第2レーザ発振器34Bから照射されたレーザ光は、伝送光学系35を介して第1積層基板11および第2積層基板12に照射される。なお、伝送光学系35は、第1レーザ発振器34Aに対応する伝送光学系と、第2レーザ発振器34Bに対応する伝送光学系とが個別に設けられてもよい。 The laser device 31A of the laser processing device 30A includes a first laser oscillator 34A and a second laser oscillator 34B. The first laser oscillator 34A is a UV laser and the second laser oscillator 34B is a CO 2 laser. The laser light emitted from the first laser oscillator 34A and the laser light emitted from the second laser oscillator 34B are applied to the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 via the transmission optical system 35. The transmission optical system 35 may be provided with a transmission optical system corresponding to the first laser oscillator 34A and a transmission optical system corresponding to the second laser oscillator 34B separately.

第1制御部33は、第1積層基板11および第2積層基板12に対する加工対象の種類(ガラス層または樹脂層)に応じて第1レーザ発振器34Aおよび第2レーザ発振器34Bを選択する。例えば第1制御部33は、予め記憶された制御プログラムによって加工対象の種類であるガラス層および樹脂層の加工順番を定め、定められた加工順番に応じて第1レーザ発振器34Aおよび第2レーザ発振器34Bを選択する。   The first control unit 33 selects the first laser oscillator 34A and the second laser oscillator 34B according to the type (glass layer or resin layer) of the processing target for the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. For example, the first control unit 33 determines the processing order of the glass layer and the resin layer, which are the types of processing targets, according to a control program stored in advance, and the first laser oscillator 34A and the second laser oscillator according to the determined processing order. Select 34B.

剥離工程では、レーザリフトオフ装置(図示略)を用いる。本実施形態では、レーザリフトオフ装置のレーザとしてUVレーザが用いられる。図8(a)に示されるように、第1ガラス層11A側から第1樹脂層11Bにレーザを照射することによって第1樹脂層11Bと第1ガラス層11Aとを剥離する。第1樹脂層11Bと第1ガラス層11Aとを剥離する場合、レーザは、第1ガラス層11Aの第2平面14Bに直交するように照射される。次に、図8(b)に示されるように、第2ガラス層12A側から第2樹脂層12Bにレーザを照射することによって第2樹脂層12Bと第2ガラス層12Aとを剥離する。第2樹脂層12Bと第2ガラス層12Aとを剥離する場合、レーザは、第2ガラス層12Aの第2平面15Bに直交するように照射される。なお、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを剥離する順番は任意に変更可能である。例えば、第2樹脂層12Bと第2ガラス層12Aとを剥離した後、第1樹脂層11Bと第1ガラス層11Aとを剥離してもよい。   A laser lift-off device (not shown) is used in the peeling process. In this embodiment, a UV laser is used as the laser of the laser lift-off device. As shown in FIG. 8A, the first resin layer 11B and the first glass layer 11A are separated by irradiating the first resin layer 11B with a laser from the first glass layer 11A side. When peeling off the first resin layer 11B and the first glass layer 11A, the laser is applied so as to be orthogonal to the second plane 14B of the first glass layer 11A. Next, as shown in FIG. 8B, the second resin layer 12B and the second glass layer 12A are separated by irradiating the second resin layer 12B with a laser from the second glass layer 12A side. When peeling off the second resin layer 12B and the second glass layer 12A, the laser is applied so as to be orthogonal to the second plane 15B of the second glass layer 12A. The order of peeling the first glass layer 11A and the second glass layer 12A can be arbitrarily changed. For example, after peeling the second resin layer 12B and the second glass layer 12A, the first resin layer 11B and the first glass layer 11A may be peeled.

多層積層基板10から第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aが取り除かれた(図8(c)参照)後、第1樹脂層11Bを覆うように第1保護フィルムが取り付けられ、第2樹脂層12Bを覆うように第2保護フィルムが取り付けられることにより、フレキシブル有機ELディスプレイが製造される。   After the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are removed from the multilayer laminated substrate 10 (see FIG. 8C), the first protective film is attached so as to cover the first resin layer 11B, and the second resin The flexible organic EL display is manufactured by attaching the second protective film so as to cover the layer 12B.

