JP2020041944A - 放射線検出器 - Google Patents
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Abstract
【課題】感度の向上が可能な放射線検出器を提供する。【解決手段】実施形態によれば、放射線検出器は、第1部材、第1電極、第2電極及び有機光電変換層を含む。前記第1部材は、放射線を光に変換する。前記第1部材は、第1部分及び第2部分を含む第1面を含む。前記第1電極は、前記第1部分に設けられる。前記第2電極は、前記第2部分に設けられる。前記有機光電変換層の第1中間領域は、前記第1電極と前記第2電極との間に設けられる。【選択図】図1
Description
本発明の実施形態は、放射線検出器に関する。
例えば、放射線検出器において、高い検出感度が得られることが望まれる。
本発明の実施形態は、感度の向上が可能な放射線検出器を提供する。
本発明の実施形態によれば、放射線検出器は、第1部材、第1電極、第2電極及び有機光電変換層を含む。前記第1部材は、放射線を光に変換する。前記第1部材は、第1部分及び第2部分を含む第1面を含む。前記第1電極は、前記第1部分に設けられる。前記第2電極は、前記第2部分に設けられる。前記有機光電変換層の第1中間領域は、前記第1電極と前記第2電極との間に設けられる。
以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚さと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚さと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態に係る放射線検出器を例示する模式的断面図である。
図1に示すように、本実施形態に係る放射線検出器110は、第1部材30、第1電極11、第2電極12、及び、有機光電変換層20を含む。
図1は、第1実施形態に係る放射線検出器を例示する模式的断面図である。
図1に示すように、本実施形態に係る放射線検出器110は、第1部材30、第1電極11、第2電極12、及び、有機光電変換層20を含む。
第1部材30は、放射線81を光に変換する。第1部材30は、例えば、シンチレータである。放射線81は、例えばβ線を含む。光は、例えば、可視光を含む。光は、例えば紫外光を含んでも良い。
第1部材30は、第1面30aを含む。第1面30aは、第1部分p1及び第2部分p2を含む。
第1電極11は、第1部分p1に設けられる。第2電極12は、第2部分p2に設けられる。
有機光電変換層20は、少なくとも、第1中間領域25rを含む。第1中間領域25rは、第1電極11と第2電極12との間に設けられる。
この例では、第1中間領域25rは、第1部材30と接する。
例えば、放射線81が、第1部材30に入射する。第1部材30において、放射線81が、光に変換される。光は、例えば、第1電極11と第2電極12との間を通過して、有機光電変換層20の第1中間領域25rに入射する。例えば、第1中間領域25rにおいて、移動可能な電荷が生じる。電荷の量は、入射する放射線81に応じて変化する。例えば、電荷の量は、入射する放射線81によって生じる光の量に応じて変化する。
例えば、第1電極11と第2電極12との間にバイアス電圧を印加する。これにより、電荷に応じた信号が得られる。信号は、入射する放射線81の量、または、入射する放射線81のエネルギーに応じている。放射線検出器110により、放射線81(例えばβ線)が検出できる。
実施形態においては、第1部材30で生じた光が電極の間を通過して、有機光電変換層20に効率良く入射できる。光の損失が抑制できる。実施形態によれば、感度の向上が可能な放射線検出器を提供できる。
第1部材30は、例えば、有機物を含む。第1部材30は、例えば、プラスチックシンチレータである。第1部材30は、例えば、アントラセン、スチルベン、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポリエステル、p−ターフェニル、テトラフェニルブタジエン、及び、p−ジ(5−フェニル−2−オキサゾル)−ベンゼンよりなる群から選択された少なくとも1つを含んでもよい。
実施形態において、第1部材30の屈折率と、有機光電変換層20の屈折率と、の差の絶対値は、0.2以下ある。屈折率の差の絶対値は、0.1以下でも良い。
屈折率の差が小さいことで、第1部材30と有機光電変換層20との間の界面における反射が抑制できる。反射による光の損失が抑制できる。感度をより向上できる。
例えば、無機シンチレータを用いる場合、屈折率の差が大きくなり易い。このため、界面における反射による損失が大きくなりやすい。第1部材30が有機物を含むことで、屈折率の差が小さくでき、界面における反射が抑制できる。反射による光の損失が抑制できる。
光電変換層として有機光電変換層20を用いることで、例えば、目的とする放射線を効率よく検出できる。例えば、光電変換層として重い元素を含む材料を用いる参考例においては、放射線81からの直接変換が生じる場合がある。例えば、β線に加えてγ線に対しても感度が生じる場合がある。光電変換層として有機光電変換層20を用いることで、例えば、直接変換が抑制できる。例えば、第1部材30による間接変換により、目的とする放射線(例えばβ線)を選択的に効率よく検出できる。
例えば、β線を検出する第1参考例として、電極上に有機光電変換層を形成する直接変換型の放射線検出器が考えられる。β線を検出するために、有機光電変換層の厚さを200μm以上にする。有機光電変換層が過度に厚いと、電極までの距離が長くなる。電荷が電極まで移動する間に、有機光電変換層内で電荷が消滅(失活)する場合がある。例えば、電荷の移動の時間が長くなり、得られる出力信号がパルス状ではなくなる場合がある。この場合、出力信号とノイズとの判別が困難になる場合がある。そのため、第1参考例では、検出効率が低い。
