JP2020038369A - 光学フィルター、その製造方法およびその用途 - Google Patents

Abstract

【課題】薄く、０°入射時において、可視光透過率が高く、可視光反射率が低く、視感度補正に優れ、高角度入射時においても波長１１００ｎｍの光の遮蔽性に優れる光学フィルターを提供すること。【解決手段】本発明は、光学フィルター、その製造方法およびその用途に関し、該製造方法は、基板上に誘電体多層膜を形成する工程を含み、波長３００〜１６００ｎｍの領域において、下記要件（Ｃ）、（Ｅ）、（Ｆ）および（Ｇ）を満たす光学フィルターの製造方法である。（Ｃ）波長３８０ｎｍ以上４３０ｎｍ未満に、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％となる最も長波長の値λtraUV5を有する（Ｅ）波長１０００〜１２００ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が５％以下（Ｆ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％となる最も短波長の値λtraIR5を有する（Ｇ）λtraIR5／λtraUV5≧３．１０【選択図】なし

Description

本発明は、詳しくは、特定の光学特性を有する光学フィルター（例えば近赤外線カットフィルター）およびその製造方法、ならびに、該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュールに関する。

従来のビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などの固体撮像装置には、固体撮像素子であるＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサーが使用されているが、これら固体撮像素子は、その受光部において人間の目では感知できない近赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードが使用されている。これらの固体撮像素子では、人間の目で見て自然な色合いにさせる視感度補正を行うことが必要であり、特定の波長帯域の光線を選択的に透過またはカットする光学フィルター（例えば近赤外線カットフィルター）を用いることが多い。

このような光学フィルターとしては、従来から、各種方法で製造されたフィルターが使用されている。例えばリン酸ガラスに酸化銅を分散させた吸収ガラス型赤外線カットフィルター（例えば特許文献１）や、近赤外帯域に吸収を有する色素を分散させた層を有する樹脂型赤外線カットフィルター（例えば特許文献２）、誘電体基板（ガラス基板）と赤外線反射層と赤外線吸収層とを有するガラス基板塗布型赤外線カットフィルター（例えば特許文献３）、基板として樹脂を用い、該樹脂中に波長６００〜８００ｎｍの帯域に吸収極大を有する色素を含有させるとともに、基板両面に近赤外線反射性能を有する誘電体多層膜を用いた樹脂型近赤外線カットフィルター（特許文献４）、ガラス基板に波長６９５〜７２０ｎｍ付近に吸収を有する色素を含有する樹脂層を設けたガラス基板塗布型赤外線カットフィルター（特許文献５）など、各種知られている。

また、近赤外線を用いる測距センサーを有する撮像素子には、バンドパスフィルターが使用される。該バンドパスフィルターとしては、可視域と近赤外線帯域の一部に透過帯域を有するバンドパスフィルター（特許文献６）などが知られている。

さらに、生体組織への影響を抑制するために、波長７７０〜１８００ｎｍの平均透過率を１５％以下にする近赤外線カットフィルター（例えば特許文献７）などが知られている。

国際公開第２０１１／０７１１５７号 特開２００８−３０３１３０号公報 特開２０１４−０５２４８２号公報 特開２０１１−１０００８４号公報 特開２０１４−０６３１４４号公報 国際公開第２０１１／０３３９８４号 特開２０１５−１６１７３１号公報 国際公開第２０１６／１７１２１９号

Ｈ．Ａｎｇｕｓ Ｍａｃｌｅｏｄ著、東海光学株式会社他訳、「ＭＡＣＬＥＯＤ：光学薄膜原論」 第四版、アドコム・メディア株式会社発行

近年、固体撮像素子の高感度化と薄型化が進み、視感度補正のために用いる光学フィルターには、そこに入射する光の入射角が大きく（例：４５°）なっても、高い可視光透過率と低い近赤外線透過率が求められるようになってきた。

前述した従来の撮像素子用のリン酸ガラスに酸化銅を分散させた吸収ガラス型赤外線カットフィルターや近赤外帯域に吸収を有する色素を分散させた層を有する樹脂型赤外線カットフィルターでは、低い近赤外線透過率を達成するために、酸化銅や近赤外帯域に吸収を有する色素を多く添加する必要があるが、この場合、高い可視光透過率との両立、特に赤色可視光帯域の光の高い透過率との両立が困難であった。前記従来のフィルターにおいて、低い近赤外線透過率を達成する他の手段として、近赤外帯域の吸収強度を増やすために、光学フィルターの膜厚を厚くする方法も考えられるが、この場合、薄型化との両立が困難であった。
また、前記特許文献７に記載のフィルターを固体撮像装置に使用する場合、波長１０００〜１２００ｎｍの透過率が高く、視感度補正のための遮蔽性能が不十分であった。

前述した従来の撮像素子用の誘電体多層膜を有する光学フィルターでは、近赤外線反射帯域の波長の４分の１前後である光学膜厚の誘電体層の積層体が用いられており、高い可視光透過率と低い近赤外線透過率を達成しやすいが、入射角が高角度になる場合（高角度入射時）、反射帯域が短波長側へシフトする特性を有する傾向にあることが分かった。そのため、撮像素子が感度を有する波長１１００ｎｍの光の透過率を低く保つことが困難であった。

ところで、このような反射帯域の波長の４分の１前後の光学膜厚の誘電体層の積層体は、積層する各層の膜厚を厚くすることで、反射帯域を長波長側へシフトさせることが可能であることが従来から知られている。よって、積層する各層の膜厚を厚くすることで、入射角が高角度になる場合に、反射帯域が短波長側にシフトしても、波長１１００ｎｍの光の透過率を低く保つことは可能であるが、このように積層する各層の膜厚を厚くした場合、得られる光学フィルターは、該反射帯域の３分の１付近の波長の光も反射する特性を有してしまうことが知られている（国際公開第２０１６／１７１２１９号の図３Ａ、Ｈ．Ａｎｇｕｓ Ｍａｃｌｅｏｄ著、東海光学株式会社他訳、「ＭＡＣＬＥＯＤ：光学薄膜原論」、第四版、アドコム・メディア株式会社発行など）。
例えば、高角度入射時に波長１１００ｎｍ近傍の光をカットする誘電体多層膜を有するフィルターは、該フィルター面の垂直方向から入射する（０°入射時）光に対しては、波長１２６０ｎｍ近傍の光をカットする傾向にある。そして、この場合、その波長１２６０ｎｍ近傍の反射帯域の３分の１付近の波長に相当する波長４２０〜４５０ｎｍ付近の青色可視光帯域の光も反射され、該青色可視光帯域の透過率が低下し、視感度補正能が低下する問題があった。

従来、薄く、０°入射時において、可視光透過率が高く、可視光反射率が低く、視感度補正特性に優れるとともに、波長１０００〜１２００ｎｍの光をカットする性能が高く、高角度入射時においても波長１１００ｎｍの光の透過率が低い光学フィルターは得られていなかった。

本発明は、従来の近赤外線カットフィルター等の光学フィルターが有していた欠点を改良し、薄く、０°入射時において、可視光透過率が高く、可視光反射率が低く、視感度補正に優れ、高角度入射時においても波長１１００ｎｍの光の遮蔽性に優れる光学フィルターを提供する。

本発明者は、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、下記構成例によれば前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明の構成例は以下の通りである。
なお、本発明において、数値範囲を表す「Ａ〜Ｂ」等の記載は、「Ａ以上、Ｂ以下」と同義であり、ＡおよびＢをその数値範囲内に含む。また、本発明において、波長Ａ〜Ｂｎｍとは、波長Ａｎｍ以上、波長Ｂｎｍ以下の波長領域における波長分解能１ｎｍにおける特性を表す。

［１］ 基板上に誘電体多層膜を形成する工程を含み、波長３００〜１６００ｎｍの領域において、下記要件（Ｃ）、（Ｅ）、（Ｆ）および（Ｇ）を満たす光学フィルターの製造方法。
（Ｃ）波長３８０ｎｍ以上４３０ｎｍ未満に、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％となる最も長波長の値λ_traUV5を有する
（Ｅ）波長１０００〜１２００ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が５％以下
（Ｆ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％となる最も短波長の値λ_traIR5を有する
（Ｇ）λ_traIR5／λ_traUV5≧３．１０

［２］ 前記光学フィルターがさらに下記要件（イ）〜（ハ）を満たす、［１］に記載の製造方法。
（イ）基板と隣接する３層以外および最外層以外に、物理膜厚が６０ｎｍ以下である層が少なくとも２層連続した連続層ａを有する
（ロ）前記連続層ａに隣接して、物理膜厚が６０ｎｍより厚い層ｂを有する
（ハ）前記層ｂの連続層ａとは反対側に隣接して、物理膜厚が６０ｎｍ以下である層が少なくとも２層連続した連続層ｃを有する

［３］ 前記光学フィルターがさらに下記要件（ニ）を満たす、［１］または［２］に記載の製造方法。
（ニ）波長５５０ｎｍの光の屈折率が２．０以上であり、かつ、波長５５０ｎｍにおける光学膜厚が１６０〜３２０ｎｍである高屈折率層と、光学膜厚が１６０〜３２０ｎｍであり、前記高屈折率層より低屈折率である層とを交互に連続して４層以上有する

［４］ 基板と誘電体多層膜とを有し、波長３００〜１６００ｎｍの領域において、下記要件（Ｃ）、（Ｅ）、（Ｆ）および（Ｇ）を満たす光学フィルター。
（Ｃ）波長３８０ｎｍ以上４３０ｎｍ未満に、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％となる最も長波長の値λ_traUV5を有する
（Ｅ）波長１０００〜１２００ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が５％以下
（Ｆ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％となる最も短波長の値λ_traIR5を有する
（Ｇ）λ_traIR5／λ_traUV5≧３．１０

［５］ 波長３００〜１６００ｎｍの領域において、さらに下記要件（Ａ）、（Ｂ）、（Ｄ）および（Ｈ）を満たす、［４］に記載の光学フィルター。
（Ａ）波長３００〜３８０ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が５％以下
（Ｂ）波長３８０〜４３０ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％となる波長λ_UV50を有する
（Ｄ）波長４４０〜５８０ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が６０％以上
（Ｈ）波長７２０〜１０００ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が１％以下

［６］ 波長３００〜１６００ｎｍの領域において、さらに下記要件（Ａ）、（Ｂ）、（Ｄ）、（Ｊ）および（Ｋ）を満たす、［４］に記載の光学フィルター。
（Ａ）波長３００〜３８０ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が５％以下
（Ｂ）波長３８０〜４３０ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％となる波長λ_UV50を有する
（Ｄ）波長４４０〜５８０ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が６０％以上
（Ｊ）波長７２０〜１０００ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が３０％以下
（Ｋ）波長７２０〜１０００ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％以上となる波長を連続して５ｎｍ以上有する

［７］ 波長３００〜１６００ｎｍの領域において、さらに下記要件（Ｏ）〜（Ｑ）を満たす、［４］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルター。
（Ｏ）波長３７０ｎｍ以上４３０ｎｍ未満に、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が１％となる最も長波長の値λ_traUV1を有する
（Ｐ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が１％となる最も短波長の値λ_traIR1を有する
（Ｑ）λ_traIR1／λ_traUV1≧３．１０

［８］ 波長３００〜１６００ｎｍの領域において、さらに下記要件（Ｒ）〜（Ｕ）を満たす、［４］〜［７］のいずれかに記載の光学フィルター。
（Ｒ）波長３７０〜４３０ｎｍに、光学フィルターの少なくとも一方の面の垂直方向から５°の角度で入射する無偏光光線の反射率が５０％となる波長λ_refUV50を有する
（Ｓ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの少なくとも一方の面の垂直方向から５°の角度で入射する無偏光光線の反射率が９０％となる最も短波長の値λ_refIR90を有する
（Ｔ）λ_refIR90／λ_traUV5≧３．１０
（Ｕ）波長１０００〜１２００ｎｍにおける、光学フィルターの少なくとも一方の面の垂直方向から５°の角度で入射する無偏光光線の平均反射率が９０％以上である

［９］ 波長３００〜１６００ｎｍの領域において、さらに下記要件（Ｖ）および（Ｗ）を満たす、［４］〜［８］のいずれかに記載の光学フィルター。
（Ｖ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの少なくとも一方の面の垂直方向から５°の角度で入射する無偏光光線の反射率が９５％となる最も短波長の値λ_refIR95を有する
（Ｗ）λ_refIR95／λ_traUV5≧３．１０

［１０］ さらに下記要件（イ）〜（ハ）を満たす、［４］〜［９］のいずれかに記載の光学フィルター。
（イ）基板と隣接する３層以外および最外層以外に、物理膜厚が６０ｎｍ以下である層が少なくとも２層連続した連続層ａを有する
（ロ）前記連続層ａに隣接して、物理膜厚が６０ｎｍより厚い層ｂを有する
（ハ）前記層ｂの連続層ａとは反対側に隣接して、物理膜厚が６０ｎｍ以下である層が少なくとも２層連続した連続層ｃを有する

［１１］ さらに下記要件（ニ）を満たす、［４］〜［１０］のいずれかに記載の光学フィルター。
（ニ）波長５５０ｎｍの光の屈折率が２．０以上であり、かつ、波長５５０ｎｍにおける光学膜厚が１６０〜３２０ｎｍである高屈折率層と、光学膜厚が１６０〜３２０ｎｍであり、前記高屈折率層より低屈折率である層とを交互に連続して４層以上有する

［１２］ 波長３００〜１６００ｎｍの領域において、前記基板が下記要件（Ｙ）を満たす、［４］〜［１１］のいずれかに記載の光学フィルター。
（Ｙ）波長６８５〜７８０ｎｍに吸収極大波長λ（ＤＡ＿Ｔｍｉｎ）を有する

［１３］ 波長３００〜１６００ｎｍの領域において、前記基板が下記要件（Ｚ）を満たす、［４］〜［１２］のいずれかに記載の光学フィルター。
（Ｚ）波長６８０〜８００ｎｍに、基板の面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％以下となる阻止帯域を３０ｎｍ以上有する

［１４］ ［４］〜［１３］のいずれかに記載の光学フィルターを具備する固体撮像装置。
［１５］ ［４］〜［１３］のいずれかに記載の光学フィルターを具備するカメラモジュール。

本発明によれば、薄く（例：０．２１ｍｍ以下）、０°入射時において、可視光透過率が高く、可視光反射率が低く、視感度補正に優れ、高角度入射時においても波長１１００ｎｍの光の遮蔽性に優れる光学フィルター、および該光学フィルターを用いた装置、カメラモジュール、センサーモジュール等を提供することができる。

