JP2020063466A - 磁気ディスク用アルミニウム合金板及びその製造方法、ならびに、当該磁気ディスク用アルミニウム合金板を用いた磁気ディスク - Google Patents
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- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 173
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 47
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 89
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 67
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 62
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 51
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 51
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 39
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 claims description 24
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 claims description 21
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 20
- 238000007670 refining Methods 0.000 claims description 20
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 claims description 15
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 14
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 12
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims 2
- 238000010309 melting process Methods 0.000 claims 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 32
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 32
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 21
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 20
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 20
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 description 16
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 14
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 12
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 10
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 8
- 229910018084 Al-Fe Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910018192 Al—Fe Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 7
- 229910019064 Mg-Si Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910019406 Mg—Si Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 6
- 229910018131 Al-Mn Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910018461 Al—Mn Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000011817 metal compound particle Substances 0.000 description 5
- 229910018580 Al—Zr Inorganic materials 0.000 description 4
- 101710112287 DNA-directed RNA polymerases I and III subunit RPAC2 Proteins 0.000 description 4
- 101710183183 Probable DNA-directed RNA polymerases I and III subunit RPAC2 Proteins 0.000 description 4
- 102100034616 Protein POLR1D, isoform 2 Human genes 0.000 description 4
- QQHSIRTYSFLSRM-UHFFFAOYSA-N alumanylidynechromium Chemical compound [Al].[Cr] QQHSIRTYSFLSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 4
- 229910018507 Al—Ni Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910018182 Al—Cu Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229910017827 Cu—Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017082 Fe-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017133 Fe—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019018 Mg 2 Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018643 Mn—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000002051 biphasic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 1
