JP2020071969A - Flexible organic el display manufacturing method - Google Patents

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剛史 池田
Tsuyoshi Ikeda
剛史 池田
生芳 高松
Ikuyoshi Takamatsu
生芳 高松
山本 幸司
Koji Yamamoto
山本  幸司
東光 崔
Dong Kwang Choi
東光 崔
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Abstract

To provide a flexible organic EL display manufacturing method that does not easily reduce manufacturing efficiency.SOLUTION: A flexible organic EL display manufacturing method is related to manufacturing of a multilayer laminated substrate that includes a first laminated substrate 11 in which a first glass layer 11A and a first resin layer 11B are laminated, and a second laminated substrate 12 in which a second glass layer 12A and a second resin layer 12B are laminated, and in which the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are laminated so as to face each other. The manufacturing method includes a pre-stage step that is a step prior to a step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. The pre-stage step includes a pre-laminating step of manufacturing the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. In the pre-laminating step, at least one of a planned cutting portion 16A for cutting in the first glass layer 11A and a planned cutting portion 17A for cutting in the second glass layer 12A is not covered with resin.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a flexible organic EL display.

有機EL(electro luminescence)ディスプレイは発光層、電極、および、基板が積層された発光デバイスを備える。フレキシブル有機ELディスプレイでは、基板にフレキシブル基板が用いられる。フレキシブル有機ELディスプレイの製造工程では、ガラス層に樹脂層が形成され、樹脂層に発光層等が形成される(例えば特許文献1)。   An organic EL (electro luminescence) display includes a light emitting device in which a light emitting layer, electrodes, and a substrate are laminated. In a flexible organic EL display, a flexible substrate is used as the substrate. In a manufacturing process of a flexible organic EL display, a resin layer is formed on a glass layer, and a light emitting layer and the like are formed on the resin layer (for example, Patent Document 1).

再公表特許WO2011/030716号公報Republished Patent WO2011 / 030716

新しい構造の発光デバイスが提案されている。この発光デバイスは、対向するように設けられる第1樹脂層および第2樹脂層を有する。第1樹脂層と第2樹脂層との間に発光層等が設けられる。従来の発光デバイスとは構造が異なるため、新しい構造の発光デバイスの製造に関する効率が低下するおそれがある。   A light emitting device having a new structure has been proposed. This light emitting device has a first resin layer and a second resin layer provided so as to face each other. A light emitting layer or the like is provided between the first resin layer and the second resin layer. Since the structure of the light emitting device is different from that of the conventional light emitting device, the manufacturing efficiency of the light emitting device having a new structure may be reduced.

本発明の目的は、製造効率が低下しにくいフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a flexible organic EL display in which manufacturing efficiency is less likely to decrease.

本発明に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、ガラス層と樹脂層とが積層された複数の積層基板を備え、前記複数の積層基板は第1ガラス層と第1樹脂層とが積層された第1積層基板、および、第2ガラス層と第2樹脂層とが積層された第2積層基板を含み、前記第1樹脂層と前記第2樹脂層とが対向するように積層された多層積層基板の製造に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法であって、前記複数の積層基板を積層する工程よりも前の工程である前段工程を含み、前記前段工程は、前記複数の積層基板の少なくとも一方について、前記ガラス層における切断が予定される切断予定部が樹脂で被覆されないように前記ガラス層に前記樹脂層を形成する前段積層工程を含む。
この製造方法では、複数の積層基板を積層する工程以後の工程(以下「後段工程」)において複数の積層基板の少なくとも一方のガラス層の切断予定部に対応する樹脂層を切断する必要がない。積層基板よりも複雑な構造を有する多層積層基板に対して必要な加工が少なくなり、作業の煩雑さが緩和される。
A method for manufacturing a flexible organic EL display according to the present invention includes a plurality of laminated substrates in which a glass layer and a resin layer are laminated, and the plurality of laminated substrates include a first glass layer and a first resin layer laminated. A multi-layer laminated substrate including one laminated substrate and a second laminated substrate in which a second glass layer and a second resin layer are laminated, and laminated so that the first resin layer and the second resin layer face each other. A method of manufacturing a flexible organic EL display relating to the manufacturing of, including a pre-stage step that is a step prior to the step of laminating the plurality of laminated substrates, wherein the pre-stage step is at least one of the plurality of laminated substrates, The method includes a pre-stage laminating step of forming the resin layer on the glass layer so that a portion to be cut in the glass layer, which is to be cut, is not covered with the resin.
In this manufacturing method, it is not necessary to cut the resin layer corresponding to the planned cutting portion of at least one glass layer of the plurality of laminated substrates in the process after the process of laminating the plurality of laminated substrates (hereinafter referred to as the “post-stage process”). The number of processes required for a multilayer laminated substrate having a more complicated structure than that of the laminated substrate is reduced, and the complexity of the work is reduced.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記前段積層工程では、前記ガラス層の前記切断予定部に溝を形成し、前記溝が露出するように前記ガラス層に前記樹脂層を形成する。
例えばガラス層に樹脂層の元になるワニスが塗布される場合、ガラス層における溝が形成された部分には塗布装置のワニスが接触せず、ガラス層の切断予定部を除いた部分にワニスが塗布される。切断予定部に対応する樹脂層を除去する作業が不要となり、作業の複雑さが緩和される。
In an example of the method for manufacturing the flexible organic EL display, in the pre-stage laminating step, a groove is formed in the planned cutting portion of the glass layer, and the resin layer is formed in the glass layer so that the groove is exposed.
For example, when the varnish that is the base of the resin layer is applied to the glass layer, the varnish of the coating device does not come into contact with the portion of the glass layer where the groove is formed, and the varnish is applied to the portion of the glass layer excluding the planned cutting portion. Is applied. The work of removing the resin layer corresponding to the part to be cut becomes unnecessary, and the complexity of the work is reduced.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記前段積層工程では、前記ガラス層に前記樹脂層を形成し、前記樹脂層における前記ガラス層の前記切断予定部に対応する部分を除去する。
この製造方法では、ガラス層の切断予定部が樹脂で被覆されていない状態を正確に形成できる。
In one example of the method of manufacturing the flexible organic EL display, in the pre-stage laminating step, the resin layer is formed on the glass layer, and a portion of the resin layer corresponding to the planned cutting portion of the glass layer is removed.
With this manufacturing method, it is possible to accurately form a state in which the planned cutting portion of the glass layer is not covered with the resin.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記前段積層工程では、前記ガラス層の前記切断予定部にマスクを形成し、前記ガラス層に前記樹脂層を形成し、前記マスクを除去する。
この製造方法では、ガラス層の切断予定部が樹脂で被覆されていない状態を正確に形成できる。
In one example of the method of manufacturing the flexible organic EL display, in the preceding laminating step, a mask is formed on the planned cutting portion of the glass layer, the resin layer is formed on the glass layer, and the mask is removed.
With this manufacturing method, it is possible to accurately form a state in which the planned cutting portion of the glass layer is not covered with the resin.

前記フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の一例では、前記複数の積層基板を積層する工程以後の工程である後段工程をさらに含み、前記後段工程は、前記複数の積層基板の前記ガラス層を切断する後段切断工程を含む。
この製造方法では、複数の積層基板を積層する工程よりも前の前段工程においてガラス層が切断されないため、複数の積層基板を積層する場合の作業性が向上する。
An example of the method for manufacturing the flexible organic EL display further includes a post-stage step that is a step after the step of laminating the plurality of laminated substrates, and the latter step includes a step of cutting the glass layers of the plurality of laminated substrates. Including a cutting step.
In this manufacturing method, since the glass layer is not cut in the preceding step prior to the step of laminating a plurality of laminated substrates, workability in laminating a plurality of laminated substrates is improved.

本発明によれば、フレキシブル有機ELディスプレイの製造効率が低下しにくくなる。   According to the present invention, the manufacturing efficiency of a flexible organic EL display is less likely to decrease.