第2参考例として、シンチレータと、平板状の光透過性電極と、を組み合わせた間接変換型の放射線検出器が考えられる。例えば、光透過性電極の屈折率は、1.9以上と、高い。一方、有機光電変換層の屈折率は約1.5である。屈折率の差が大きいため、界面で光が反射し易い。光が損失される。そのため、検出効率が低い。
光透過性電極は、インジウム、スズまたは亜鉛などの原子番号の大きな元素を含む。このため、光透過性電極において光電効果によりγ線から二次電子が発生する。二次電子は、β線と同様に、シンチレータに入り、光を発生させる。このため、γ線を透過させてβ線を選択的に検出しようとしても、γ線も検出される。
実施形態においては、例えば、屈折率の差を小さくできる。光の損失を抑制できる。高い検出感度が得られる。
実施形態においては、放射線81が第1部材30で光に変換される。このため、有機光電変換層20は厚くなくても良い。例えば、有機光電変換層20の厚さは、0.1μm以上100μm以下でも良い。電荷の取り出し効率が高い。高い検出感度が得られる。有機光電変換層20が適度に厚いことで、光を効率よく吸収できる。例えば、感度をより高くできる。
実施形態においては、電極はアルミニウムなどを含んでも良い。この場合、アルミニウムの原子番号は比較的小さいため、γ線の光電効果を低減することができる。例えば、β線またはα線を選択的に検出することができる。
有機光電変換層20は、第1中間領域25rに加えて、第1領域21及び第2領域22をさらに含んでも良い。第1領域21と第1部分p1との間に、第1電極11が設けられる。第2領域22と第2部分p2との間に、第2電極22が設けられる。
例えば、第1部材30から有機光電変換層20への方向をZ軸方向とする。Z軸方向に対して垂直な1つの方向をX軸方向とする。Z軸方向及びX軸方向に対して垂直な方向をY軸方向とする。
例えば、有機光電変換層20の厚さt20(図1参照)は、第1電極11の厚さte1よりも厚くても良い。厚さは、Z軸方向に沿う長さに対応する。
例えば、第1面30aと交差する方向(Z軸方向)に沿う第1電極11の厚さを厚さte1とする。この交差する方向(Z軸方向)に沿う第1領域21の厚さを厚さtr1とする。厚さte1と厚さtr1の和は、有機光電変換層20の厚さt20に対応する。実施形態において、厚さte1と厚さtr1の和は、例えば、0.1μm以上100μm以下である。このような厚さにより、光を効率良く電荷に変換できる。光の損失が抑制できる。例えば、放射線81の直線変換が抑制できる。
図1に示すように、第1部材30は、第2面30bをさらに含む。第2面30bと第1電極11との間に第1部分p1が設けられる。第2面30bと第2電極12との間に第2部分p2が設けられる。例えば、第2面30bと有機光電変換層20との間に、第1面30aが設けられる。第2面30bは、第1面30aとは反対側の面である。
この例では、放射線81は、第2面30bから入射する。放射線81は、第2面30bから第1部材30に入射する。
図1に示すように、この例では、光学層40がさらに設けられている。光学層40と第1電極11との間に第1部分p1が設けられる。光学層40と第2電極12との間に第2部分p2が設けられる。
光学層40は、例えば、第2面30bに設けられる。この例では、光学層40は、第1部材30の側面にも設けられている。側面は、第1面30aを含む平面と交差する。
光学層40は、例えば、光反射層である。例えば、光学層40の光に対する反射率は、第1部材30のその光に対する反射率よりも高い。この光は、放射線81から変換された光のピーク波長の成分を含む。
光学層40を設けることで、第1部材30で生じた光を有機光電変換層20に向けて、効率良く反射できる。光の損失がより抑制できる。
光学層40は、例えば、硫酸バリウムなどを含む。光学層40は、例えば、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、フッ素系樹脂、アルミニウム、及び、チタンよりなる群から選択された少なくとも1つを含んでも良い。
光学層40は、放射線81を通過させる。
第1部材30は、基体として機能しても良い。基体は、電極(第1電極11及び第2電極12など)及び有機光電変換層20を支持する。
この例では、第2部材52及び接着層53がさらに設けられている。第2部材52と第1部材30との間に、第1電極11、第2電極12及び有機光電変換層20が設けられる。接着層53は、第2部材52と第1部材30とを接着する。
第2部材52は、例えば、封止部である。第1部材30と第2部材52との間に空間が形成される。この空間内に、電極及び有機光電変換層20が設けられる。接着層53は、第2部材52及び第1部材30により形成される空間を気密に封止する。例えば、有機光電変換層20が、水または酸素などと接触することが抑制できる。
この例では、吸収層55がさらに設けられる。吸収層55は、第1部材30、第2部材52及び接着層53により形成される空間内に設けられる。吸収層55は、例えば、水及び酸素の少なくともいずれかを吸収する。
図1に示すように、この例では、第3電極13及び第4電極14がさらに設けられる。第1面30aは、第3部分p3及び第4部分p4をさらに含む。第3電極13は、第3部分p3に設けられる。第4電極14は、第4部分p4に設けられる。有機光電変換層20は、第2中間領域25sをさらに含む。第2中間領域25sは、第3電極13と第4電極14との間に設けられる。
