JP2020071970A - Flexible organic el display manufacturing method - Google Patents

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剛史 池田
Tsuyoshi Ikeda
剛史 池田
生芳 高松
Ikuyoshi Takamatsu
生芳 高松
山本 幸司
Koji Yamamoto
山本  幸司
東光 崔
Dong Kwang Choi
東光 崔
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Abstract

To provide a flexible organic EL display manufacturing method that does not easily reduce manufacturing efficiency.SOLUTION: A flexible organic EL display manufacturing method is related to manufacturing of a multilayer laminated substrate that includes a first laminated substrate in which a first glass layer and a first resin layer are laminated, and a second laminated substrate in which a second glass layer and a second resin layer are laminated, and in which the first resin layer and the second resin layer are laminated so as to face each other. The manufacturing method includes a pre-processing step of performing pre-processing for breaking a first glass layer, a second glass layer, a first resin layer, and a second resin layer on the first glass layer, the second glass layer, the first resin layer, and the second resin layer respectively, and a post-cutting step of breaking the pre-processed multilayer laminated substrate.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a flexible organic EL display.

有機EL(electro luminescence)ディスプレイは発光層、電極、および、基板が積層された発光デバイスを備える。フレキシブル有機ELディスプレイでは、基板にフレキシブル基板が用いられる。フレキシブル有機ELディスプレイの製造工程では、ガラス層に樹脂層が形成され、樹脂層に発光層等が形成される(例えば特許文献1)。   An organic EL (electro luminescence) display includes a light emitting device in which a light emitting layer, electrodes, and a substrate are laminated. In a flexible organic EL display, a flexible substrate is used as the substrate. In a manufacturing process of a flexible organic EL display, a resin layer is formed on a glass layer, and a light emitting layer and the like are formed on the resin layer (for example, Patent Document 1).

再公表特許WO2011/030716号公報Republished Patent WO2011 / 030716

新しい構造の発光デバイスが提案されている。この発光デバイスは、対向するように設けられる第1樹脂層および第2樹脂層を有する。第1樹脂層と第2樹脂層との間に発光層等が設けられる。従来の発光デバイスとは構造が異なるため、新しい構造の発光デバイスの製造に関する効率が低下するおそれがある。   A light emitting device having a new structure has been proposed. This light emitting device has a first resin layer and a second resin layer provided so as to face each other. A light emitting layer or the like is provided between the first resin layer and the second resin layer. Since the structure of the light emitting device is different from that of the conventional light emitting device, the manufacturing efficiency of the light emitting device having a new structure may be reduced.

本発明の目的は、製造効率が低下しにくいフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a flexible organic EL display in which manufacturing efficiency is less likely to decrease.

本発明に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、ガラス層と樹脂層とが積層された複数の積層基板を備え、前記複数の積層基板は第1ガラス層と第1樹脂層とが積層された第1積層基板、および、第2ガラス層と第2樹脂層とが積層された第2積層基板を含み、前記第1樹脂層と前記第2樹脂層とが対向するように積層された多層積層基板の製造に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法であって、前記多層積層基板の前記ガラス層および前記樹脂層をブレイクするための予備加工を前記ガラス層および前記樹脂層のそれぞれに施す予備加工工程と、前記予備加工が施された前記多層積層基板をブレイクする後段切断工程とを含む。
この製造方法では、複数の積層基板を積層する工程よりも前の前段工程においてガラス層が切断されないため、複数の積層基板を積層する場合の作業性が向上し、製造効率が低下しにくい。
A method for manufacturing a flexible organic EL display according to the present invention includes a plurality of laminated substrates in which a glass layer and a resin layer are laminated, and the plurality of laminated substrates include a first glass layer and a first resin layer laminated. A multi-layer laminated substrate including one laminated substrate and a second laminated substrate in which a second glass layer and a second resin layer are laminated, and laminated so that the first resin layer and the second resin layer face each other. A method of manufacturing a flexible organic EL display relating to the manufacturing of, wherein a pre-processing step of subjecting each of the glass layer and the resin layer to a pre-processing for breaking the glass layer and the resin layer of the multilayer laminated substrate, And a post-cutting step of breaking the multilayer laminated substrate that has been subjected to the preliminary processing.
In this manufacturing method, since the glass layer is not cut in the preceding step prior to the step of stacking the plurality of laminated substrates, workability in stacking the plurality of laminated substrates is improved, and manufacturing efficiency is less likely to decrease.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記予備加工工程では、前記ガラス層および前記樹脂層のそれぞれに対して異なる手段で前記予備加工を施す。
この製造方法では、ガラス層および樹脂層のそれぞれに適した予備加工を選択できる。各層が適切に予備加工され、切断時の品質が向上する。
In an example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, in the preliminary processing step, the preliminary processing is performed on the glass layer and the resin layer by different means.
In this manufacturing method, preprocessing suitable for each of the glass layer and the resin layer can be selected. Each layer is properly pre-processed to improve cutting quality.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記予備加工工程では、前記ガラス層をスクライブし、前記樹脂層を冷却する。
この製造方法では、樹脂層をブレイクにより切断できる。例えばレーザにより樹脂層をスクライブする場合と比較し、樹脂層がブレイクされるまでに樹脂層が受ける熱の影響が小さく、樹脂層の品質が低下しにくい。
In one example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, the glass layer is scribed and the resin layer is cooled in the preliminary processing step.
In this manufacturing method, the resin layer can be cut by breaking. For example, as compared with the case of scribing the resin layer with a laser, the influence of heat applied to the resin layer until the resin layer is broken is small, and the quality of the resin layer is less likely to deteriorate.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記予備加工工程では、前記ガラス層をスクライビングホイールによりスクライブし、前記樹脂層をレーザによりスクライブする。
この製造方法では、既存の装置を用いてガラス層および樹脂層をそれぞれスクライブできる。
In an example of the method of manufacturing the flexible organic EL display, in the pre-processing step, the glass layer is scribed by a scribing wheel and the resin layer is scribed by a laser.
In this manufacturing method, the glass layer and the resin layer can be scribed using an existing device.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記予備加工工程は、前記複数の積層基板を積層する工程よりも前の前段工程に含まれる。
この製造方法では、複数の積層基板が積層されていない状態で予備加工されるため、例えば多層積層基板の樹脂層をレーザで予備加工する場合とは異なり、樹脂層の予備加工にレーザを用いてもガスの影響により樹脂層の品質が低下するおそれが低減される。
In one example of the method of manufacturing the flexible organic EL display, the preliminary processing step is included in a preceding step before the step of stacking the plurality of laminated substrates.
In this manufacturing method, since a plurality of laminated substrates are preliminarily processed in a state where they are not laminated, unlike the case where the resin layer of a multilayer laminated substrate is preliminarily processed by a laser, for example, a laser is used for the preliminary processing of the resin layer. Also, the possibility that the quality of the resin layer is deteriorated due to the influence of gas is reduced.

本発明によれば、フレキシブル有機ELディスプレイの製造効率が低下しにくくなる。   According to the present invention, the manufacturing efficiency of a flexible organic EL display is less likely to decrease.

第1実施形態の製造方法に関する多層積層基板の断面図。Sectional drawing of the multilayer laminated substrate regarding the manufacturing method of 1st Embodiment. 図1の多層積層基板の平面図。The top view of the multilayer laminated substrate of FIG. レーザ加工装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of a laser processing apparatus. スクライブ加工装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of a scribe processing apparatus. 実施形態の製造方法を示すフローチャート。3 is a flowchart showing a manufacturing method of the embodiment. 予備加工工程の例を示す図。The figure which shows the example of a preparatory process. 後段積層工程の例を示す図。The figure which shows the example of a latter stage lamination process. 剥離工程の一例を示す図。The figure which shows an example of a peeling process. 第2実施形態の製造方法に関する予備加工工程の第1の例を示す図。The figure which shows the 1st example of the preliminary processing process regarding the manufacturing method of 2nd Embodiment. 予備加工工程の第2の例を示す図。The figure which shows the 2nd example of a preparatory process. 予備加工工程の加工順番のパターンを示す図。The figure which shows the pattern of the processing order of a preliminary processing process. 予備加工工程の第3の例を示す図。The figure which shows the 3rd example of a preparatory process. レーザ加工装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of a laser processing apparatus.