実施形態の製造方法に関する多層積層基板の断面図。Sectional drawing of the multilayer laminated substrate regarding the manufacturing method of embodiment. 図1の多層積層基板の平面図。The top view of the multilayer laminated substrate of FIG. レーザ加工装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of a laser processing apparatus. スクライブ加工装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of a scribe processing apparatus. 実施形態の製造方法を示すフローチャート。3 is a flowchart showing a manufacturing method of the embodiment. 前段積層工程の第1の例を示す図。The figure which shows the 1st example of a front | former stage lamination process. 前段積層工程の第2の例を示す図。The figure which shows the 2nd example of a front | former stage lamination process. 前段積層工程の第3の例を示す図。The figure which shows the 3rd example of a front | former stage lamination process. 後段積層工程の例を示す図。The figure which shows the example of a latter stage lamination process. 剥離工程の一例を示す図。The figure which shows an example of a peeling process. 変形例の製造方法に関する積層基板の断面図。Sectional drawing of the laminated substrate regarding the manufacturing method of a modification.

(実施形態)
図面を参照してフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法について説明する。フレキシブル有機ELディスプレイは、据置型の機器および携帯機器等に用いられる。据置型の機器の一例は、パーソナルコンピュータおよびテレビ受像機である。携帯機器の一例は、携帯情報端末、ウェアラブルコンピュータ、および、ノート型パーソナルコンピュータである。携帯情報端末の一例はスマートフォン、タブレット、および、携帯ゲーム機である。ウェアラブルコンピュータの一例は、ヘッドマウントディスプレイおよびスマートウォッチである。
(Embodiment)
A method for manufacturing a flexible organic EL display will be described with reference to the drawings. Flexible organic EL displays are used in stationary devices, mobile devices, and the like. An example of a stationary device is a personal computer and a television receiver. Examples of mobile devices are personal digital assistants, wearable computers, and notebook personal computers. Examples of mobile information terminals are smartphones, tablets, and mobile game consoles. Examples of wearable computers are head mounted displays and smart watches.

フレキシブル有機ELディスプレイは、発光層、電極、および、基板が積層された発光デバイスと、発光デバイスを一方から覆う第1保護フィルムと、発光デバイスを他方から覆う第2保護フィルムとを有する。第1保護フィルムおよび第2保護フィルムはそれぞれ、例えばPET(polyethylene terephthalate)が用いられる。なお、第1保護フィルムおよび第2保護フィルムの一方は省略してもよい。発光デバイスの製造工程では、図1に示される1枚の多層積層基板10から複数の発光デバイスが製造される。   The flexible organic EL display has a light emitting device in which a light emitting layer, an electrode, and a substrate are laminated, a first protective film that covers the light emitting device from one side, and a second protective film that covers the light emitting device from the other side. PET (polyethylene terephthalate) is used for the first protective film and the second protective film, respectively. One of the first protective film and the second protective film may be omitted. In the manufacturing process of the light emitting device, a plurality of light emitting devices are manufactured from the single multilayer laminated substrate 10 shown in FIG.

多層積層基板10は、フレキシブル有機ELディスプレイの製造の途中段階で製造される。多層積層基板10は、第1ガラス層11Aと第1樹脂層11Bとが積層された第1積層基板11と、第2ガラス層12Aと第2樹脂層12Bとが積層された第2積層基板12とを有する。多層積層基板10は、第1樹脂層11Bと第2樹脂層12Bとが対向するように第1積層基板11と第2積層基板12とが積層されて構成されている。多層積層基板10は、導電層13をさらに有する。導電層13は、例えば第1積層基板11の第1樹脂層11B上に形成されている。導電層13は、第1樹脂層11Bと第2樹脂層12Bとに挟まれている。導電層13は、OLED(Organic Light Diode)、TFT(Thin Film Transistor)等の電子デバイス用部材が形成されている。第1樹脂層11B、導電層13、および、第2樹脂層12Bは、発光デバイスを構成している。   The multilayer laminated substrate 10 is manufactured at an intermediate stage of manufacturing a flexible organic EL display. The multilayer laminated substrate 10 includes a first laminated substrate 11 in which a first glass layer 11A and a first resin layer 11B are laminated, and a second laminated substrate 12 in which a second glass layer 12A and a second resin layer 12B are laminated. Have and. The multilayer laminated substrate 10 is configured by laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 such that the first resin layer 11B and the second resin layer 12B face each other. The multilayer laminated substrate 10 further includes a conductive layer 13. The conductive layer 13 is formed on the first resin layer 11B of the first laminated substrate 11, for example. The conductive layer 13 is sandwiched between the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. The conductive layer 13 is formed with an electronic device member such as an OLED (Organic Light Diode) or a TFT (Thin Film Transistor). The first resin layer 11B, the conductive layer 13, and the second resin layer 12B form a light emitting device.

第1積層基板11の第1ガラス層11Aと第2積層基板12の第2ガラス層12Aとは同じ材料が用いられ、同じサイズに形成されている。第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの組成は、特に限定されないが、例えばアルカリ金属酸化物を含有するガラス、または無アルカリガラス等の種々の組成のガラスを用いることができる。アルカリ金属酸化物を含有するガラスの一例は、ソーダライムガラスである。本実施形態では、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aは、無アルカリガラスが用いられる。第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aの厚さはそれぞれ、特に限定されないが、例えば0.5mm程度であることが好ましい。第1ガラス層11Aは、第1樹脂層11Bが形成される第1平面14A、および、第1平面14Aと対をなす第2平面14Bを有する。第2ガラス層12Aは、第2樹脂層12Bが形成される第1平面15A、および、第1平面15Aと対をなす第2平面15Bを有する。   The first glass layer 11A of the first laminated substrate 11 and the second glass layer 12A of the second laminated substrate 12 are made of the same material and have the same size. The composition of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is not particularly limited, but glass having various compositions such as glass containing an alkali metal oxide or non-alkali glass can be used. An example of glass containing an alkali metal oxide is soda lime glass. In this embodiment, non-alkali glass is used for the first glass layer 11A and the second glass layer 12A. The thickness of each of the first glass layer 11A and the second glass layer 12A is not particularly limited, but is preferably about 0.5 mm, for example. The first glass layer 11A has a first flat surface 14A on which the first resin layer 11B is formed, and a second flat surface 14B paired with the first flat surface 14A. The second glass layer 12A has a first flat surface 15A on which the second resin layer 12B is formed, and a second flat surface 15B paired with the first flat surface 15A.

第1積層基板11の第1樹脂層11Bと第2積層基板12の第2樹脂層12Bとは同じ材料が用いられ、同じサイズに形成されている。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの組成は、特に限定されないが、例えばポリイミド(PI)を用いることができる。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの厚さはそれぞれ、特に限定されないが、例えば10μm以上30μm以下の範囲であることが好ましい。   The first resin layer 11B of the first laminated substrate 11 and the second resin layer 12B of the second laminated substrate 12 are made of the same material and have the same size. The compositions of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are not particularly limited, but polyimide (PI) can be used, for example. The thickness of each of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 μm or more and 30 μm or less, for example.

図2は、多層積層基板10の平面図である。
図2の破線によって示される切断予定部16,17に沿って多層積層基板10を格子状に切断することによって複数の単位積層基板20が形成される。単位積層基板20の平面視におけるサイズは、平面視において発光デバイスの予め決められたサイズに相当する。
FIG. 2 is a plan view of the multilayer laminated substrate 10.
A plurality of unit laminated substrates 20 are formed by cutting the multilayer laminated substrate 10 along the planned cutting portions 16 and 17 indicated by broken lines in FIG. The size of the unit laminated substrate 20 in plan view corresponds to the predetermined size of the light emitting device in plan view.

多層積層基板10の切断には、レーザ加工装置およびスクライブ加工装置の少なくとも一方が用いられる。図3は、レーザ加工装置の構成の一例であり、図4は、スクライブ加工装置の構成の一例である。図3および図4において、X軸方向、Y軸方向、および、Z軸方向を図3および図4に示すとおり規定する。なお、本明細書において、「スクライブ」と記載する場合、スクライブ加工装置によるスクライブを示す。   At least one of a laser processing device and a scribing device is used to cut the multilayer laminated substrate 10. FIG. 3 is an example of the configuration of the laser processing apparatus, and FIG. 4 is an example of the configuration of the scribing apparatus. 3 and 4, the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction are defined as shown in FIGS. 3 and 4. In addition, in this specification, when describing as "scribe", it indicates a scribe by a scribe processing apparatus.