図１は、本発明の光学フィルターの構成例を示す概略模式図である。 図２は、本発明の光学フィルターの透過率を測定する方法を示す概略模式図である。 図３は、本発明の光学フィルターの反射率を測定する方法を示す概略模式図である。 図４は、本発明の光学フィルターを具備する固体撮像装置およびモジュールの一例を示す概略模式図である。 図５は、本発明の光学フィルターを具備するレンズを有さない固体撮像装置およびモジュールの一例を示す概略模式図である。 図６は、実施例１で得られた光学フィルターの、面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率（０°Ｔ）［以下同様。］、面方向に対して垂直方向から４５°の角度で入射した光の透過率（４５°Ｔ）［以下同様。］および面Ｙに対して垂直方向から５°の角度で入射した無偏光光線の反射率（５°Ｒ）［以下同様。］それぞれを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。 図７は、実施例２で得られた光学フィルターの、透過率（０°Ｔおよび４５°Ｔ）および面Ｙにおける５°Ｒを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。 図８は、実施例３で得られた光学フィルターの、透過率（０°Ｔおよび４５°Ｔ）および面Ｙにおける５°Ｒを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。 図９は、実施例４で得られた光学フィルターの、透過率（０°Ｔおよび４５°Ｔ）および面Ｙにおける５°Ｒを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。 図１０は、実施例５で得られた光学フィルターの、透過率（０°Ｔおよび４５°Ｔ）および面Ｙにおける５°Ｒを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。 図１１は、実施例６で得られた光学フィルターの、透過率（０°Ｔおよび４５°Ｔ）および面Ｙにおける５°Ｒを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。 図１２は、実施例７で得られた光学フィルターの、透過率（０°Ｔおよび４５°Ｔ）および面Ｙにおける５°Ｒを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。 図１３は、実施例８で得られた光学フィルターの、透過率（０°Ｔおよび４５°Ｔ）および面Ｙにおける５°Ｒを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。 図１４は、実施例９で得られた光学フィルターの、透過率（０°Ｔおよび４５°Ｔ）および面Ｙにおける５°Ｒを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。 図１５は、実施例１０で得られた光学フィルターの、透過率（０°Ｔおよび４５°Ｔ）および面Ｙにおける５°Ｒを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。 図１６は、実施例１１で得られた光学フィルターの、透過率（０°Ｔおよび４５°Ｔ）および面Ｙにおける５°Ｒを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。 図１７は、実施例１２で得られた光学フィルターの、透過率（０°Ｔおよび４５°Ｔ）および面Ｙにおける５°Ｒを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。 図１８は、比較例１で得られた光学フィルターの、透過率（０°Ｔおよび４５°Ｔ）および面Ｙにおける５°Ｒを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。 図１９は、比較例２で得られた光学フィルターの、透過率（０°Ｔおよび４５°Ｔ）および面Ｙにおける５°Ｒを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。 図２０は、比較例３で得られた光学フィルターの、透過率（０°Ｔおよび４５°Ｔ）および面Ｙにおける５°Ｒを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。 図２１は、比較例４で得られた光学フィルターの、透過率（０°Ｔおよび４５°Ｔ）および面Ｙにおける５°Ｒを示す図である。（Ｂ）は、（Ａ）の波長１０００〜１６００ｎｍ部分の拡大図である。

≪光学フィルターの製造方法および光学フィルター≫
本発明に係る光学フィルターの製造方法（以下「本方法」ともいう。）は、基板上に誘電体多層膜を形成する工程を含み、波長３００〜１６００ｎｍの領域において、下記要件（Ｃ）、（Ｅ）、（Ｆ）および（Ｇ）を満たす光学フィルターの製造方法であり、本発明に係る光学フィルター（以下「本フィルター」ともいう。）は、基板と誘電体多層膜とを有し、かつ、波長３００〜１６００ｎｍの領域において、下記要件（Ｃ）、（Ｅ）、（Ｆ）および（Ｇ）を満たす光学フィルターである。
（Ｃ）波長３８０ｎｍ以上４３０ｎｍ未満に、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％となる最も長波長の値λ_traUV5を有する
（Ｅ）波長１０００〜１２００ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が５％以下
（Ｆ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％となる最も短波長の値λ_traIR5を有する
（Ｇ）λ_traIR5／λ_traUV5≧３．１０

本フィルターは、基板と誘電体多層膜とを有し、かつ、波長３００〜１６００ｎｍの領域において、下記要件（Ａ）〜（Ｈ）を満たすフィルター（Ｉ）、または、下記要件（Ａ）〜（Ｇ）、（Ｊ）および（Ｋ）を満たすフィルター（ＩＩ）であることが好ましい。
本フィルターを近赤外線カットフィルターとして用いる場合、フィルター（Ｉ）が好ましく、近赤外線センサーに用いる場合、フィルター（ＩＩ）が好ましい。

（Ａ）波長３００〜３８０ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が５％以下
誘電体多層膜による近赤外線反射帯域の約３分の１の波長の反射を利用する場合、波長３００〜３８０ｎｍにおいて１〜２０ｎｍ程度の幅の狭い透過帯域が形成される傾向にある。ここで、誘電体多層膜を適切に設計し、波長３００〜３８０ｎｍにおける幅の狭い透過帯域の形成を抑制し、要件（Ａ）を満たすことにより、人間の目に見えにくいまたは見えない近紫外線を遮蔽することができ、このフィルターを固体撮像装置、センサー用途またはカメラモジュール等に使用した場合、撮像素子の視感度補正により優れ、人間の目で見える画像に近い良好な画像を容易に得ることができる。
前記平均透過率は、より好ましくは２％以下、さらに好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下である。前記平均透過率は低ければ低い方が好ましく、例えば、下限は０％である。

（Ｂ）波長３８０〜４３０ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％となる波長λ_UV50を有する
要件（Ｂ）を満たすことにより、人間の目に見えにくいまたは見えない近紫外線の遮蔽と、青色帯域およびその近傍の可視光帯域の高い透過率とを両立することができ、このフィルターを固体撮像装置、センサー用途またはカメラモジュール等に使用した場合、撮像素子の視感度補正により優れ、人間の目で見える画像に近い良好な画像を容易に得ることができる。
前記λ_UV50は、より好ましくは３９０〜４３０ｎｍ、特に好ましくは３９５〜４２５ｎｍにあることが望ましい。

（Ｃ）波長３８０ｎｍ以上４３０ｎｍ未満に、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％となる最も長波長の値λ_traUV5を有する
要件（Ｃ）を満たすことにより、人間の目に見えにくいまたは見えない近紫外線を十分に遮蔽することができ、このフィルターを固体撮像装置、センサー用途またはカメラモジュール等に使用した場合、人間の目に見えないまたは見えにくい紫外線による画像の色味変化を抑えることができる。
前記λ_traUV5は、より好ましくは３８０〜４２８ｎｍ、さらに好ましくは３８５〜４２８ｎｍ、特に好ましくは３９０〜４２６ｎｍにあることが望ましい。

（Ｄ）波長４４０〜５８０ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が６０％以上
要件（Ｄ）を満たすことにより、可視光線透過率を高く維持することができ、該要件（Ｄ）を満たすフィルターを固体撮像装置、センサー用途またはカメラモジュール等に使用した場合、撮像素子の視感度補正により優れ、人間の目で見える画像に近い良好な画像を容易に得ることができる。
前記平均透過率は、より好ましくは６５％以上、さらに好ましくは７０％以上、いっそう好ましくは７５％以上、特に好ましくは８０％以上、最も好ましくは８４％以上である。前記平均透過率は高ければ高い方が好ましく、例えば、上限は１００％である。

（Ｅ）波長１０００〜１２００ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が５％以下
要件（Ｅ）を満たすことにより、本フィルターを近赤外線カットフィルターとして、また、この波長域の近赤外線をカットするバンドパスフィルターとして好適に使用することができ、人間の目に見えない近赤外線を遮蔽することができ、高角度入射時の波長１１００ｎｍの近赤外線の低い透過率を維持することができる。要件（Ｅ）を満たすフィルターを固体撮像装置、センサー用途またはカメラモジュール等に使用した場合、シリコンフォトダイオード、ブラックシリコンフォトダイオードなどの撮像素子の視感度補正により優れ、火、炎、ハロゲンランプ、ハロゲンヒーター、白熱電球、近赤外線センサーなどの人間の目に見えない近赤外線を多く発する光源を撮像した際においても、人間の目で見える画像に近い良好な画像を得ることができる。
前記平均透過率は、より好ましくは３％以下、さらに好ましくは２％以下、特に好ましくは１．５％以下である。前記平均透過率は低ければ低い方が好ましく、例えば、下限は０％である。

（Ｆ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％となる最も短波長の値λ_traIR5を有する
前記λ_traIR5は、より好ましくは１２５０〜１６００ｎｍ、さらに好ましくは１２８０〜１５００ｎｍ、いっそう好ましくは１３００〜１５００ｎｍ、特に好ましくは１３３０〜１５００ｎｍ、最も好ましくは１３６０〜１５００ｎｍにあることが望ましい。
λ_traIR5が前記範囲にあると、光学フィルターに入射する光の入射角が高角度になった時に、誘電体多層膜による近赤外線反射帯域が短波長側にシフトした場合であっても、波長１１００ｎｍの光の透過率を低く維持することができ、好適である。

（Ｇ）λ_traIR5／λ_traUV5≧３．１０
要件（Ｆ）と（Ｇ）を満たすことにより、近赤外線反射帯域の約４分の１の光学膜厚の層の積層体（誘電体多層膜）を用いた従来の光学フィルターでは得られなかった、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の青色帯域およびその近傍の可視光帯域の高い透過率と、高角度入射時の波長１１００ｎｍの近赤外線の低い透過率を両立することができる。このため、要件（Ｇ）を満たすフィルターを画角が広い薄型の固体撮像装置や、センサー、カメラモジュール等に使用した場合、撮像素子の青色等の視感度補正に優れ、また人間の目に見えない近赤外線を多く発する光源を撮像した際においても、人間の目で見える画像に近い良好な画像を得ることができる。

近赤外線反射帯域の約４分の１の光学膜厚の層の積層体（誘電体多層膜）は、該反射帯域の約３分の１の波長は反射する帯域となる傾向にある。このため、近赤外線反射帯域の約４分の１の光学膜厚の層の積層体は、λ_traIR5／λ_traUV5≦３．０を満たす傾向にある。また、３．０＜λ_traIR5／λ_traUV5＜３．１程度は波長毎に屈折率が異なる性質（波長分散）によって、近赤外線反射帯域の約４分の１の光学膜厚の層の積層体でも達成する場合がある。

前記λ_traIR5／λ_traUV5は、より好ましくは３．１５以上、さらに好ましくは３．１９以上、いっそう好ましくは３．２４以上、特に好ましくは３．２９以上、最も好ましくは３．３４以上であり、好ましくは４．１０以下であり、より好ましくは３．８以下である。

近赤外線反射帯域の約４分の１の光学膜厚の層の積層体（誘電体多層膜）を有する従来の光学フィルターでは、該反射帯域の約３分の１の波長域の光は反射する傾向にある。このため、このような従来の誘電体多層膜を有する光学フィルターであって、要件（Ｃ）を満たす青色帯域の透過率が高い光学フィルターは、要件（Ｃ）の約３倍の波長にあたる、波長１１００ｎｍ以降の透過率が高い傾向にある。または、従来の誘電体多層膜を有する光学フィルターであって、要件（Ｆ）を満たす高角度入射時の波長１１００ｎｍ以降の透過率が低い光学フィルターは、λ_traUV5を波長４３０ｎｍより長波長に有するため、要件（Ｃ）を満たすことが困難となり、青色帯域およびその近傍の可視光帯域の透過率が低い傾向にある。
本フィルターでは、要件（Ｃ）、（Ｆ）および（Ｇ）が両立するため、青色帯域およびその近傍の可視光帯域の高い透過率と、波長１１００ｎｍの光の低い透過率、特に高角度入射時の波長１１００ｎｍの光の透過率が低い特性を有している。
なお、光学膜厚とは、物理膜厚×屈折率で表される。このため、物理膜厚は光学膜厚／屈折率で算出することができる。

（Ｈ）波長７２０〜１０００ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が１％以下
要件（Ｈ）を満たすことにより、フィルター（Ｉ）を近赤外線カットフィルターとして好適に用いることができ、人間の目に見えにくいまたは見えない近赤外線をより遮蔽することができ、このフィルター（Ｉ）を固体撮像装置、センサー用途またはカメラモジュール等に使用した場合、シリコンフォトダイオード、ブラックシリコンフォトダイオードなどの撮像素子の視感度補正により優れ、人間の目で見える画像に近い良好な画像を得ることができる。
前記平均透過率は、より好ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．２％以下、特に好ましくは０．１％以下である。前記平均透過率は低ければ低い方が好ましく、例えば、下限は０％である。

（Ｊ）波長７２０〜１０００ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が３０％以下
前記平均透過率は、より好ましくは１８％以下、さらに好ましくは１０％以下、特に好ましくは８％以下である。前記平均透過率は近赤外線センサーの感度を確保する等の観点から、例えば下限は１％である。

（Ｋ）波長７２０〜１０００ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％以上となる波長を連続して５ｎｍ以上有する
前記透過率が５０％以上となる帯域の幅は、より好ましくは５〜１２０ｎｍ、さらに好ましくは５〜７０ｎｍ、特に好ましくは１０〜４５ｎｍである。
透過率が５０％以上となる帯域の幅が前記範囲を下回る場合、近赤外線センサーの感度不足のため、該センサーを用いてセンシングを行う際にノイズが増加する傾向にあり、前記範囲を上回る場合、要件（Ｊ）を達成することが困難となり、人間の目に見えにくいまたは見えない近赤外線のカット性能が不十分となり、視感度補正が不十分となる傾向、または、センシングに用いる波長以外のノイズが増加する傾向にある。

要件（Ｊ）および要件（Ｋ）を両立することで、人間の目に見えないまたは見えにくい近赤外線を遮蔽しつつ、特定の波長では透過帯域を形成している光学フィルター、例えばデュアルバンドパスフィルターを得ることができる。このフィルター（ＩＩ）を近赤外線センサーや、固体撮像装置、モジュールに使用した場合、センシングを行う波長における高い感度と、近赤外線のカットによる視感度補正により、人間の目で見える画像に近い良好な画像や距離情報等を容易に得ることができる。

本フィルターは、波長３００〜１６００ｎｍの領域において、下記要件（Ｏ）〜（Ｑ）を満たすことが好ましい。

（Ｏ）波長３７０ｎｍ以上４３０ｎｍ未満に、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が１％となる最も長波長の値λ_traUV1を有する
要件（Ｏ）を満たすことにより、人間の目に見えにくいまたは見えない近紫外線をより遮蔽することができ、このフィルターを近紫外線に対してさらに高感度な固体撮像装置、センサー用途またはカメラモジュール等に使用した場合、人間の目に見えないまたは見えにくい紫外線による画像の色味変化をより抑えることができる。
前記λ_traUV1は、より好ましくは３７５〜４２８ｎｍ、いっそう好ましくは３８０〜４２８ｎｍ、さらに好ましくは３８５〜４２８ｎｍ、特に好ましくは３９０〜４２６ｎｍにあることが望ましい。

（Ｐ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が１％となる最も短波長の値λ_traIR1を有する
要件（Ｐ）を満たすことにより、光学フィルターに入射する光の入射角が高角度になった場合でも、波長１１００ｎｍの近赤外線の透過率をより低く抑えることができる。このため、要件（Ｐ）を満たすフィルターをさらに高感度であり、画角が広い薄型の固体撮像装置や、センサー、カメラモジュール等に使用した場合において、近赤外線センサーなどの人間の目に見えない近赤外線を多く発する光源を撮像した際においても、人間の目で見える画像に近い良好な画像を容易に得ることができる。
前記λ_traIR1は、より好ましくは１２５０〜１６００ｎｍ、さらに好ましくは１２８０〜１５００ｎｍ、いっそう好ましくは１３００〜１５００ｎｍ、特に好ましくは１３３０〜１５００ｎｍ、最も好ましくは１３６０〜１５００ｎｍにあることが望ましい。
λ_traIR1が前記範囲にあると、高角度入射時に、誘電体多層膜による反射帯域が短波長側にシフトした場合であっても、波長１１００ｎｍの光の透過率をより低く維持することができ、好適である。

本フィルターが、要件（Ｏ）と要件（Ｐ）を両立する場合、青色帯域およびその近傍の可視光帯域の高い透過率と、波長１１００ｎｍの光の低い透過率、特に高角度入射時の波長１１００ｎｍの光の低い透過率とに、よりバランスよく優れる。