(第1実施形態)
図面を参照してフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法について説明する。フレキシブル有機ELディスプレイは、据置型の機器および携帯機器等に用いられる。据置型の機器の一例は、パーソナルコンピュータおよびテレビ受像機である。携帯機器の一例は、携帯情報端末、ウェアラブルコンピュータ、および、ノート型パーソナルコンピュータである。携帯情報端末の一例はスマートフォン、タブレット、および、携帯ゲーム機である。ウェアラブルコンピュータの一例は、ヘッドマウントディスプレイおよびスマートウォッチである。
(First embodiment)
A method for manufacturing a flexible organic EL display will be described with reference to the drawings. Flexible organic EL displays are used in stationary devices, mobile devices, and the like. An example of a stationary device is a personal computer and a television receiver. Examples of mobile devices are personal digital assistants, wearable computers, and notebook personal computers. Examples of mobile information terminals are smartphones, tablets, and mobile game consoles. Examples of wearable computers are head mounted displays and smart watches.

フレキシブル有機ELディスプレイは、発光層、電極、および、基板が積層された発光デバイスと、発光デバイスを一方から覆う第1保護フィルムと、発光デバイスを他方から覆う第2保護フィルムとを有する。第1保護フィルムおよび第2保護フィルムはそれぞれ、例えばPET(polyethylene terephthalate)が用いられる。なお、第1保護フィルムおよび第2保護フィルムの一方は省略してもよい。発光デバイスの製造工程では、図1に示される1枚の多層積層基板10から複数の発光デバイスが製造される。   The flexible organic EL display has a light emitting device in which a light emitting layer, an electrode, and a substrate are laminated, a first protective film that covers the light emitting device from one side, and a second protective film that covers the light emitting device from the other side. PET (polyethylene terephthalate) is used for the first protective film and the second protective film, respectively. One of the first protective film and the second protective film may be omitted. In the manufacturing process of the light emitting device, a plurality of light emitting devices are manufactured from the single multilayer laminated substrate 10 shown in FIG.

多層積層基板10は、フレキシブル有機ELディスプレイの製造の途中段階で製造される。多層積層基板10は、第1ガラス層11Aと第1樹脂層11Bとが積層された第1積層基板11と、第2ガラス層12Aと第2樹脂層12Bとが積層された第2積層基板12とを有する。多層積層基板10は、第1樹脂層11Bと第2樹脂層12Bとが対向するように第1積層基板11と第2積層基板12とが積層されて構成されている。多層積層基板10は、導電層13をさらに有する。導電層13は、例えば第1積層基板11の第1樹脂層11B上に形成されている。導電層13は、第1樹脂層11Bと第2樹脂層12Bとに挟まれている。導電層13は、OLED(Organic Light Diode)、TFT(Thin Film Transistor)等の電子デバイス用部材が形成されている。第1樹脂層11B、導電層13、および、第2樹脂層12Bは、発光デバイスを構成している。   The multilayer laminated substrate 10 is manufactured at an intermediate stage of manufacturing a flexible organic EL display. The multilayer laminated substrate 10 includes a first laminated substrate 11 in which a first glass layer 11A and a first resin layer 11B are laminated, and a second laminated substrate 12 in which a second glass layer 12A and a second resin layer 12B are laminated. Have and. The multilayer laminated substrate 10 is configured by laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 such that the first resin layer 11B and the second resin layer 12B face each other. The multilayer laminated substrate 10 further includes a conductive layer 13. The conductive layer 13 is formed on the first resin layer 11B of the first laminated substrate 11, for example. The conductive layer 13 is sandwiched between the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. The conductive layer 13 is formed with an electronic device member such as an OLED (Organic Light Diode) or a TFT (Thin Film Transistor). The first resin layer 11B, the conductive layer 13, and the second resin layer 12B form a light emitting device.

第1積層基板11の第1ガラス層11Aと第2積層基板12の第2ガラス層12Aとは同じ材料が用いられ、同じサイズに形成されている。第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの組成は、特に限定されないが、例えばアルカリ金属酸化物を含有するガラス、または無アルカリガラス等の種々の組成のガラスを用いることができる。アルカリ金属酸化物を含有するガラスの一例は、ソーダライムガラスである。本実施形態では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aは、無アルカリガラスが用いられる。第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの厚さはそれぞれ、特に限定されないが、例えば0.5mm程度であることが好ましい。第1ガラス層11Aは、第1樹脂層11Bが形成される第1平面14A、および、第1平面14Aと対をなす第2平面14Bを有する。第2ガラス層12Aは、第2樹脂層12Bが形成される第1平面15A、および、第1平面15Aと対をなす第2平面15Bを有する。   The first glass layer 11A of the first laminated substrate 11 and the second glass layer 12A of the second laminated substrate 12 are made of the same material and have the same size. The composition of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is not particularly limited, but glass having various compositions such as glass containing an alkali metal oxide or non-alkali glass can be used. An example of glass containing an alkali metal oxide is soda lime glass. In this embodiment, non-alkali glass is used for the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. The thickness of each of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is not particularly limited, but is preferably about 0.5 mm, for example. The first glass layer 11A has a first flat surface 14A on which the first resin layer 11B is formed, and a second flat surface 14B paired with the first flat surface 14A. The second glass layer 12A has a first flat surface 15A on which the second resin layer 12B is formed, and a second flat surface 15B paired with the first flat surface 15A.

第1積層基板11の第1樹脂層11Bと第2積層基板12の第2樹脂層12Bとは同じ材料が用いられ、同じサイズに形成されている。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの組成は、特に限定されないが、例えばポリイミド(PI)を用いることができる。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの厚さはそれぞれ、特に限定されないが、例えば10μm以上30μm以下の範囲であることが好ましい。   The first resin layer 11B of the first laminated substrate 11 and the second resin layer 12B of the second laminated substrate 12 are made of the same material and have the same size. The compositions of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are not particularly limited, but polyimide (PI) can be used, for example. The thickness of each of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 μm or more and 30 μm or less, for example.

図2は、多層積層基板10の平面図である。
図2の破線によって示される切断予定部16,17に沿って多層積層基板10を格子状に切断することによって単位積層基板20が形成される。単位積層基板20の平面視におけるサイズは、平面視において発光デバイスの予め決められたサイズに相当する。
FIG. 2 is a plan view of the multilayer laminated substrate 10.
A unit laminated substrate 20 is formed by cutting the multilayer laminated substrate 10 in a lattice shape along the planned cutting portions 16 and 17 indicated by broken lines in FIG. The size of the unit laminated substrate 20 in plan view corresponds to the predetermined size of the light emitting device in plan view.

多層積層基板10の切断には、レーザ加工装置およびスクライブ加工装置の少なくとも一方が用いられる。図3は、レーザ加工装置の構成の一例であり、図4は、スクライブ加工装置の構成の一例である。図3および図4において、X軸方向、Y軸方向、および、Z軸方向を図3および図4に示すとおり規定する。   At least one of a laser processing device and a scribing device is used to cut the multilayer laminated substrate 10. FIG. 3 is an example of the configuration of the laser processing apparatus, and FIG. 4 is an example of the configuration of the scribing apparatus. 3 and 4, the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction are defined as shown in FIGS. 3 and 4.

図3に示されるように、レーザ加工装置30は、多層積層基板10を切断するためのレーザ装置31と、レーザ装置31に対して多層積層基板10を移動させるための機械駆動系32と、レーザ装置31および機械駆動系32を制御する第1制御部33とを備える。   As shown in FIG. 3, the laser processing apparatus 30 includes a laser device 31 for cutting the multilayer laminated substrate 10, a mechanical drive system 32 for moving the multilayer laminated substrate 10 with respect to the laser device 31, and a laser. A first control unit 33 that controls the device 31 and the mechanical drive system 32.