本実施形態の効果について説明する。
(1)フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、第1積層基板11と第2積層基板12とを積層する工程以後の工程である後段工程において、多層積層基板10を所定サイズに切断する。この製造方法では、第1積層基板11と第2積層基板12とを積層された多層積層基板10の状態で切断されるため、積層作業が簡素化される。このため、フレキシブル有機ELディスプレイの製造効率が低下しにくい。
The effects of this embodiment will be described.
(1) In the method for manufacturing a flexible organic EL display, the multilayer laminated substrate 10 is cut into a predetermined size in a subsequent step that is a step after the step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. In this manufacturing method, since the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are cut in the laminated multilayer laminated substrate 10, the laminating operation is simplified. Therefore, the manufacturing efficiency of the flexible organic EL display is unlikely to decrease.

(2)フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、第1積層基板11の第1ガラス層11Aおよび第2積層基板12の第2ガラス層12Aの少なくとも一方にブレイクのための予備加工を施す予備加工工程と、予備加工が施されたガラス層を第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの少なくとも一方に対するレーザの照射にともない発生するガスでブレイクする後段切断工程とを含む。この製造方法では、レーザにより第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの少なくとも一方を切断する作業に併せて予備加工が施されたガラス層が切断される。このため、多層積層基板10の切断に関する工数が削減され、フレキシブル有機ELディスプレイの製造効率が低下しにくい。   (2) A method of manufacturing a flexible organic EL display is a pre-processing step of performing pre-processing for breaking on at least one of the first glass layer 11A of the first laminated substrate 11 and the second glass layer 12A of the second laminated substrate 12. And a post-cutting step of breaking the preliminarily processed glass layer with a gas generated when at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is irradiated with laser. In this manufacturing method, the glass layer that has been preliminarily processed is cut along with the operation of cutting at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B by the laser. Therefore, the number of steps for cutting the multilayer laminated substrate 10 is reduced, and the manufacturing efficiency of the flexible organic EL display is less likely to decrease.

(3)後段切断工程では、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに対する1回あたりのレーザの照射におけるレーザの出力を、所定温度以上のガスの発生が促進される所定出力以上に設定する。この製造方法では、レーザによる第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの少なくとも一方の切断にともない比較的高温のガスが発生し、予備加工が施されたガラス層がガスにより適切にブレイクされる。   (3) In the latter-stage cutting step, the laser output in the laser irradiation per time for the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is set to a predetermined output or higher at which generation of gas at a predetermined temperature or higher is promoted. . In this manufacturing method, a relatively high temperature gas is generated when at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is cut by the laser, and the pre-processed glass layer is appropriately broken by the gas. .

(4)予備加工工程では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの一方に予備加工を施し、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの他方に予備加工を施さない。この製造方法では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの一方だけがガスでブレイクされる。第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの両方がガスでブレイクされる場合と比較して、ブレイク時の第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの状態が安定する。   (4) In the pre-processing step, one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is pre-processed, and the other of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is not pre-processed. In this manufacturing method, only one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is broken by the gas. Compared with the case where both the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are broken by gas, the states of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A at the time of breaking are stable.

(5)後段切断工程では、予備加工が施されていないガラス層を介して、予備加工が施されていないガラス層に対応する樹脂層にレーザを照射する。この製造方法では、レーザが予備加工されたガラス層の被加工部の影響を受けることなく、予備加工が施されていないガラス層に対応する樹脂層に照射されるため、樹脂層が効率的に切断または効率的に樹脂層にクラックが形成される。   (5) In the latter-stage cutting step, the resin layer corresponding to the glass layer not subjected to the preliminary processing is irradiated with laser through the glass layer not subjected to the preliminary processing. In this manufacturing method, the laser is irradiated on the resin layer corresponding to the glass layer not subjected to the pre-processing, without being affected by the processed portion of the pre-processed glass layer, so that the resin layer is efficiently supplied. A crack is formed in the resin layer by cutting or efficiently.