第1部材30で生じた光は、第2中間領域25sに効率よく入射できる。第2中間領域25sにおいても、効率的に光電変換が行われる。第2中間領域25sにより、感度の向上が可能である。
図2は、第1実施形態に係る放射線検出器の一部を例示する模式的斜視図である。
図2は、図1の矢印ARからみたときの電極を例示している。図2では、電極を除く部分が省略されている。図1は、図2のA1−A2線断面に相当する断面図である。
図2は、図1の矢印ARからみたときの電極を例示している。図2では、電極を除く部分が省略されている。図1は、図2のA1−A2線断面に相当する断面図である。
図2に示すように、第1〜第8電極11〜18が設けられても良い。例えば、第1〜第8電極11〜18のそれぞれは、複数設けられても良い。
例えば、第1電極11及び第2電極12は、第1画素px1に含まれる。第3電極13及び第4電極14は、第2画素px2に含まれる。第5電極15及び第6電極16は、第3画素px3に含まれる。第7電極17及び第8電極18は、第4画素px4に含まれる。
例えば、第1画素px1から第2画素px2への方向は、X軸方向に沿う。第3画素px3から第4画素px4への方向は、X軸方向に沿う。第1画素px1から第3画素px3への方向は、Y軸方向に沿う。第2画素px2から第4画素px4への方向は、Y軸方向に沿う。
このように、複数の画素pxが設けられても良い。複数の画素pxは、例えば、マトリクス状に並ぶ。複数の画素pxのそれぞれにおいて、複数の電極が設けられる。
例えば、第1電極11は、複数設けられる。複数の第1電極11の1つと、複数の第1電極11の別の1つと、の間に、第2電極12が設けられる。例えば、第2電極12は、複数設けられても良い。例えば、複数の第1電極11の上記の1つは、複数の第2電極12の1つと、複数の第2電極12の別の1つとの間に設けられる。
例えば、複数の第1電極11及び複数の第2電極12は、インターデジタル電極(例えば櫛歯)を形成する。このように、複数の画素pxの少なくとも1つにおいて、インターデジタル電極が設けられても良い。
以下、実施形態に係る放射線検出器に関するいくつかの例について説明する。以下では、放射線検出器110と異なる部分について説明する。
図3は、第1実施形態に係る放射線検出器を例示する模式的断面図である。
図3に示すように、放射線検出器111において、第1部材30は、第1面30a及び第2面30bを含む。この場合も、第2面30bと第1電極11との間に第1部分p1が設けられる。第2面30bと第2電極12との間に第2部分p2が設けられる。第2面30bは、凹凸30dpを含む。 この例では、光学層40が設けられている。この例では、光学層40は、凹凸30dpに沿う膜状である。
図3に示すように、放射線検出器111において、第1部材30は、第1面30a及び第2面30bを含む。この場合も、第2面30bと第1電極11との間に第1部分p1が設けられる。第2面30bと第2電極12との間に第2部分p2が設けられる。第2面30bは、凹凸30dpを含む。 この例では、光学層40が設けられている。この例では、光学層40は、凹凸30dpに沿う膜状である。
凹凸30dpにより、光を効率的に有機光電変換層20に向けて反射することができる。凹凸30dpの深さtdpは、放射線81から生じる光の波長(例えばピーク波長)の20倍以上10000倍以下である。
放射線検出器110においては、凹凸30dpは選択的に設けられている。
図3に示すように、第1〜第4電極11〜14が設けられている。既に説明したように、第1電極11は、第1部材30の第1部分p1に設けられる。第2電極12は、第1部材30の第2部分p2に設けられる。第3電極13は、第1部材30の第3部分p3に設けられる。第4電極14は、第1部材30の第4部分p4に設けられる。第1電極11及び第2電極12は、第1画素px1(図2参照)に含まれる。第3電極13及び第4電極14は第2画素px2(図2参照)に含まれる。
図3に示すように、第1部材30の第2面は、第1対向領域rc1、第2対向領域rc2及び第3対向領域rc3を含む。第1面30aと交差する第1方向(Z軸方向)において、第1対向領域rc1は第1画素px1と重なる。この第1方向において、第2対向領域rc2は、第2画素px2と重なる。この第1方向において、第3対向領域rc3は、第1画素px1と第2画素px2との間の領域pxiと重なる。
第1対向領域rc1の凹凸30dpの大きさは、第3対向領域rc3の凹凸よりも大きい。第2対向領域rc2の凹凸30dpの大きさは、第3対向領域rc3の凹凸よりも大きい。
例えば、画素に対応する領域に凹凸30dpが設けられ、画素の間の領域pxiにおいて、第2面30bの表面はフラットでも良い。例えば、画素に対応する領域では、光が画素に対応する有機光電変換層20に向かって効率的に反射する。画素の間の領域pxiでは、光が画素に向かって効率的に反射する。光の損失が抑制できる。感度をより向上できる。
図4は、第1実施形態に係る放射線検出器を例示する模式的断面図である。
図4に示すように、放射線検出器112において、第2部材52、接着層53及び基体54が設けられる。
図4に示すように、放射線検出器112において、第2部材52、接着層53及び基体54が設けられる。
基体54と第2部材52との間に、光学層40が設けられる。光学層40と第2部材52との間に、第1部材30が設けられる。第1部材30と第2部材52との間に、電極(例えば、第1電極11及び第2電極12など)が設けられる。
接着層53は、基体54と第2部材52とを接着する。基体54、第2部材52及び接着層53により形成される空間に、光学層40、第1部材30、電極及び有機光電変換層20が気密に封止される。