レーザ装置31は、多層積層基板10における第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bと、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aとの少なくとも一方を加工可能である。レーザ装置31は、多層積層基板10にレーザ光を照射するためのレーザ発振器34と、レーザ光を機械駆動系32に伝送する伝送光学系35とを有する。レーザ発振器34は、例えばUV(Ultra Violet)レーザまたはCOレーザである。レーザ加工装置30が第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを加工する場合、レーザ発振器34はUVレーザである。レーザ加工装置30が第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを加工する場合、レーザ発振器34はCOレーザまたはUVレーザである。伝送光学系35は、例えば集光レンズ、複数のミラー、プリズム、ビームエキスパンダ等から構成される。また、伝送光学系35は、例えばレーザ発振器34が組み込まれたレーザ照射ヘッドをX軸方向に移動させるためのX軸方向移動機構を有する。レーザ発振器34から照射されたレーザ光は、伝送光学系35を介して多層積層基板10に向けて照射される。 The laser device 31 can process at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B and the first glass layer 11A and the second glass layer 12A in the multilayer laminated substrate 10. The laser device 31 has a laser oscillator 34 for irradiating the multilayer laminated substrate 10 with laser light, and a transmission optical system 35 for transmitting the laser light to the mechanical drive system 32. The laser oscillator 34 is, for example, a UV (Ultra Violet) laser or a CO 2 laser. When the laser processing device 30 processes the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, the laser oscillator 34 is a UV laser. When the laser processing device 30 processes the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, the laser oscillator 34 is a CO 2 laser or a UV laser. The transmission optical system 35 includes, for example, a condenser lens, a plurality of mirrors, a prism, a beam expander, and the like. Further, the transmission optical system 35 has an X-axis direction moving mechanism for moving the laser irradiation head in which the laser oscillator 34 is incorporated, for example, in the X-axis direction. The laser light emitted from the laser oscillator 34 is emitted toward the multilayer laminated substrate 10 via the transmission optical system 35.

機械駆動系32は、レーザ装置31とZ軸方向に対向して配置されている。機械駆動系32は、ベッド36、加工テーブル37、および、移動装置38から構成される。加工テーブル37上には、多層積層基板10が載置される。移動装置38は、加工テーブル37をベッド36に対して水平方向(X軸方向およびY軸方向)に移動させる。移動装置38は、ガイドレール、移動テーブル、モータ等を有する公知の機構である。   The mechanical drive system 32 is arranged to face the laser device 31 in the Z-axis direction. The mechanical drive system 32 includes a bed 36, a processing table 37, and a moving device 38. The multilayer laminated substrate 10 is placed on the processing table 37. The moving device 38 moves the processing table 37 in the horizontal direction (X-axis direction and Y-axis direction) with respect to the bed 36. The moving device 38 is a known mechanism having a guide rail, a moving table, a motor, and the like.

第1制御部33は、予め定められる制御プログラムを実行する演算処理装置を有する。演算処理装置は、例えばCPU(Central Processing Unit)またはMPU(Micro Processing Unit)を有する。第1制御部33は、1または複数のマイクロコンピュータを有してもよい。第1制御部33は、記憶部をさらに有する。記憶部には、各種の制御プログラムおよび各種の制御処理に用いられる情報が記憶される。記憶部は、例えば不揮発性メモリおよび揮発性メモリを有する。第1制御部33は、レーザ装置31に設けられてもよいし、機械駆動系32に設けられてもよいし、レーザ装置31および機械駆動系32とは別に設けられてもよい。第1制御部33がレーザ装置31および機械駆動系32とは別に設けられる場合、第1制御部33の配置位置は任意に設定可能である。   The first controller 33 has an arithmetic processing unit that executes a predetermined control program. The arithmetic processing unit has, for example, a CPU (Central Processing Unit) or an MPU (Micro Processing Unit). The first control unit 33 may include one or more microcomputers. The first control unit 33 further includes a storage unit. The storage unit stores various control programs and information used for various control processes. The storage unit has, for example, a non-volatile memory and a volatile memory. The first control unit 33 may be provided in the laser device 31, may be provided in the mechanical drive system 32, or may be provided separately from the laser device 31 and the mechanical drive system 32. When the first control unit 33 is provided separately from the laser device 31 and the mechanical drive system 32, the arrangement position of the first control unit 33 can be set arbitrarily.

図4に示されるように、スクライブ加工装置40は、スクライビングホイール50と多層積層基板10とがX軸方向およびY軸方向に相対的に移動することによって多層積層基板10にX軸方向およびY軸方向に沿うスクライブラインを形成する。スクライブ加工装置40は、多層積層基板10を加工するための加工装置41と、多層積層基板10を搬送するための搬送装置42と、加工装置41および搬送装置42を制御する第2制御部43とを備える。   As shown in FIG. 4, in the scribing apparatus 40, the scribing wheel 50 and the multilayer laminated substrate 10 are relatively moved in the X-axis direction and the Y-axis direction, whereby the multilayer laminated substrate 10 is moved in the X-axis direction and the Y-axis direction. Form a scribe line along the direction. The scribing processing device 40 includes a processing device 41 for processing the multilayer laminated substrate 10, a transport device 42 for transporting the multilayer laminated substrate 10, and a second controller 43 for controlling the processing device 41 and the transport device 42. Equipped with.

搬送装置42は、一対のレール44、テーブル45、直進駆動装置46、回転装置47等から構成される。一対のレール44は、Y軸方向に沿って延びている。図4のスクライブ加工装置40では、スクライブ加工装置40のベース(図示略)に一対のレール44が配置され、直進駆動装置46によってテーブル45が一対のレール44に沿って往復移動し、回転装置47によってテーブル45が中心軸Cまわりを回転する。テーブル45には、多層積層基板10が載置される。直進駆動装置46の一例は、送りねじ装置を有する。回転装置47は、駆動源となるモータを有する。   The transfer device 42 includes a pair of rails 44, a table 45, a linear drive device 46, a rotation device 47, and the like. The pair of rails 44 extend along the Y-axis direction. In the scribing device 40 of FIG. 4, a pair of rails 44 are arranged on the base (not shown) of the scribing device 40, and the linear drive device 46 causes the table 45 to reciprocate along the pair of rails 44, and the rotating device 47. This causes the table 45 to rotate about the central axis C. The multilayer laminated substrate 10 is placed on the table 45. An example of the linear drive device 46 has a feed screw device. The rotating device 47 has a motor that serves as a drive source.

加工装置41は、横駆動装置48、縦駆動装置49、および、スクライビングホイール50等から構成される。スクライビングホイール50は、スクライビングホイール50を保持するためのホルダユニットに取り付けられる。ホルダユニットは、ホルダユニットを保持するためのスクライブヘッドに取り付けられる。スクライブヘッドは、横駆動装置48によってX軸方向に移動し、縦駆動装置49によってZ軸方向に移動する。スクライビングホイール50がX軸方向に移動することによって、多層積層基板10にX軸方向に沿うスクライブラインを形成する。   The processing device 41 includes a lateral drive device 48, a vertical drive device 49, a scribing wheel 50, and the like. The scribing wheel 50 is attached to a holder unit for holding the scribing wheel 50. The holder unit is attached to a scribing head for holding the holder unit. The scribing head is moved in the X-axis direction by the lateral drive device 48, and is moved in the Z-axis direction by the vertical drive device 49. By moving the scribing wheel 50 in the X-axis direction, a scribe line is formed in the multilayer laminated substrate 10 along the X-axis direction.

スクライビングホイール50は、ホルダユニットに取り付けられるピン(図示略)に回転可能に支持される。スクライビングホイール50を構成する材料の一例は、焼結ダイヤモンド(Poly Crystalline Diamond)、超硬金属、単結晶ダイヤモンド、および、多結晶ダイヤモンドである。   The scribing wheel 50 is rotatably supported by a pin (not shown) attached to the holder unit. Examples of the material forming the scribing wheel 50 are sintered diamond (Poly Crystalline Diamond), cemented carbide, single crystal diamond, and polycrystalline diamond.