(6)後段切断工程では、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bをレーザにより切断した後に、予備加工されていないガラス層を切断する。この製造方法では、予備加工が施されていないガラス層により第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bが支持された状態で第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bがレーザにより切断される。このため、切断時の第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの状態が安定する。   (6) In the latter cutting step, after cutting the first resin layer 11B and the second resin layer 12B with a laser, the glass layer that is not preliminarily processed is cut. In this manufacturing method, the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cut by laser while the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are supported by the glass layer which is not preliminarily processed. Therefore, the states of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B at the time of cutting are stable.

(変形例)
上記実施形態は本開示に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法が取り得る形態の例示であり、その形態を制限することを意図していない。本開示に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は実施形態に例示された形態とは異なる形態を取り得る。その一例は、実施形態の構成の一部を置換、変更、もしくは、省略した形態、または、実施形態に新たな構成を付加した形態である。以下の変形例において、実施形態の形態と共通する部分については、実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
(Modification)
The above embodiment is an example of a form that the method for manufacturing a flexible organic EL display according to the present disclosure can take, and is not intended to limit the form. The method for manufacturing the flexible organic EL display according to the present disclosure may take a form different from the form exemplified in the embodiment. An example thereof is a form in which a part of the configuration of the embodiment is replaced, changed, or omitted, or a configuration in which a new configuration is added to the embodiment. In the following modified examples, the same parts as those of the embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

・実施形態において、第1積層基板11に導電層13が形成されることに代えて、または第1積層基板11に導電層13が形成されることに加えて、第2積層基板12に導電層13が形成されてもよい。   In the embodiment, instead of forming the conductive layer 13 on the first laminated substrate 11 or in addition to forming the conductive layer 13 on the first laminated substrate 11, the conductive layer on the second laminated substrate 12 is formed. 13 may be formed.

・実施形態の予備加工工程において、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの両方に予備加工を施してもよい。この場合、後段切断工程において、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの両方をブレイクする。   -In the pre-processing step of the embodiment, both the first glass layer 11A and the second glass layer 12A may be pre-processed. In this case, both the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are broken in the latter cutting step.

・実施形態の後段切断工程において、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに対する1回あたりのレーザの照射におけるレーザの出力は任意に設定可能である。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに対する1回あたりのレーザの照射におけるレーザの出力を所定温度以上のガスの発生が促進される所定出力未満に設定してもよい。この場合、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに対して複数回にわたりレーザを照射することが好ましい。   In the second-stage cutting step of the embodiment, the laser output for each laser irradiation of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B can be arbitrarily set. The laser output per irradiation of the laser to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B may be set to be less than a predetermined output that promotes generation of a gas having a predetermined temperature or higher. In this case, it is preferable to irradiate the first resin layer 11B and the second resin layer 12B with laser a plurality of times.

・実施形態において、予備加工工程において第1ガラス層11Aの切断予定部16Aに予備加工が施された場合、後段切断工程において第1ガラス層11A側から第1樹脂層11Bの切断予定部16Bにレーザを照射することによって第1樹脂層11Bの切断予定部16Bにスクライブラインを形成してもよい。この場合、レーザによって第1樹脂層11Bの切断予定部16Bにスクライブラインを形成するときに発生するガスによって第1ガラス層11Aの切断予定部16Aがブレイクされる。また、予備加工工程において第2ガラス層12Aの切断予定部17Aに予備加工が施された場合、後段切断工程において第2ガラス層12A側から第2樹脂層12Bの切断予定部17Bにレーザを照射することによって第2樹脂層12Bの切断予定部17Bにスクライブラインを形成してもよい。この場合、レーザによって第2樹脂層12Bの切断予定部17Bにスクライブラインを形成するときに発生するガスによって第2ガラス層12Aの切断予定部17Aがブレイクされる。   In the embodiment, when the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A is subjected to the preliminary processing in the preliminary processing step, the first glass layer 11A side is cut into the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B in the subsequent cutting step. A scribe line may be formed in the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B by irradiating the laser. In this case, the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A is broken by the gas generated when the scribe line is formed in the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B by the laser. Further, when the pre-processed portion 17A of the second glass layer 12A is pre-processed in the pre-processing step, a laser is irradiated from the second glass layer 12A side to the pre-cut portion 17B of the second resin layer 12B in the subsequent cutting step. By doing so, a scribe line may be formed in the planned cutting portion 17B of the second resin layer 12B. In this case, the cut portion 17A of the second glass layer 12A is broken by the gas generated when the scribe line is formed in the cut portion 17B of the second resin layer 12B by the laser.