図3に示されるように、レーザ加工装置30は、多層積層基板10を切断するためのレーザ装置31と、レーザ装置31に対して多層積層基板10を移動させるための機械駆動系32と、レーザ装置31および機械駆動系32を制御する第1制御部33とを備える。   As shown in FIG. 3, the laser processing apparatus 30 includes a laser device 31 for cutting the multilayer laminated substrate 10, a mechanical drive system 32 for moving the multilayer laminated substrate 10 with respect to the laser device 31, and a laser. A first control unit 33 that controls the device 31 and the mechanical drive system 32.

レーザ装置31は、多層積層基板10における第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bと、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aとの少なくとも一方を加工可能である。レーザ装置31は、多層積層基板10にレーザ光を照射するためのレーザ発振器34と、レーザ光を機械駆動系32に伝送する伝送光学系35とを有する。レーザ発振器34は、例えばUV(Ultra Violet)レーザまたはCOレーザである。レーザ加工装置30が第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを加工する場合、レーザ発振器34はUVレーザである。レーザ加工装置30が第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを加工する場合、レーザ発振器34はCOレーザまたはUVレーザである。伝送光学系35は、例えば集光レンズ、複数のミラー、プリズム、ビームエキスパンダ等から構成される。また、伝送光学系35は、例えばレーザ発振器34が組み込まれたレーザ照射ヘッドをX軸方向に移動させるためのX軸方向移動機構を有する。レーザ発振器34から照射されたレーザ光は、伝送光学系35を介して多層積層基板10に向けて照射される。 The laser device 31 can process at least one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B and the first glass layer 11A and the second glass layer 12A in the multilayer laminated substrate 10. The laser device 31 has a laser oscillator 34 for irradiating the multilayer laminated substrate 10 with laser light, and a transmission optical system 35 for transmitting the laser light to the mechanical drive system 32. The laser oscillator 34 is, for example, a UV (Ultra Violet) laser or a CO 2 laser. When the laser processing device 30 processes the first resin layer 11B and the second resin layer 12B, the laser oscillator 34 is a UV laser. When the laser processing device 30 processes the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, the laser oscillator 34 is a CO 2 laser or a UV laser. The transmission optical system 35 includes, for example, a condenser lens, a plurality of mirrors, a prism, a beam expander, and the like. Further, the transmission optical system 35 has an X-axis direction moving mechanism for moving the laser irradiation head in which the laser oscillator 34 is incorporated, for example, in the X-axis direction. The laser light emitted from the laser oscillator 34 is emitted toward the multilayer laminated substrate 10 via the transmission optical system 35.

機械駆動系32は、レーザ装置31とZ軸方向に対向して配置されている。機械駆動系32は、ベッド36、加工テーブル37、および、移動装置38から構成される。加工テーブル37上には、多層積層基板10が載置される。移動装置38は、加工テーブル37をベッド36に対して水平方向(X軸方向およびY軸方向)に移動させる。移動装置38は、ガイドレール、移動テーブル、モータ等を有する公知の機構である。   The mechanical drive system 32 is arranged to face the laser device 31 in the Z-axis direction. The mechanical drive system 32 includes a bed 36, a processing table 37, and a moving device 38. The multilayer laminated substrate 10 is placed on the processing table 37. The moving device 38 moves the processing table 37 in the horizontal direction (X-axis direction and Y-axis direction) with respect to the bed 36. The moving device 38 is a known mechanism having a guide rail, a moving table, a motor, and the like.

第1制御部33は、予め定められる制御プログラムを実行する演算処理装置を有する。演算処理装置は、例えばCPU(Central Processing Unit)またはMPU(Micro Processing Unit)を有する。第1制御部33は、1または複数のマイクロコンピュータを有してもよい。第1制御部33は、記憶部をさらに有する。記憶部には、各種の制御プログラムおよび各種の制御処理に用いられる情報が記憶される。記憶部は、例えば不揮発性メモリおよび揮発性メモリを有する。第1制御部33は、レーザ装置31に設けられてもよいし、機械駆動系32に設けられてもよいし、レーザ装置31および機械駆動系32とは別に設けられてもよい。第1制御部33がレーザ装置31および機械駆動系32とは別に設けられる場合、第1制御部33の配置位置は任意に設定可能である。   The first controller 33 has an arithmetic processing unit that executes a predetermined control program. The arithmetic processing unit has, for example, a CPU (Central Processing Unit) or an MPU (Micro Processing Unit). The first control unit 33 may include one or more microcomputers. The first control unit 33 further includes a storage unit. The storage unit stores various control programs and information used for various control processes. The storage unit has, for example, a non-volatile memory and a volatile memory. The first control unit 33 may be provided in the laser device 31, may be provided in the mechanical drive system 32, or may be provided separately from the laser device 31 and the mechanical drive system 32. When the first control unit 33 is provided separately from the laser device 31 and the mechanical drive system 32, the arrangement position of the first control unit 33 can be set arbitrarily.

図4に示されるように、スクライブ加工装置40は、スクライビングホイール50と多層積層基板10とがX軸方向およびY軸方向に相対的に移動することによって多層積層基板10にX軸方向およびY軸方向に沿うスクライブラインを形成する。スクライブ加工装置40は、多層積層基板10を加工するための加工装置41と、多層積層基板10を搬送するための搬送装置42と、加工装置41および搬送装置42を制御する第2制御部43とを備える。   As shown in FIG. 4, in the scribing apparatus 40, the scribing wheel 50 and the multilayer laminated substrate 10 are relatively moved in the X-axis direction and the Y-axis direction, whereby the multilayer laminated substrate 10 is moved in the X-axis direction and the Y-axis direction. Form a scribe line along the direction. The scribing processing device 40 includes a processing device 41 for processing the multilayer laminated substrate 10, a transport device 42 for transporting the multilayer laminated substrate 10, and a second controller 43 for controlling the processing device 41 and the transport device 42. Equipped with.

搬送装置42は、一対のレール44、テーブル45、直進駆動装置46、回転装置47等から構成される。一対のレール44は、Y軸方向に沿って延びている。図4のスクライブ加工装置40では、スクライブ加工装置40のベース(図示略)に一対のレール44が配置され、直進駆動装置46によってテーブル45が一対のレール44に沿って往復移動し、回転装置47によってテーブル45が中心軸Cまわりを回転する。テーブル45には、多層積層基板10が載置される。直進駆動装置46の一例は、送りねじ装置を有する。回転装置47は、駆動源となるモータを有する。   The transfer device 42 includes a pair of rails 44, a table 45, a linear drive device 46, a rotation device 47, and the like. The pair of rails 44 extend along the Y-axis direction. In the scribing device 40 of FIG. 4, a pair of rails 44 are arranged on the base (not shown) of the scribing device 40, and the linear drive device 46 causes the table 45 to reciprocate along the pair of rails 44, and the rotating device 47. This causes the table 45 to rotate about the central axis C. The multilayer laminated substrate 10 is placed on the table 45. An example of the linear drive device 46 has a feed screw device. The rotating device 47 has a motor that serves as a drive source.

加工装置41は、横駆動装置48、縦駆動装置49、および、スクライビングホイール50等から構成される。スクライビングホイール50は、スクライビングホイール50を保持するためのホルダユニットに取り付けられる。ホルダユニットは、ホルダユニットを保持するためのスクライブヘッドに取り付けられる。スクライブヘッドは、横駆動装置48によってX軸方向に移動し、縦駆動装置49によってZ軸方向に移動する。スクライビングホイール50がX軸方向に移動することによって、多層積層基板10にX軸方向に沿うスクライブラインを形成する。   The processing device 41 includes a lateral drive device 48, a vertical drive device 49, a scribing wheel 50, and the like. The scribing wheel 50 is attached to a holder unit for holding the scribing wheel 50. The holder unit is attached to a scribing head for holding the holder unit. The scribing head is moved in the X-axis direction by the lateral drive device 48, and is moved in the Z-axis direction by the vertical drive device 49. By moving the scribing wheel 50 in the X-axis direction, a scribe line is formed in the multilayer laminated substrate 10 along the X-axis direction.