第2制御部43は、予め定められる制御プログラムを実行する演算処理装置を有する。演算処理装置は、例えばCPUまたはMPUを有する。第2制御部43は、1または複数のマイクロコンピュータを有してもよい。第2制御部43は、記憶部をさらに有する。記憶部には、各種の制御プログラムおよび各種の制御処理に用いられる情報が記憶される。記憶部は、例えば不揮発性メモリおよび揮発性メモリを有する。第2制御部43は、加工装置41に設けられてもよいし、搬送装置42に設けられてもよいし、加工装置41および搬送装置42とは別に設けられてもよい。第2制御部43が加工装置41および搬送装置42とは別に設けられる場合、第2制御部43の配置位置は任意に設定可能である。   The second control unit 43 has an arithmetic processing unit that executes a predetermined control program. The arithmetic processing unit has, for example, a CPU or MPU. The second control unit 43 may have one or more microcomputers. The second control unit 43 further includes a storage unit. The storage unit stores various control programs and information used for various control processes. The storage unit has, for example, a non-volatile memory and a volatile memory. The second controller 43 may be provided in the processing device 41, may be provided in the transport device 42, or may be provided separately from the processing device 41 and the transport device 42. When the second control unit 43 is provided separately from the processing device 41 and the transfer device 42, the arrangement position of the second control unit 43 can be set arbitrarily.

〔フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法〕
次に、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の詳細について説明する。図5は、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の工程の一例を示す。
[Method for manufacturing flexible organic EL display]
Next, details of the method for manufacturing the flexible organic EL display will be described. FIG. 5 shows an example of steps of a method for manufacturing a flexible organic EL display.

フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法では、第1積層基板11および第2積層基板12を貼り合せて多層積層基板10を製造後、多層積層基板10を所定サイズに切断して単位積層基板20を製造する。次に、単位積層基板20から第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを除去することにより、発光デバイスが製造される。そして、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに第1保護フィルムおよび第2保護フィルムを取り付ける。これにより、フレキシブル有機ELディスプレイが製造される。   In the method of manufacturing a flexible organic EL display, after the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are bonded to each other to produce the multilayer laminated substrate 10, the multilayer laminated substrate 10 is cut into a predetermined size to produce the unit laminated substrate 20. .. Next, the light emitting device is manufactured by removing the first glass layer 11A and the second glass layer 12A from the unit laminated substrate 20. Then, the first protective film and the second protective film are attached to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. Thereby, a flexible organic EL display is manufactured.

図5に示されるように、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、第1積層基板11および第2積層基板12を積層する工程よりも前の工程である前段工程と、第1積層基板11および第2積層基板12を積層する工程以後の工程である後段工程とに区分される。本実施形態の前段工程は、前段積層工程および予備加工工程を含む。前段積層工程は、第1積層基板11および第2積層基板12を製造する工程である。予備加工工程は、多層積層基板10の第1ガラス層11A、第1樹脂層11B、第2樹脂層12B、および、第2ガラス層12Aをブレイクするための予備加工を第1ガラス層11A、第1樹脂層11B、第2樹脂層12B、および、第2ガラス層12Aのそれぞれに施す工程である。後段工程は、後段積層工程、後段切断工程、および、剥離工程を含む。後段積層工程は、第1積層基板11および第2積層基板12を積層して多層積層基板10を製造する工程である。後段切断工程は、予備加工が施された多層積層基板10をブレイクすることにより単位積層基板20を製造する工程である。剥離工程は、レーザリフトオフ(LLO:Laser Lift Off)によって第1ガラス層11Aと第1樹脂層11Bとを剥離し、第2ガラス層12Aと第2樹脂層12Bとを剥離する工程である。以下、各工程の詳細について説明する。   As shown in FIG. 5, in the method for manufacturing a flexible organic EL display, a first step which is a step prior to the step of stacking the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, a first laminated substrate 11 and a second laminated substrate 11 The two-layer substrate 12 is divided into a subsequent step, which is a step after the step of stacking the two-layer board 12. The pre-stage process of this embodiment includes a pre-stage lamination process and a pre-processing process. The pre-stage laminating step is a step of manufacturing the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. In the pre-processing step, pre-processing for breaking the first glass layer 11A, the first resin layer 11B, the second resin layer 12B, and the second glass layer 12A of the multilayer laminated substrate 10 is performed by the first glass layer 11A, the first glass layer 11A, and the second glass layer 12A. This is a step performed on each of the first resin layer 11B, the second resin layer 12B, and the second glass layer 12A. The post-stage process includes a post-stage stacking process, a post-stage cutting process, and a peeling process. The latter-stage laminating step is a step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 to manufacture the multilayer laminated substrate 10. The second-stage cutting step is a step of manufacturing the unit laminated board 20 by breaking the preliminarily processed multilayer laminated board 10. The peeling step is a step of peeling the first glass layer 11A and the first resin layer 11B and peeling the second glass layer 12A and the second resin layer 12B by laser lift off (LLO). The details of each step will be described below.

前段積層工程では、第1ガラス層11Aの第1平面14Aに第1樹脂層11Bを形成することによって第1積層基板11を製造し、第2ガラス層12Aの第1平面15Aに第2樹脂層12Bを形成することによって第2積層基板12を製造する。第1ガラス層11Aの第1平面14Aへの第1樹脂層11Bの形成方法、および、第2ガラス層12Aの第1平面15Aへの第2樹脂層12Bの形成方法はそれぞれ、ガラス層に樹脂層を塗布する方法、または、ガラス層に接着層を介して樹脂層をラミネートする方法を選択できる。またガラス層に樹脂層を固定する方法として、加熱硬化処理、または、プレス法による加熱および加圧処理を選択できる。   In the first-stage laminating step, the first laminated substrate 11 is manufactured by forming the first resin layer 11B on the first plane 14A of the first glass layer 11A, and the second resin layer is formed on the first plane 15A of the second glass layer 12A. The second laminated substrate 12 is manufactured by forming 12B. The method for forming the first resin layer 11B on the first flat surface 14A of the first glass layer 11A and the method for forming the second resin layer 12B on the first flat surface 15A of the second glass layer 12A are respectively the resin for the glass layer. A method of applying a layer or a method of laminating a resin layer on a glass layer via an adhesive layer can be selected. As a method for fixing the resin layer to the glass layer, heat curing treatment or heating and pressure treatment by a pressing method can be selected.

予備加工工程では、多層積層基板10の第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bをブレイクするための予備加工を第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bのそれぞれに施す。一例では、図6に示されるように、予備加工の一例は、第1積層基板11の第1ガラス層11Aにおける切断が予定される切断予定部16Aおよび第1樹脂層11Bにおける切断が予定される切断予定部16Bのそれぞれにスクライブラインを形成する。予備加工の一例は、第2積層基板12の第2ガラス層12Aにおける切断が予定される切断予定部17Aおよび第2樹脂層12Bにおける切断が予定される切断予定部17Bのそれぞれにスクライブラインを形成する。ガラス層および樹脂層のスクライブラインの形成には、レーザ加工装置30またはスクライブ加工装置40が用いられる。   In the pre-processing step, pre-processing for breaking the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B of the multilayer laminated substrate 10 is performed by the first glass layer 11A, the first glass layer 11A, and the second glass layer 11B. It is applied to each of the two glass layers 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B. In one example, as shown in FIG. 6, in an example of the pre-processing, cutting is planned to be cut in the first glass layer 11A of the first laminated substrate 11 where the cutting is planned to be cut 16A and the first resin layer 11B. A scribe line is formed in each of the planned cutting portions 16B. An example of the pre-processing is to form a scribe line in each of the planned cutting part 17A of the second laminated substrate 12 where the second glass layer 12A is to be cut and the planned cutting part 17B of the second resin layer 12B. To do. A laser processing device 30 or a scribing device 40 is used to form the scribe lines of the glass layer and the resin layer.