（Ｑ）λ_traIR1／λ_traUV1≧３．１０
要件（Ｑ）を満たすことにより、近赤外線の反射帯域の約４分の１の光学膜厚の層の積層体（誘電体多層膜）を用いた従来の光学フィルターでは得られなかった、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の青色帯域およびその近傍の可視光帯域の高い透過率と、高角度入射時の波長１１００ｎｍの近赤外線の低い透過率をより容易に両立することができる。このため、要件（Ｑ）を満たすフィルターを画角が広い薄型の固体撮像装置や、センサー、カメラモジュール等に使用した場合、撮像素子の青色等の視感度補正に優れ、また人間の目に見えない近赤外線を多く発する光源を撮像した際においても、人間の目で見える画像に近い良好な画像を得ることができる。
前記λ_traIR1／λ_traUV1は、より好ましくは３．１１以上、さらに好ましくは３．１５以上、いっそう好ましくは３．２１以上、特に好ましくは３．２６以上、最も好ましくは３．３４以上であり、好ましくは４．１０以下であり、より好ましくは３．８以下である。

近赤外線反射帯域の約４分の１の光学膜厚の層の積層体（誘電体多層膜）を有する従来の光学フィルターでは、該反射帯域の約３分の１の波長域の光は反射する傾向にある。このため、このような従来の誘電体多層膜を有する光学フィルターであって、要件（Ｏ）を満たす青色帯域の透過率が高い光学フィルターは、要件（Ｏ）の約３倍の波長にあたる、波長１１００ｎｍ以降の透過率が高い傾向にある。または、従来の誘電体多層膜を有する光学フィルターであって、要件（Ｐ）を満たす高角度入射時の波長１１００ｎｍ以降の透過率が低い光学フィルターは、λ_traUV1を波長４３０ｎｍより長波長に有するため、要件（Ｏ）を満たすことが困難となり、青色帯域およびその近傍の可視光帯域の透過率が低い傾向にある。
本フィルターが、要件（Ｏ）と要件（Ｐ）を両立する場合、青色帯域およびその近傍の可視光帯域の高い透過率と、波長１１００ｎｍの光の低い透過率、特に高角度入射時の波長１１００ｎｍの光の低い透過率とに、よりバランスよく優れる。

本フィルターは、波長３００〜１６００ｎｍの領域において、下記要件（Ｒ）〜（Ｕ）を満たすことが好ましい。
なお、下記要件（Ｒ）、（Ｓ）、（Ｕ）、（Ｖ）および（α）では、本フィルターの一方の面（以下「面Ｘ」ともいい、他方の面を「面Ｙ」ともいう。）の垂直方向から５°の角度から入射する無偏光光線の反射特性が下記範囲にあればよい。
面Ｘは、通常、光学フィルターの主面のことをいい、面積の最も大きな面の一方のことをいう。この場合、面積の最も大きな面の他方が面Ｙである。

「無偏光光線」とは、偏光方向の偏りを持たない光線のことであり、電場が全ての方向に概ね均一に分布している波の集合体のことをいう。「無偏光光線の平均透過率」は「Ｓ偏光光線の平均透過率」と「Ｐ偏光光線の平均透過率」の平均値を用いてもよい。「無偏光光線の平均反射率」は、「Ｓ偏光光線の平均反射率」と「Ｐ偏光光線の平均反射率」の平均値を用いてもよい。
垂直方向から入射する無偏光光線の反射率を測定することは、限りなく困難であるため、本発明では、垂直方向から５°の角度から入射する無偏光光線の反射特性を測定した。

（Ｒ）波長３７０〜４３０ｎｍに、光学フィルターの少なくとも一方の面の垂直方向から５°の角度で入射する無偏光光線の反射率が５０％となる波長λ_refUV50を有する
要件（Ｒ）を満たすことにより、劣化を促進する紫外線を反射する機能と青色の反射光におけるゴーストを低減する機能とを容易に両立することができる。λ_refUV50が前記範囲を下回る場合、光学フィルターや固体撮像装置に用いる撮像素子が、紫外線により劣化しやすくなる傾向にある。また、λ_refUV50が前記範囲を上回る場合であって、そのフィルターを固体撮像装置、センサー用途、カメラモジュール等に用いた場合、光学フィルター表面で反射した青色光がゴーストとなり画像不良を起こしやすくなる。
前記λ_refUV50は、より好ましくは３８０〜４３０ｎｍ、さらに好ましくは３９０〜４３０ｎｍ、特に好ましくは３９５〜４２５ｎｍにあることが望ましい。

（Ｓ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの少なくとも一方の面の垂直方向から５°の角度で入射する無偏光光線の反射率が９０％となる最も短波長の値λ_refIR90を有する
要件（Ｓ）を満たすことにより、光学フィルターに入射する光の入射角が高角度になった場合でも、波長１１００ｎｍの近赤外線の透過率をより低く抑えることができる。このため、要件（Ｓ）を満たすフィルターを画角が広い薄型の固体撮像装置や、センサー、カメラモジュール等に使用した場合、近赤外線によるフィルターや撮像素子、センサー、カメラモジュール等の昇温を防ぐことができ、熱ノイズの発生を抑制することができる。また、ハロゲンランプ、ハロゲンヒーター、白熱電球、炎、近赤外線センサーなどの人間の目に見えない近赤外線を多く発する光源を撮像した際においても、人間の目で見える画像に近い良好な画像を容易に得ることができる。
前記λ_refIR90は、より好ましくは１２５０〜１６００ｎｍ、さらに好ましくは１２８０〜１５００ｎｍ、いっそう好ましくは１３００〜１５００ｎｍ、特に好ましくは１３３０〜１５００ｎｍ、最も好ましくは１３６０〜１５００ｎｍにあることが望ましい。
λ_refIR90が前記範囲にあると、高角度入射時に、誘電体多層膜による反射帯域が短波長側にシフトした場合であっても、波長１１００ｎｍの光の透過率を低く維持することができ、好適である。

（Ｔ）λ_refIR90／λ_traUV5≧３．１０
要件（Ｔ）を満たすことにより、近赤外線反射帯域の約４分の１の光学膜厚の層の積層体（誘電体多層膜）を用いた従来の光学フィルターでは得られなかった、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の青色帯域およびその近傍の可視光帯域の高い透過率と、高角度入射時の波長１１００ｎｍの近赤外線の低い透過率とをより容易に両立することができる。このため、要件（Ｔ）を満たすフィルターを画角が広い薄型の固体撮像装置や、センサー、カメラモジュール等に使用した場合、撮像素子の青色等の視感度補正に優れ、また人間の目に見えない近赤外線を多く発する光源を撮像した際においても、人間の目で見える画像に近い良好な画像を容易に得ることができる。
前記λ_refIR90／λ_traUV5は、より好ましくは３．１３以上、さらに好ましくは３．１５以上、いっそう好ましくは３．２０以上、特に好ましくは３．２６以上、最も好ましくは３．３４以上であり、高角度入射時に可視光帯域の高い透過率を容易に維持できる等の点から、好ましくは４．１０以下であり、より好ましくは３．８以下である。λ_refIR90／λ_traUV5が前記上限を超える場合、設ける誘電体多層膜の層数が増える傾向にあり、得られる光学フィルターの反りを抑えることが困難となる場合がある、または、高角度入射時に可視光帯域の高い透過率を満たすことが困難となる場合がある。

（Ｕ）波長１０００〜１２００ｎｍにおける、光学フィルターの少なくとも一方の面の垂直方向から５°の角度で入射する無偏光光線の平均反射率が９０％以上である
要件（Ｕ）を満たすことにより、光学フィルターに入射する光の入射角が高角度になった場合でも、波長１１００ｎｍの近赤外線の透過率をより低く抑えることができる。要件（Ｕ）を満たすフィルターを画角が広い薄型の固体撮像装置や、センサー、カメラモジュール等に使用した場合、近赤外線によるフィルターや撮像素子、センサー、カメラモジュール等の昇温を防ぐことができ、熱ノイズの発生を抑制することができる。また、ハロゲンランプ、ハロゲンヒーター、白熱電球、炎、近赤外線センサーなどの人間の目に見えない近赤外線を多く発する光源を撮像した際においても、人間の目で見える画像に近い良好な画像を容易に得ることができる。
前記平均反射率は、好ましくは９２％以上、より好ましくは９５％以上、特に好ましくは９８％以上である。前記平均反射率は高ければ高い方が好ましく、例えば、上限は１００％である。

本フィルターは、波長３００〜１６００ｎｍの領域において、下記要件（Ｖ）〜（Ｗ）を満たすことが好ましい。

（Ｖ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの少なくとも一方の面の垂直方向から５°の角度で入射する無偏光光線の反射率が９５％となる最も短波長の値λ_refIR95を有する
要件（Ｖ）を満たすことにより、光学フィルターに入射する光の入射角が高角度になった場合でも、波長１１００ｎｍの近赤外線の透過率をより低く抑えることができる。このため、要件（Ｖ）を満たすフィルターを画角が広い薄型の感度の高い固体撮像装置や、センサー、カメラモジュール等に使用した場合、近赤外線によるフィルターや撮像素子、センサー、カメラモジュール等の昇温をより防ぐことができ、熱ノイズの発生を抑制することができる。また、ハロゲンランプ、ハロゲンヒーター、白熱電球、炎、近赤外線センサーなどの人間の目に見えない近赤外線を多く発する光源を撮像した際においても、人間の目で見える画像に近い良好な画像を容易に得ることができる。
前記λ_refIR95は、より好ましくは１２５０〜１６００ｎｍ、さらに好ましくは１２８０〜１５００ｎｍ、いっそう好ましくは１３００〜１５００ｎｍ、特に好ましくは１３３０〜１５００ｎｍ、最も好ましくは１３６０〜１５００ｎｍにあることが望ましい。
λ_refIR95が前記範囲にあると、高角度入射時に、誘電体多層膜による近赤外線反射帯域が短波長側にシフトした場合であっても、波長１１００ｎｍの光の透過率を低く維持することができ、好適である。

（Ｗ）λ_refIR95／λ_traUV5≧３．１０
要件（Ｗ）を満たすことにより、近赤外線反射帯域の約４分の１の光学膜厚の層の積層体（誘電体多層膜）を用いた従来の光学フィルターでは得られなかった、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の青色帯域およびその近傍の可視光帯域の高い透過率と、高角度入射時の波長１１００ｎｍの近赤外線の低い透過率とを容易に両立することができる。このため、要件（Ｗ）を満たすフィルターを画角が広い薄型の固体撮像装置や、センサー、カメラモジュール等に使用した場合、撮像素子の青色等の視感度補正に優れ、また人間の目に見えない近赤外線を多く発する光源を撮像した際においても、人間の目で見える画像に近い良好な画像を容易に得ることができる。一方、要件（Ｗ）を満たさない光学フィルターにおいて、青色帯域およびその近傍の可視光帯域の透過率が高くなるように設計した場合、高角度入射時の波長１１００ｎｍの近赤外線の透過率を低くすることが困難となる傾向にあり、高角度入射時の波長１１００ｎｍの近赤外線の透過率が低くなるように設計した場合、青色帯域およびその近傍の可視光帯域の透過率を高くすることが困難となる傾向にある。
青色帯域およびその近傍の可視光帯域の透過率が高くなるように設計した場合であっても、高角度入射時の波長１１００ｎｍの近赤外線の透過率を低くできる等の点から、前記λ_refIR95／λ_traUV5は、より好ましくは３．１５以上、さらに好ましくは３．２１以上、いっそう好ましくは３．２７以上、特に好ましくは３．３４以上、最も好ましくは３．４０以上であり、高角度入射時に可視光帯域の高い透過率を容易に維持できる等の点から、好ましくは４．１０以下であり、より好ましくは３．８以下である。λ_refIR95／λ_traUV5が前記上限を超える場合、高角度入射時に可視光帯域の高い透過率を満たすことが困難となる場合がある。

本フィルターは、波長３００〜１６００ｎｍの領域において、下記要件（Ｘ）を満たすことが好ましい。
（Ｘ）波長６２０〜７１５ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％となる波長λ_IR50を有する
要件（Ｘ）を満たすフィルターを固体撮像装置、センサー用途またはカメラモジュール等に使用した場合、固体撮像装置やセンサー、カメラモジュール等の感度を人間の目の比視感度曲線に近い特性とすることが容易となり、特に得られる画像の赤みの視感度補正により優れる。
λ_IR50は、好ましくは６２０〜６８０ｎｍ、より好ましくは６２０〜６７０ｎｍ、さらに好ましくは６２０〜６６０ｎｍ、特に好ましくは６２５〜６５０ｎｍにあることが望ましい。λ_IR50が前記範囲を下回る場合、人間の目で見える画像よりも得られる画像の赤みが低下し、視感度補正が不十分になる傾向にあり、前記範囲を上回る場合、人間の目で見える画像よりも得られる画像の赤みが上昇し、視感度補正が不十分になる傾向にある。

固体撮像装置やカメラモジュール等で得られる画像における青色付近の色の面内分布により優れる等の点から、本フィルターは、波長４２０〜４５０ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が、好ましくは６５％以上、より好ましくは７０％以上、特に好ましくは８０％以上である。前記平均透過率は高ければ高い方が好ましく、例えば、上限は１００％である。

固体撮像装置やカメラモジュール等で得られる画像における赤色付近の色の面内分布により優れる等の点から、本フィルターは、波長６００〜６５０ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が３０〜９６％であることが好ましい。
該平均透過率が前記範囲を下回る場合であって、そのフィルターを固体撮像装置に用いた場合、赤色の感度不足により得られる画像の赤色の色再現性が困難となる傾向にあり、前記範囲を上回る場合であって、そのフィルターを固体撮像装置に用いた場合、固体撮像素子の感度と人間の視感度との差において、視感度補正が十分ではない傾向にあり、得られる画像が赤みを帯びた色となる傾向にある。
前記平均透過率は、好ましくは３５〜８５％、より好ましくは４０〜８０％、さらに好ましくは４５〜８０％、特に好ましくは５０〜７５％、最も好ましくは５０〜７０％である。

本フィルターは、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から４５°の角度で入射した波長１１００ｎｍの光の透過率が、好ましくは２．０％以下、より好ましくは１．５％以下、特に好ましくは１．１％以下である。
本フィルターが、前記透過率を有すると、光学フィルターに入射する光の入射角が高角度になった場合でも、撮像素子が感度を有する波長１１００ｎｍの光の透過率を低く保つことが容易となり、本フィルターは、この波長に感度を有する撮像素子等を用いる場合のフィルターとして好適に用いることができる。

本フィルターは、波長１１００〜１１５０ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から４５°の角度で入射した光の平均透過率が、好ましくは１０．０％以下、より好ましくは８．０％以下、特に好ましくは４．０％以下である。
本フィルターが、前記平均透過率を有すると、光学フィルターに入射する光の入射角が高角度になった場合でも、撮像素子が感度を有する波長１１００ｎｍの光の透過率を低く保つことが容易となり、本フィルターは、この波長に感度を有する撮像素子等を用いる場合のフィルターとして好適に用いることができる。

本フィルターは、波長６００〜７５０ｎｍにおいて、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％となる波長Ｘａと、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から４５°の角度で入射した光の透過率が５％となる波長Ｘｂとを有し、ＸａとＸｂとの差の絶対値が、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３５ｎｍ以下、特に好ましくは３０ｎｍ以下である。
ＸａとＸｂとの差の絶対値が前記範囲にあると、吸収波長の入射角依存性が小さく、視野角の広い近赤外線カットフィルターを容易に得ることができる。