スクライビングホイール50は、ホルダユニットに取り付けられるピン(図示略)に回転可能に支持される。スクライビングホイール50を構成する材料の一例は、焼結ダイヤモンド(Poly Crystalline Diamond)、超硬金属、単結晶ダイヤモンド、および、多結晶ダイヤモンドである。   The scribing wheel 50 is rotatably supported by a pin (not shown) attached to the holder unit. Examples of the material forming the scribing wheel 50 are sintered diamond (Poly Crystalline Diamond), cemented carbide, single crystal diamond, and polycrystalline diamond.

第2制御部43は、予め定められる制御プログラムを実行する演算処理装置を有する。演算処理装置は、例えばCPUまたはMPUを有する。第2制御部43は、1または複数のマイクロコンピュータを有してもよい。第2制御部43は、記憶部をさらに有する。記憶部には、各種の制御プログラムおよび各種の制御処理に用いられる情報が記憶される。記憶部は、例えば不揮発性メモリおよび揮発性メモリを有する。第2制御部43は、加工装置41に設けられてもよいし、搬送装置42に設けられてもよいし、加工装置41および搬送装置42とは別に設けられてもよい。第2制御部43が加工装置41および搬送装置42とは別に設けられる場合、第2制御部43の配置位置は任意に設定可能である。   The second control unit 43 has an arithmetic processing unit that executes a predetermined control program. The arithmetic processing unit has, for example, a CPU or MPU. The second control unit 43 may have one or more microcomputers. The second control unit 43 further includes a storage unit. The storage unit stores various control programs and information used for various control processes. The storage unit has, for example, a non-volatile memory and a volatile memory. The second controller 43 may be provided in the processing device 41, may be provided in the transport device 42, or may be provided separately from the processing device 41 and the transport device 42. When the second control unit 43 is provided separately from the processing device 41 and the transfer device 42, the arrangement position of the second control unit 43 can be set arbitrarily.

〔フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法〕
次に、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の詳細について説明する。図5は、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法の工程の一例を示す。
[Method for manufacturing flexible organic EL display]
Next, details of the method for manufacturing the flexible organic EL display will be described. FIG. 5 shows an example of steps of a method for manufacturing a flexible organic EL display.

フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法では、第1積層基板11および第2積層基板12を貼り合せて多層積層基板10を製造後、多層積層基板10を所定サイズに切断して単位積層基板20を製造する。次に、単位積層基板20から第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを除去することにより、発光デバイスが製造される。そして、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに第1保護フィルムおよび第2保護フィルムを取り付ける。これにより、フレキシブル有機ELディスプレイが製造される。   In the method of manufacturing a flexible organic EL display, after the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are bonded to each other to produce the multilayer laminated substrate 10, the multilayer laminated substrate 10 is cut into a predetermined size to produce the unit laminated substrate 20. .. Next, the light emitting device is manufactured by removing the first glass layer 11A and the second glass layer 12A from the unit laminated substrate 20. Then, the first protective film and the second protective film are attached to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. Thereby, a flexible organic EL display is manufactured.

図5に示されるように、フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、第1積層基板11および第2積層基板12を積層する工程よりも前の工程である前段工程と、第1積層基板11および第2積層基板12を積層する工程以後の工程である後段工程とに区分される。前段工程は、前段積層工程を含む。前段積層工程は、第1積層基板11および第2積層基板12を製造する工程である。後段工程は、後段積層工程、後段切断工程、および、剥離工程を含む。後段積層工程は、第1積層基板11および第2積層基板12を積層して多層積層基板10を製造する工程である。後段切断工程は、多層積層基板10の切断予定部16,17に沿って多層積層基板10を切断することにより、すなわち多層積層基板10を所定サイズに切断することにより、単位積層基板20を製造する工程である。剥離工程は、レーザリフトオフ(LLO:Laser Lift Off)によって第1ガラス層11Aと第1樹脂層11Bとを剥離し、第2ガラス層12Aと第2樹脂層12Bとを剥離する工程である。以下、各工程の詳細について説明する。   As shown in FIG. 5, in the method for manufacturing a flexible organic EL display, a first step which is a step prior to the step of stacking the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12, a first laminated substrate 11 and a second laminated substrate 11 The two-layer substrate 12 is divided into a subsequent step, which is a step after the step of stacking the two-layer board 12. The pre-stage process includes a pre-stage lamination process. The pre-stage laminating step is a step of manufacturing the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. The post-stage process includes a post-stage stacking process, a post-stage cutting process, and a peeling process. The latter-stage laminating step is a step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 to manufacture the multilayer laminated substrate 10. In the latter-stage cutting step, the unit laminated board 20 is manufactured by cutting the multilayer laminated board 10 along the planned cutting portions 16 and 17 of the multilayer laminated board 10, that is, by cutting the multilayer laminated board 10 into a predetermined size. It is a process. The peeling step is a step of peeling the first glass layer 11A and the first resin layer 11B and peeling the second glass layer 12A and the second resin layer 12B by laser lift off (LLO). The details of each step will be described below.

前段積層工程では、第1ガラス層11Aの第1平面14Aに第1樹脂層11Bを形成することによって第1積層基板11を製造し、第2ガラス層12Aの第1平面15Aに第2樹脂層12Bを形成することによって第2積層基板12を製造する。第1ガラス層11Aの第1平面14Aへの第1樹脂層11Bの形成方法、および、第2ガラス層12Aの第1平面15Aへの第2樹脂層12Bの形成方法はそれぞれ、ガラス層に樹脂層を塗布する方法、または、ガラス層に接着層を介して樹脂層をラミネートする方法を選択できる。またガラス層に樹脂層を固定する方法として、加熱硬化処理、または、プレス法による加熱および加圧処理を選択できる。   In the first-stage laminating step, the first laminated substrate 11 is manufactured by forming the first resin layer 11B on the first plane 14A of the first glass layer 11A, and the second resin layer is formed on the first plane 15A of the second glass layer 12A. The second laminated substrate 12 is manufactured by forming 12B. The method for forming the first resin layer 11B on the first flat surface 14A of the first glass layer 11A and the method for forming the second resin layer 12B on the first flat surface 15A of the second glass layer 12A are respectively the resin for the glass layer. A method of applying a layer or a method of laminating a resin layer on a glass layer via an adhesive layer can be selected. As a method for fixing the resin layer to the glass layer, heat curing treatment or heating and pressure treatment by a pressing method can be selected.

前段積層工程では、次の第1の例〜第3の例のいずれか1つを選択できる。前段積層工程は第1の例〜第3の例のそれぞれにおいて第1積層基板11および第2積層基板12に共通するため、図6〜図8については第1積層基板11および第2積層基板12に関する符号を併せて付している。   In the first-stage laminating step, any one of the following first to third examples can be selected. The pre-stage laminating step is common to the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 in each of the first to third examples, and therefore the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are shown in FIGS. 6 to 8. Are also attached.

第1の例および第2の例では、第1積層基板11の第1ガラス層11Aにおいて切断が予定される切断予定部16が第1樹脂層11Bで被覆されないように第1ガラス層11Aに第1樹脂層11Bを形成する。第2積層基板12の第2ガラス層12Aにおいて切断が予定される切断予定部17が第2樹脂層12Bで被覆されないように第2ガラス層12Aに第2樹脂層12Bを形成する。   In the first example and the second example, the first glass layer 11A is provided with the first glass layer 11A so that the planned cutting portion 16 that is scheduled to be cut in the first glass layer 11A of the first laminated substrate 11 is not covered with the first resin layer 11B. 1 Resin layer 11B is formed. The second resin layer 12B is formed on the second glass layer 12A so that the planned cutting portion 17 of the second glass layer 12A of the second laminated substrate 12 that is to be cut is not covered with the second resin layer 12B.