図5は、第1実施形態に係る放射線検出器を例示する模式的断面図である。
図5に示すように、放射線検出器113においても、第2部材52、接着層53及び基体54が設けられる。放射線検出器113においては、第1部材30の第2面30bに凹凸30dpが設けられている。
図5に示すように、放射線検出器113においても、第2部材52、接着層53及び基体54が設けられる。放射線検出器113においては、第1部材30の第2面30bに凹凸30dpが設けられている。
この例では、第1対向領域rc1の凹凸30dpの大きさは、第3対向領域rc3の凹凸よりも大きい。第2対向領域rc2の凹凸30dpの大きさは、第3対向領域rc3の凹凸よりも大きい。放射線検出器113においても、光を効率的に反射する。光の損失が抑制できる。感度をより向上できる。
(第2実施形態)
図6は、第2実施形態に係る放射線検出器を例示する模式的断面図である。
図6に示すように、本実施形態に係る放射線検出器120は、第1部材30、第1電極11、第2電極12、及び、有機光電変換層20を含む。
図6は、第2実施形態に係る放射線検出器を例示する模式的断面図である。
図6に示すように、本実施形態に係る放射線検出器120は、第1部材30、第1電極11、第2電極12、及び、有機光電変換層20を含む。
この例においても、第1部材30は、放射線81を光に変換する。有機光電変換層20は、第1部材30と接する。有機光電変換層20は、第1領域21、第2領域22及び第1中間領域25rを含む。第1領域21は、第1電極11と第1部材30との間に設けられる。第2領域22は、第2電極12と第1部材30との間に設けられる。第1中間領域25rは、第1電極11と第2電極12との間に設けられる。
この例では、第3電極13及び第4電極14がさらに設けられている。有機光電変換層20は、第3領域23、第4領域24及び第2中間領域25sを含む。第3領域23は、第3電極13と第1部材30との間に設けられる。第4領域24は、第4電極14と第1部材30との間に設けられる。第2中間領域25sは、第3電極13と第4電極14との間に設けられる。
第1部材30は、第1面30a及び第2面30bを含む。第1面30aは、有機光電変換層20の側の面である。第2面30bは、第1面30aとは反対側の面である。
例えば、放射線81が、第2面30bから第1部材30に入射する。第1部材30において、光が発生する。光は、有機光電変換層20(例えば、第1中間領域25r及び第2中間領域25sなど)に入射する。
有機光電変換層20が第1部材30と接するため、界面での光の反射が抑制される。光が効率よく有機光電変換層20に導入される。例えば、感度をより向上できる。
この例においても、第1部材30は、有機物を含むことが好ましい。
放射線検出器120においても、光学層40が設けられている。光学層40と有機光電変換層20との間に第1部材30が設けられる。放射線検出器120において、基体54と第2部材52とが接着層53により接着される。これらにより形成される空間に、第1部材30、電極及び有機光電変換層20が気密に封止される。
以下、放射線検出器のいくつかの例について説明する。以下の説明において、放射線検出器120(または放射線検出器110)と異なる部分について説明する。
図7は、第2実施形態に係る放射線検出器を例示する模式的断面図である。
図7に示すように、本実施形態に係る放射線検出器121においては、第2部材52が省略される。第1部材30と基体54とが、接着層53により接着される。第1部材30、基体54及び接着層53により形成される空間に、電極及び有機光電変換層20が気密に封止される。
図7に示すように、本実施形態に係る放射線検出器121においては、第2部材52が省略される。第1部材30と基体54とが、接着層53により接着される。第1部材30、基体54及び接着層53により形成される空間に、電極及び有機光電変換層20が気密に封止される。
図8は、第2実施形態に係る放射線検出器を例示する模式的断面図である。
図8に示すように、本実施形態に係る放射線検出器122においては、第1部材30の第2面30bに凹凸30dpが設けられる。放射線検出器122におけるこれ以外の構成は、放射線検出器120の構成と同じである。例えば、第1部材30の第1面30aは、第1部材30の第2面30bと有機光電変換層20との間に設けられる。第2面30bは、凹凸30dpを含む。
図8に示すように、本実施形態に係る放射線検出器122においては、第1部材30の第2面30bに凹凸30dpが設けられる。放射線検出器122におけるこれ以外の構成は、放射線検出器120の構成と同じである。例えば、第1部材30の第1面30aは、第1部材30の第2面30bと有機光電変換層20との間に設けられる。第2面30bは、凹凸30dpを含む。
図9は、第2実施形態に係る放射線検出器を例示する模式的断面図である。
図9に示すように、本実施形態に係る放射線検出器123においては、第1部材30の第2面30bに凹凸30dpが設けられる。放射線検出器123におけるこれ以外の構成は、放射線検出器121の構成と同じである。
図9に示すように、本実施形態に係る放射線検出器123においては、第1部材30の第2面30bに凹凸30dpが設けられる。放射線検出器123におけるこれ以外の構成は、放射線検出器121の構成と同じである。