10 :多層積層基板
11 :第1積層基板
11A:第1ガラス層
11B:第1樹脂層
12 :第2積層基板
12A:第2ガラス層
12B:第2樹脂層
10: multilayer laminated substrate 11: first laminated substrate 11A: first glass layer 11B: first resin layer 12: second laminated substrate 12A: second glass layer 12B: second resin layer

Claims (5)

ガラス層と樹脂層とが積層された複数の積層基板を備え、前記複数の積層基板は第1ガラス層と第1樹脂層とが積層された第1積層基板、および、第2ガラス層と第2樹脂層とが積層された第2積層基板を含み、前記第1樹脂層と前記第2樹脂層とが対向するように積層された多層積層基板の製造に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法であって、
前記複数の積層基板の少なくとも一方の前記ガラス層にブレイクのための予備加工を施す予備加工工程と、
前記多層積層基板について、前記予備加工が施された前記ガラス層を前記樹脂層に対するレーザの照射にともない発生するガスでブレイクする後段切断工程とを含む
フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
A plurality of laminated substrates in which a glass layer and a resin layer are laminated, wherein the plurality of laminated substrates are a first laminated substrate in which a first glass layer and a first resin layer are laminated, and a second glass layer and a first laminated substrate. A method for manufacturing a flexible organic EL display, which comprises a second laminated substrate in which two resin layers are laminated, and a multilayer laminated substrate in which the first resin layer and the second resin layer are laminated so as to face each other. hand,
A pre-processing step of performing pre-processing for breaking on at least one of the glass layers of the plurality of laminated substrates;
A method of manufacturing a flexible organic EL display, comprising: a post-cutting step of breaking the preliminarily processed glass layer with a gas generated by irradiating the resin layer with a laser, with respect to the multilayer laminated substrate.
前記後段切断工程では、前記樹脂層に対する1回あたりのレーザの照射におけるレーザの出力を、所定温度以上のガスの発生が促進される所定出力以上に設定する
請求項1に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The flexible organic EL display according to claim 1, wherein in the latter-stage cutting step, a laser output per laser irradiation of the resin layer is set to a predetermined output or higher at which generation of a gas having a predetermined temperature or higher is accelerated. Manufacturing method.
前記予備加工工程では、前記複数の積層基板の一方の前記ガラス層に前記予備加工を施し、前記複数の積層基板の他方の前記ガラス層に前記予備加工を施さない
請求項1または2に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The said pre-processing process WHEREIN: The said pre-processing is performed to the said glass layer of one of these laminated substrates, The said pre-processing is not performed to the said glass layer of the other of these laminated substrates. Flexible organic EL display manufacturing method.
前記後段切断工程では、前記予備加工が施されていない前記ガラス層を介して前記樹脂層にレーザを照射する
請求項1〜3のいずれか一項に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method for manufacturing a flexible organic EL display according to claim 1, wherein in the latter-stage cutting step, the resin layer is irradiated with a laser through the glass layer that has not been subjected to the preliminary processing.
前記後段切断工程では、前記複数の積層基板の両方の前記樹脂層をレーザにより切断した後に、前記複数の積層基板の他方の前記ガラス層を切断する
請求項3または4に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The flexible organic EL display according to claim 3 or 4, wherein, in the latter-stage cutting step, after cutting both the resin layers of the plurality of laminated substrates with a laser, the other glass layer of the plurality of laminated substrates is cut. Manufacturing method.
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