第1の例では、図6に示されるように、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aに溝18を形成し、溝18が露出するように第1ガラス層11Aに第1樹脂層11Bを形成する。溝18は、第1ガラス層11Aの第1平面14A側に開口している。第2ガラス層12Aの切断予定部17Aに溝19を形成し、溝19が露出するように第2ガラス層12Aに第2樹脂層12Bを形成する。溝19は、第2ガラス層12Aの第1平面15A側に開口している。溝18,19は、例えばダイシングによって形成される。例えば第1ガラス層11Aにワニスからなる第1樹脂層11Bをローラ等で塗布する方法では、第1ガラス層11Aの溝18にはワニスが塗布されないため、特別な塗布方法を用いずに溝18が露出するように第1樹脂層11Bを形成できる。第2ガラス層12Aに第2樹脂層12Bをローラ等で塗布する方法も同様である。なお、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aにのみ溝18を形成してもよいし、第2ガラス層12Aの切断予定部17Aのみに溝19を形成してもよい。   In the first example, as shown in FIG. 6, the groove 18 is formed in the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A, and the first resin layer 11B is formed in the first glass layer 11A so that the groove 18 is exposed. Form. The groove 18 is open to the first plane 14A side of the first glass layer 11A. The groove 19 is formed in the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A, and the second resin layer 12B is formed in the second glass layer 12A so that the groove 19 is exposed. The groove 19 is open to the first plane 15A side of the second glass layer 12A. The grooves 18 and 19 are formed by, for example, dicing. For example, in the method of applying the first resin layer 11B made of varnish to the first glass layer 11A with a roller or the like, the varnish is not applied to the grooves 18 of the first glass layer 11A. The first resin layer 11B can be formed such that the first resin layer 11B is exposed. The same applies to the method of applying the second resin layer 12B to the second glass layer 12A with a roller or the like. The groove 18 may be formed only in the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A, or the groove 19 may be formed only in the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A.

第2の例では、図7に示されるように、第1ガラス層11Aの切断予定部16AにマスクMS1を形成し、第1ガラス層11Aに第1樹脂層11Bを形成する。マスクMS1は、第1ガラス層11Aの第1平面14A側に形成されている。この場合、マスクMS1によって第1ガラス層11Aの切断予定部16Aに第1樹脂層11Bが形成されない。その後、マスクMS1を除去する。また第2ガラス層12Aの切断予定部17AにマスクMS2を形成し、第2ガラス層12Aに第2樹脂層12Bを形成する。マスクMS2は、第2ガラス層12Aの第1平面15A側に形成されている。この場合、マスクMS2によって第2ガラス層12Aの切断予定部17Aに第2樹脂層12Bが形成されない。その後、マスクMS2を除去する。なお、第1ガラス層11Aの切断予定部16AにのみマスクMS1を形成してもよいし、第2ガラス層12Aの切断予定部17AのみにマスクMS2を形成してもよい。   In the second example, as shown in FIG. 7, the mask MS1 is formed on the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A, and the first resin layer 11B is formed on the first glass layer 11A. The mask MS1 is formed on the first plane 14A side of the first glass layer 11A. In this case, the first resin layer 11B is not formed on the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A by the mask MS1. After that, the mask MS1 is removed. Further, the mask MS2 is formed on the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A, and the second resin layer 12B is formed on the second glass layer 12A. The mask MS2 is formed on the first plane 15A side of the second glass layer 12A. In this case, the second resin layer 12B is not formed on the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A by the mask MS2. After that, the mask MS2 is removed. The mask MS1 may be formed only on the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A, or the mask MS2 may be formed only on the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A.

第3の例では、図8に示されるように、第1ガラス層11Aに第1樹脂層11Bを形成した後、第1樹脂層11Bにおける第1ガラス層11Aの切断予定部16Aに対応する部分(切断予定部16B)を除去する。また第2ガラス層12Aに第2樹脂層12Bを形成した後、第2樹脂層12Bにおける第2ガラス層12Aの切断予定部17Aに対応する部分(切断予定部17B)を除去する。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bは、レーザ、ブレイク、および、ダイシングのいずれかによって除去される。なお、第1樹脂層11Bにおける第1ガラス層11Aの切断予定部16Bに対応する部分および第2樹脂層12Bにおける第2ガラス層12Aの切断予定部17Bに対応する部分の一方のみを除去してもよい。   In the third example, as shown in FIG. 8, after forming the first resin layer 11B on the first glass layer 11A, a portion of the first resin layer 11B corresponding to the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A. The (planned cutting portion 16B) is removed. In addition, after forming the second resin layer 12B on the second glass layer 12A, a portion (planned cutting portion 17B) corresponding to the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A in the second resin layer 12B is removed. The first resin layer 11B and the second resin layer 12B are removed by any of laser, break, and dicing. In addition, only one of the portion of the first resin layer 11B corresponding to the planned cutting portion 16B of the first glass layer 11A and the portion of the second resin layer 12B corresponding to the planned cutting portion 17B of the second glass layer 12B is removed. Good.

後段積層工程では、所定サイズに切断されていない第1積層基板11と所定サイズに切断されていない第2積層基板12とを積層する。一例では、第1積層基板11と第2積層基板12とが、例えば接着層SDを介して貼り合せられる。これにより、多層積層基板10が製造される。本実施形態の前段積層工程を経て、後段積層工程において製造された多層積層基板10は、第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bの少なくとも一方が予め除去された状態で構成される。一例では、図9に示されるように、前段積層工程の第2の例または第3の例によって製造された第1積層基板11および第2積層基板12を後段積層工程において積層して多層積層基板10が製造される。図9の多層積層基板10は、第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bのそれぞれが除去された状態で構成されている。   In the latter-stage laminating step, the first laminated substrate 11 not cut into a predetermined size and the second laminated substrate 12 not cut into a predetermined size are laminated. In one example, the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are attached to each other via, for example, the adhesive layer SD. Thereby, the multilayer laminated substrate 10 is manufactured. At least one of the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B and the planned cutting portion 17B of the second resin layer 12B is removed in advance from the multilayer laminated substrate 10 manufactured through the former laminating step of the present embodiment and the latter laminating step. It is composed of In one example, as shown in FIG. 9, the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 manufactured according to the second example or the third example of the former laminating step are laminated in the latter laminating step to form a multilayer laminated board. 10 are manufactured. The multilayer laminated substrate 10 of FIG. 9 is configured in a state where the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B and the planned cutting portion 17B of the second resin layer 12B are removed.

後段切断工程は、第1積層基板11の第1ガラス層11Aおよび第2積層基板12の第2ガラス層12Aをそれぞれ切断する。より詳細には、後段切断工程では、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第2ガラス層12Aの切断予定部17Aを切断することによって単位積層基板20が製造される。後段切断工程では、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aをレーザまたはダイシングによって切断してもよいし、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aをレーザまたはスクライビングホイール50によってスクライブした後、ブレイクして切断してもよい。後段切断工程では、第2ガラス層12Aの切断予定部17Aをレーザまたはダイシングによって切断してもよいし、第2ガラス層12Aの切断予定部17Aをレーザまたはスクライビングホイール50によってスクライブした後、ブレイクして切断してもよい。第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを切断する順番は任意に設定可能である。   In the latter-stage cutting step, the first glass layer 11A of the first laminated substrate 11 and the second glass layer 12A of the second laminated substrate 12 are each cut. More specifically, in the latter-stage cutting step, the unit laminated substrate 20 is manufactured by cutting the planned cutting part 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting part 17A of the second glass layer 12A. In the latter-stage cutting step, the planned cutting part 16A of the first glass layer 11A may be cut by laser or dicing, or the planned cutting part 16A of the first glass layer 11A may be scribed by a laser or a scribing wheel 50 and then broken. May be cut. In the latter-stage cutting step, the planned cutting part 17A of the second glass layer 12A may be cut by laser or dicing, or the planned cutting part 17A of the second glass layer 12A may be scribed by a laser or a scribing wheel 50 and then broken. May be cut. The order of cutting the first glass layer 11A and the second glass layer 12A can be set arbitrarily.