波長３００〜１６００ｎｍの領域において、本フィルターは、さらに以下の要件（α）を満たすことが好ましい。
（α）光学フィルターの少なくとも一方の面方向に対して垂直方向から５°の角度で入射する無偏光光線の波長４４０〜５８０ｎｍの平均反射率が４％以下
要件（α）を満たす光学フィルターを、固体撮像装置、センサー用途またはカメラモジュール等に使用した場合、レンズやセンサー表面で反射した光が光学フィルター表面で反射し再度センサーへ入射する、または、光学フィルターの表面で反射した光がレンズやフレーム等で反射し、再度センサーへ入射することによる画質不良であるゴーストを容易に低減することができる。
前記平均反射率は、好ましくは３％以下であり、より好ましくは２．５％以下である。

本フィルターの厚みは０．０１〜０．２１ｍｍ、より好ましくは０．０１５〜０．１４ｍｍ、特に好ましくは０．０２〜０．１２ｍｍである。
厚みが前記範囲を下回る場合、本フィルターが有する誘電体多層膜の応力によって反りが発生しやすく、固体撮像装置やセンサー、カメラモジュール等に用いることが困難となる場合がある。また、厚みが前記範囲を上回る場合、薄型の固体撮像装置やセンサー、カメラモジュール等に用いることが困難となる傾向にある。

＜基板＞
前記基板は、本発明の効果を損なわない限り、材質、形状等は特に制限されないが、例えば、無機材などを含む基板、樹脂などを含む基板が挙げられ、板状体であることが好ましい。該基板は、図１（Ａ）または（Ｂ）のように単層であっても、図１（Ｃ）〜（Ｇ）のように多層であってもよいが、添加剤を含む層を有することが好ましい。

前記基板としては、具体的には、下記（ａ）〜（ｃ）等が挙げられる。これらの中でも、所望の光学特性を有する光学フィルターを容易に得ることができる等の点から、下記（ｂ）および（ｃ）が好ましい。
（ａ）無機材からなる基板（近赤外線領域や近紫外線領域等に吸収を有していても有していなくてもよい）
（ｂ）樹脂からなる基板（樹脂製基板、該基板は、下記添加剤を含まなくてもよいが、下記添加剤を含む基板であることが好ましい）
（ｃ）無機材製支持体や樹脂製支持体上に樹脂層が積層された基板（無機材製支持体は、近赤外線領域や近紫外線領域等に吸収を有していても有していなくてもよい。樹脂製支持体や樹脂層は、下記添加剤を含まなくてもよいが、これらのうち少なくとも一方は、下記添加剤を含むことが好ましい。）

前記基板の厚みは特に制限されず、所望の用途に応じて適宜選択すればよいが、好ましくは０．０１〜０．２ｍｍ、より好ましくは０．０１５〜０．１５ｍｍ、特に好ましくは０．０２〜０．１ｍｍである。
基板の厚みが前記範囲にあると、取り扱い容易性に優れる光学フィルターが得られ、得られたフィルターを用いた固体撮像装置やカメラモジュール等を薄くすることができ、より小型化が可能となる。

〈無機材〉
前記無機材としては特に限定されないが、石英、ホウケイ酸塩系ガラス、ケイ酸塩系ガラス、化学強化ガラス、物理強化ガラス、ソーダガラス、リン酸塩系ガラス、アルミナガラス、サファイアガラス、色ガラス等が挙げられる。これらの市販品としては、ＳＣＨＯＴＴ社製の、Ｄ２６３、ＢＫ７、Ｂ２７０、ＫＧ１またはＫＧ１を前記基板の厚みにしたもの、ＫＧ３またはＫＧ３を前記基板の厚みにしたもの、ＫＧ５またはＫＧ５を前記基板の厚みにしたもの、ＨＯＹＡ（株）製の、Ｃ５０００やＣ５０００を前記基板の厚みにしたもの、ＣＤ５０００やＣＤ５０００を前記基板の厚みにしたもの、Ｅ−ＣＭ５００ＳやＥ−ＣＭ５００Ｓを前記基板の厚みにしたもの、コーニング社製の、ＧｏｒｉｌｌａＧｌａｓｓ、ＷｉｌｌｏｗＧｌａｓｓ、松浪硝子工業（株）製の、ＢＳ１〜１１およびＢＳ１〜１１を前記基板の厚みにしたもの、日本ガイシ（株）製のハイセラム等が挙げられる。これらの中でも可視光透過率の高さと近赤外線遮蔽性能に優れる等の点から、ホウケイ酸塩系ガラスまたはリン酸塩系ガラスが好ましく、ホウケイ酸塩系ガラスとしては、特に制限されないが、前記Ｄ２６３、ＢＫ７、Ｂ２７０、ＫＧ１、ＫＧ３、ＫＧ５等が挙げられ、リン酸塩系ガラスとしては、特に制限されないが、銅原子を含むリン酸銅塩系ガラス等が挙げられる。銅原子を含むリン酸銅塩系ガラスは、例えば、特表２０１５−５２２５００号公報、国際公開第２０１１／０７１１５７号、国際公開第２０１７／２０８６７９号に記載の方法で得ることができる。リン酸塩系ガラスとしては、高温高湿環境下において光学特性の変化が少ない傾向にあるフッ素原子を含むフツリン酸塩系ガラスが好ましい。

〈樹脂〉
前記樹脂としては、本発明の効果を損なわない限り特に制限されないが、例えば、熱安定性および板状体への成形性等を確保し、かつ、１００℃以上の蒸着温度で行う高温蒸着により誘電体多層膜を形成しうる基板とするため、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０〜３８０℃、より好ましくは１１０〜３７０℃、さらに好ましくは１２０〜３６０℃である樹脂が挙げられる。また、前記樹脂のＴｇが１４０℃以上であると、樹脂に添加剤を高濃度に添加することでＴｇが低下した場合においても、誘電体多層膜を高温で蒸着形成し得る基板となるため、特に好ましい。

樹脂としては、当該樹脂のみからなる厚み０．０５ｍｍの樹脂板を形成した場合に、この樹脂板の全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７３７５）が、好ましくは５０〜９６％、さらに好ましくは６０〜９６％、特に好ましくは７０〜９６％となる樹脂を用いることが望ましい。全光線透過率がこのような範囲となる樹脂を用いると、得られる基板は光学フィルムとして良好な透明性を示す。

樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定される、ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常１５，０００〜３５０，０００、好ましくは３０，０００〜２５０，０００であり、数平均分子量（Ｍｎ）は、通常１０，０００〜１５０，０００、好ましくは２０，０００〜１００，０００である。

樹脂としては、例えば、環状（ポリ）オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド（アラミド）系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、マレイミド系樹脂、脂環エポキシ熱硬化型樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂、ビニル系紫外線硬化型樹脂およびゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂が挙げられる。これらの中では、環状（ポリ）オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂を用いることが、透明性（光学特性）、耐熱性、耐リフロー性等のバランスにより優れる光学フィルターが得られる等の点で好ましい。
樹脂は、１種単独で用いてもよく、２種以上を用いてもよい。

［環状（ポリ）オレフィン系樹脂］
環状（ポリ）オレフィン系樹脂としては、下記式（Ｘ₀）で表される単量体および下記式（Ｙ₀）で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも１種の単量体を用いて得られる樹脂、および当該樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。

式（Ｘ₀）中、Ｒ^x1〜Ｒ^x4はそれぞれ独立に、下記（ｉ'）〜（ｉｘ'）より選ばれる原子または基を表し、ｋ^x、ｍ^xおよびｐ^xはそれぞれ独立に、０〜４の整数を表す。
（ｉ'）水素原子
（ｉｉ'）ハロゲン原子
（ｉｉｉ'）トリアルキルシリル基
（ｉｖ'）酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基
（ｖ'）置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基
（ｖｉ'）極性基（但し、（ｉｉ'）および（ｉｖ'）を除く。）
（ｖｉｉ'）Ｒ^x1とＲ^x2またはＲ^x3とＲ^x4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基（但し、前記結合に関与しないＲ^x1〜Ｒ^x4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）〜（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表す。）
（ｖｉｉｉ'）Ｒ^x1とＲ^x2またはＲ^x3とＲ^x4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲ^x1〜Ｒ^x4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）〜（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表す。）
（ｉｘ'）Ｒ^x2とＲ^x3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲ^x1とＲ^x4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）〜（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表す。）

式（Ｙ₀）中、Ｒ^y1およびＲ^y2はそれぞれ独立に、前記（ｉ'）〜（ｖｉ'）より選ばれる原子または基を表すか、Ｒ^y1とＲ^y2とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表し、ｋ^yおよびｐ^yはそれぞれ独立に、０〜４の整数を表す。

［芳香族ポリエーテル系樹脂］
芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式（１）で表される構造単位および下記式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有することが好ましい。

（式（１）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、ａ〜ｄはそれぞれ独立に、０〜４の整数を示す。）

（式（２）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴およびａ〜ｄはそれぞれ独立に、前記式（１）中のＲ¹〜Ｒ⁴およびａ〜ｄと同義であり、Ｙは、単結合、−ＳＯ₂−または−ＣＯ−を示し、Ｒ⁷およびＲ⁸はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、０〜４の整数を示し、ｍは０または１を示す。但し、ｍが０のとき、Ｒ⁷はシアノ基ではない。）

また、前記芳香族ポリエーテル系樹脂は、さらに下記式（３）で表される構造単位および下記式（４）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有していてもよい。

（式（３）中、Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、Ｚは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−または炭素数１〜１２の２価の有機基を示し、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、０〜４の整数を示し、ｎは０または１を示す。

（式（４）中、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、前記式（２）中のＲ⁷、Ｒ⁸、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、前記式（３）中のＲ⁵、Ｒ⁶、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義である。）

［ポリエステル系樹脂］
ポリエステル系樹脂としては特に制限されず、例えば、特開２０１０−２８５５０５号公報や特開２０１１−１９７４５０号公報に記載されている方法で合成することができる。

［ポリイミド系樹脂］
ポリイミド系樹脂としては特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよく、例えば、特開２００６−１９９９４５号公報や特開２００８−１６３１０７号公報に記載されている方法で合成することができる。

［ポリカーボネート系樹脂］
ポリカーボネート系樹脂として特に制限されないが、例えば、特開２００８−１６３１９４号公報に記載されている方法で合成することができる。

［フッ素化芳香族ポリマー系樹脂］
フッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては特に制限されないが、フッ素原子を少なくとも１つ有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも１つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーであることが好ましく、例えば、特開２００８−１８１１２１号公報に記載されている方法で合成することができる。

［アクリル系紫外線硬化型樹脂］
アクリル系紫外線硬化型樹脂としては特に制限されないが、分子内に一つ以上のアクリル基もしくはメタクリル基を有する化合物と、紫外線によって分解して活性ラジカルを発生させる化合物を含有する樹脂組成物から合成されるものを挙げることができる。アクリル系紫外線硬化型樹脂は、前記基板として、無機材製支持体上や樹脂製支持体上に添加剤および硬化性樹脂を含む樹脂層（吸収層）が積層された基板や、添加剤を含有する樹脂製支持体上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基板を用いる場合、該硬化性樹脂として特に好適に使用することができる。

［ゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂］
ゾルゲル法によるシリカを主成分とする樹脂としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、メトキシトリエトキシシランなどのテトラアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのフェニルアルコキシシラン等から選ばれる１種以上のシラン類の加水分解によるゾルゲル反応により得られる化合物を樹脂として使用することができる。

［市販品］
樹脂としては、以下の市販品等を用いることができる。
環状（ポリ）オレフィン系樹脂の市販品としては、ＪＳＲ（株）製ＡＲＴＯＮ、日本ゼオン（株）製ＺＥＯＮＯＲ、三井化学（株）製ＡＰＥＬ、ポリプラスチックス（株）製ＴＯＰＡＳなどを挙げることができる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、住友化学（株）製スミカエクセルＰＥＳなどを挙げることができる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製ネオプリムＬなどを挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、帝人（株）製ピュアエース、三菱ガス化学（株）製ユピゼータＥＰ−５０００などを挙げることができる。ポリエステル系樹脂の市販品としては、大阪ガスケミカル（株）製ＯＫＰ４ＨＴなどを挙げることができる。アクリル系樹脂の市販品としては、（株）日本触媒製アクリビュアなどを挙げることができる。シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂の市販品としては、新日鐵化学（株）製シルプラスなどを挙げることができる。

〈基板の製造方法〉
前記樹脂製基板、樹脂製支持体、樹脂層は、例えば、溶融成形またはキャスト成形により形成することができ、さらに、必要により、成形後に、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤をコーティングすることで、オーバーコート層が積層された基板を製造することができる。

前記基板が、無機材製支持体や樹脂製支持体上に添加剤および樹脂を含有する樹脂層が積層された基板である場合、例えば、無機材製支持体や樹脂製支持体に添加剤を含む樹脂溶液を溶融成形またはキャスト成形することで、好ましくはスピンコート、スリットコート、インクジェットなどの方法にて塗工した後に溶媒を乾燥除去し、必要に応じてさらに光照射や加熱を行うことで、無機材製支持体や樹脂製支持体上に樹脂層が形成された基板を製造することができる。

［溶融成形］
前記溶融成形としては、具体的には、前記基板が樹脂と添加剤とを含む場合、樹脂と添加剤とを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法；樹脂と添加剤とを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法；または、添加剤、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などが挙げられる。溶融成形方法としては、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。前記基板が無機材を含む場合、該無機材の融点や離型性に応じて、白金るつぼ、白金−ロジウムるつぼ、金るつぼ、イリジウムるつぼ、アルミナ磁器製るつぼ等を使用し、るつぼ内にて無機材を溶融した後、オーバーフロー法、フロート法などで成形する方法などが挙げられる。

［キャスト成形］
前記キャスト成形としては、添加剤、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶剤を除去する方法；または添加剤と、光硬化性樹脂および／または熱硬化性樹脂とを含む硬化性組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶媒を除去した後、紫外線照射や加熱などの適切な手法により硬化させる方法などが挙げられる。

前記基板が、添加剤を含有する樹脂層からなる基板（樹脂製基板）である場合には、該基板は、キャスト成形後、支持体から塗膜を剥離することにより得ることができ、また、前記基板が、無機材製支持体や樹脂製支持体等の支持体などの上に添加剤および樹脂等を含有するオーバーコート層などの樹脂層が積層された基板である場合には、該基板は、例えば、キャスト成形後、塗膜を剥離しないことで得ることができる。

前記支持体としては、例えば、ガラス板、スチールベルト、スチールドラムおよび樹脂（例えば、ポリエステル、環状オレフィン系樹脂）製支持体が挙げられる。

さらに、無機材または樹脂製等の光学部品に、前記樹脂組成物をコーティングして溶剤を乾燥させる方法、または、前記硬化性組成物をコーティングして乾燥および硬化させる方法などにより、光学部品上に樹脂層を形成することもできる。

前記方法で得られた樹脂層や樹脂製基板中の残留溶剤量は可能な限り少ない方がよい。具体的には、前記残留溶剤量は、樹脂層や樹脂製基板１００質量％に対して、好ましくは３質量％以下、より好ましくは１質量％以下、さらに好ましくは０．５質量％以下である。残留溶剤量が前記範囲にあると、変形や特性が変化しにくい、所望の機能を容易に発揮できる樹脂層や樹脂製基板を容易に得ることができる。

［添加剤］
前記基板は、本発明の効果を損なわない範囲において、酸化防止剤、蛍光消光剤、吸収剤（例：赤外線吸収剤、紫外線吸収剤）等の添加剤を含有してもよい。これら添加剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。

前記酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２'−ジオキシ−３，３'−ジ−ｔ−ブチル−５，５'−ジメチルジフェニルメタン、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトが挙げられる。