- -1 etc.) Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C21/00—Alloys based on aluminium
- C22C21/02—Alloys based on aluminium with silicon as the next major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C21/00—Alloys based on aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C21/00—Alloys based on aluminium
- C22C21/10—Alloys based on aluminium with zinc as the next major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C21/00—Alloys based on aluminium
- C22C21/12—Alloys based on aluminium with copper as the next major constituent
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- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
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- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
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- C23C18/31—Coating with metals
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
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- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/32—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
- C23C18/34—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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Abstract
Description
以下、本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金板(以下、「本発明に係るアルミニウム合金板」又は、単に「アルミニウム合金板」と略記する)について詳細に説明する。
以下、本発明に係るAl−Fe系合金を用いたアルミニウム合金板を構成するアルミニウム合金成分及びその含有量について説明する。
Feは必須元素であり、主として第二相粒子(Al−Fe系金属間化合物等)として、一部はマトリックスに固溶して存在し、磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を発揮する。このような材料に振動を加えると、第二相粒子とマトリックスとの界面における粘性流動により振動エネルギーが速やかに吸収され、極めて良好なフラッタリング特性が得られる。アルミニウム合金中のFe含有量が0.10%未満では、十分な強度とフラッタリング特性が得られない。一方、Fe含有量が3.00%を超えると、粗大なAl−Fe系金属間化合物粒子が多数生成する。このような粗大なAl−Fe系金属間化合物粒子が、エッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時において脱落して大きな窪みが発生し、めっき表面の平滑性の低下及びめっき剥離を発生させる。また、圧延工程における加工性低下も生じる。そのため、アルミニウム合金中のFe含有量は、0.10〜3.00%の範囲とする。Fe含有量は、好ましくは0.40〜2.00%、より好ましくは0.80〜1.80%の範囲である。
Cuは必須元素であり、ジンケート処理時のAl溶解量を減少させ、また、ジンケート皮膜を均一に、薄く、緻密に付着させ、次工程のめっき工程での平滑性及び密着性を向上させる効果を発揮する。アルミニウム合金中のCu含有量が0.003%未満では、ジンケート皮膜が不均一となり、めっき表面にピットが発生し、めっき表面の平滑生を低下させる。また、めっき剥離が生じ易くなる。一方、アルミニウム合金中のCu含有量が1.000%を超えると、粗大なAl−Cu系金属間化合物粒子が多数生成し、エッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時に脱落して大きな窪みが発生し、めっき表面にピットが生じ、めっき表面の平滑性が低下する。また、めっき剥離が生じ易くなる。そのため、アルミニウム合金中のCu含有量は、0.003〜1.000%の範囲とする。Cu含有量は好ましくは、0.005〜0.400%の範囲である。
Znは必須元素であり、ジンケート処理時のAl溶解量を減少させ、またジンケート皮膜を均一に、薄く、緻密に付着させ、次工程のめっき工程での平滑性及び密着性を向上させる効果を発揮する。アルミニウム合金中のZn含有量が0.005%未満では、ジンケート皮膜が不均一となり、めっき表面にピットが発生し、めっき表面の平滑生を低下させる。また、めっき剥離が生じ易くなる。一方、アルミニウム合金中のZn含有量が1.000%を超えるとジンケート皮膜が不均一となり、めっき表面にピットが発生し、めっき表面の平滑生を低下させる。また、めっき剥離が生じ易くなる。そのため、アルミニウム合金中のZn含有量は、0.005〜1.000%の範囲とする。Zn含有量は好ましくは、0.100〜0.700の範囲である。
Mnは、第二相粒子(Al−Mn系金属間化合物等)や固溶元素として存在し、磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を発揮する。このような材料に振動を加えると、第二相粒子とマトリックスとの界面における粘性流動により振動エネルギーが速やかに吸収され、極めて良好なフラッタリング特性が得られる。アルミニウム合金中のMn含有量が0.1%以上であることによって、磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を一層高めることができる。また、Mn含有量が3.0%以下であることによって、粗大なAl−Mn系金属間化合物粒子が多数生成することを抑制する。このような粗大なAl−Mn系金属間化合物粒子が、エッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時に脱落して大きな窪みが発生することを抑制し、めっき表面の平滑性の低下及びめっき剥離が生じることを一層抑制することができる。また、圧延工程における加工性低下を一層抑制することができる。そのため、アルミニウム合金中のMn含有量は、0.1〜3.0%の範囲とするのが好ましく、0.1〜2.0%の範囲とするのがより好ましい。