第1〜第4電極11〜14は、例えば、金属を含む。第1〜第4電極11〜14は、例えば、互いに同じ材料を含んでも良い。第3電極13は、第1電極11と同じ材料を含んでも良い。第4電極14は、第2電極12と同じ材料を含んでも良い。第1〜第4電極11〜14は、例えば、互いに異なる材料を含んでも良い。第1電極11及び第3電極13の材料が、第2電極12及び第4電極14の材料と異なっても良い。1つの例において、第1電極11及び第3電極13は、アルミニウムを含み、第2電極12及び第4電極14は金を含む。これらの電極は、例えば、アルミニウム、金、白金、銀、マグネシウム、ニッケル、クロム及びチタンよりなる群から選択された少なくとも1つを含む。これらの電極は、ITO(酸化インジウムスズ)、または、PEDOT:PSS(ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン):ポリ(4-スチレンスルホン酸塩))などを含んでも良い。
1つの例において、第1電極11と第2電極12との間の距離(例えば、X軸方向に沿う距離、図1参照)は、例えば、2μm以上500μm以下である。
第1電極11及び第2電極12の一方は、例えば、電荷増幅器に接続される。第1電極11及び第2電極12の他方は、例えば、グランド電位に設定される。第1電極11及び第2電極12の他方は、例えば、放射線検出器に設けられる1つの電位(基準電位)に設定されても良い。
放射線81が第1部材30に入射すると、光が発生する。その光が有機光電変換層20で電荷(電子と正孔)に変換される。この電荷が2つの電極に移動する。電荷増幅器は、第1部材30に入射した放射線81に応じた信号を出力する。電荷増幅器は、検出回路に含まれる。
実施形態に係る放射線検出器は、検出回路をさらに含んでも良い。検出回路は、例えば、第1電極11と第2電極12との間に生じる電気信号を検出する。電気信号は、放射線81の強度に応じた信号である。検出回路は、この電気信号に応じた信号を出力する。
図10は、放射線検出器の一部を例示する回路図である。
図10は、検出回路71の例を示す。検出回路71の入力部71aに、第1電極11及び第2電極12の一方が接続される。第1電極11及び第2電極12の他方は、検出回路71のグランドGNDに接続される。
図10は、検出回路71の例を示す。検出回路71の入力部71aに、第1電極11及び第2電極12の一方が接続される。第1電極11及び第2電極12の他方は、検出回路71のグランドGNDに接続される。
検出回路71は、例えば、電荷増幅器51を含む。検出回路71の出力部71bから、放射線81に応じた出力信号が出力される。
検出回路71の出力が、処理部に供給されても良い。処理部は、例えば、波形整形増幅器(スペクトロスコピー・アンプ)で波形を整形し、波高分析器(マルチチャンネルアナライザ)で、パルスの波高値と、パルスの数と、を計測しても良い。または、処理部は、波形整形増幅器で波形を整形し、コンパレータであらかじめ設定した閾値以上の信号を取り出し、その信号の数をカウンタ回路で計測しても良い。
波形整形増幅器は、例えば、電荷増幅器51から出力されたパルス状の信号をノイズ成分と分離する。波形整形増幅器は、例えば、信号を、波高分析器の入出レンジに適合するように、増幅する。例えば、放射線81に由来する信号は、1kHz〜20kHzの周波数を有する。例えば、1kHz未満の周波数におけるノイズ成分と、20kHz超える周波数におけるノイズ成分と、が分離される。この分離は、例えば、波形整形増幅器に内蔵されたフィルタ回路で行われる。この分離は、別に設けられたフィルタ回路で行われても良い。これにより、信号に含まれるノイズ成分を低減させる。電荷増幅器51及び処理部においては、パルス法によるカウントが行われる。
以下、有機光電変換層20の例について説明する。
図11は、放射線検出器の一部を例示する模式的断面図である。
図11は、有機光電変換層20を例示する。有機光電変換層20は、例えば、有機半導体領域20Mを含む。有機半導体領域20Mは、第1化合物23a及び第2化合物23bを含む。第1化合物23aは、例えば、ポリアルキルチオフェンを含む。ポリアルキルチオフェンは、例えば、ポリ(3−ヘキシルチオフェン)、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリ(3−ブチルチオフェン)、ポリ(3−オクチルチオフェン)、ポリ(3−デシルチオフェン)、及び、ポリ(3−ドデシルチオフェン)よりなる群から選択された少なくとも1つを含む。第1化合物23aは、例えば、ポリアルキルイソチオナフテンを含む。ポリアルキルイソチオナフテンは、例えば、ポリ(3−ブチルイソチオナフテン)、ポリ(3−ヘキシルイソチオナフテン)、ポリ(3−オクチルイソチオナフテン)、及び、ポリ(3−デシルイソチオナフテン)よりなる群から選択された少なくとも1つを含む。第2化合物23bは、例えば、フラーレン及びフラーレン誘導体を含む。第2化合物23bは、例えば、[6,6]−フェニルC61酪酸メチルエステル(60PCBM)、[6,6]−フェニルC71酪酸メチルエステル(70PCBM)、インデン−C60ビス付加物(60ICBA)、ジヒドロナフチル−C60ビス付加物(60NCBA)、及び、ジヒドロナフチル−C70ビス付加物(70NCBA)よりなる群から選択された少なくとも1つを含む。これらの領域は、混ざり合っている。例えば、有機半導体領域20Mは、バルクヘテロ接合構造を有する。有機半導体領域20Mの少なくとも一部は、アモルファスでも良い。例えば、有機半導体領域20Mにおける均一性が高まる。