本実施形態の予備加工工程では、第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bのそれぞれに対して異なる手段で予備加工を施し、第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bのそれぞれに対して異なる手段で予備加工を施す。予備加工工程の一例では、スクライブ加工装置40によって第1ガラス層11Aの切断予定部16Aをスクライブし、レーザ加工装置30により第1樹脂層11Bの切断予定部16Bをスクライブする。スクライブ加工装置40により第2ガラス層12Aの切断予定部17Aをスクライブし、レーザ加工装置30により第2樹脂層12Bの切断予定部17Bをスクライブする。このように、本実施形態では、ガラス層および樹脂層のそれぞれに対して異なる手段で予備加工を施す。   In the preprocessing step of the present embodiment, the first glass layer 11A and the first resin layer 11B are preprocessed by different means, and the second glass layer 12A and the second resin layer 12B are different. Pre-process by means. In an example of the pre-processing step, the scribing device 40 scribes the planned cutting part 16A of the first glass layer 11A, and the laser processing device 30 scribes the planned cutting part 16B of the first resin layer 11B. The planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A is scribed by the scribe processing device 40, and the planned cutting portion 17B of the second resin layer 12B is scribed by the laser processing device 30. Thus, in this embodiment, the glass layer and the resin layer are preliminarily processed by different means.

なお、予備加工工程において、レーザ加工装置30によって第1ガラス層11Aの切断予定部16Aをスクライブし、スクライブ加工装置40によって第1樹脂層11Bの切断予定部16Bをスクライブしてもよい。また予備加工工程において、レーザ加工装置30によって第2ガラス層12Aの切断予定部17Aをスクライブし、スクライブ加工装置40によって第2樹脂層12Bの切断予定部17Bをスクライブしてもよい。   In the preliminary processing step, the laser processing apparatus 30 may scribe the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A, and the scribing processing apparatus 40 may scribe the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B. In the preliminary processing step, the laser processing device 30 may scribe the planned cutting part 17A of the second glass layer 12A, and the scribing device 40 may scribe the planned cutting part 17B of the second resin layer 12B.

後段積層工程では、所定サイズに切断されていない第1積層基板11と所定サイズに切断されていない第2積層基板12とを積層する。一例では、第1積層基板11と第2積層基板12とが、例えば接着層SDを介して貼り合せられる。これにより、図7に示されるように、予備加工が施された多層積層基板10が製造される。   In the latter-stage laminating step, the first laminated substrate 11 not cut into a predetermined size and the second laminated substrate 12 not cut into a predetermined size are laminated. In one example, the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are attached to each other via, for example, the adhesive layer SD. As a result, as shown in FIG. 7, the pre-processed multilayer laminated substrate 10 is manufactured.

後段切断工程は、第1ガラス層11Aにおいて予備加工が施された切断予定部16A、第1樹脂層11Bにおいて予備加工が施された切断予定部16B、第2ガラス層12Aにおいて予備加工が施された切断予定部17A、および、第2樹脂層12Bにおいて予備加工が施された切断予定部17Bのそれぞれをブレイクする。これにより、単位積層基板20が製造される。   In the latter-stage cutting step, the planned cutting portion 16A that is preliminarily processed in the first glass layer 11A, the planned cutting portion 16B that is preliminarily processed in the first resin layer 11B, and the preliminary processing is performed in the second glass layer 12A. The planned cutting portion 17A and the planned cutting portion 17B that has been preliminarily processed in the second resin layer 12B are broken. As a result, the unit laminated substrate 20 is manufactured.

剥離工程では、レーザリフトオフ装置(図示略)を用いる。本実施形態では、レーザリフトオフ装置のレーザとしてUVレーザが用いられる。図8(a)に示されるように、第1ガラス層11A側から第1樹脂層11Bにレーザを照射することによって第1樹脂層11Bと第1ガラス層11Aとを剥離する。第1樹脂層11Bと第1ガラス層11Aとを剥離する場合、レーザは、第1ガラス層11Aの第2平面14Bに直交するように照射される。次に、図8(b)に示されるように、第2ガラス層12A側から第2樹脂層12Bにレーザを照射することによって第2樹脂層12Bと第2ガラス層12Aとを剥離する。第2樹脂層12Bと第2ガラス層12Aとを剥離する場合、レーザは、第2ガラス層12Aの第2平面15Bに直交するように照射される。なお、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを剥離する順番は任意に変更可能である。例えば、第2樹脂層12Bと第2ガラス層12Aとを剥離した後、第1樹脂層11Bと第1ガラス層11Aとを剥離してもよい。   A laser lift-off device (not shown) is used in the peeling process. In this embodiment, a UV laser is used as the laser of the laser lift-off device. As shown in FIG. 8A, the first resin layer 11B and the first glass layer 11A are separated by irradiating the first resin layer 11B with a laser from the first glass layer 11A side. When peeling off the first resin layer 11B and the first glass layer 11A, the laser is applied so as to be orthogonal to the second plane 14B of the first glass layer 11A. Next, as shown in FIG. 8B, the second resin layer 12B and the second glass layer 12A are separated by irradiating the second resin layer 12B with a laser from the second glass layer 12A side. When peeling off the second resin layer 12B and the second glass layer 12A, the laser is applied so as to be orthogonal to the second plane 15B of the second glass layer 12A. The order of peeling the first glass layer 11A and the second glass layer 12A can be arbitrarily changed. For example, after peeling the second resin layer 12B and the second glass layer 12A, the first resin layer 11B and the first glass layer 11A may be peeled.

多層積層基板10から第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aが取り除かれた(図8(c)参照)後、第1樹脂層11Bを覆うように第1保護フィルムが取り付けられ、第2樹脂層12Bを覆うように第2保護フィルムが取り付けられることにより、フレキシブル有機ELディスプレイが製造される。   After the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are removed from the multilayer laminated substrate 10 (see FIG. 8C), the first protective film is attached so as to cover the first resin layer 11B, and the second resin The flexible organic EL display is manufactured by attaching the second protective film so as to cover the layer 12B.

本実施形態の効果について説明する。
(1−1)フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、第1積層基板11と第2積層基板12とを積層する工程以後の工程である後段工程において、多層積層基板10を所定サイズに切断する。この製造方法では、第1積層基板11と第2積層基板12とを積層された多層積層基板10の状態で切断されるため、積層作業が簡素化される。このため、フレキシブル有機ELディスプレイの製造効率が低下しにくい。
The effects of this embodiment will be described.
(1-1) In the method of manufacturing a flexible organic EL display, the multilayer laminated substrate 10 is cut into a predetermined size in a subsequent step that is a step after the step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. In this manufacturing method, since the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are cut in the laminated multilayer laminated substrate 10, the laminating operation is simplified. Therefore, the manufacturing efficiency of the flexible organic EL display is unlikely to decrease.

(1−2)フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bをブレイクするための予備加工を第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bのそれぞれに施す予備加工工程を含む。予備加工が施された多層積層基板10をブレイクすることによって単位積層基板20が製造される。この製造方法によれば、後段積層工程よりも前の前段工程において第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aが切断されないため、後段積層工程における第1積層基板11と第2積層基板12とを積層する作業性が向上する。このため、フレキシブル有機ELディスプレイの製造効率が低下しにくい。   (1-2) In the method for manufacturing a flexible organic EL display, the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the preliminary processing for breaking the second resin layer 12B are performed on the first glass layer. It includes a pre-processing step performed on each of the layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B. The unit laminated substrate 20 is manufactured by breaking the preliminarily processed multilayer laminated substrate 10. According to this manufacturing method, since the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are not cut in the former step before the latter step, the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 in the latter step are not separated from each other. Workability for stacking is improved. Therefore, the manufacturing efficiency of the flexible organic EL display is unlikely to decrease.

(1−3)予備加工工程において第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bのそれぞれに対して異なる手段で予備加工を施し、第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bのそれぞれに対して異なる手段で予備加工を施す。この製造方法では、第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bのそれぞれに適した予備加工を選択でき、第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bのそれぞれに適した予備加工を選択できる。第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bが適切に予備加工され、第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bが適切に予備加工され、切断時の品質が向上する。   (1-3) In the preliminary processing step, the first glass layer 11A and the first resin layer 11B are preprocessed by different means, and the second glass layer 12A and the second resin layer 12B are different. Pre-process by means. In this manufacturing method, the pre-processing suitable for each of the first glass layer 11A and the first resin layer 11B can be selected, and the pre-processing suitable for each of the second glass layer 12A and the second resin layer 12B can be selected. The first glass layer 11A and the first resin layer 11B are appropriately pre-processed, and the second glass layer 12A and the second resin layer 12B are appropriately pre-processed, and the quality at the time of cutting is improved.