剥離工程では、レーザリフトオフ装置(図示略)を用いる。本実施形態では、レーザリフトオフ装置のレーザとしてUVレーザが用いられる。図10(a)に示されるように、第1ガラス層11A側から第1樹脂層11Bにレーザを照射することによって第1樹脂層11Bと第1ガラス層11Aとを剥離する。第1樹脂層11Bと第1ガラス層11Aとを剥離する場合、レーザは、第1ガラス層11Aの第2平面14Bに直交するように照射される。次に、図10(b)に示されるように、第2ガラス層12A側から第2樹脂層12Bにレーザを照射することによって第2樹脂層12Bと第2ガラス層12Aとを剥離する。第2樹脂層12Bと第2ガラス層12Aとを剥離する場合、レーザは、第2ガラス層12Aの第2平面15Bに直交するように照射される。なお、第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aを剥離する順番は任意に変更可能である。例えば、第2樹脂層12Bと第2ガラス層12Aとを剥離した後、第1樹脂層11Bと第1ガラス層11Aとを剥離してもよい。   A laser lift-off device (not shown) is used in the peeling process. In this embodiment, a UV laser is used as the laser of the laser lift-off device. As shown in FIG. 10A, the first resin layer 11B and the first glass layer 11A are separated by irradiating the first resin layer 11B with a laser from the first glass layer 11A side. When peeling off the first resin layer 11B and the first glass layer 11A, the laser is applied so as to be orthogonal to the second plane 14B of the first glass layer 11A. Next, as shown in FIG. 10B, the second resin layer 12B and the second glass layer 12A are separated by irradiating the second resin layer 12B with a laser from the second glass layer 12A side. When peeling off the second resin layer 12B and the second glass layer 12A, the laser is applied so as to be orthogonal to the second plane 15B of the second glass layer 12A. The order of peeling the first glass layer 11A and the second glass layer 12A can be arbitrarily changed. For example, after peeling the second resin layer 12B and the second glass layer 12A, the first resin layer 11B and the first glass layer 11A may be peeled.

多層積層基板10から第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aが取り除かれた(図10(c)参照)後、第1樹脂層11Bを覆うように第1保護フィルムが取り付けられ、第2樹脂層12Bを覆うように第2保護フィルムが取り付けられることにより、フレキシブル有機ELディスプレイが製造される。   After the first glass layer 11A and the second glass layer 12A are removed from the multilayer laminated substrate 10 (see FIG. 10C), the first protective film is attached so as to cover the first resin layer 11B, and the second resin The flexible organic EL display is manufactured by attaching the second protective film so as to cover the layer 12B.

本実施形態の効果について説明する。
(1)フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、第1積層基板11と第2積層基板12とを積層する工程以後の工程である後段工程において、多層積層基板10を所定サイズに切断する。この製造方法では、第1積層基板11と第2積層基板12とを積層された多層積層基板10の状態で切断されるため、積層作業が簡素化される。このため、フレキシブル有機ELディスプレイの製造効率が低下しにくい。
The effects of this embodiment will be described.
(1) In the method for manufacturing a flexible organic EL display, the multilayer laminated substrate 10 is cut into a predetermined size in a subsequent step that is a step after the step of laminating the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12. In this manufacturing method, since the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 are cut in the laminated multilayer laminated substrate 10, the laminating operation is simplified. Therefore, the manufacturing efficiency of the flexible organic EL display is unlikely to decrease.

(2)前段積層工程において第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第2ガラス層12Aの切断予定部17Aの少なくとも一方が樹脂で被覆されないように第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを形成する。この製造方法では、後段工程において第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bの少なくとも一方を切断する必要がない。第1積層基板11および第2積層基板12よりも複雑な構成を有する多層積層基板10に対して必要な加工が少なくなり、作業の煩雑さが緩和される。   (2) The first resin layer 11B and the second resin layer 12B are formed so that at least one of the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A is not covered with the resin in the preceding laminating step. Form. In this manufacturing method, it is not necessary to cut at least one of the planned cutting part 16B of the first resin layer 11B and the planned cutting part 17B of the second resin layer 12B in the subsequent step. The number of processes required for the multilayer laminated substrate 10 having a more complicated structure than the first laminated substrate 11 and the second laminated substrate 12 is reduced, and the complexity of the work is eased.

加えて、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第2ガラス層12Aの切断予定部17Aが樹脂で被覆されていない場合、後段切断工程において、例えばレーザによって第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを切断しない。第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bに対するレーザの照射にともなうガスの発生が回避されるため、ガスに起因する第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの品質の低下を防止できる。前段積層工程において第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第2ガラス層12Aの切断予定部17Aの一方が樹脂で被覆されていない場合、第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bの一方と、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの一方に対応するガラス層との間に空間が形成される。後段切断工程において、例えばレーザによって第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの他方を切断する場合、第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの他方に対するレーザの照射にともなうガスが空間に滞留するため、ガスに起因する第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの品質が低下するおそれが低減される。   In addition, when the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A are not covered with the resin, in the subsequent cutting step, for example, the first resin layer 11B and the second resin layer 11B are cut by a laser. Do not cut layer 12B. Since gas generation due to laser irradiation to the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is avoided, it is possible to prevent deterioration of the quality of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B due to the gas. When one of the planned cutting part 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting part 17A of the second glass layer 12A is not covered with the resin in the first-stage laminating step, the planned cutting part 16B of the first resin layer 11B and the second resin A space is formed between one of the planned cutting portions 17B of the layer 12B and a glass layer corresponding to one of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B. In the latter cutting step, for example, when the other of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is cut by a laser, the gas accompanying the laser irradiation of the other of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B stays in the space. Therefore, the possibility that the quality of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is deteriorated due to the gas is reduced.

(3)前段積層工程において第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aに溝18,19を形成し、溝18が露出するように第1ガラス層11Aに第1樹脂層11Bを形成し、溝19が露出するように第2ガラス層12Aに第2樹脂層12Bを形成する。例えば第1ガラス層11Aおよび第2ガラス層12Aに第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bの元になるワニスが塗布される場合、溝18,19が形成される部分には塗布装置のワニスが接触せず、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第2ガラス層12Aの切断予定部17Aを除いた部分にワニスが塗布される。切断予定部16A,17Aに対応する第1樹脂層11Bおよび第2樹脂層12Bを除去する作業が不要となり、作業の煩雑さが緩和される。なお、第1ガラス層11Aに溝18が形成され、第2ガラス層12Aに溝19が形成されない場合では、切断予定部16Aに対応する第1樹脂層11Bを除去する作業が不要となり、多層積層基板10の加工作業の煩雑さが緩和される。第2ガラス層12Aに溝19が形成され、第1ガラス層11Aに溝18が形成されない場合では、切断予定部17Aに対応する第2樹脂層12Bを除去する作業が不要となり、多層積層基板10の加工作業の煩雑さが緩和される。   (3) Grooves 18 and 19 are formed in the first glass layer 11A and the second glass layer 12A in the first-stage laminating step, and the first resin layer 11B is formed in the first glass layer 11A so that the groove 18 is exposed. A second resin layer 12B is formed on the second glass layer 12A so that 19 is exposed. For example, when the varnish that is the base of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B is applied to the first glass layer 11A and the second glass layer 12A, the varnish of the application device is applied to the portions where the grooves 18 and 19 are formed. However, the varnish is applied to the portions of the first glass layer 11A other than the planned cutting portion 16A and the second glass layer 12A other than the planned cutting portion 17A. The work of removing the first resin layer 11B and the second resin layer 12B corresponding to the planned cutting portions 16A and 17A becomes unnecessary, and the complexity of the work is reduced. In addition, when the groove 18 is formed in the first glass layer 11A and the groove 19 is not formed in the second glass layer 12A, the work of removing the first resin layer 11B corresponding to the planned cutting portion 16A becomes unnecessary, and the multilayer stacking is performed. The complexity of the work of processing the substrate 10 is alleviated. When the groove 19 is formed in the second glass layer 12A and the groove 18 is not formed in the first glass layer 11A, the work of removing the second resin layer 12B corresponding to the planned cutting portion 17A becomes unnecessary, and the multilayer laminated substrate 10 The complexity of the processing work is reduced.