Siは、主として第二相粒子(Si粒子等)として存在し、磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を発揮する。このような材料に振動を加えると、第二相粒子とマトリックスとの界面における粘性流動により振動エネルギーが速やかに吸収され、極めて良好なフラッタリング特性が得られる。アルミニウム合金中のSi含有量が0.1%以上であることによって、磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を一層高めることができる。また、アルミニウム合金中のSi含有量が5.0%以下であることによって、粗大なSi粒子が多数生成することを抑制する。このような粗大なSi粒子が、エッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時に脱落して大きな窪みが発生することを抑制し、めっき表面の平滑性の低下及びめっき剥離が生じることを一層抑制することができる。また、圧延工程における加工性低下を一層抑制することができる。そのため、アルミニウム合金中のSi含有量は、0.1〜5.0%の範囲とするのが好ましく、0.1〜0.4%の範囲とするのがより好ましい。
Niは、主として第二相粒子(Al−Ni系金属間化合物等)として存在し、磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を発揮する。このような材料に振動を加えると、第二相粒子とマトリックスとの界面における粘性流動により振動エネルギーが速やかに吸収され、極めて良好なフラッタリング特性が得られる。アルミニウム合金中のNi含有量が0.1%以上であることによって、磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を一層高めることができる。また、アルミニウム合金中のNi含有量が8.0%以下であることによって、粗大なAl−Ni系金属間化合物粒子が多数生成することを抑制する。このような粗大なAl−Ni系金属間化合物粒子が、エッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時に脱落して大きな窪みが発生することを抑制し、めっき表面の平滑性の低下及びめっき剥離が生じることを一層抑制することができる。また、圧延工程における加工性低下を一層抑制することができる。そのため、アルミニウム合金中のNi含有量は、0.1〜8.0%の範囲とするのが好ましく、0.1〜6.0%の範囲とするのがより好ましい。
Mgは、主として第二相粒子(Mg−Si系金属間化合物等)として存在し、磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を発揮する。アルミニウム合金中のMg含有量が0.1%以上であることによって、磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を一層高めることができる。また、アルミニウム合金中のMg含有量が6.0%以下であることによって、粗大なMg−Si系金属間化合物粒子が多数生成することを抑制する。このような粗大なMg−Si系金属間化合物粒子がエッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時に脱落して大きな窪みが発生することを抑制し、めっき表面の平滑性の低下及びめっき剥離が生じることを一層抑制することができる。また、圧延工程における加工性低下を一層抑制することができる。そのため、アルミニウム合金中のMg含有量は、0.1〜6.0%の範囲とするのが好ましく、0.3%以上1.0%未満の範囲とするのがより好ましい。
Crは、主として第二相粒子(Al−Cr系金属間化合物等)として存在し、磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を発揮する。アルミニウム合金中のCr含有量が0.01%以上であることによって、磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を一層高めることができる。また、アルミニウム合金中のCr含有量が1.00%以下であることによって、粗大なAl−Cr系金属間化合物粒子が多数生成することを抑制する。このような粗大なAl−Cr系金属間化合物粒子がエッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時に脱落して大きな窪みが発生することを抑制し、めっき表面の平滑性の低下及びめっき剥離が生じることを一層抑制することができる。また、圧延工程における加工性低下を一層抑制することができる。そのため、アルミニウム合金中のCr含有量は、0.01〜1.00%の範囲とするのが好ましく、0.10〜0.50%の範囲とするのがより好ましい。
Zrは、主として第二相粒子(Al−Zr系金属間化合物等)として存在し、磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を発揮する。アルミニウム合金中のZr含有量が0.01%以上であることによって、磁気ディスクの強度とフラッタリング特性を向上させる効果を一層高めることができる。また、アルミニウム合金中のZr含有量が1.00%以下であることによって、粗大なAl−Zr系金属間化合物粒子が多数生成することを抑制する。このような粗大なAl−Zr系金属間化合物粒子がエッチング時、ジンケート処理時、切削加工時や研削加工時に脱落して大きな窪みが発生することを抑制し、めっき表面の平滑性の低下及びめっき剥離が生じることを一層抑制することができる。また、圧延工程における加工性低下を一層抑制することができる。そのため、アルミニウム合金中のZr含有量は、0.01〜1.00%の範囲とするのが好ましく、0.10〜0.50%の範囲とするのがより好ましい。
Ti、B及びVは、鋳造時の凝固過程において、第二相粒子(TiB2などのホウ化物、或いは、Al3TiやTi−V−B粒子等)を形成し、これらが結晶粒核となるため、結晶粒を微細化することが可能となる。その結果、めっき性が改善する。また、結晶粒が微細化することで、第二相粒子のサイズの不均一性を小さくし、磁気ディスクの強度とフラッタリング特性のバラツキを低減させる効果を発揮する。但し、Ti、B及びVの含有量の合計が0.005%未満では、上記の効果が得られない。一方、Ti、B及びVの含有量の合計が0.500%を超えてもその効果は飽和し、それ以上の顕著な改善効果が得られない。そのため、Ti、B及びVを添加する場合のTi、B及びVの含有量の合計は、0.005〜0.500%の範囲とするのが好ましく、0.005〜0.100%の範囲とするのがより好ましい。なお、合計量とは、Ti、B及びVのいずれか1種のみを含有する場合にはこの1種の量であり、いずれか2種を含有する場合にはこれら2種の合計量であり、3種全てを含有する場合にはこれら3種の合計量である。