(1−4)予備加工工程において第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをスクライビングホイール50によりスクライブし、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bをレーザによりスクライブする。この製造方法では、既存の装置を用いて第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bをそれぞれスクライブできる。   (1-4) In the preliminary processing step, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are scribed by the scribing wheel 50, and the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are scribed by a laser. In this manufacturing method, the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B can be scribed using an existing device.

(1−5)予備加工が後段積層工程よりも前の前段工程に含まれることによって、第1積層基板11および第2積層基板12が積層されていない状態で予備加工が第1積層基板11および第2積層基板12にそれぞれ施される。このため、例えば多層積層基板10の第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bをレーザによって予備加工を施す場合とは異なり、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの予備加工にレーザを用いても、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bにレーザを照射することにともない発生するガスが多層積層基板10内に滞留することが抑制される。このため、ガスの影響により第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの品質が低下するおそれが低減される。   (1-5) Since the preliminary processing is included in the preceding step before the latter laminating step, the preliminary processing is performed in the state where the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are not laminated. Each is applied to the second laminated substrate 12. Therefore, for example, unlike the case where the first resin layer 11B and the second resin layer 12B of the multilayer laminated substrate 10 are preprocessed by the laser, the laser is used for the preprocessing of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. Even though the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are irradiated with the laser, the gas generated is prevented from staying in the multilayer laminated substrate 10. Therefore, the possibility that the quality of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is deteriorated due to the influence of gas is reduced.

(第2実施形態)
図9〜図13を参照して、第2実施形態のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法について説明する。本実施形態の製造方法は、第1実施形態の製造方法と比較して、後段工程に予備加工工程が実施される点が異なる。以下の説明において、第1実施形態と異なる部分について詳細に説明し、第1実施形態と共通する多層積層基板10の構成要素については同一の符号を付し、その説明を省略する。
(Second embodiment)
A method of manufacturing the flexible organic EL display of the second embodiment will be described with reference to FIGS. 9 to 13. The manufacturing method of the present embodiment is different from the manufacturing method of the first embodiment in that a pre-processing step is performed as a subsequent step. In the following description, parts different from the first embodiment will be described in detail, the same components as those of the first embodiment will be denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

本実施形態では、予備加工工程は、後段積層工程の後かつ後段切断工程の前に実施される。本実施形態の予備加工工程では、次の第1の例〜第3の例のいずれかを選択できる。第1の例では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをスクライブし、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを冷却する。第2の例では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをスクライブし、レーザにより第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを脆化させる。第3の例では、第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bをそれぞれスクライブする。   In this embodiment, the pre-processing step is performed after the post-lamination step and before the post-cutting step. In the pre-processing step of this embodiment, any of the following first to third examples can be selected. In the first example, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are scribed, and the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cooled. In the second example, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are scribed, and the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are embrittled by a laser. In the third example, the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B are scribed, respectively.

第1の例について説明する。
第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aに関する予備加工工程では、例えばレーザまたはスクライビングホイール50によって第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aのそれぞれをスクライブする。一例では、スクライビングホイール50によって第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aのそれぞれをスクライブする。より詳細には、レーザまたはスクライビングホイール50によって第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第2ガラス層12Aの切断予定部17Aのそれぞれにスクライブラインを形成する。一例では、スクライビングホイール50によって第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第2ガラス層12Aの切断予定部17Aのそれぞれにスクライブラインを形成する。
The first example will be described.
In the pre-processing step for the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are scribed by, for example, a laser or a scribing wheel 50. In one example, the scribing wheel 50 scribes each of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. More specifically, a scribe line is formed in each of the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A by the laser or the scribing wheel 50. In one example, the scribing wheel 50 forms a scribe line in each of the planned cutting part 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting part 17A of the second glass layer 12A.

第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに関する予備加工工程では、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bが脆化する温度となるように多層積層基板10を冷却する。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの脆化とは、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bがブレイク可能な状態であることを示す。一例では、冷却工程では、多層積層基板10を冷却槽(図示略)に収容することによって多層積層基板10を冷却する。図9の薄いドットで示されるように、冷却工程において第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bはそれぞれ全体が脆化する。なお、冷却工程では、多層積層基板10を冷却槽に収容することに代えて、冷却装置によって冷却気体を第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bに吹き付けてもよい。冷却装置は、例えば多層積層基板10に局所的に冷却気体を吹き付けることが可能なノズルを含む吹出部と、多層積層基板10を載置するテーブルと、テーブルを3次元的に移動可能な移動機構とを備える。移動機構によって、ノズルの吹出口と多層積層基板10との相対位置を変更可能となる。また移動機構は、テーブルの移動に代えて、またはテーブルの移動に加えて、ノズルを3次元的に移動するように構成されてもよい。   In the preliminary processing step for the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, the multilayer laminated substrate 10 is cooled to a temperature at which the first resin layer 11B and the second resin layer 12B become brittle. The embrittlement of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B means that the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are in a breakable state. In an example, in the cooling step, the multilayer laminated substrate 10 is cooled by housing the multilayer laminated substrate 10 in a cooling tank (not shown). As indicated by the thin dots in FIG. 9, the entire first resin layer 11B and the second resin layer 12B are embrittled in the cooling step. In the cooling step, instead of accommodating the multilayer laminated substrate 10 in the cooling tank, the cooling gas is blown to the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B and the planned cutting portion 17B of the second resin layer 12B by the cooling device. May be. The cooling device includes, for example, a blowing unit including a nozzle capable of locally blowing a cooling gas to the multilayer laminated substrate 10, a table on which the multilayer laminated substrate 10 is mounted, and a moving mechanism capable of moving the table three-dimensionally. With. The moving mechanism makes it possible to change the relative position between the nozzle outlet and the multilayer laminated substrate 10. Further, the moving mechanism may be configured to move the nozzle three-dimensionally instead of the movement of the table or in addition to the movement of the table.

予備加工を施す順番は、任意に変更可能である。一例では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをスクライブした後、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを冷却する。一例では、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを冷却した後、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをスクライブする。一例では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの一方をスクライブした後、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを冷却し、最後に第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの他方をスクライブする。   The order of performing the pre-processing can be arbitrarily changed. In one example, after scribing the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cooled. In one example, after cooling the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are scribed. In one example, after scribing one of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cooled, and finally the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are Scribe the other.

第2の例について説明する。
第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aに関する予備加工工程は、第1の例の第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aに関する予備加工工程と同じである。
The second example will be described.
The pre-processing step for the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is the same as the pre-processing step for the first glass layer 11A and the second glass layer 12A of the first example.

第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに関する予備加工工程では、図10の薄いドットで示されるように、UVレーザを第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bにそれぞれ照射することによって第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bをそれぞれ脆化させる。UVレーザによる第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bの脆化には、例えばレーザ加工装置30が用いられる。   In the pre-processing step for the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, as shown by the thin dots in FIG. 10, a UV laser is used to cut the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B and the planned cutting of the second resin layer 12B. By irradiating the portions 17B respectively, the planned cutting portions 16B of the first resin layer 11B and the planned cutting portions 17B of the second resin layer 12B are each embrittled. For example, a laser processing device 30 is used to embrittle the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B and the planned cutting portion 17B of the second resin layer 12B with the UV laser.