図11は、有機光電変換層20を例示する。有機光電変換層20は、例えば、有機半導体領域20Mを含む。有機半導体領域20Mは、第1化合物23a及び第2化合物23bを含む。第1化合物23aは、例えば、ポリアルキルチオフェンを含む。ポリアルキルチオフェンは、例えば、ポリ(3−ヘキシルチオフェン)、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリ(3−ブチルチオフェン)、ポリ(3−オクチルチオフェン)、ポリ(3−デシルチオフェン)、及び、ポリ(3−ドデシルチオフェン)よりなる群から選択された少なくとも1つを含む。第1化合物23aは、例えば、ポリアルキルイソチオナフテンを含む。ポリアルキルイソチオナフテンは、例えば、ポリ(3−ブチルイソチオナフテン)、ポリ(3−ヘキシルイソチオナフテン)、ポリ(3−オクチルイソチオナフテン)、及び、ポリ(3−デシルイソチオナフテン)よりなる群から選択された少なくとも1つを含む。第2化合物23bは、例えば、フラーレン及びフラーレン誘導体を含む。第2化合物23bは、例えば、[6,6]−フェニルC61酪酸メチルエステル(60PCBM)、[6,6]−フェニルC71酪酸メチルエステル(70PCBM)、インデン−C60ビス付加物(60ICBA)、ジヒドロナフチル−C60ビス付加物(60NCBA)、及び、ジヒドロナフチル−C70ビス付加物(70NCBA)よりなる群から選択された少なくとも1つを含む。これらの領域は、混ざり合っている。例えば、有機半導体領域20Mは、バルクヘテロ接合構造を有する。有機半導体領域20Mの少なくとも一部は、アモルファスでも良い。例えば、有機半導体領域20Mにおける均一性が高まる。
実施形態においては、例えば、高γ線の環境においても、他の放射線(α線及びβ線)を高感度で検出できる。例えば、高γ線の環境においても、β線を高感度で検出できる。
基体54は、例えば、ガラスまたはプラスティックなどの光透過性の材料を含む。第2部材52は、金属板、ガラス板、または、フィルム板などが用いられる。金属板は、例えば、凹形状のアルミニウム板などを含む。接着層53は、例えば、アクリル樹脂及びエポキシ樹脂よりなる群から選択された少なくとも1つを含む。
実施形態は、例えば、以下の構成(例えば技術案)を含む。
(構成1)
放射線を光に変換し、第1部分及び第2部分を含む第1面を含む第1部材と、
前記第1部分に設けられた第1電極と、
前記第2部分に設けられた第2電極と、
有機光電変換層と、
を備え、
前記有機光電変換層の第1中間領域は、前記第1電極と前記第2電極との間に設けられた、放射線検出器。
(構成1)
放射線を光に変換し、第1部分及び第2部分を含む第1面を含む第1部材と、
前記第1部分に設けられた第1電極と、
前記第2部分に設けられた第2電極と、
有機光電変換層と、
を備え、
前記有機光電変換層の第1中間領域は、前記第1電極と前記第2電極との間に設けられた、放射線検出器。
(構成2)
前記第1中間領域は、前記第1部材と接する、構成1記載の放射線検出器。
前記第1中間領域は、前記第1部材と接する、構成1記載の放射線検出器。
(構成3)
前記第1部材は、有機物を含む、構成1または2に記載の放射線検出器。
前記第1部材は、有機物を含む、構成1または2に記載の放射線検出器。
(構成4)
前記有機光電変換層は第1領域及び第2領域をさらに含み、
前記第1領域と前記第1部分との間に前記第1電極が設けられ、
前記第2領域と前記第2部分との間に前記第2電極が設けられた、構成1〜3のいずれか1つに記載の放射線検出器。
前記有機光電変換層は第1領域及び第2領域をさらに含み、
前記第1領域と前記第1部分との間に前記第1電極が設けられ、
前記第2領域と前記第2部分との間に前記第2電極が設けられた、構成1〜3のいずれか1つに記載の放射線検出器。
(構成5)
前記第1面と交差する方向に沿う前記第1電極の厚さと、前記交差する前記方向に沿う前記第1領域の厚さと、の和は、0.1μm以上100μm以下である、構成1〜4のいずれか1つに記載の放射線検出器。
前記第1面と交差する方向に沿う前記第1電極の厚さと、前記交差する前記方向に沿う前記第1領域の厚さと、の和は、0.1μm以上100μm以下である、構成1〜4のいずれか1つに記載の放射線検出器。
(構成6)
前記第1部材は、第2面をさらに含み、
前記第2面と前記第1電極との間に前記第1部分が設けられ、
前記第2面と前記第2電極との間に前記第2部分が設けられ、
前記放射線は、前記第2面から入射する、構成1〜5のいずれか1つに記載の放射線検出器。
前記第1部材は、第2面をさらに含み、
前記第2面と前記第1電極との間に前記第1部分が設けられ、
前記第2面と前記第2電極との間に前記第2部分が設けられ、
前記放射線は、前記第2面から入射する、構成1〜5のいずれか1つに記載の放射線検出器。
(構成7)
前記第1部材は、第2面をさらに含み、
前記第2面と前記第1電極との間に前記第1部分が設けられ、
前記第2面と前記第2電極との間に前記第2部分が設けられ、
前記第2面は、凹凸を含む、構成1〜5のいずれか1つに記載の放射線検出器。
前記第1部材は、第2面をさらに含み、
前記第2面と前記第1電極との間に前記第1部分が設けられ、
前記第2面と前記第2電極との間に前記第2部分が設けられ、
前記第2面は、凹凸を含む、構成1〜5のいずれか1つに記載の放射線検出器。
(構成8)
前記凹凸の深さは、前記光の波長の20倍以上10000倍以下である、構成7記載の放射線検出器。
前記凹凸の深さは、前記光の波長の20倍以上10000倍以下である、構成7記載の放射線検出器。
(構成9)
第3電極及び第4電極をさらに備え、
前記第1面は、第3部分及び第4部分をさらに含み、
前記第3電極は、前記第3部分に設けられ、
前記第4電極は、前記第4部分に設けられ、
前記有機光電変換層の第2中間領域は、前記第3電極と前記第4電極との間に設けられ、
前記第1電極及び前記第2電極は第1画素に含まれ、
前記第3電極及び前記第4電極は第2画素に含まれ、