前記赤外線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、ヘキサフィリン系化合物、アゾ系化合物、ナフトキノン系化合物、オキソノール系化合物、ピロロピロール系化合物、トリアリールメタン系色素、ジイモニウム系化合物、ジチオール錯体系化合物、ジチオレン錯体系化合物、ジピロメテン系化合物、メルカプトフェノール錯体系化合物、メルカプトナフトール錯体系化合物、ポリメチン系化合物が挙げられる。

赤外線吸収剤としては特に限定されないが、特許第３３６６６９７号公報、特許第２８４６０９１号公報、特許第２８６４４７５号公報、特許第３７０３８６９号公報、特開昭６０−２２８４４８号公報、特開平１−１４６８４６号公報、特開平１−２２８９６０号公報、特許第４０８１１４９号公報、特開昭６３−１２４０５４号公報、「フタロシアニン−化学と機能−」（アイピーシー、１９９７年）、特開２００７−１６９３１５号公報、特開２００９−１０８２６７号公報、特開２０１０−２４１８７３号公報、特許第３６９９４６４号公報、特許第４７４０６３１号公報、国際公開第２０１３／０５４８６４号、国際公開第２０１５／０２５７７９号、国際公開第２０１７／０５１８６７号等に記載されている色素等が挙げられる。

前記赤外線吸収剤は、好ましくは６７０〜９５０ｎｍ、より好ましくは６８０〜９００ｎｍ、さらに好ましくは６８５〜８００ｎｍ、特に好ましくは６８５〜７８０ｎｍの範囲に吸収極大波長を有することが望ましい。
前記範囲に吸収極大波長を有する赤外線吸収剤を含有する樹脂層や樹脂製基板を用いることで、赤色付近の色の入射角依存性が改良され、視感度補正により優れる光学フィルターを容易に得ることができる。
前記赤外線吸収剤の吸収極大波長は、赤外線吸収剤をジクロロメタン中に溶解させた溶液を用いて測定することができる。

前記紫外線吸収剤としては、例えば、アゾメチン系化合物、インドール系化合物、トリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、オキサゾール系化合物、メロシアニン系化合物、シアニン系化合物、ナフタルイミド系化合物、オキサジアゾール系化合物、オキサジン系化合物、オキサゾリジン系化合物、ナフタル酸系化合物、スチリル系化合物、アントラセン系化合物、環状カルボニル系化合物が挙げられる。

前記紫外線吸収剤は、好ましくは３５０〜４１０ｎｍ、より好ましくは３５０〜４０５ｎｍ、さらに好ましくは３６０〜４００ｎｍの範囲に吸収極大波長を有することが望ましい。前記範囲に吸収極大波長を有することで、要件（Ｃ）および（Ｏ）を満たす光学フィルターを容易に得ることができる。
前記吸収極大波長は、紫外線吸収剤をジクロロメタン中に溶解させた溶液を用いて測定することができる。

前記添加剤は、前記樹脂層（樹脂製基板）を製造する際に、樹脂などとともに混合してもよいし、樹脂を合成する際に添加してもよい。
前記添加剤の添加量は、所望の特性に応じて適宜選択すればよいが、所望の特性を有する光学フィルターを容易に得ることができる等の点から、前記樹脂１００質量部に対して、通常０．０１〜５．０質量部、好ましくは０．０５〜３．５質量部である。

〈吸収層〉
前記基板は、光を吸収する層（吸収層）を有することが好ましく、前記吸収剤を含有する吸収層を有することがより好ましい。該吸収層は、基板に１層含まれていてもよく、２層以上含まれていてもよい。２層以上含まれる場合、該吸収層は連続していてもよく、他の層を介していてもよく、前記支持体の一方の面側のみに存在していてもよく、前記支持体の両面に存在していてもよい。樹脂製基板が吸収層であってもよい。

基板が前記赤外線吸収剤を含有する場合、吸収極大波長が異なる二種以上の赤外線吸収剤を用いることが好ましい。これにより赤色付近の色の入射角依存性がより改良され、視感度補正により優れる光学フィルターを容易に得ることができる。可視光での高透過率を維持し、吸収作用によって優れた視感度補正効果を奏する吸収帯域を有する光学フィルターを容易に得ることができる等の点から、６８５〜７８０ｎｍに吸収極大波長λ（ＤＡ＿Ｔｍｉｎ）を有する赤外線吸収剤を少なくとも１種含むことがより好ましく、６８５〜７１０ｎｍに吸収極大波長λを有する第１の赤外線吸収剤（ＤＡ）と、波長７１０〜７８０ｎｍに吸収極大波長λを有する第２の赤外線吸収剤（ＤＢ）とを含むことがより好ましい。これにより、可視光での高い透過率を維持しつつ、視感度補正に優れる光学フィルターを容易に得ることができる。

従って、前記と同様の理由から、前記基板は、波長３００〜１６００ｎｍの領域において、下記要件（Ｙ）を満たすことが好ましい。
（Ｙ）波長６８５〜７８０ｎｍに吸収極大波長λ（ＤＡ＿Ｔｍｉｎ）を有する
前記吸収極大波長λ（ＤＡ＿Ｔｍｉｎ）は、より好ましくは６８５〜７１０ｎｍおよび７１０〜７８０ｎｍにあることが望ましい。
なお、前記基板の吸収極大波長λは、基板の面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率曲線における吸収ピークの波長のことをいう。
吸収極大波長λ（ＤＡ＿Ｔｍｉｎ）が前記範囲にある基板を用いることで、下記要件（Ｚ）を満たすことが容易となる。

前記基板は、波長３００〜１６００ｎｍの領域において、下記要件（Ｚ）を満たすことが好ましい。
（Ｚ）波長６８０〜８００ｎｍに、基板の面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％以下となる阻止帯域の幅を３０ｎｍ以上有する
要件（Ｚ）を満たすことにより、高角度入射時に、誘電体多層膜による近赤外線反射帯域が短波長側にシフトした場合であっても、赤色等の光の透過率の低下をより抑制することができる。そのため、このようなフィルターを固体撮像装置に用いた場合、画像の中央と端で色味が異なる色シェーディングを抑制することができ、良好な画像を得ることができる。
前記阻止帯域の幅は、より好ましくは３５ｎｍ以上、さらに好ましくは４５ｎｍ以上、特に好ましくは５０ｎｍ以上であり、より好ましくは１２１ｎｍ以下である。

＜誘電体多層膜＞
本フィルターは、図１（Ａ）のように、前記基板の一方の面に誘電体多層膜を有してもよく、図１（Ｂ）〜（Ｇ）のように、複数の誘電体多層膜を有してもよい。光学フィルターの反りを抑制できる等の点から、基板の両面に誘電体多層膜を有することが好ましい。基板の両面に誘電体多層膜を有する場合、各面の誘電体多層膜の総物理膜厚の差の絶対値は５．０μｍ未満であることがより好ましい。より好ましくは、４．０μｍ未満であり、いっそう好ましくは３．０μｍ未満、さらに好ましくは２．０μｍ未満、特に好ましくは１．５μｍ未満、最も好ましくは１．０μｍ未満である。
各面の誘電体多層膜の総物理膜厚の差の絶対値が０．１μｍ以上５．０μｍ未満の場合、反りを抑制する点から、一方の面の誘電体多層膜を形成する際の温度と、もう一方の面の誘電体多層膜を形成する際の温度が、１０〜８０℃程度異なるようにすることが好ましい。

誘電体多層膜は特に制限されないが、具体的には、高屈折率材料層、低屈折率材料層および中屈折率材料層のいずれか２層以上（の組み合わせ）を含む多層膜であることが好ましい。

前記高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が２．０以上の材料が挙げられ、通常、屈折率が２．０〜３．６である材料が選択される。なお、本発明において、屈折率は、波長５５０ｎｍの光における値を表す。

前記高屈折率材料層を構成する材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、チタン酸バリウム、ケイ素等を主成分とし、水素、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化錫および／または酸化セリウム等を少量（例えば、主成分に対して０〜１０質量％）含有させたもの；前記樹脂などの樹脂に前記酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、チタン酸バリウムおよび／またはケイ素等を分散させたものが挙げられる。

低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６未満の材料が挙げられ、通常、屈折率が１．２〜１．６未満である材料が選択される。このような材料としては、例えば、シリカ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、六フッ化アルミニウムナトリウム；前記樹脂等の樹脂；シリカ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび／または六フッ化アルミニウムナトリウムを前記樹脂に分散させたものが挙げられる。

中屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以上２．０未満の材料が挙げられる。このような材料としては、例えば、酸化アルミニウム、酸化ビスマス、酸化ユーロピウム、酸化イットリウム、酸化イッテルビウム、酸化サマリウム、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化モリブデン；これらの材料と前記高屈折率材料層を構成する材料および／または前記低屈折率材料層を構成する材料とを混合したもの；前記高屈折率材料層を構成する材料と前記低屈折率材料層を構成する材料とを混合したもの；これらの材料を前記樹脂等の樹脂に分散させたものを混合したものが挙げられる。

前記誘電体多層膜は、１〜１００ｎｍ程度の厚みの金属層および／または半導体層を有してもよい。これらの層を構成する材料としては、屈折率が０．１〜５．０の材料等が挙げられる。このような材料としては、金、銀、銅、亜鉛、アルミニウム、タングステン、チタン、マグネシウム、ニッケル、シリコン、水素化シリコン、ゲルマニウム等が挙げられる。これら金属層および半導体層は、可視光帯域の波長の消衰係数が高い傾向にあるため、これらの層を設ける場合には、厚みが１〜２０ｎｍ程度の薄い層であることが好ましい。

誘電体多層膜を形成する方法については、これらの材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はない。例えば、基板上に、直接、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法またはイオンプレーティング法等により、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜、または、高屈折率材料層と中屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成することができる。樹脂を含む層を積層する場合、前述の基板の成形方法と同様に溶融成形またはキャスト成形などにより、好ましくはスピンコート、ディップコート、スリットコート、グラビアコートなどにより形成することができる。

これらの中でも、基板との密着性、湿度による誘電体多層膜の光学特性の変化が少ない等の点から、スパッタ法、イオンアシスト蒸着法、イオンプレーティング法が好ましく、成膜レートの速さ、異物の少なさからイオンアシスト蒸着法がより好ましい。

例えば、イオンアシスト蒸着を行うことができる装置としては、ビューラーライボルトオプティクス社製ＳＹＲＵＳｐｒｏシリーズ、（株）オプトラン製ＯＴＦＣシリーズ、（株）シンクロン製ＭＩＣシリーズ、ＥＰＤシリーズ、新明和工業（株）製ＶＣＤシリーズ、（株）昭和真空製Ｓａｐｉｏシリーズなどが挙げられる。

イオンアシスト蒸着では、蒸着の成膜レートを水晶振動子により制御し、誘電体多層膜の各層の光学膜厚を、反射強度から見積もる光学モニターにより制御することが好ましい。物理膜厚６０ｎｍ以下の層を形成する場合、水晶振動子の成膜レートの積算値により膜厚を制御することが好ましい。水晶振動子の成膜レートの積算値により膜厚を制御することにより、光学モニターによる光学膜厚制御のズレを低減することができる。

本フィルターは、９０℃以上の温度で形成された誘電体多層膜を少なくとも１つ有することが好ましい。９０℃以上の温度で形成された誘電体多層膜を有することで、得られた光学フィルターを９０℃に加熱した際における膜剥がれや誘電体多層膜の割れ、クラックの発生が少なくなる。光学フィルターの耐熱温度向上等の点から、誘電体多層膜の形成温度は、より好ましくは１２０℃以上である。

前記誘電体多層膜を蒸着によって形成する場合、該蒸着は、真空下で開始することが好ましく、蒸着開始時の真空度（以下「開始圧」ともいう。）は、好ましくは０．０１Ｐａ以下、より好ましくは０．００５Ｐａ以下、さらに好ましくは０．００１Ｐａ以下である。開始圧をより高真空とすることで、得られる誘電体多層膜中の含水率を下げることが可能となり、得られる光学フィルターが湿度に応じて光学特性が変化する現象を低減することができる。
誘電体多層膜をイオンアシスト蒸着によって形成する場合、該多層膜形成中の真空度は０．０５Ｐａ以下であることが好ましい。０．０５Ｐａ以下とすることで、得られる誘電体多層膜の平滑性がよく、ヘイズの低い光学フィルターを得ることができる。

また、イオンアシスト蒸着におけるイオン供給装置であるイオンガンに導入するガスは、酸素ガスまたは酸素ガスと希ガスとの混合ガスであることが好ましい。酸素ガスまたは酸素ガスと希ガスとの混合ガスを用いることで、可視光領域である波長４４０〜５８０ｎｍの光の吸収が少なく、平滑性に優れ、結晶の少ない誘電体多層膜を得ることができる。

前記誘電体多層膜の構成を適切に設定することで、具体的には、高屈折率材料層および中屈折率材料層、低屈折率材料層等を構成する材料種、高屈折率材料層および中屈折率材料層、低屈折率材料層等の各層の厚み、積層の順番、ならびに積層数を適切に選択することで、前記要件を満たす光学フィルターを得ることができる。

［反射帯域］
誘電体多層膜は、光学干渉により、その透過率曲線において反射帯域を有することが好ましい。積層する各層の膜厚を適切に設定することで、該反射帯域を有する誘電体多層膜を得ることができる。ここで反射帯域とは、誘電体多層膜面から５°の角度から入射した光の反射率が９０％以上となる波長帯域のことをいう。高角度入射時の波長１１００ｎｍの光の透過率を十分に下げるために、本フィルターに用いる誘電体多層膜の少なくとも一つは、その反射帯域に、１２００〜１２５０ｎｍの帯域を含むことが好ましく、１２００〜１２７０ｎｍの帯域を含むことがより好ましく、１２００〜１２９０ｎｍの帯域を含むことがさらに好ましく、１２００〜１３１０ｎｍの帯域を含むことが特に好ましい。

誘電体多層膜は、波長７００〜１６００ｎｍに、１００ｎｍ以上連続した反射帯域を有することが好ましい。この反射帯域の幅（波長範囲）を反射帯域幅という。
本フィルターに用いる誘電体多層膜の少なくとも一つは、反射帯域幅が３８５ｎｍ以上であることが好ましく、４２０ｎｍ以上であることがより好ましく、４５０ｎｍ以上であることが特に好ましく、５００ｎｍ以上であることが最も好ましい。反射帯域幅が前記範囲にあると、要件（Ｅ）を満たす光学フィルターを容易に得ることができる。
また、本フィルターは、２つの誘電体多層膜を有し、その一方の誘電体多層膜の反射帯域幅が３８５ｎｍ以上であり、他方の誘電体多層膜の反射帯域幅が、好ましくは２１５ｎｍ以上、より好ましくは２５０ｎｍ以上、特に好ましくは２８０ｎｍ以上、最も好ましくは３２０ｎｍ以上であることが望ましい。
前記反射帯域幅を有する誘電体多層膜を含む光学フィルターは、波長７００〜１６００ｎｍの範囲における広範囲の帯域を遮蔽することができ、高角度入射時に透過特性が短波長側にシフトした場合においても、波長１１００ｎｍの光の遮蔽性能を保つことができる。

本フィルターは、特に本フィルターに用いる誘電体多層膜の少なくとも一つは、下記要件（イ）〜（ハ）を満たすことが好ましい。
（イ）基板と隣接する３層以外および最外層以外に、物理膜厚が６０ｎｍ以下である層が少なくとも２層連続した連続層ａを有する
（ロ）前記連続層ａに隣接して、物理膜厚が６０ｎｍより厚い層ｂを有する
（ハ）前記層ｂの連続層ａとは反対側に隣接して、物理膜厚が６０ｎｍ以下である層が少なくとも２層連続して連続層ｃを有する