第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bに対して予備加工を施す順番は任意に変更可能である。すなわち、図11に示されるとおり、第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bに予備加工が施される場合の加工順番は、P1〜P24の24通りのパターンを有する。一例では、レーザによって第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bにスクライブラインを形成し、次にスクライビングホイール50により第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aにスクライブラインを形成する。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの順に予備加工を施してもよいし、第2樹脂層12Bおよび第1樹脂層11Bの順に予備加工を施してもよい。第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの順に予備加工を施してもよいし、第2ガラス層12Aおよび第1ガラス層11Aの順に予備加工を施してもよい。   The order in which the preliminary processing is performed on the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B can be arbitrarily changed. That is, as shown in FIG. 11, when the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B are preliminarily processed, the processing order is P1 to P24. There are 24 patterns. In one example, a laser is used to form scribe lines on the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, and then a scribing wheel 50 is used to form scribe lines on the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. The first resin layer 11B and the second resin layer 12B may be preliminarily processed in this order, or the second resin layer 12B and the first resin layer 11B may be preliminarily processed in this order. The first glass layer 11A and the second glass layer 12A may be pre-processed in this order, or the second glass layer 12A and the first glass layer 11A may be pre-processed in this order.

第3の例について説明する。
予備加工工程では、図12に示されるように、予備加工の一例は、第1ガラス層11Aの切断予定部16A、第1樹脂層11Bの切断予定部16B、第2樹脂層12Bの切断予定部17B、および、第2ガラス層12Aの切断予定部17Aのそれぞれにスクライブラインを形成する。
The third example will be described.
In the pre-processing step, as shown in FIG. 12, an example of the pre-processing is a planned cutting part 16A of the first glass layer 11A, a planned cutting part 16B of the first resin layer 11B, and a planned cutting part of the second resin layer 12B. A scribe line is formed on each of 17B and the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A.

予備加工は、レーザまたはスクライブによって施される。レーザによる予備加工は、第1ガラス層11A、第1樹脂層11B、第2樹脂層12B、および、第2ガラス層12Aに対して施すことができる。スクライブによる予備加工は、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aに対して施すことができる。一例では、予備加工工程では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをそれぞれスクライビングホイール50によってスクライブし、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bをそれぞれレーザによりスクライブする。   Pre-processing is performed by laser or scribe. Preliminary processing with a laser can be performed on the first glass layer 11A, the first resin layer 11B, the second resin layer 12B, and the second glass layer 12A. Pre-processing by scribing can be performed on the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. In one example, in the pre-processing step, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are scribed by the scribing wheel 50, and the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are scribed by laser.

また、レーザによりガラス層および樹脂層のそれぞれにスクライブラインを形成する場合、図3に示されるレーザ加工装置30に代えて、図13に示されるレーザ加工装置30Aが用いられる。レーザ加工装置30Aは、レーザ加工装置30と比較して、レーザ装置の構成が異なる。以下、レーザ加工装置30Aのうちの異なる構成について説明する。   Moreover, when forming a scribe line in each of the glass layer and the resin layer by a laser, the laser processing apparatus 30A shown in FIG. 13 is used instead of the laser processing apparatus 30 shown in FIG. The laser processing device 30A is different from the laser processing device 30 in the configuration of the laser device. Hereinafter, a different configuration of the laser processing device 30A will be described.

レーザ加工装置30Aのレーザ装置31Aは、第1レーザ発振器34Aおよび第2レーザ発振器34Bを有する。第1レーザ発振器34AはUVレーザであり、第2レーザ発振器34BはCOレーザである。第1レーザ発振器34Aから照射されたレーザ光、および、第2レーザ発振器34Bから照射されたレーザ光は、伝送光学系35を介して多層積層基板10に照射される。なお、伝送光学系35は、第1レーザ発振器34Aに対応する伝送光学系と、第2レーザ発振器34Bに対応する伝送光学系とが個別に設けられてもよい。 The laser device 31A of the laser processing device 30A has a first laser oscillator 34A and a second laser oscillator 34B. The first laser oscillator 34A is a UV laser and the second laser oscillator 34B is a CO 2 laser. The laser light emitted from the first laser oscillator 34A and the laser light emitted from the second laser oscillator 34B are emitted to the multilayer laminated substrate 10 via the transmission optical system 35. The transmission optical system 35 may be provided with a transmission optical system corresponding to the first laser oscillator 34A and a transmission optical system corresponding to the second laser oscillator 34B separately.

第1制御部33は、多層積層基板10に対する加工対象の種類(ガラス層または樹脂層)に応じて第1レーザ発振器34Aおよび第2レーザ発振器34Bを選択する。例えば第1制御部33は、予め記憶された制御プログラムによって加工対象の種類であるガラス層および樹脂層の加工順番を定め、定められた加工順番に応じて第1レーザ発振器34Aおよび第2レーザ発振器34Bを選択する。   The first control unit 33 selects the first laser oscillator 34A and the second laser oscillator 34B according to the type (glass layer or resin layer) of the processing target for the multilayer laminated substrate 10. For example, the first control unit 33 determines the processing order of the glass layer and the resin layer, which are the types of processing targets, according to a control program stored in advance, and the first laser oscillator 34A and the second laser oscillator according to the determined processing order. Select 34B.

第3の例の予備加工工程では、例えば、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aと、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bとに対して異なる手段で予備加工を施す。一例では、予備加工工程では、スクライブによって第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aに対して予備加工を施し、レーザによって第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに対して予備加工を施す。この場合、第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bに対して予備加工を施す順番は任意に変更可能である。予備加工を施す順番は、第2の例と同様に、図11に示されるとおり、第1ガラス層11A、第2ガラス層12A、第1樹脂層11B、および、第2樹脂層12Bに予備加工が施される場合の加工順番は、P1〜P24の24通りのパターンを有する。   In the pre-processing step of the third example, for example, pre-processing is performed on the first glass layer 11A and the second glass layer 12A and the first resin layer 11B and the second resin layer 12B by different means. In one example, in the pre-processing step, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are pre-processed by scribe, and the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are pre-processed by laser. In this case, the order of performing pre-processing on the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B can be arbitrarily changed. As in the second example, the order of performing the pre-processing is as shown in FIG. 11, where the first glass layer 11A, the second glass layer 12A, the first resin layer 11B, and the second resin layer 12B are pre-processed. In the case of applying, the processing order has 24 patterns of P1 to P24.

本実施形態の効果について説明する。
(2−1)予備加工工程では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをスクライブし、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを冷却する。この製造方法では、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bにスクライブラインが形成されることなくブレイクされる。例えばレーザにより第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bにスクライブラインを形成する場合と比較して、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bがブレイクされるまでに第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bが受ける熱の影響が小さく、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの品質が低下しにくい。
The effects of this embodiment will be described.
(2-1) In the preliminary processing step, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are scribed, and the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are cooled. In this manufacturing method, the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are broken without forming scribe lines. For example, as compared with the case where a scribe line is formed in the first resin layer 11B and the second resin layer 12B by laser, the first resin layer 11B and the first resin layer 11B and the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are broken before the break. The influence of heat on the second resin layer 12B is small, and the quality of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is less likely to deteriorate.

(2−2)予備加工工程では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aをスクライビングホイール50によりスクライブし、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bをレーザによりスクライブする。この製造方法では、既存の装置を用いて第1ガラス層11A、第1樹脂層11B、第2樹脂層12B、および、第2ガラス層12Aをそれぞれスクライブできる。   (2-2) In the preliminary processing step, the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are scribed by the scribing wheel 50, and the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are scribed by a laser. In this manufacturing method, the first glass layer 11A, the first resin layer 11B, the second resin layer 12B, and the second glass layer 12A can be scribed using existing devices.

(変形例)
上記各実施形態は本開示に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法が取り得る形態の例示であり、その形態を制限することを意図していない。本開示に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は各実施形態に例示された形態とは異なる形態を取り得る。その一例は、各実施形態の構成の一部を置換、変更、もしくは、省略した形態、または、各実施形態に新たな構成を付加した形態である。以下の変形例において、各実施形態の形態と共通する部分については、各実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
(Modification)
Each of the above embodiments is an example of a form that the method for manufacturing a flexible organic EL display according to the present disclosure can take, and is not intended to limit the form. The method of manufacturing the flexible organic EL display according to the present disclosure may take a form different from the form exemplified in each embodiment. An example thereof is a form in which a part of the configuration of each embodiment is replaced, changed, or omitted, or a configuration in which a new configuration is added to each embodiment. In the following modified examples, the same parts as those of the embodiments are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

・第1実施形態の予備加工工程において、第1積層基板11および第2積層基板12の少なくとも一方に、第2実施形態の予備加工工程の第1の例または第2の例の予備加工を施してもよい。   In the preliminary processing step of the first embodiment, at least one of the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 is subjected to the preliminary processing of the first example or the second example of the preliminary processing step of the second embodiment. May be.