(4)前段積層工程において第1ガラス層11Aの切断予定部16AにマスクMS1を形成し、第1ガラス層11Aに第1樹脂層11Bを形成し、マスクMS1を除去する。第2ガラス層12Aの切断予定部17AにマスクMS2を形成し、第2ガラス層12Aに第2樹脂層12Bを形成し、マスクMS2を除去する。この製造方法では、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第2ガラス層12Aの切断予定部17Aが樹脂で被覆されていない状態を正確に形成できる。なお、第1ガラス層11Aの切断予定部16AにマスクMS1が形成され、第2ガラス層12Aの切断予定部17AにマスクMS2が形成されない場合では、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aが樹脂で被覆されていない状態を正確に形成できる。第2ガラス層12Aの切断予定部17AにマスクMS2が形成され、第1ガラス層11Aの切断予定部16AにマスクMS1が形成されない場合では、第2ガラス層12Aの切断予定部17Aが樹脂で被覆されていない状態を正確に形成できる。   (4) In the pre-stage laminating step, the mask MS1 is formed on the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A, the first resin layer 11B is formed on the first glass layer 11A, and the mask MS1 is removed. The mask MS2 is formed on the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A, the second resin layer 12B is formed on the second glass layer 12A, and the mask MS2 is removed. With this manufacturing method, it is possible to accurately form a state in which the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A are not covered with the resin. If the mask MS1 is formed on the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the mask MS2 is not formed on the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A, the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A is made of resin. The state not covered with can be accurately formed. When the mask MS2 is formed on the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A and the mask MS1 is not formed on the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A, the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A is covered with the resin. It is possible to accurately form a state that is not performed.

(5)前段積層工程において第1ガラス層11Aに第1樹脂層11Bを形成し、第2ガラス層12Aに第2樹脂層12Bを形成し、第1樹脂層11Bの切断予定部16Bおよび第2樹脂層12Bの切断予定部17Bの少なくとも一方を除去する。この製造方法では、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aおよび第2ガラス層12Aの切断予定部17Aの少なくとも一方が樹脂で被覆されていない状態を正確に形成できる。なお、第1樹脂層11Bの切断予定部16Bが除去され、第2樹脂層12Bの切断予定部17Bが除去されない場合では、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aが樹脂で被覆されていない状態を正確に形成できる。第2樹脂層12Bの切断予定部17Bが除去され、第1樹脂層11Bの切断予定部16Bが除去されない場合では、第2ガラス層12Aの切断予定部17Aが樹脂で被覆されていない状態を正確に形成できる。   (5) In the first-stage laminating step, the first resin layer 11B is formed on the first glass layer 11A, the second resin layer 12B is formed on the second glass layer 12A, and the planned cutting portion 16B of the first resin layer 11B and the second resin layer 12B are formed. At least one of the planned cutting portions 17B of the resin layer 12B is removed. With this manufacturing method, it is possible to accurately form a state in which at least one of the planned cutting portion 16A of the first glass layer 11A and the planned cutting portion 17A of the second glass layer 12A is not covered with the resin. When the planned cutting part 16B of the first resin layer 11B is removed and the planned cutting part 17B of the second resin layer 12B is not removed, the planned cutting part 16A of the first glass layer 11A is not covered with the resin. Can be accurately formed. When the planned cutting part 17B of the second resin layer 12B is removed and the planned cutting part 16B of the first resin layer 11B is not removed, the state where the planned cutting part 17A of the second glass layer 12A is not covered with the resin is accurate. Can be formed into

(変形例)
上記実施形態は本開示に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法が取り得る形態の例示であり、その形態を制限することを意図していない。本開示に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は実施形態に例示された形態とは異なる形態を取り得る。その一例は、実施形態の構成の一部を置換、変更、もしくは、省略した形態、または、実施形態に新たな構成を付加した形態である。以下の変形例において、実施形態の形態と共通する部分については、実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
(Modification)
The above embodiment is an example of a form that the method for manufacturing a flexible organic EL display according to the present disclosure can take, and is not intended to limit the form. The method for manufacturing the flexible organic EL display according to the present disclosure may take a form different from the form exemplified in the embodiment. An example thereof is a form in which a part of the configuration of the embodiment is replaced, changed, or omitted, or a configuration in which a new configuration is added to the embodiment. In the following modified examples, the same parts as those of the embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

・実施形態において、多層積層基板10に代えて、積層基板60を製造してもよい。図11に示されるように、積層基板60は、ガラス層61と樹脂層62とが積層されて構成される。ガラス層61は、樹脂層62が形成される第1平面63A、および、第1平面63Aと対をなす第2平面63Bを有する。積層基板60は、導電層65をさらに有する。導電層65は、実施形態の導電層13と同じである。樹脂層62および導電層65は、発光デバイスを構成している。ガラス層61の組成は、例えば実施形態の第1ガラス層11Aまたは第2ガラス層12Aの組成と同じである。樹脂層62の組成は、例えば実施形態の第1樹脂層11Bまたは第2樹脂層12Bの組成と同じである。   In the embodiment, the laminated substrate 60 may be manufactured instead of the multilayer laminated substrate 10. As shown in FIG. 11, the laminated substrate 60 is configured by laminating a glass layer 61 and a resin layer 62. The glass layer 61 has a first flat surface 63A on which the resin layer 62 is formed and a second flat surface 63B paired with the first flat surface 63A. The laminated substrate 60 further includes a conductive layer 65. The conductive layer 65 is the same as the conductive layer 13 of the embodiment. The resin layer 62 and the conductive layer 65 form a light emitting device. The composition of the glass layer 61 is, for example, the same as the composition of the first glass layer 11A or the second glass layer 12A of the embodiment. The composition of the resin layer 62 is, for example, the same as the composition of the first resin layer 11B or the second resin layer 12B of the embodiment.

フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法は、積層工程、切断工程、および、剥離工程を含む。積層工程は、ガラス層61に樹脂層62を積層して積層基板60を製造する工程である。積層工程における積層基板60の製造は、実施形態の前段積層工程における第1積層基板11の製造と同様である。すなわち積層工程において製造された積層基板60の樹脂層62の切断予定部64Bには、樹脂が覆われていない。切断工程は、積層基板60から所定サイズの単位積層基板を切り出す工程である。切断工程では、ガラス層61の切断予定部64Aをレーザまたはダイシングによって切断してもよいし、ガラス層61の切断予定部64Aをレーザまたはスクライビングホイール50によってスクライブした後、ブレイクして切断してもよい。剥離工程は、レーザリフトオフにより単位積層基板の樹脂層62とガラス層61とを剥離する工程である。剥離工程後、樹脂層62の厚さ方向Tの一方を覆うように第1保護フィルムが取り付けられ、樹脂層62の厚さ方向Tの他方を覆うように第2保護フィルムが取り付けられることにより、フレキシブル有機ELディスプレイが製造される。   The manufacturing method of the flexible organic EL display includes a laminating step, a cutting step, and a peeling step. The laminating step is a step of manufacturing the laminated substrate 60 by laminating the resin layer 62 on the glass layer 61. The manufacturing of the laminated substrate 60 in the laminating step is similar to the manufacturing of the first laminated substrate 11 in the pre-stage laminating step of the embodiment. That is, the portion to be cut 64B of the resin layer 62 of the laminated substrate 60 manufactured in the laminating step is not covered with the resin. The cutting step is a step of cutting out a unit laminated substrate having a predetermined size from the laminated substrate 60. In the cutting step, the planned cutting part 64A of the glass layer 61 may be cut by laser or dicing, or after the planned cutting part 64A of the glass layer 61 is scribed by the laser or the scribing wheel 50, it may be broken and cut. Good. The peeling step is a step of peeling the resin layer 62 and the glass layer 61 of the unit laminated substrate by laser lift-off. After the peeling step, the first protective film is attached so as to cover one side in the thickness direction T of the resin layer 62, and the second protective film is attached so as to cover the other side in the thickness direction T of the resin layer 62. A flexible organic EL display is manufactured.

・実施形態において、第1積層基板11に導電層13が形成されることに代えて、または第1積層基板11に導電層13が形成されることに加えて、第2積層基板12に導電層13が形成されてもよい。   In the embodiment, instead of forming the conductive layer 13 on the first laminated substrate 11 or in addition to forming the conductive layer 13 on the first laminated substrate 11, the conductive layer on the second laminated substrate 12 is formed. 13 may be formed.