また、本フィルターは、特に本フィルターに用いる誘電体多層膜の少なくとも一つは、下記要件（ニ）を満たすことが好ましい。
（ニ）波長５５０ｎｍの光の屈折率が２．０以上であり、かつ、波長５５０ｎｍにおける光学膜厚が１６０〜３２０ｎｍである高屈折率層と、光学膜厚が１６０〜３２０ｎｍであり、前記高屈折率層より低屈折率である層とを交互に連続して４層以上有する

要件（イ）〜（ハ）を満たす誘電体多層膜および要件（ニ）を満たす誘電体多層膜を用いることにより、近赤外線帯域に反射帯域を有し、近赤外線反射帯域の波長の約１／３の波長の透過率の低下を抑制することができ、高い青色透過率と、高角度入射時の低い近赤外線透過率を満たす光学フィルターを容易に得ることができる。また、要件（イ）〜（ハ）を満たす誘電体多層膜および要件（ニ）を満たす誘電体多層膜を用いることにより、要件（Ｃ）および（Ｇ）を満たす光学フィルターを容易に得ることができる。
なお、要件（イ）〜（ハ）を満たす誘電体多層膜および要件（ニ）を満たす誘電体多層膜は、要件（イ）〜（ニ）を満たす１つの誘電体多層膜であってもよく、要件（イ）〜（ハ）を満たす誘電体多層膜と要件（ニ）を満たす誘電体多層膜とは異なる誘電体多層膜であってもよい。

本フィルターに用いる誘電体多層膜の少なくとも一つは、要件（イ）〜（ハ）を満たす５層の組み合わせからなる層を層群とした時、該層群を２つ以上有することが好ましく、３つ以上有することがより好ましく、４つ以上有することが特に好ましい。なおここで、特定の層が帰属する層群は一つのみである。複数の層群が隣接した場合において、各層はいずれかの層群一つに帰属する。該層群の数の上限は特に制限されないが、数が増加するにつれ、積層する層数が増えることにより製造コストが増加し、誘電体多層膜の応力により反りやすくなり、界面数の増加によりヘイズが増加する傾向にある等の点から、好ましくは６つ以下、より好ましくは５つ以下である。

要件（イ）および（ハ）における、物理膜厚が６０ｎｍ以下である少なくとも２層が連続した層（連続層ａ、ｃ）は、好ましくは誘電体多層膜中に合わせて３個以上、より好ましくは５個以上、特に好ましくは７個以上有することが望ましい。なお、ここでは、連続層を構成する層を１つとしてカウントするのではなく、連続層自体を１つとしてカウントする。物理膜厚が６０ｎｍ以下である少なくとも２層連続した層（連続層ａ、ｃ）を多く有するほど高い青色透過率と、高角度入射時の低い近赤外線透過率との両立が容易となる。
連続層ａおよびｃは、それぞれ、物理膜厚が６０ｎｍ以下である層が２層連続した連続層であることが好ましい。

基板に隣接する３層における物理膜厚６０ｎｍ以下の層は、基板の複素屈折率と誘電体多層膜の複素屈折率とを整合し、可視光域での、局所的な透過率の低下（以下「リップル」ともいう。）の発生を抑制する目的で設けられる傾向にある。
誘電体多層膜の最外層に設ける物理膜厚６０ｎｍ以下の層は、例えば空気などの入射媒体や出射媒体の屈折率と誘電体多層膜との複素屈折率を整合し、可視光域のリップルの発生を抑制する目的で設けられる傾向にある。

連続層ａと連続層ｃとの間に存在する層ｂは、１層であることが好ましい。

要件（ニ）における交互に連続する層数（高屈折率層とそれより低屈折率の層との合計層数）は、より好ましくは８層以上、さらに好ましくは１０層以上、特に好ましくは１４層以上、最も好ましくは１８層以上である。
誘電体多層膜が有する屈折率２．０以上の高屈折率層と該高屈折率層より低屈折率である層の交互積層数が増えるにつれ、近赤外線帯域の反射特性が上がる傾向にある。このため、このような誘電体多層膜を有する光学フィルターを固体撮像装置やセンサー、モジュールに用いた場合には、近赤外線センサーなどの人間の目に見えない近赤外線を多く発する光源を撮像した際においても、人間の目で見える画像に近い良好な画像を得ることができる。

反射帯域が７２０〜１２５０ｎｍの範囲にあるフィルター（ＩＩ）を作成する場合、フィルター（ＩＩ）に用いる誘電体多層膜の少なくとも一つは、該反射帯域である波長７２０〜１２５０ｎｍの１／２の光学膜厚、つまり、光学膜厚が３６０〜６２５ｎｍの範囲にある層を有していてもよい。このような光学膜厚を有する層をキャビティーと呼び、該キャビティーを有する誘電体多層膜は、その反射帯域中に透過帯域を形成することが可能となる。波長７２０〜１２５０ｎｍの範囲の近赤外線反射帯域中に透過帯域を有する光学フィルターでは、その反射帯域の１／２の光学膜厚、つまり、光学膜厚が３６０〜６２５ｎｍの範囲にある層を有することが好ましい。光学膜厚が３６０〜６２５ｎｍの範囲にある層を有することにより、要件（Ｆ）を満たす光学フィルターを容易に得ることができる。このため、反射帯域中の高い透過率と、この透過帯域周辺の低い透過率とを両立することが可能となる。キャビティーは複数有してもよい。キャビティーを２つ有する誘電体多層膜はダブルキャビティー型、キャビティーを３つ有する誘電体多層膜はトリプルキャビティー型と呼ばれ、キャビティーが１つであるシングルキャビティー型と比べ透過帯域を広く確保することが可能となる。

＜その他の機能膜＞
本フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、基板と誘電体多層膜との間、基板の誘電体多層膜が設けられた面と反対側の面、または誘電体多層膜の基板が設けられた面と反対側の面に、基板と誘電体多層膜との密着性の向上、基板や誘電体多層膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止、傷消しなどの目的で、密着層（接着層）、反射防止層、ハードコート膜、帯電防止膜などの機能膜を適宜有していてもよい。
本フィルターは、前記機能膜を１層含んでもよく、２層以上含んでもよい。本フィルターが前記機能膜を２層以上含む場合には、同様の層を２層以上含んでもよいし、異なる層を２層以上含んでもよい。

機能膜を積層する方法としては特に制限されないが、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤などを基板や誘電体多層膜に、前記と同様に溶融成形またはキャスト成形する方法等が挙げられる。
また、前記コーティング剤などを含む硬化性組成物を、バーコーター等の公知の方法で基板や誘電体多層膜上に塗布した後、紫外線照射等により硬化することによっても製造することができる。

前記コーティング剤としては、紫外線（ＵＶ）／電子線（ＥＢ）硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などが挙げられ、具体的には、ビニル化合物類や、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系樹脂などが挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。これらのコーティング剤を含む前記硬化性組成物としては、ビニル系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系硬化性組成物などが挙げられる。

前記硬化性組成物は重合開始剤を含んでいてもよい。該重合開始剤としては、公知の光重合開始剤や熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。
重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。

前記硬化性組成物中、重合開始剤の配合割合は、硬化性組成物の全量を１００質量％とした場合、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．５〜１０質量％、特に好ましくは１〜５質量％である。重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化性組成物の硬化特性および取り扱い性に優れ、所望の硬度を有する反射防止層、ハードコート膜、帯電防止膜などの機能膜を容易に得ることができる。

前記硬化性組成物は有機溶剤を含有していてもよく、有機溶剤としては、公知の溶剤を使用することができる。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類が挙げられる。
これら溶剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。

前記機能膜の厚みは、好ましくは０．１〜３０μｍ、より好ましくは０．１〜２０μｍ、特に好ましくは０．１〜５μｍである。

基板と機能膜および／または誘電体多層膜との密着性や、機能膜と誘電体多層膜との密着性を上げる目的で、基板、機能膜または誘電体多層膜の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。

［遮光層］
また、本フィルターは、図１（Ｆ）や（Ｇ）のように、光学フィルターの最表層または層中の一部に遮光層を有してもよい。遮光層は光を遮る（カットする）層であり、該遮光層を有することで、光学フィルターを具備する固体撮像装置やカメラモジュールにおいて、フレームやレンズで反射した光がセンサーに入射することを抑制でき、ゴーストが抑制された画像を容易に得ることができるため好ましい。

遮光層を形成する材料としては、熱硬化樹脂、紫外線硬化樹脂、熱可塑性樹脂などの樹脂材料、クロム、モリブデン、タングステン、鉄、ニッケル、チタン、低級酸化クロムなどの金属材料、黒鉛やカーボンナノチューブ、フラーレン等の炭素材料、顔料からなる吸収材料などが挙げられる。これらの材料は、それぞれ１種単独で、または２種以上を用いてもよく、これらの材料のうち２種以上を用いてもよい。これらの中でも、形状制御の容易性等の点から紫外線硬化樹脂を含むことが好ましい。

遮光層の厚みは、好ましくは０．１〜１０μｍである。
遮光層の厚みが０．１μｍ未満の場合、十分なＯｐｔｉｃａｌ Ｄｅｎｓｉｔｙ（以下「ＯＤ値」ともいう。）を得ることが困難となる傾向にあり、１０μｍを超える場合、遮光層端面における回折や反射の影響が大きくなる傾向にある。好ましくは厚み０．５〜４．０μｍである。

光学フィルターに設ける遮光層は１箇所でも複数箇所でもよい。ここで、遮光層の数について、連続している層は一つの遮光層とみなし、遮光層を複数有するとは、非連続の遮光層を複数有することを意味する。

遮光層は、Ｄ６５光源（国際照明委員会（ＣＩＥ）により定義された標準光源）における全光線透過率において、ＯＤ値が、好ましくは３．０以上、より好ましくは４．０以上となる層であることが望ましい。
ＯＤ値が前記範囲にあると、迷光を十分に遮光することができる。

遮光層の形成方法としては特に制限されず、塗布方法、スパッタリング法、真空蒸着法等が挙げられる。
該塗布方法としては、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、キャスト法、スプレーコート法、ビードコート法、ワイヤーバーコート法、ブレードコート法、ローラーコート法、カーテンコート法、スリットダイコート法、グラビアコート法、スリットリバースコート法、マイクログラビア法、コンマコート法等が挙げられる。これらの方法における塗布は、複数回に分けて実施してもよい。

前記遮光層は、複数の遮光層と協同し、フレネルゾーンプレートやモザイクマスクを形成してもよい。フレネルゾーンプレートを形成した光学フィルターは、レンズの代替とすることができ、得られる固体撮像装置やカメラモジュール、センサーモジュール等をより薄型にすることができ好ましい。モザイクマスクを形成した光学フィルターは、レンズを不要とすることができ、得られる画像を計算処理することで、焦点距離を変えることができる画像データが得られることから好ましい。

＜光学フィルターの用途＞
本フィルターは、薄く、優れた視感度補正特性を有し、かつ入射光が高角度になっても、近赤外線帯域のカット特性に優れる。従って、高角度入射に対応した固体撮像装置、カメラモジュール、センサー等の固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、スマートフォン用カメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＣカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビ、携帯情報端末、パソコン、ビデオゲーム機、携帯ゲーム機、指紋認証システム、環境光センサー、距離測定センサー、虹彩認証システム、顔認証システム、距離測定カメラ、デジタルミュージックプレーヤー等に有用である。

本フィルターを固体撮像装置やモジュールに用いる場合の各部材の配置の一例を図４に示す。この図４では、本フィルター１は、レンズ３２、撮像素子（イメージセンサー）２４と共に構成される。光学フィルター１は図４（Ａ）のようにレンズの前方に位置しても、図４（Ｂ）のようにレンズの後方に位置してもよい。また、本フィルターは、図５（Ａ）のようにフレネルゾーンプレートやフレネルレンズ、メタレンズなどのレンズとしての役割を有する光学素子３３を用いたレンズレス固体撮像装置に用いてもよい。

前記カメラモジュールとしては、例えば、本フィルターを具備し、イメージセンサーや焦点調整機構、位相検出機構、距離測定機構、虹彩認証機構、静脈認証機構、顔認証機構、血流量計、酸化型または還元型ヘモグロビン量計、植生指数計等を備え、画像や情報を電気信号として出力する装置が挙げられる。このようなカメラモジュールとしては、図４のようにレンズを有する構成でもよいし、図５のようにレンズを有さない構成でもよい。

前記固体撮像素子を構成する部材としては、シリコン、ブラックシリコン、有機光電変換膜などの特定の波長の光を電荷に変換する光電変換素子が使用される。本フィルターは、ブラックシリコンや有機光電変換膜などの暗電流の抑制が難しい固体撮像素子を用いる用途に好適に用いられる。

［ブラックシリコン］
本フィルターを用いた固体撮像装置の受光部にはブラックシリコンを用いてもよい。ブラックシリコンは、例えば、シリコンウエハに、特定の雰囲気下でレーザー照射することにより、シリコン表面に微小スパイクを形成することで得ることができる。ブラックシリコンを用いた場合、シリコンフォトダイオードを用いた場合に比べ、近赤外線帯域の受光感度が高くなる等のため、ブラックシリコンは、近赤外線を用いた撮像素子により好適に用いられる。ブラックシリコンを用いたＣＭＯＳの市販品としては、ＳｉＯｎｙｘ社ＸＱＥシリーズ等が挙げられる。

以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されない。なお、「部」は、特に断りのない限り「質量部」を意味する。また、各物性値の測定方法および物性の評価方法は以下のとおりである。

＜分子量＞
東ソー（株）製ＧＰＣ装置（ＨＬＣ−８２２０型、カラム：ＴＳＫｇｅｌα−Ｍ、展開溶剤：ＴＨＦ）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。

＜ガラス転移温度（Ｔｇ）＞
エスアイアイ・ナノテクノロジーズ（株）製の示差走査熱量計（ＤＳＣ６２００）を用いて、昇温速度：毎分２０℃、窒素気流下で測定した。

＜分光透過率＞
光学フィルターの各波長域における透過率は、（株）日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計（Ｕ−４１００）を用いて測定した。
ここで、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率は、図２（Ａ）のように、光学フィルター１の面方向に対して垂直方向から、ハロゲンランプ（（株）日立ハイテクフィールディング製、１２Ｖ５０Ｗ、ＰａｒｔＮｏ．８８５−１２００）を光源とする光６を入射し、垂直方向に透過した光６を分光光度計７で測定し、光学フィルターの面の垂直方向に対して４５°の角度から入射した無偏光光線の透過率は、図２（Ｂ）のように、光学フィルター１の面の垂直方向に対して４５°の角度から、ハロゲンランプ（（株）日立ハイテクフィールディング製、１２Ｖ５０Ｗ、ＰａｒｔＮｏ．８８５−１２００）を光源とする光（Ｓ偏光光線およびＰ偏光光線）６’を入射し、該垂直方向に対して４５°の角度で透過した光６’を分光光度計７で測定した。
なお、波長Ａ〜Ｂｎｍの平均透過率は、Ａｎｍ以上Ｂｎｍ以下の、１ｎｍ刻みの各波長における透過率を測定し、その透過率の合計を、測定した透過率の数（波長範囲、Ｂ−Ａ＋１）で除した値により算出した。
無偏光光線の透過率は、Ｓ偏光透過率とＰ偏光透過率の平均より算出した値を用いた。
０°Ｔは０°入射時の透過率、４５°Ｔは４５°入射時の透過率を表す。