また、本発明に用いるアルミニウム合金の残部は、Al及び不可避的不純物からなる。ここで、不可避的不純物としてはGa、Snなどが挙げられ、各々が0.10%未満で、かつ合計で0.20%未満であれば、本発明で得られるアルミニウム合金板としての特性を損なうことはない。
次に、本発明に係るアルミニウム合金板における第二相粒子の分布状態について説明する。
本発明の実施態様においては、アルミニウム合金板の厚さは、0.35mm以上であることが好ましい。アルミニウム合金板の厚さが0.35mm未満であると、ハードディスクドライブの取り付け時などに発生する落下などによる加速力によって変形する虞がある。但し、耐力を更に増加することによって変形が抑制できればこの限りではない。なお、アルミニウム合金板の厚さが1.90mmを超えると、フラッタリング特性は改善するがハードディスク内に搭載できるディスク枚数が減ってしまうため好適ではない。従って、アルミニウム合金板の厚さは、0.35〜1.90mmとするのがより好ましく、0.50〜1.40mmとするのが更に好ましい。
図1のフローに従って説明する。なお、ステップS103及びS104以外のSステップについては(a)と(b)で同じなので、いずれかを断らない場合がある。まず、(a)のアルミニウム合金溶湯の溶製(ステップS101)、アルミニウム合金の半連続鋳造(ステップS102)〜冷間圧延(ステップS105)、ならびに、(b)のアルミニウム合金溶湯の溶製(ステップS101)、アルミニウム合金の連続鋳造(ステップS102)及び冷間圧延(ステップS105)は、アルミニウム合金板を作製する工程(ステップS106)である。次に、このアルミニウム合金板を用いたディスクブランクの作製(ステップS107)と加圧平坦化処理(ステップS108)の工程が、アルミニウム合金基板を作製する工程(ステップS109)である。更に、このアルミニウム合金基板を用いたジンケート処理(ステップS110)とNi−Pめっき処理(ステップS111)の工程が、アルミニウム合金基盤を作製する工程(ステップS112)である。最後に、このアルミニウム合金基盤に磁性体を付着(ステップS113)する工程によって、磁気ディスクが完成する。
次いで、ステップ6のアルミニウム合金板を用いて、ディスクブランクの作製(ステップS107)と加圧平坦化処理(ステップS108)によって、磁気ディスク用アルミニウム合金基板(以下、単に「アルミニウム合金基板」と記す)が作製される(ステップS109)。まず、アルミニウム合金板を円環状に打ち抜き、ディスクブランクを作成する(ステップS107)。次に、ディスクブランクを大気中にて、例えば100℃以上350℃以下で30分以上の加圧焼鈍を行い平坦化したブランクを作成する(ステップS108)。次に、ブランクに切削加工、研削加工を施し、ならびに、好ましくは、250〜400℃の温度で5〜15分の歪取り加熱処理をこの順序で施して、アルミニウム合金基板を作製する(ステップS109)。以上の工程を経て、アルミニウム合金基板が得られる。
次いで、ステップ9のアルミニウム合金基板の表面に脱脂処理、酸エッチング処理、デスマット処理を施した後にジンケート処理(Zn置換処理)を施す(ステップS110)。更に、ジンケート処理した表面に下地処理としてNi−Pめっき処理を施す(ステップS111)。このようにして、アルミニウム合金基盤が作製される(ステップS111)。
最後に、下地めっき処理した磁気ディスク用のアルミニウム合金基盤の表面を研磨により平滑し、表面に下地層、磁性層、保護膜及び潤滑層等からなる磁性媒体をスパッタリングにより付着させる工程(ステップS113)によって磁気ディスクとする。
フラッタリング特性は、ハードディスクドライブのモーター特性によっても影響を受ける。本発明においては、フラッタリング特性は、空気中では、30nm以下であることが好ましく、10nm以下であることがより好ましい。30nm以下であれば一般的なHDD向けの使用に耐え得ると判断される。30nmを超える場合は、読み取り部であるヘッドの位置決め誤差が増加する。
冷間圧延(ステップS105)後のアルミニウム合金板(ステップS106)の断面を研磨後、SEMにより300倍の倍率で領域(A)と領域(B)のそれぞれ1.0mm2の視野を観察し、COMPO像を撮影し、粒子解析ソフトA像くん(商品名、旭化成エンジニアリング(株)社製)を用いて領域(A)と領域(B)の第二相粒子の面積率(%)を算出した。領域(A)と(B)の第二相粒子の面積率(%)は、領域(A)と(B)において撮影したCOMPO像から、マトリックスとコントラストが異なる第二相粒子の面積を算出し、領域(A)又は(B)で撮影した全視野の面積(1.0mm2)で除したものをいう。SEMのCOMPO像では、第二相粒子のAl−Fe系金属間化合物等はマトリックスより白いコントラストの像として写り、Mg−Si系金属間化合物等はマトリクスより黒いコントラストの像として写る。観察は、アルミニウム合金基板のL−ST断面(圧延方向と板厚方向からなる断面)とした。結果を表7〜9示す。
冷間圧延(ステップS105)後のアルミニウム合金板(ステップS106)の表面を10μm研磨し、EPMAにより、倍率300倍にて撮影すると同時に化合物の成分分析を行い、円相当直径が15〜50μmのTi系化合物粒子の分布密度を算出した。なお、撮影は、合計が1.0mm2となる複数の撮影視野について行ない、各視野における個数を合計して分布密度とした。
めっき処理研磨(ステップS110)工程後のアルミニウム合金基盤を用いディスク・フラッタの測定を行った。ディスク・フラッタの測定は、市販のハードディスクドライブに空気の存在下、アルミニウム合金基盤を設置し、測定を行った。ドライブはSeagate製ST2000(商品名)を用いて、モーター駆動はテクノアライブ製SLD102(商品名)をモーターに直結することにより駆動させた。回転数は7200rpmとし、ディスクは常に複数枚設置してその上部の磁気ディスクの表面にレーザードップラー計である小野測器製LV1800(商品名)によって表面の振動を観察した。観察した振動は、小野測器製FFT解析装置DS3200(商品名)によってスペクトル分析した。観察はハードディスクドライブの蓋に孔を開けることにより、その穴からディスク表面を観察して行った。また、市販のハードディスクに設置されていたスクイーズプレートは外して評価を行っている。
Claims (6)
- Fe:0.10〜3.00mass%、Cu:0.003〜1.000mass%、Zn:0.005〜1.000mass%を含有し、残部Al及び不可避的不純物からなるアルミニウム合金からなり、板厚中心面から板の表面までの領域を領域(A)とし、板厚中心面から板の裏面までの領域を領域(B)とし、領域(A)と(B)における第二相粒子の面積率(%)の差を、領域(A)と(B)の第二相粒子の面積率(%)の平均値で除したものが0.50以下であることを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金板。