前記第1部材は、第2面をさらに含み、
前記第2面と前記第1電極との間に前記第1部分が設けられ、
前記第2面と前記第2電極との間に前記第2部分が設けられ、
前記第2面は、第1対向領域、第2対向領域及び第3対向領域を含み、
前記第1面と交差する第1方向において、前記第1対向領域は前記第1画素と重なり、
前記第1方向において、前記第2対向領域は前記第2画素と重なり、
前記第1方向において、前記第3対向領域は、前記第1画素と前記第2画素との間の領域と重なり、
前記第1対向領域の凹凸は、前記第3対向領域の凹凸よりも大きい、構成1〜5のいずれか1つに記載の放射線検出器。
第3電極及び第4電極をさらに備え、
前記第1面は、第3部分及び第4部分をさらに含み、
前記第3電極は、前記第3部分に設けられ、
前記第4電極は、前記第4部分に設けられ、
前記有機光電変換層の第2中間領域は、前記第3電極と前記第4電極との間に設けられ、
前記第1電極及び前記第2電極は第1画素に含まれ、
前記第3電極及び前記第4電極は第2画素に含まれ、
前記第1部材は、第2面をさらに含み、
前記第2面と前記第1電極との間に前記第1部分が設けられ、
前記第2面と前記第2電極との間に前記第2部分が設けられ、
前記第2面は、第1対向領域、第2対向領域及び第3対向領域を含み、
前記第1面と交差する第1方向において、前記第1対向領域は前記第1画素と重なり、
前記第1方向において、前記第2対向領域は前記第2画素と重なり、
前記第1方向において、前記第3対向領域は、前記第1画素と前記第2画素との間の領域と重なり、
前記第1対向領域の凹凸は、前記第3対向領域の凹凸よりも大きい、構成1〜5のいずれか1つに記載の放射線検出器。
(構成10)
前記第1電極は複数設けられ、
前記複数の第1電極の1つと前記複数の第1電極の別の1つとの間に前記第2電極が設けられた、構成1〜9のいずれか1つに記載の放射線検出器。
前記第1電極は複数設けられ、
前記複数の第1電極の1つと前記複数の第1電極の別の1つとの間に前記第2電極が設けられた、構成1〜9のいずれか1つに記載の放射線検出器。
(構成11)
前記第2電極は複数設けられ、
前記複数の第1電極の前記1つは、前記複数の第2電極の1つと前記複数の第2電極の別の1つとの間に設けられた、構成10記載の放射線検出器。
前記第2電極は複数設けられ、
前記複数の第1電極の前記1つは、前記複数の第2電極の1つと前記複数の第2電極の別の1つとの間に設けられた、構成10記載の放射線検出器。
(構成12)
光学層をさらに備え、
前記光学層と前記第1電極との間に前記第1部分が設けられ、
前記光学層と前記第2電極との間に前記第2部分が設けられ、
前記光学層の前記光に対する反射率は、前記第1部材の前記光に対する反射率よりも高い、構成1〜11のいずれか1つに記載の放射線検出器。
光学層をさらに備え、
前記光学層と前記第1電極との間に前記第1部分が設けられ、
前記光学層と前記第2電極との間に前記第2部分が設けられ、
前記光学層の前記光に対する反射率は、前記第1部材の前記光に対する反射率よりも高い、構成1〜11のいずれか1つに記載の放射線検出器。
(構成13)
第2部材と、
接着層と、
をさらに備え、
前記第2部材と前記第1部材との間に、前記第1電極、前記第2電極及び前記有機光電変換層が設けられ、
前記接着層は、前記第2部材と前記第1部材とを接着する、構成1〜12のいずれか1つに記載の放射線検出器。
第2部材と、
接着層と、
をさらに備え、
前記第2部材と前記第1部材との間に、前記第1電極、前記第2電極及び前記有機光電変換層が設けられ、
前記接着層は、前記第2部材と前記第1部材とを接着する、構成1〜12のいずれか1つに記載の放射線検出器。
(構成14)
第2部材と、
接着層と、
基体と、
をさらに備え、
前記基体と前記第2部材との間に、光学層が設けられ、
前記光学層と前記第2部材との間に、前記第1部材が設けられ、
前記第1部材と前記第2部材との間に、前記第1電極及び前記第2電極が設けられた構成13記載の放射線検出器。
第2部材と、
接着層と、
基体と、
をさらに備え、
前記基体と前記第2部材との間に、光学層が設けられ、
前記光学層と前記第2部材との間に、前記第1部材が設けられ、
前記第1部材と前記第2部材との間に、前記第1電極及び前記第2電極が設けられた構成13記載の放射線検出器。
(構成15)
放射線を光に変換する第1部材と、
第1電極と、
第2電極と、
前記第1部材と接する有機光電変換層と、
を備え、
前記有機光電変換層は、第1領域、第2領域及び第1中間領域を含み、
前記第1領域は、前記第1電極と前記第1部材との間に設けられ、
前記第2領域は、前記第2電極と前記第1部材との間に設けられ、
前記第1中間領域は、前記第1電極と前記第2電極との間に設けられる、放射線検出器。
放射線を光に変換する第1部材と、
第1電極と、
第2電極と、
前記第1部材と接する有機光電変換層と、
を備え、
前記有機光電変換層は、第1領域、第2領域及び第1中間領域を含み、
前記第1領域は、前記第1電極と前記第1部材との間に設けられ、
前記第2領域は、前記第2電極と前記第1部材との間に設けられ、
前記第1中間領域は、前記第1電極と前記第2電極との間に設けられる、放射線検出器。
(構成16)
前記第1部材は、有機物を含む、構成15記載の放射線検出器。
前記第1部材は、有機物を含む、構成15記載の放射線検出器。
(構成17)
前記第1部材は、第1面及び第2面を含み、
前記第1面は、前記第2面と前記有機光電変換層との間に設けられ、
前記第2面は、凹凸を含む、構成15または16に記載の放射線検出器。
前記第1部材は、第1面及び第2面を含み、
前記第1面は、前記第2面と前記有機光電変換層との間に設けられ、