＜分光反射率＞
光学フィルターの各波長域における反射率は、（株）日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計（Ｕ−４１００）を用いて測定した。
ここで、光学フィルターの面の垂直方向に対して５°の角度で入射する無偏光光線の反射率は、図３のように光学フィルター１の面の垂直方向に対して５°の角度で入射する、ハロゲンランプ（（株）日立ハイテクフィールディング製、１２Ｖ５０Ｗ、ＰａｒｔＮｏ．８８５−１２００）を光源とする無偏光光線が反射した光１１を分光光度計７で測定した。
なお、波長Ａ〜Ｂｎｍの平均反射率は、Ａｎｍ以上Ｂｎｍ以下の、１ｎｍ刻みの各波長における反射率を測定し、その反射率の合計を、測定した反射率の数（波長範囲、Ｂ−Ａ＋１）で除した値により算出した。
無偏光光線の反射率は、Ｓ偏光反射率とＰ偏光反射率の平均より算出した値を用いた。
５°Ｒは５°入射時の反射率を表す。

下記実施例で用いた赤外線吸収剤は、一般的に知られている方法で合成した。当該合成方法としては、例えば、特開昭６０−２２８４４８号公報、特開平１−１４６８４６号公報、特開平１−２２８９６０号公報、特許第４０８１１４９号公報、特開昭６３−１２４０５４号公報、「フタロシアニン−化学と機能−」（アイピーシー、１９９７年）、特開２００７−１６９３１５号公報、特開２００９−１０８２６７号公報、特開２０１０−２４１８７３号公報、特許第３６９９４６４号公報、特許第４７４０６３１号公報に記載されている方法を挙げることができる。

＜樹脂合成例１＞
下記式（８）で表される８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10］ドデカ−３−エン１００部、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８部およびトルエン（開環重合反応用溶媒）３００部を、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（濃度０．６ｍｏｌ／リットル）０．２部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５ｍｏｌ／リットル）０．９部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱撹拌することにより開環重合反応させて、開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。

このようにして得られた開環重合体溶液１，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ₆Ｈ₅）₃］₃を０．１２部添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ²、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下「樹脂Ａ」ともいう。）を得た。得られた樹脂Ａは、Ｍｎが３２，０００、Ｍｗが１３７，０００であり、Ｔｇが１６５℃であった。

［実施例１］
ホウケイ酸塩系ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３、厚み０．１ｍｍ）の両面に、イオンアシスト真空蒸着装置を用い、開始圧０．０００１Ｐａ、蒸着温度１２０℃、イオンガンへの供給ガスとして酸素とアルゴンとの混合ガスを用いて、６０ｎｍ以下の物理膜厚の層は水晶振動子の積算膜厚で制御し、表３の設計１のように誘電体多層膜［シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの光の屈折率１．４６）層と酸化チタン（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの光の屈折率２．４９）層とが交互に積層されてなるもの］を形成し、厚み０．１１ｍｍの光学フィルター１を得た。
得られた光学フィルター１の光学特性を図６および表８に示す。

［実施例２］
ホウケイ酸塩系ガラス支持体（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３、厚み０．１ｍｍ）に、下記硬化性組成物溶液（１）をスピンコーターで塗布し、ホットプレート上８０℃で２分間加熱して溶剤を揮発除去し、硬化層を形成した。この際、該硬化層の膜厚が０．８μｍ程度となるようにスピンコーターの塗布条件を調整した。次に、該硬化層上に、バーコーター（（株）安田精機製作所製、オートマチックフィルムアプリケーター、型番５４２−ＡＢ）を用いて、下記樹脂組成物（１）を塗布し、ホットプレート上８０℃で５分間加熱し、溶剤を揮発除去して樹脂層を形成した。この際、該樹脂層の膜厚が、１０μｍ程度となるようにバーコーターの塗布条件を調整した。次いで、ガラス面側からＵＶコンベア式露光機（アイグラフィックス（株）製、アイ紫外硬化用装置、型式ＵＳ２−Ｘ０４０５、６０Ｈｚ）を用いて露光(露光量：５００ｍＪ／ｃｍ²、照度：２００ｍＷ)し、その後オーブン中２１０℃で５分間焼成し、赤外線吸収剤を含有する樹脂製の吸収層を有する厚み０．１１１ｍｍの基板を形成した。

硬化性組成物溶液（１）：イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート（商品名：アロニックスＭ−３１５、東亜合成化学（株）製）３０部、１，９−ノナンジオールジアクリレート２０部、メタクリル酸２０部、メタクリル酸グリシジル３０部、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン５部、１−ヒドロキシシクロヘキシルベンゾフェノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカル（株）製）５部およびサンエイドＳＩ−１１０主剤（三新化学工業（株）製）１部を混合し、固形分濃度が５０ｗｔ％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解した後、孔径０．２μｍのミリポアフィルタでろ過した溶液
樹脂組成物（１）：樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、後述の化合物（Ｂ）０．３３８部、化合物（Ｃ）０．９４５部、ジクロロメタン（溶剤、樹脂Ａの濃度が１０質量％となるよう使用）を含む組成物

得られた基板に、実施例１と同様にして、表３の設計２のように誘電体多層膜を形成し、厚み０．１２ｍｍの光学フィルター２を得た。
得られた光学フィルター２の光学特性を図７および表８に示す。

［実施例３］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、後述の化合物（Ａ）０．０４８部およびジクロロメタンを加えて樹脂濃度が８質量％の溶液を調製した。得られた溶液をホウケイ酸塩系ガラス基材（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３、厚み０．１ｍｍ）上にキャストし、６０℃で８時間乾燥し、さらに減圧下１４０℃で４時間乾燥した後、基材から剥離することで、赤外線吸収剤を含有する厚み０．１ｍｍの樹脂製の基板（吸収層）を得た。

得られた基板に、実施例１と同様にして、表３の設計３のように誘電体多層膜を形成し、厚み０．１１ｍｍの光学フィルター３を得た。
得られた光学フィルター３の光学特性を図８および表８に示す。

［実施例４］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、後述の化合物（Ｂ）０．０３３８部、後述の化合物（Ｃ）０．０９４５部およびジクロロメタンを加えて樹脂濃度が２０質量％の溶液を調製した。得られた溶液をホウケイ酸塩系ガラス基材（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３、厚み０．１ｍｍ）上にキャストし、６０℃で８時間乾燥し、さらに減圧下１４０℃で４時間乾燥した後、基材から剥離することで、赤外線吸収剤を含有する厚み０．１ｍｍの樹脂製の基板（吸収層）を得た。

得られた基板に、実施例１と同様にして、表４の設計４のように誘電体多層膜を形成し、厚み０．１１ｍｍの光学フィルター４を得た。
得られた光学フィルター４の光学特性を図９および表８に示す。

［実施例５］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部とジクロロメタンを加えて樹脂濃度が８質量％の溶液（Ａ）を得た。得られた溶液（Ａ）をホウケイ酸塩系ガラス基材（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３、厚み０．１ｍｍ）上にキャストし、６０℃で８時間乾燥し、さらに減圧下１４０℃で４時間乾燥した後、基材から剥離し、厚み０．０９ｍｍの樹脂フィルムを得た。前記樹脂フィルム上にバーコーター（（株）安田精機製作所製、オートマチックフィルムアプリケーター、型番５４２−ＡＢ）を用いて、下記樹脂組成物（３）を塗布し、フィルム外周４方をステンレス製治具で固定したまま、室温で３０分静置後、６０℃で８時間乾燥し、さらに減圧下１４０℃で４時間乾燥することで、赤外線吸収剤および紫外線吸収剤を含有する厚み０．１０ｍｍの樹脂製の基板（吸収層）を得た。この際、乾燥後の厚み増加分が０．０１ｍｍとなるようにバーコーターの塗布条件を調整した。
樹脂組成物（３）：樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、後述の化合物（Ｂ）０．０３４部、後述の化合物（Ｃ）０．０９５部、後述の化合物（Ｅ）０．０４５部およびジクロロメタンを含む樹脂濃度が２０質量％の溶液

得られた基板に、実施例１と同様にして、表４の設計５のように誘電体多層膜を形成し、厚み０．１１ｍｍの光学フィルター５を得た。
得られた光学フィルター５の光学特性を図１０および表８に示す。

［実施例６］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、後述の化合物（Ｂ）０．０６８部、後述の化合物（Ｃ）０．１８９部およびジクロロメタンを加えて樹脂濃度が２０質量％の溶液を調製した。得られた溶液をホウケイ酸塩系ガラス基材（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３、厚み０．１ｍｍ）上にキャストし、６０℃で８時間乾燥し、さらに減圧下１４０℃で４時間乾燥した後、基材から剥離することで、赤外線吸収剤を含有する厚み０．０５ｍｍの樹脂製の支持体（吸収層）を得た。

荒川化学工業（株）製ハードコート剤「ビームセット」を、バーコーター（（株）安田精機製作所製、オートマチックフィルムアプリケーター、型番５４２−ＡＢ）を用い、コーターバーにより乾燥後の膜厚が各０．００１ｍｍとなるように、前記樹脂製の支持体の両面に塗布した。イナートオーブン（ヤマト科学（株）製イナートオーブンＤＮ４１０Ｉ）を用い、８０℃で３分間乾燥した後、ＵＶコンベア（アイグラフィックス（株）製、アイ紫外硬化用装置、型式ＵＳ２−Ｘ０４０５、６０Ｈｚ）を用い、メタルハライドランプ（照度２７０ｍＷ／ｃｍ²、露光量５００ｍＪ／ｃｍ²）で硬化させ、透明な硬化層が形成された基板を得た。

得られた基板に、イオンアシスト真空蒸着装置を用い、面Ｘに対し、開始圧０．０００１Ｐａ、蒸着開始温度１２０℃で、面Ｙに対し、開始圧０．０００１Ｐａ、蒸着開始温度９０℃で、イオンガンへの供給ガスとして酸素とアルゴンとの混合ガスを用いて、６０ｎｍ以下の物理膜厚の層は水晶振動子の積算膜厚で制御し、表４の設計６のように誘電体多層膜［シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの光の屈折率１．４６）層と酸化チタン（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの光の屈折率２．４９）層とが交互に積層されてなるもの］を形成し、厚み０．０６ｍｍの光学フィルター６を得た。
得られた光学フィルター６の光学特性を図１１および表８に示す。

［実施例７］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、後述の化合物（Ｂ）０．０３４部、後述の化合物（Ｃ）０．０９５部、後述の化合物（Ｅ）０．０４５部およびジクロロメタンを加えて樹脂濃度が２０質量％の溶液を調製した。得られた溶液をホウケイ酸塩系ガラス基材（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３、厚み０．１ｍｍ）上にキャストし、６０℃で８時間乾燥し、さらに減圧下１４０℃で４時間乾燥した後、基材から剥離することで、赤外線吸収剤および紫外線吸収剤を含有する厚み０．１ｍｍの樹脂製の支持体（吸収層）を得た。

荒川化学工業（株）製ハードコート剤「ビームセット」を、バーコーター（（株）安田精機製作所製、オートマチックフィルムアプリケーター、型番５４２−ＡＢ）を用い、コーターバーにより乾燥後の膜厚が各０．００２ｍｍとなるように、前記樹脂製の支持体の両面に塗布した。イナートオーブン（ヤマト科学（株）製イナートオーブンＤＮ４１０Ｉ）を用い、８０℃で３分間乾燥した後、ＵＶコンベア（アイグラフィックス（株）製、アイ紫外硬化用装置、型式ＵＳ２−Ｘ０４０５、６０Ｈｚ）を用い、メタルハライドランプ（照度２７０ｍＷ／ｃｍ²、露光量５００ｍＪ／ｃｍ²）で硬化させ、透明な硬化層が形成された基板を得た。

得られた基板に、実施例６と同様にして、表５の設計７のように誘電体多層膜を形成し、厚み０．１１ｍｍの光学フィルター７を得た。
得られた光学フィルター７の光学特性を図１２および表８に示す。

［実施例８］
実施例２における樹脂組成物（１）を後述の樹脂組成物（４）に変えたこと以外実施例２と同様の手順で、赤外線吸収剤および紫外線吸収剤を含有する樹脂層を有する厚み０．１１１ｍｍの基板を形成した。
樹脂組成物（４）：樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、後述の化合物（Ａ）０．０４部、後述の化合物（Ｂ）０．１８４部、後述の化合物（Ｃ）０．９４５部、後述の化合物（Ｄ）０．２１部、後述の化合物（Ｅ）０．７５部、ジクロロメタン（溶剤、樹脂Ａの濃度が１０質量％となるよう使用）を含む組成物

得られた基板に、実施例６と同様にして、表５の設計８のように誘電体多層膜を形成し、厚み０．１２ｍｍの光学フィルター８を得た。
得られた光学フィルター８の光学特性を図１３および表８に示す。

［実施例９］
近赤外線吸収ガラス支持体（松浪硝子工業（株）製、ＢＳ１１を厚み０．０５ｍｍに研磨したもの）上に、前記硬化性組成物溶液（１）をスピンコートで塗布した後、ホットプレート上８０℃で２分間加熱し溶剤を揮発除去し、硬化層を形成した。この際、該硬化層の膜厚が０．８μｍ程度となるようにスピンコーターの塗布条件を調整した。次に、該硬化層上に、バーコーター（（株）安田精機製作所製、オートマチックフィルムアプリケーター、型番５４２−ＡＢ）を用い、コーターバーにより乾燥後の膜厚が各０．０１ｍｍとなるように下記樹脂組成物（５）を塗布した。次いで、ホットプレート上８０℃で５分間加熱し、溶剤を揮発除去して樹脂層を形成した。その後、ガラス面側からＵＶコンベア式露光機を用いて露光（露光量：５００ｍＪ／ｃｍ²、照度：２００ｍＷ)し、その後オーブン中２１０℃で５分間焼成して赤外線吸収剤および紫外線吸収剤を含有する樹脂製の吸収層を有する近赤外線吸収ガラス支持体からなる厚み０．０６ｍｍの基板を形成した。
樹脂組成物（５）：樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、後述の化合物（Ｂ）０．２５部、後述の化合物（Ｅ）０．７５部、ジクロロメタン（溶剤、樹脂Ａの濃度が２０質量％となるよう使用）を含む組成物

得られた基板に、実施例６と同様にして、表５の設計９のように誘電体多層膜を形成し、厚み０．０７ｍｍの光学フィルター９を得た。
得られた光学フィルター９の光学特性を図１４および表８に示す。

［実施例１０］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、後述の化合物（Ｂ）０．０６８部、後述の化合物（Ｃ）０．１８９部、後述の化合物（Ｅ）０．０９部およびジクロロメタンを加えて樹脂濃度が２０質量％の溶液を調製した。得られた溶液をホウケイ酸塩系ガラス基材（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３、厚み０．１ｍｍ）上にキャストし、６０℃で８時間乾燥し、さらに減圧下１４０℃で４時間乾燥後、基材から剥離することで、赤外線吸収剤および紫外線吸収剤を含有する厚み０．０５ｍｍの樹脂製の基板（吸収層）を得た。

得られた基板に、実施例６と同様にして、表６の設計１０のように誘電体多層膜を形成し、厚み０．０６ｍｍの光学フィルター１０を得た。
得られた光学フィルター１０の光学特性を図１５および表８に示す。

［実施例１１］
実施例２における樹脂組成物（１）を後述の樹脂組成物（６）に変えたこと以外実施例２と同様の手順で、赤外線吸収剤および紫外線吸収剤を含有する樹脂層を有する厚み０．１１１ｍｍの基板を形成した。
樹脂組成物（６）：樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、後述の化合物（Ｂ）０．３３８部、後述の化合物（Ｃ）０．９４５部、後述の化合物（Ｅ）０．４５部、ジクロロメタン（溶剤、樹脂Ａの濃度が１０質量％となるよう使用）を含む組成物