・実施形態において、所定サイズの第1積層基板11である第1単位積層基板と、所定サイズの第2積層基板12である第2単位積層基板とを貼り合せて単位積層基板20を製造してもよい。すなわち前段工程は、第1積層基板11を所定サイズに切断する第1切断工程と、第2積層基板12を所定サイズに切断する第2切断工程とを含む。第1切断工程および第2切断工程は、前段積層工程の後に実施される。このため、第1切断工程では、第1ガラス層11Aのみを切断し、第2切断工程では、第2ガラス層12Aのみを切断する。第1切断工程では、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aをレーザまたはダイシングによって切断してもよいし、第1ガラス層11Aの切断予定部16Aをレーザまたはスクライビングホイール50によってスクライブした後、ブレイクして切断してもよい。第2切断工程では、第2ガラス層12Aの切断予定部17Aをレーザまたはダイシングによって切断してもよいし、第2ガラス層12Aの切断予定部17Aをレーザまたはスクライビングホイール50によってスクライブした後、ブレイクして切断してもよい。第1切断工程および第2切断工程の順番は任意に変更可能である。後段積層工程では、第1単位積層基板と第2単位積層基板とを積層する。   In the embodiment, the unit laminated substrate 20 is manufactured by bonding the first unit laminated substrate which is the first laminated substrate 11 having the predetermined size and the second unit laminated substrate which is the second laminated substrate 12 having the predetermined size. Good. That is, the pre-stage process includes a first cutting process for cutting the first laminated substrate 11 into a predetermined size and a second cutting process for cutting the second laminated substrate 12 into a predetermined size. The 1st cutting process and the 2nd cutting process are implemented after the preceding paragraph lamination process. Therefore, in the first cutting step, only the first glass layer 11A is cut, and in the second cutting step, only the second glass layer 12A is cut. In the first cutting step, the planned cutting part 16A of the first glass layer 11A may be cut by laser or dicing, or the planned cutting part 16A of the first glass layer 11A may be scribed by a laser or a scribing wheel 50 and then broken. May be cut. In the second cutting step, the planned cutting part 17A of the second glass layer 12A may be cut by laser or dicing, or the planned cutting part 17A of the second glass layer 12A may be scribed by a laser or a scribing wheel 50 and then broken. May be cut. The order of the first cutting process and the second cutting process can be arbitrarily changed. In the latter-stage laminating step, the first unit laminated substrate and the second unit laminated substrate are laminated.

・実施形態において、所定サイズの第1積層基板11である第1単位積層基板と、所定サイズに切断される前の第2積層基板12とを貼り合せた後、第2積層基板12を所定サイズに切断して単位積層基板20を製造してもよい。また所定サイズの第2積層基板12である第2単位積層基板と、所定サイズに切断される前の第1積層基板11とを貼り合せた後、第1積層基板11を所定サイズに切断して単位積層基板20を製造してもよい。すなわち、前段工程は、第1積層基板11を所定サイズに切断する第1切断工程と、第2積層基板12を所定サイズに切断する第2切断工程との一方を含む。第1切断工程および第2切断工程の一方は、前段積層工程の後に実施される。後段工程は、第1積層基板11を所定サイズに切断する第1切断工程と、第2積層基板12を所定サイズに切断する第2切断工程との他方を含む。第1切断工程による第1ガラス層11Aの切断方法および第2切断工程による第2ガラス層12Aの切断方法は、上記変形例の第1切断工程および第2切断工程と同じである。   In the embodiment, after bonding the first unit laminated board, which is the first laminated board 11 having a predetermined size, and the second laminated board 12 which has not been cut into a predetermined size, the second laminated board 12 has a predetermined size. The unit laminated substrate 20 may be manufactured by cutting into pieces. Also, after bonding the second unit laminated board, which is the second laminated board 12 of a predetermined size, and the first laminated board 11 before being cut into a predetermined size, the first laminated board 11 is cut into a predetermined size. The unit laminated substrate 20 may be manufactured. That is, the former step includes one of a first cutting step of cutting the first laminated substrate 11 into a predetermined size and a second cutting step of cutting the second laminated substrate 12 into a predetermined size. One of the first cutting step and the second cutting step is performed after the pre-stage stacking step. The latter step includes the other of the first cutting step of cutting the first laminated substrate 11 into a predetermined size and the second cutting step of cutting the second laminated substrate 12 into a predetermined size. The method of cutting the first glass layer 11A by the first cutting step and the method of cutting the second glass layer 12A by the second cutting step are the same as the first cutting step and the second cutting step of the above modification.

10 :多層積層基板
11 :第1積層基板
11A:第1ガラス層
11B:第1樹脂層
12 :第2積層基板
12A:第2ガラス層
12B:第2樹脂層
16 :切断予定部
16A:切断予定部
16B:切断予定部
17 :切断予定部
17A:切断予定部
17B:切断予定部
18 :溝
19 :溝
60 :積層基板
61 :ガラス層
62 :樹脂層
64A:切断予定部
64B:切断予定部
MS1,MS2:マスク
10: multilayer laminated substrate 11: first laminated substrate 11A: first glass layer 11B: first resin layer 12: second laminated substrate 12A: second glass layer 12B: second resin layer 16: planned cutting portion 16A: planned cutting Part 16B: Planned cutting part 17: Planned cutting part 17A: Planned cutting part 17B: Planned cutting part 18: Groove 19: Groove 60: Laminated substrate 61: Glass layer 62: Resin layer 64A: Planned cutting part 64B: Planned cutting part MS1 , MS2: Mask

Claims (5)

ガラス層と樹脂層とが積層された複数の積層基板を備え、前記複数の積層基板は第1ガラス層と第1樹脂層とが積層された第1積層基板、および、第2ガラス層と第2樹脂層とが積層された第2積層基板を含み、前記第1樹脂層と前記第2樹脂層とが対向するように積層された多層積層基板の製造に関するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法であって、
前記複数の積層基板を積層する工程よりも前の工程である前段工程を含み、
前記前段工程は、前記複数の積層基板の少なくとも一方について、前記ガラス層における切断が予定される切断予定部が樹脂で被覆されないように前記ガラス層に前記樹脂層を形成する前段積層工程を含む
フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
A plurality of laminated substrates in which a glass layer and a resin layer are laminated, wherein the plurality of laminated substrates are a first laminated substrate in which a first glass layer and a first resin layer are laminated, and a second glass layer and a first laminated substrate. A method for manufacturing a flexible organic EL display, which comprises a second laminated substrate in which two resin layers are laminated, and a multilayer laminated substrate in which the first resin layer and the second resin layer are laminated so as to face each other. hand,
Including a preceding step which is a step prior to the step of stacking the plurality of laminated substrates,
The pre-stage step includes a pre-stage lamination step of forming the resin layer on the glass layer so that a portion of the glass layer, which is to be cut, is not covered with resin on at least one of the plurality of laminated substrates. Method for manufacturing organic EL display.
前記前段積層工程では、前記ガラス層の前記切断予定部に溝を形成し、前記溝が露出するように前記ガラス層に前記樹脂層を形成する
請求項1に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method for manufacturing a flexible organic EL display according to claim 1, wherein in the pre-stage laminating step, a groove is formed in the portion to be cut of the glass layer, and the resin layer is formed in the glass layer so that the groove is exposed. ..
前記前段積層工程では、前記ガラス層に前記樹脂層を形成し、前記樹脂層における前記ガラス層の前記切断予定部に対応する部分を除去する
請求項1に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method for manufacturing a flexible organic EL display according to claim 1, wherein in the pre-stage laminating step, the resin layer is formed on the glass layer, and a portion of the resin layer corresponding to the planned cut portion of the glass layer is removed.
前記前段積層工程では、前記ガラス層の前記切断予定部にマスクを形成し、前記ガラス層に前記樹脂層を形成し、前記マスクを除去する
請求項1に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method of manufacturing a flexible organic EL display according to claim 1, wherein in the pre-stage laminating step, a mask is formed on the planned cutting portion of the glass layer, the resin layer is formed on the glass layer, and the mask is removed.
前記複数の積層基板を積層する工程以後の工程である後段工程をさらに含み、
前記後段工程は、前記複数の積層基板の前記ガラス層を切断する後段切断工程を含む
請求項1〜4のいずれか一項に記載のフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
The method further includes a subsequent step that is a step after the step of stacking the plurality of laminated substrates
The method of manufacturing a flexible organic EL display according to claim 1, wherein the subsequent step includes a subsequent cutting step of cutting the glass layers of the plurality of laminated substrates.
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