・各実施形態において、第1積層基板11に導電層13が形成されることに代えて、または第1積層基板11に導電層13が形成されることに加えて、第2積層基板12に導電層13が形成されてもよい。   In each of the embodiments, instead of forming the conductive layer 13 on the first laminated substrate 11 or in addition to forming the conductive layer 13 on the first laminated substrate 11, the conductive layer 13 is formed on the second laminated substrate 12. Layer 13 may be formed.

・各実施形態の予備加工工程において、第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bのそれぞれに対して同一手段で予備加工を施してもよい。予備加工工程の一例では、スクライブ加工装置40によって第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第1樹脂層11Bの切断予定部16Bのそれぞれをスクライブする。また予備加工工程の一例では、レーザ加工装置30によって第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第1樹脂層11Bの切断予定部16Bのそれぞれをスクライブする。   In the pre-processing step of each embodiment, the first glass layer 11A and the first resin layer 11B may be pre-processed by the same means. In an example of the pre-processing step, the scribing device 40 scribes each of the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B. Further, in an example of the preliminary processing step, the laser processing device 30 scribes each of the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B.

また、予備加工工程において、第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bのそれぞれに対して同一手段で予備加工を施してもよい。予備加工工程の一例では、スクライブ加工装置40によって第2ガラス層12Aの切断予定部17Aおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bのそれぞれをスクライブする。また予備加工工程の一例では、レーザ加工装置30によって第2ガラス層12Aの切断予定部17Aおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bのそれぞれをスクライブする。   In the preliminary processing step, the second glass layer 12A and the second resin layer 12B may be preprocessed by the same means. In an example of the pre-processing step, the scribing device 40 scribes each of the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A and the planned cutting portion 17B of the second resin layer 12B. Further, in an example of the preliminary processing step, the laser processing device 30 scribes each of the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A and the planned cutting portion 17B of the second resin layer 12B.

予備加工工程において、第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bのそれぞれをレーザによってスクライブする場合、図3のレーザ加工装置30に代えて、図13のレーザ加工装置30Aを用いることが好ましい。また第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bのそれぞれをレーザによってスクライブする場合も図13のレーザ加工装置30Aを用いることが好ましい。   When each of the first glass layer 11A and the first resin layer 11B is scribed by a laser in the preliminary processing step, it is preferable to use the laser processing apparatus 30A of FIG. 13 instead of the laser processing apparatus 30 of FIG. Further, when each of the second glass layer 12A and the second resin layer 12B is scribed by a laser, it is preferable to use the laser processing device 30A of FIG.

・各実施形態において、所定サイズの第1積層基板11である第1単位積層基板と、所定サイズに切断される前の第2積層基板12とを貼り合せた後、第2積層基板12を所定サイズに切断して単位積層基板20を製造してもよい。また所定サイズの第2積層基板12である第2単位積層基板と、所定サイズに切断される前の第1積層基板11とを貼り合せた後、第1積層基板11を所定サイズに切断して単位積層基板20を製造してもよい。すなわち、前段工程は、第1積層基板11を所定サイズに切断する第1切断工程と、第2積層基板12を所定サイズに切断する第2切断工程との一方を含む。第1切断工程および第2切断工程の一方は、予備加工工程の後に実施される。このため、第1切断工程では、第1ガラス層11Aおよび第1樹脂層11Bをブレイクし、第2切断工程では、第2ガラス層12Aおよび第2樹脂層12Bをブレイクする。第1切断工程および第2切断工程の順番は任意に変更可能である。後段工程は、第1積層基板11を所定サイズに切断する第1切断工程と、第2積層基板12を所定サイズに切断する第2切断工程との他方を含む。   In each embodiment, after bonding the first unit laminated board which is the first laminated board 11 having a predetermined size and the second laminated board 12 which has not been cut into the predetermined size, the second laminated board 12 is predetermined. The unit laminated substrate 20 may be manufactured by cutting into a size. Also, after bonding the second unit laminated board, which is the second laminated board 12 of a predetermined size, and the first laminated board 11 before being cut into a predetermined size, the first laminated board 11 is cut into a predetermined size. The unit laminated substrate 20 may be manufactured. That is, the former step includes one of a first cutting step of cutting the first laminated substrate 11 into a predetermined size and a second cutting step of cutting the second laminated substrate 12 into a predetermined size. One of the first cutting step and the second cutting step is performed after the preliminary processing step. Therefore, in the first cutting step, the first glass layer 11A and the first resin layer 11B are broken, and in the second cutting step, the second glass layer 12A and the second resin layer 12B are broken. The order of the first cutting process and the second cutting process can be arbitrarily changed. The latter step includes the other of the first cutting step of cutting the first laminated substrate 11 into a predetermined size and the second cutting step of cutting the second laminated substrate 12 into a predetermined size.

10 :多層積層基板
11 :第1積層基板
11A:第1ガラス層
11B:第1樹脂層
12 :第2積層基板
12A:第2ガラス層
12B:第2樹脂層
50 :スクライビングホイール
10: multilayer laminated substrate 11: first laminated substrate 11A: first glass layer 11B: first resin layer 12: second laminated substrate 12A: second glass layer 12B: second resin layer 50: scribing wheel

Claims (5)

ガラス層と樹脂層とが積層された複数の積層基板を備え、前記複数の積層基板は第1ガラス層と第1樹脂層とが積層された第1積層基板、および、第2ガラス層と第2樹脂層とが積層された第2積層基板を含み、前記第1樹脂層と前記第2樹脂層とが対向するように積層された多層積層基板の製造に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法であって、
前記多層積層基板の前記ガラス層および前記樹脂層をブレイクするための予備加工を前記ガラス層および前記樹脂層のそれぞれに施す予備加工工程と、
前記予備加工が施された前記多層積層基板をブレイクする後段切断工程とを含む
フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
A plurality of laminated substrates in which a glass layer and a resin layer are laminated, wherein the plurality of laminated substrates are a first laminated substrate in which a first glass layer and a first resin layer are laminated, and a second glass layer and a first laminated substrate. A method for manufacturing a flexible organic EL display, which comprises a second laminated substrate in which two resin layers are laminated, and a multilayer laminated substrate in which the first resin layer and the second resin layer are laminated so as to face each other. hand,
A pre-processing step of subjecting each of the glass layer and the resin layer to a pre-processing for breaking the glass layer and the resin layer of the multilayer laminated substrate;
A method of manufacturing a flexible organic EL display, which includes a post-cutting step of breaking the preliminarily processed multilayer laminated substrate.
前記予備加工工程では、前記ガラス層および前記樹脂層のそれぞれに対して異なる手段で前記予備加工を施す
請求項1に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method of manufacturing a flexible organic EL display according to claim 1, wherein in the preliminary processing step, the preliminary processing is performed on the glass layer and the resin layer by different means.
前記予備加工工程では、前記ガラス層をスクライブし、前記樹脂層を冷却する
請求項2に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method of manufacturing a flexible organic EL display according to claim 2, wherein in the preliminary processing step, the glass layer is scribed and the resin layer is cooled.
前記予備加工工程では、前記ガラス層をスクライビングホイールによりスクライブし、前記樹脂層をレーザによりスクライブする
請求項2に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method for manufacturing a flexible organic EL display according to claim 2, wherein in the preliminary processing step, the glass layer is scribed by a scribing wheel and the resin layer is scribed by a laser.
前記予備加工工程は、前記複数の積層基板を積層する工程よりも前の前段工程に含まれる
請求項1〜4のいずれか一項に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method for manufacturing a flexible organic EL display according to claim 1, wherein the preliminary processing step is included in a preceding step prior to the step of stacking the plurality of laminated substrates.
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