得られた基板に、イオンアシスト真空蒸着装置を用い、面Ｘに対し、開始圧０．０００１Ｐａ、蒸着開始温度１２０℃で、イオンガンへの供給ガスとして酸素とアルゴンとの混合ガスを用いて、６０ｎｍ以下の物理膜厚の層は水晶振動子の積算膜厚で制御し、表６の設計１１のように誘電体多層膜［シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの光の屈折率１．４６）層と酸化チタン（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの光の屈折率２．４９）層とが交互に積層されてなるもの］を形成し、面Ｙに対し、開始圧０．０００１Ｐａ、蒸着開始温度７０℃で、イオンガンへの供給ガスとして酸素とアルゴンとの混合ガスを用いて、６０ｎｍ以下の物理膜厚の層は水晶振動子の積算膜厚で制御し、表６の設計１１のように誘電体多層膜［シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの光の屈折率１．４６）層と酸化チタン（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの光の屈折率２．４９）層と酸化タンタル（Ｔａ₂Ｏ₅：５５０ｎｍの光の屈折率２．１４）層とが交互に積層されてなるもの］を形成し、厚み０．１２ｍｍの光学フィルターを得た。

得られた光学フィルターの一方の面の上に、遮光性紫外線硬化型樹脂（東京応化工業（株）製ＣＦＰＲ−ＢＫ−４１６）をスピンコート法により、厚みが３μｍとなるように塗布し、９０℃で５分間加熱した後、その表面にフォトマスクを介して高圧水銀ランプにより露光量２００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し硬化させた。その後、アルカリ現像液（東京応化工業（株）製「Ｎ−Ａ３Ｋ」）で未露光部分を除去することで、光学フィルターの一方の面の外周に幅５００μｍまたは２ｍｍの２種の遮光層を有する光学フィルター１１を得た。
得られた光学フィルター１１の遮光層を形成していない部分の光学特性を図１６および表８に示す。

［実施例１２］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、後述の化合物（Ａ）０．００４部、後述の化合物（Ｂ）０．０１８部、後述の化合物（Ｃ）０．０９５部、後述の化合物（Ｄ）０．０２１部、後述の化合物（Ｅ）０．０７５部およびジクロロメタンを加えて樹脂濃度が２０質量％の溶液を調製した。得られた溶液をホウケイ酸塩系ガラス基材（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３、厚み０．１ｍｍ）上にキャストし、６０℃で８時間乾燥し、さらに減圧下１４０℃で４時間乾燥した後、基材から剥離することで、赤外線吸収剤および紫外線吸収剤を含有する厚み０．１１ｍｍの樹脂製の基板（吸収層）を得た。

得られた基板に、イオンアシスト真空蒸着装置を用い、面Ｘに対し、開始圧０．０００１Ｐａ、蒸着開始温度１２０℃で、イオンガンへの供給ガスとして酸素とアルゴンとの混合ガスを用いて、６０ｎｍ以下の物理膜厚の層は水晶振動子の積算膜厚で制御し、表６の設計１２のように誘電体多層膜［シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの光の屈折率１．４６）層と酸化チタン（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの光の屈折率２．４９）層とが交互に積層されてなるもの］を形成し、面Ｙに対し、開始圧０．０００１Ｐａ、蒸着開始温度７０℃で、イオンガンへの供給ガスとして酸素とアルゴンとの混合ガスを用いて、６０ｎｍ以下の物理膜厚の層は水晶振動子の積算膜厚で制御し、表６の設計１２のように誘電体多層膜［シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの光の屈折率１．４６）層と酸化チタン（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの光の屈折率２．４９）層と酸化タンタル（Ｔａ₂Ｏ₅：５５０ｎｍの光の屈折率２．１４）層とが交互に積層されてなるもの］を形成し、厚み０．１２ｍｍの光学フィルター１２を得た。
得られた光学フィルター１２の光学特性を図１７および表８に示す。

［比較例１］
ホウケイ酸塩系ガラス製基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３、厚み０．１ｍｍ）の一方の面にイオンアシスト真空蒸着装置を用いて、蒸着温度１２０℃でイオンガンへの供給ガスとして酸素とアルゴンとの混合ガスを用いて、６０ｎｍ以下の物理膜厚の層は水晶振動子の積算膜厚で制御し、表７に記載の設計１３の誘電体多層膜［シリカ（ＳｉＯ₂：５５０ｎｍの光の屈折率１．４６）層と酸化チタン（ＴｉＯ₂：５５０ｎｍの光の屈折率２．４９）層とが交互に積層されてなるもの］を形成し、厚み０．１ｍｍの光学フィルター１３を得た。
得られた光学フィルター１３の光学特性を図１８および表９に示す。

［比較例２］
実施例５において、樹脂組成物（３）の代わりに、下記樹脂組成物（７）を用い、かつ、誘電体多層膜を表７に記載の設計１４に変えた以外は実施例５と同様の手順で、光学フィルター１４を得た。得られた光学フィルター１４の光学特性を図１９および表９に示す。
樹脂組成物（７）：樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、後述の化合物（Ｂ）０．０３４部、後述の化合物（Ｃ）０．０９５部、後述の化合物（Ｅ）０．０９部およびジクロロメタンを含む樹脂濃度が２０質量％の溶液

［比較例３］
誘電体多層膜を表７に記載の設計１５に変えた以外は比較例２と同様の手順で、光学フィルター１５を得た。得られた光学フィルター１５の光学特性を図２０および表９に示す。

［比較例４］
実施例９において、樹脂組成物（５）の代わりに、下記樹脂組成物（８）を用い、かつ、誘電体多層膜を表７に記載の設計１６に変えた以外は実施例９と同様の手順で、光学フィルター１６を得た。得られた光学フィルター１６の光学特性を図２１および表９に示す。
樹脂組成物（８）：樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００部、後述の化合物（Ｂ）０．０２５部、後述の化合物（Ｅ）０．０９部、ジクロロメタン（溶剤、樹脂Ａの濃度が２０質量％となるよう使用）を含む組成物

なお、１０５０ｎｍを赤外反射帯域の中心波長とし、その反射帯域の約４分の１の光学膜厚のＴｉＯ₂（５５０ｎｍの屈折率２．４９）とＳｉＯ₂（５５０ｎｍの屈折率１．４６）との積層体を含む誘電体多層膜を設計した。この設計の誘電体多層膜を有する光学フィルターは、赤外反射帯域の約３分の１の波長である３５０〜４００ｎｍの波長域の光も反射していた。この誘電体多層膜を用いた場合には、高角度入射時に反射帯域が全体的に短波長側へシフトし、また、波長１１００ｎｍの光の透過率が上昇してしまった。

前記透過率の上昇を抑えるために、前記赤外反射帯域の中心波長をより長波長とすること、具体的には、誘電体多層膜を構成する各層の膜厚をより厚くすることで、赤外反射帯域を長波長側にシフトさせることができると考えられる。このように誘電体多層膜の赤外反射帯域を長波長側にシフトさせたことにより、該誘電体多層膜を有する光学フィルターは、４５°入射時においても波長１１００ｎｍの透過率の上昇が抑えられるが、代わりに該反射帯域の約３分の１の波長である４２０〜４５０ｎｍの透過率が低下してしまい、この光学フィルターを固体撮像装置に用いた場合、青色の視感度補正が不十分となった。

また、一般に反射帯域を形成する誘電体多層膜は、所望する反射帯域の約２分の１の波長で局所的に透過率の低下（リップル）が起こる。これを低減するために、誘電体多層膜では、積層する層毎に光学膜厚をばらつかせる手法を用いることが多い。
しかしながら、このような積層する層毎に光学膜厚をばらつかせた誘電体多層膜は、反射帯域の帯域幅が減る傾向にあり、０°入射における波長４２０〜４５０ｎｍの光の高透過率と、高角度入射時の波長１１００ｎｍの光の低透過率を両立することが困難となる傾向にあることを確認した。具体的に、赤外反射帯域の約２分の１である可視光帯域におけるリップルを低減したところ、４５°入射時の波長１１００ｎｍの光の透過率が上がってしまった。

＜赤外線吸収剤＞
化合物（Ａ）：ジクロロメタン中に溶解させた際の極大吸収波長６９８ｎｍ

化合物（Ｂ）：ジクロロメタン中に溶解させた際の極大吸収波長７０４ｎｍ

化合物（Ｃ）：ジクロロメタン中に溶解させた際の極大吸収波長７３３ｎｍ

化合物（Ｄ）：ジクロロメタン中に溶解させた際の極大吸収波長７３８ｎｍ

＜紫外線吸収剤＞
化合物（Ｅ）：オリエント化学工業（株）製「ＢＯＮＡＳＯＲＢ ＵＡ−３９１１」

１・・・光学フィルター
２・・・基板
３，３’・・・誘電体多層膜
４，４’・・・機能膜または吸収層
５・・・遮光層
６，６’・・・光
７・・・分光光度計
１１・・・反射光
２４・・・イメージセンサー
２５・・・イメージセンサーフレーム
２６・・・フレーム
３１・・・筐体
３２・・・レンズ
３３・・・フレネルゾーンプレートやフレネルレンズ等のレンズ代替光学素子

Claims (15)

1. 基板上に誘電体多層膜を形成する工程を含み、波長３００〜１６００ｎｍの領域において、下記要件（Ｃ）、（Ｅ）、（Ｆ）および（Ｇ）を満たす光学フィルターの製造方法。
   （Ｃ）波長３８０ｎｍ以上４３０ｎｍ未満に、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％となる最も長波長の値λ_traUV5を有する
   （Ｅ）波長１０００〜１２００ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が５％以下
   （Ｆ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％となる最も短波長の値λ_traIR5を有する
   （Ｇ）λ_traIR5／λ_traUV5≧３．１０
2. 前記光学フィルターがさらに下記要件（イ）〜（ハ）を満たす、請求項１に記載の製造方法。
   （イ）基板と隣接する３層以外および最外層以外に、物理膜厚が６０ｎｍ以下である層が少なくとも２層連続した連続層ａを有する
   （ロ）前記連続層ａに隣接して、物理膜厚が６０ｎｍより厚い層ｂを有する
   （ハ）前記層ｂの連続層ａとは反対側に隣接して、物理膜厚が６０ｎｍ以下である層が少なくとも２層連続した連続層ｃを有する
3. 前記光学フィルターがさらに下記要件（ニ）を満たす、請求項１または２に記載の製造方法。
   （ニ）波長５５０ｎｍの光の屈折率が２．０以上であり、かつ、波長５５０ｎｍにおける光学膜厚が１６０〜３２０ｎｍである高屈折率層と、光学膜厚が１６０〜３２０ｎｍであり、前記高屈折率層より低屈折率である層とを交互に連続して４層以上有する
4. 基板と誘電体多層膜とを有し、波長３００〜１６００ｎｍの領域において、下記要件（Ｃ）、（Ｅ）、（Ｆ）および（Ｇ）を満たす光学フィルター。
   （Ｃ）波長３８０ｎｍ以上４３０ｎｍ未満に、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％となる最も長波長の値λ_traUV5を有する
   （Ｅ）波長１０００〜１２００ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が５％以下
   （Ｆ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％となる最も短波長の値λ_traIR5を有する
   （Ｇ）λ_traIR5／λ_traUV5≧３．１０
5. 波長３００〜１６００ｎｍの領域において、さらに下記要件（Ａ）、（Ｂ）、（Ｄ）および（Ｈ）を満たす、請求項４に記載の光学フィルター。
   （Ａ）波長３００〜３８０ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が５％以下
   （Ｂ）波長３８０〜４３０ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％となる波長λ_UV50を有する
   （Ｄ）波長４４０〜５８０ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が６０％以上
   （Ｈ）波長７２０〜１０００ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が１％以下
6. 波長３００〜１６００ｎｍの領域において、さらに下記要件（Ａ）、（Ｂ）、（Ｄ）、（Ｊ）および（Ｋ）を満たす、請求項４に記載の光学フィルター。
   （Ａ）波長３００〜３８０ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が５％以下
   （Ｂ）波長３８０〜４３０ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％となる波長λ_UV50を有する
   （Ｄ）波長４４０〜５８０ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が６０％以上
   （Ｊ）波長７２０〜１０００ｎｍにおける、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の平均透過率が３０％以下
   （Ｋ）波長７２０〜１０００ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５０％以上となる波長を連続して５ｎｍ以上有する
7. 波長３００〜１６００ｎｍの領域において、さらに下記要件（Ｏ）〜（Ｑ）を満たす、請求項４〜６のいずれか１項に記載の光学フィルター。
   （Ｏ）波長３７０ｎｍ以上４３０ｎｍ未満に、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が１％となる最も長波長の値λ_traUV1を有する
   （Ｐ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が１％となる最も短波長の値λ_traIR1を有する
   （Ｑ）λ_traIR1／λ_traUV1≧３．１０
8. 波長３００〜１６００ｎｍの領域において、さらに下記要件（Ｒ）〜（Ｕ）を満たす、請求項４〜７のいずれか１項に記載の光学フィルター。
   （Ｒ）波長３７０〜４３０ｎｍに、光学フィルターの少なくとも一方の面の垂直方向から５°の角度で入射する無偏光光線の反射率が５０％となる波長λ_refUV50を有する
   （Ｓ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの少なくとも一方の面の垂直方向から５°の角度で入射する無偏光光線の反射率が９０％となる最も短波長の値λ_refIR90を有する
   （Ｔ）λ_refIR90／λ_traUV5≧３．１０
   （Ｕ）波長１０００〜１２００ｎｍにおける、光学フィルターの少なくとも一方の面の垂直方向から５°の角度で入射する無偏光光線の平均反射率が９０％以上である
9. 波長３００〜１６００ｎｍの領域において、さらに下記要件（Ｖ）および（Ｗ）を満たす、請求項４〜８のいずれか１項に記載の光学フィルター。
   （Ｖ）波長１１５０〜１６００ｎｍに、光学フィルターの少なくとも一方の面の垂直方向から５°の角度で入射する無偏光光線の反射率が９５％となる最も短波長の値λ_refIR95を有する
   （Ｗ）λ_refIR95／λ_traUV5≧３．１０
10. さらに下記要件（イ）〜（ハ）を満たす、請求項４〜９のいずれか１項に記載の光学フィルター。
    （イ）基板と隣接する３層以外および最外層以外に、物理膜厚が６０ｎｍ以下である層が少なくとも２層連続した連続層ａを有する
    （ロ）前記連続層ａに隣接して、物理膜厚が６０ｎｍより厚い層ｂを有する
    （ハ）前記層ｂの連続層ａとは反対側に隣接して、物理膜厚が６０ｎｍ以下である層が少なくとも２層連続した連続層ｃを有する
11. さらに下記要件（ニ）を満たす、請求項４〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルター。
    （ニ）波長５５０ｎｍの光の屈折率が２．０以上であり、かつ、波長５５０ｎｍにおける光学膜厚が１６０〜３２０ｎｍである高屈折率層と、光学膜厚が１６０〜３２０ｎｍであり、前記高屈折率層より低屈折率である層とを交互に連続して４層以上有する
12. 波長３００〜１６００ｎｍの領域において、前記基板が下記要件（Ｙ）を満たす、請求項４〜１１のいずれか１項に記載の光学フィルター。
    （Ｙ）波長６８５〜７８０ｎｍに吸収極大波長λ（ＤＡ＿Ｔｍｉｎ）を有する
13. 波長３００〜１６００ｎｍの領域において、前記基板が下記要件（Ｚ）を満たす、請求項４〜１２のいずれか１項に記載の光学フィルター。
    （Ｚ）波長６８０〜８００ｎｍに、基板の面方向に対して垂直方向から入射した光の透過率が５％以下となる阻止帯域を３０ｎｍ以上有する
14. 請求項４〜１３のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備する固体撮像装置。
15. 請求項４〜１３のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備するカメラモジュール。