前記第2面は、凹凸を含む、構成15または16に記載の放射線検出器。
(構成18)
前記第1部材の屈折率と、前記有機光電変換層の屈折率と、の差の絶対値は、0.2以下である、構成1〜17のいずれか1つに記載の放射線検出器。
前記第1部材の屈折率と、前記有機光電変換層の屈折率と、の差の絶対値は、0.2以下である、構成1〜17のいずれか1つに記載の放射線検出器。
(構成19)
前記放射線は、β線を含む、構成1〜18のいずれか1つに記載の放射線検出器。
前記放射線は、β線を含む、構成1〜18のいずれか1つに記載の放射線検出器。
(構成20)
前記第1電極と前記第2電極との間に生じ前記放射線の強度に応じた電気信号を検出する検出回路をさらに備えた放射線検出器。
前記第1電極と前記第2電極との間に生じ前記放射線の強度に応じた電気信号を検出する検出回路をさらに備えた放射線検出器。
実施形態によれば、感度の向上が可能な放射線検出器を提供できる。
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、放射線検出器に含まれる部材、電極、有機光電変換層などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
また、各具体例のいずれか2つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
その他、本発明の実施の形態として上述した放射線検出器を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての放射線検出器も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
11〜18…第1〜第8電極、 20…有機光電変換層、 20M…有機半導体領域、 21〜24…第1〜第4領域、 23a、23b…第1、第2化合物、 25r、25s…第1、第2中間領域、 30…第1部材、 30a、30b…第1、第2面、 30dp…凹凸、 40…光学層、 51…電荷増幅器、 52…第2部材、 53…接着層、 54…基体、 55…吸収層、 71…検出回路、 71a…入力部、 71b…出力部、 81…放射線、 110〜113、120〜123…放射線検出器、 AR…矢印、 GND…グランド、 p1〜p4…第1〜第4部分、 px…画素、 px1〜px4…第1〜第4画素、 pxi…領域、 rc1〜rc3…第1〜第3対向領域、 t20…厚さ、 tdp…深さ、 te1、tr1…厚さ
Claims (9)
- 放射線を光に変換し、第1部分及び第2部分を含む第1面を含む第1部材と、
前記第1部分に設けられた第1電極と、
前記第2部分に設けられた第2電極と、
有機光電変換層と、
を備え、
前記有機光電変換層の第1中間領域は、前記第1電極と前記第2電極との間に設けられた、放射線検出器。 - 前記第1中間領域は、前記第1部材と接する、請求項1記載の放射線検出器。
- 前記第1部材は、有機物を含む、請求項1または2に記載の放射線検出器。
- 前記第1部材は、第2面をさらに含み、
前記第2面と前記第1電極との間に前記第1部分が設けられ、
前記第2面と前記第2電極との間に前記第2部分が設けられ、
前記第2面は、凹凸を含む、請求項1〜3のいずれか1つに記載の放射線検出器。 - 第3電極及び第4電極をさらに備え、
前記第1面は、第3部分及び第4部分をさらに含み、
前記第3電極は、前記第3部分に設けられ、
前記第4電極は、前記第4部分に設けられ、
前記有機光電変換層の第2中間領域は、前記第3電極と前記第4電極との間に設けられ、
前記第1電極及び前記第2電極は第1画素に含まれ、
前記第3電極及び前記第4電極は第2画素に含まれ、
前記第1部材は、第2面をさらに含み、
前記第2面と前記第1電極との間に前記第1部分が設けられ、
前記第2面と前記第2電極との間に前記第2部分が設けられ、
前記第2面は、第1対向領域、第2対向領域及び第3対向領域を含み、
前記第1面と交差する第1方向において、前記第1対向領域は前記第1画素と重なり、
前記第1方向において、前記第2対向領域は前記第2画素と重なり、
前記第1方向において、前記第3対向領域は、前記第1画素と前記第2画素との間の領域と重なり、
前記第1対向領域の凹凸は、前記第3対向領域の凹凸よりも大きい、請求項1〜3のいずれか1つに記載の放射線検出器。 - 前記第1電極は複数設けられ、
前記複数の第1電極の1つと前記複数の第1電極の別の1つとの間に前記第2電極が設けられた、請求項1〜5のいずれか1つに記載の放射線検出器。 - 前記第2電極は複数設けられ、
前記複数の第1電極の前記1つは、前記複数の第2電極の1つと前記複数の第2電極の別の1つとの間に設けられた、請求項6記載の放射線検出器。 - 光学層をさらに備え、
前記光学層と前記第1電極との間に前記第1部分が設けられ、
前記光学層と前記第2電極との間に前記第2部分が設けられ、
前記光学層の前記光に対する反射率は、前記第1部材の前記光に対する反射率よりも高い、請求項1〜7のいずれか1つに記載の放射線検出器。 - 放射線を光に変換する第1部材と、
第1電極と、
第2電極と、
前記第1部材と接する有機光電変換層と、
を備え、
前記有機光電変換層は、第1領域、第2領域及び第1中間領域を含み、
前記第1領域は、前記第1電極と前記第1部材との間に設けられ、
前記第2領域は、前記第2電極と前記第1部材との間に設けられ、
前記第1中間領域は、前記第1電極と前記第2電極との間に設けられる、放射線検出器。
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