- 前記アルミニウム合金が、Mn:0.1〜3.0mass%、Si:0.1〜5.0mass%、Ni:0.1〜8.0mass%、Mg:0.1〜6.0mass%、Cr:0.01〜1.00mass%及びZr:0.01〜1.00mass%からなる群から選択される1種又は2種以上を更に含有する、請求項1に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金板。
- 前記アルミニウム合金が、含有量の合計が0.005〜0.500mass%のTi、B及びVからなる群から選択される1種又は2種以上を更に含有する、請求項1又は2に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金板。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載の磁気ディスク用アルミニウム合金板からなるアルミニウム合金基板の表面に、無電解Ni−Pめっき処理層とその上の磁性体層が設けられていることを特徴とする磁気ディスク。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載される磁気ディスク用アルミニウム合金板の製造方法であって、前記アルミニウム合金を用いて溶湯を溶製する溶湯溶製工程と、溶製した溶湯から半連続鋳造法によって鋳塊を鋳造する半連続鋳造工程と、鋳塊を熱間圧延する熱間圧延工程と、熱間圧延板を冷間圧延する冷間圧延工程とを含み、前記溶湯溶製工程において溶湯に微細化剤を添加してから1〜60分以内に半連続鋳造工程を開始することを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金板の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載される磁気ディスク用アルミニウム合金板の製造方法であって、前記アルミニウム合金を用いて溶湯を溶製する溶湯溶製工程と、溶製した溶湯から連続鋳造法によって鋳造板を鋳造する連続鋳造工程と、連続鋳造した鋳造板を冷間圧延する冷間圧延工程とを含み、前記溶湯溶製工程において溶湯に微細化剤を添加してから1〜60分以内に連続鋳造工程を開始することを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金板の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018194477A JP6506897B1 (ja) | 2018-10-15 | 2018-10-15 | 磁気ディスク用アルミニウム合金板及びその製造方法、ならびに、当該磁気ディスク用アルミニウム合金板を用いた磁気ディスク |
US17/284,187 US11341995B2 (en) | 2018-10-15 | 2019-10-15 | Aluminum alloy sheet for magnetic disk and production method therefor, and magnetic disk using said aluminum alloy sheet for magnetic disk |
CN201980068059.5A CN112840399B (zh) | 2018-10-15 | 2019-10-15 | 磁盘用铝合金板及其制造方法,以及使用该磁盘用铝合金板的磁盘 |
MYPI2021002035A MY187821A (en) | 2018-10-15 | 2019-10-15 | Aluminum alloy sheet for magnetic disk and production method therefor, and magnetic disk using said aluminum alloy sheet for magnetic disk |
PCT/JP2019/040500 WO2020080363A1 (ja) | 2018-10-15 | 2019-10-15 | 磁気ディスク用アルミニウム合金板及びその製造方法、ならびに、当該磁気ディスク用アルミニウム合金板を用いた磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018194477A JP6506897B1 (ja) | 2018-10-15 | 2018-10-15 | 磁気ディスク用アルミニウム合金板及びその製造方法、ならびに、当該磁気ディスク用アルミニウム合金板を用いた磁気ディスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6506897B1 JP6506897B1 (ja) | 2019-04-24 |
JP2020063466A true JP2020063466A (ja) | 2020-04-23 |
Family
ID=66324296
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018194477A Active JP6506897B1 (ja) | 2018-10-15 | 2018-10-15 | 磁気ディスク用アルミニウム合金板及びその製造方法、ならびに、当該磁気ディスク用アルミニウム合金板を用いた磁気ディスク |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11341995B2 (ja) |
JP (1) | JP6506897B1 (ja) |
CN (1) | CN112840399B (ja) |
MY (1) | MY187821A (ja) |
WO (1) | WO2020080363A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220033650A (ko) * | 2020-09-09 | 2022-03-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 반사 전극 및 이를 포함하는 표시 장치 |
CN116936155A (zh) * | 2023-08-09 | 2023-10-24 | 嘉铝(上海)科技发展有限公司 | 一种光伏线缆用镀锡Al-Fe-Cu铝合金导体材料及其制备方法、应用 |
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JP6389546B1 (ja) * | 2017-05-12 | 2018-09-12 | 株式会社Uacj | 磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、ならびに、この磁気ディスク用アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスク |
JP6402229B1 (ja) * | 2017-09-28 | 2018-10-10 | 株式会社Uacj | 磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、ならびに、当該磁気ディスク用アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスク |
JP6437583B2 (ja) * | 2017-02-27 | 2018-12-12 | 株式会社Uacj | 磁気ディスク基板用アルミニウム合金板及びその製造方法、ならびに、この磁気ディスク基板用アルミニウム合金板を用いた磁気ディスク |
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---|---|---|---|---|
JPS5733381A (en) * | 1980-08-07 | 1982-02-23 | Nec Corp | Integrated circuit |
US4497098A (en) * | 1982-09-07 | 1985-02-05 | Hitco | Fill yarn removal apparatus |
JPS6389577A (ja) | 1986-09-30 | 1988-04-20 | Tatsuta Electric Wire & Cable Co Ltd | 導電塗料 |
US5939164A (en) | 1996-02-28 | 1999-08-17 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Aluminum alloy sheet for magnetic disk substrate aluminum alloy clad sheet for magnetic disk substrate and their manufacturing method |
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JP3983005B2 (ja) | 2001-04-13 | 2007-09-26 | 富士通株式会社 | 磁気ディスク装置 |
JP2004292862A (ja) | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Furukawa Sky Kk | 平版印刷版用アルミニウム合金支持体およびその製造方法 |
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JP4891161B2 (ja) | 2007-06-29 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法、および製造装置 |
JP4701301B2 (ja) | 2009-10-09 | 2011-06-15 | 三井金属鉱業株式会社 | アルミニウム溶湯用ろ過フィルター |
JP5379643B2 (ja) | 2009-10-26 | 2013-12-25 | 株式会社神戸製鋼所 | 連続鋳造方法及びノズル |
JP2012072487A (ja) | 2010-09-03 | 2012-04-12 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用アルミニウム合金板及びその製造方法 |
US20170327930A1 (en) * | 2014-10-31 | 2017-11-16 | Uacj Corporation | Aluminum alloy substrate for magnetic disk |
JP6389577B1 (ja) | 2018-02-17 | 2018-09-12 | 株式会社Uacj | 磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、ならびに、当該磁気ディスク用アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスク |
JP2020107382A (ja) * | 2018-12-28 | 2020-07-09 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体、ハードディスクドライブ |
-
2018
- 2018-10-15 JP JP2018194477A patent/JP6506897B1/ja active Active
-
2019
- 2019-10-15 CN CN201980068059.5A patent/CN112840399B/zh active Active
- 2019-10-15 US US17/284,187 patent/US11341995B2/en active Active
- 2019-10-15 WO PCT/JP2019/040500 patent/WO2020080363A1/ja active Application Filing
- 2019-10-15 MY MYPI2021002035A patent/MY187821A/en unknown
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP6316511B2 (ja) * | 2016-04-27 | 2018-04-25 | 株式会社Uacj | 磁気ディスク用基板 |
JP6437583B2 (ja) * | 2017-02-27 | 2018-12-12 | 株式会社Uacj | 磁気ディスク基板用アルミニウム合金板及びその製造方法、ならびに、この磁気ディスク基板用アルミニウム合金板を用いた磁気ディスク |
JP6389546B1 (ja) * | 2017-05-12 | 2018-09-12 | 株式会社Uacj | 磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、ならびに、この磁気ディスク用アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスク |
JP6402229B1 (ja) * | 2017-09-28 | 2018-10-10 | 株式会社Uacj | 磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、ならびに、当該磁気ディスク用アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスク |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6506897B1 (ja) | 2019-04-24 |
US11341995B2 (en) | 2022-05-24 |
MY187821A (en) | 2021-10-26 |
CN112840399B (zh) | 2022-04-26 |
CN112840399A (zh) | 2021-05-25 |
US20210319806A1 (en) | 2021-10-14 |
WO2020080363A1 (ja) | 2020-04-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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