JP2020034393A - エンコーダ、エンコーダ用スケール板 - Google Patents

Abstract

【課題】スケール板の中心と測定対象の回転軸の軸心との同芯度を事後的に調整することが可能なエンコーダを提供する。【解決手段】本発明の一実施形態に係るエンコーダ１００は、測定対象の回転軸２００の一端に取り付けられるハブ１１０と、ハブ１１０の回転軸２００と反対側の端面に取り付けられ、その外周部の全周に亘って、回転位置に応じて所定の照射光を所定のパターンで反射又は透過するインクリメンタルパターン１２２等を有するスケール板１２０と、スケール板１２０から反射又は透過される照射光を受光し、インクリメンタルパターン１２２等を検出する光学モジュール１５０と、を備え、スケール板１２０は、インクリメンタルパターン１２２等が設けらえる領域以外で、ハブ１１０の上述の端面に面する領域に仮固定用貫通孔１２４を有する。【選択図】図１

Description

本発明はエンコーダ及びエンコーダ用スケール板に関する。

従来、スケール板（スリット板）の周方向に全周に亘り設けられる、反射部或いは透過部により構成される照射光の反射パターン或いは透過パターンを光学センサにより検出し、測定対象の相対的或いは絶対的な回転位置を測定可能なエンコーダが知られている（例えば、特許文献１参照）。

特開２０１１−４７７６５号公報

しかしながら、製造工程等において、治具等を用いた機械的な位置決めによって、スケール板を回転軸と一体として回転可能に固定する場合、スケール板の中心、つまり、反射パターン等の中心と、測定対象の回転軸の軸心との一致度（同芯度）が許容範囲を満足しない状態になってしまう可能性がある。その結果、エンコーダは、精度良く測定対象の回転位置を測定することができなくなってしまう可能性がある。よって、検査工程等において、スリット板の中心と回転軸の軸心との間の同芯度を事後的に調整可能であることが望ましい。

そこで、上記課題に鑑み、スケール板の中心と測定対象の回転軸の軸心との同芯度を事後的に調整することが可能なエンコーダ等を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明の一実施形態では、
測定対象の回転軸の一端に取り付けられるハブ部と、
前記ハブ部の前記回転軸と反対側の端面に取り付けられ、その外周部の全周に亘って、回転位置に応じて所定の照射光を所定のパターンで反射又は透過するパターン情報を有するスケール板と、
前記スケール板から反射又は透過される前記照射光を受光し、前記パターン情報を検出する受光部と、を備え、
前記スケール板は、前記パターン情報が設けられる領域以外で、前記ハブ部の前記端面に面する領域に貫通孔を有する、
エンコーダが提供される。

また、本発明の他の実施形態では、
測定対象の回転軸の一端に取り付けられるハブ部の前記回転軸と反対側の端面に取り付けられ、その外周部の全周に亘って、回転位置に応じて所定の照射光を所定のパターンで反射又は透過するパターン情報を有するエンコーダ用スケール板であって、
前記パターン情報が設けられる領域以外で、前記ハブ部の前記端面に面する領域に貫通孔を有する、
エンコーダ用スケール板が提供される。

上述の実施形態によれば、スケール板の中心と測定対象の回転軸の軸心との同芯度を事後的に調整することが可能なエンコーダ等を提供することができる。

第１実施形態に係るエンコーダの一例を示す図である。 第１実施形態に係るエンコーダにおけるスケール板の仮固定用貫通孔の部分の断面を拡大して示す拡大断面図である。 第２実施形態に係るエンコーダの一例を示す図である。

以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。

＜第１実施形態＞
最初に、本発明の第１実施形態について説明する。

［エンコーダの構成及び構造］
まず、図１、図２を参照して、本実施形態に係るエンコーダ１００の構成及び構造等について説明する。

図１は、本実施形態に係るエンコーダ１００の一例を示す図である。具体的には、図１（Ａ）は、本実施形態に係るエンコーダ１００の一例を示す平面図であり、図１（Ｂ）は、本実施形態に係るエンコーダ１００の一例を示す側面断面図（図１（Ａ）のＡ−Ａ断面図）である。図２は、本実施形態に係るエンコーダ１００におけるスケール板１２０の仮固定用貫通孔１２４の部分の断面を拡大して示す拡大断面図である。具体的には、図２は、図１（Ｂ）の側面視断面図におけるスケール板１２０の仮固定用貫通孔１２４の部分を拡大して示す拡大断面図である。以下、後述の第２実施形態も含め、図中の三次元直交座標系（ＸＹＺ座標系）を用いて説明を行い、便宜的に、Ｚ軸の正方向（以下、「Ｚ軸正方向」）を"上"、Ｚ軸の負方向（以下、「Ｚ軸負方向」）を"下"と称する場合がある。また、Ｘ軸の正方向及び負方向、Ｙ軸の正方向及び負方向、並びに、Ｚ軸の正方向及び負方向のそれぞれを、総括的に、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及び、Ｚ軸方向と称する場合がある。

尚、図１（Ａ）において、基板１４０、及び、基板１４０に搭載される光学モジュール１５０等は、スケール板１２０等がＺ軸正方向（つまり、上）から露出して見えるように一点鎖線で表されている。また、図１において、エンコーダ１００の構成要素を収容する筐体（ケース）は、省略されている。以下、後述の図３についても同様である。

本実施形態に係るエンコーダ１００は、ハブ１１０と、スケール板１２０（スリット板）と、基板１４０と、光学モジュール１５０とを含む。

ハブ１１０（ハブ部の一例）は、エンコーダ１００による一回転中の回転位置（回転角度）等の測定対象（例えば、回転式のサーボモータ等）の回転軸２００の一端に取り付けられる。

例えば、ハブ１１０は、回転軸２００に沿う方向（Ｚ軸方向）から見て、つまり、平面視で、回転軸２００の外径よりも大きな外径を有する略円柱形状を有する。ハブ１１０のＺ軸負方向側の端面（つまり、下側の端面）の軸心位置付近の領域には、ハブ１１０と同軸で、且つ、回転軸２００の外径と略同じ（実際上は、回転軸２００の外径よりも若干大きい）内径を有する窪み部が設けられる。当該窪み部には、ハブ１１０の軸心と回転軸２００の軸心２００ＡＸとが一致する態様で、回転軸２００が嵌挿される。また、ハブ１１０の軸心位置には、両端面の間を貫通するネジ孔が設けられ、ハブ１１０のＺ軸正方向側の端面（つまり、上側の端面）から下側の端面の窪み部に嵌挿された回転軸２００に対して、雄ねじ１１５が螺合されることで、ハブ１１０は、回転軸２００に取り付けられる。これにより、ハブ１１０は、測定対象の回転軸２００の回転に伴い、一体として回転する。

雄ねじ１１５は、平面状の頭頂部を有する。雄ねじ１１５は、例えば、平ねじであってよい。これにより、雄ねじ１１５の頭頂部と、ハブ１１０の上側の端面（平面）とを同一平面に揃える、つまり、面一の状態にすることができる。

スケール板１２０（エンコーダ用スケール板の一例）は、ハブ１１０の回転軸２００が取り付けられる側の端面とは反対側の端面、つまり、上側の端面に取り付けられる。スケール板１２０は、例えば、金属製である。また、スケール板１２０は、ポリカーボネート製やＰＥＴ（Polyethylene Terephthalate：ポリエチレンテレフタレート）フィルム製であってもよい。具体的には、スケール板１２０は、円板形状を有し、平面視で、その中心が回転軸２００の軸心に一致するように配置される。また、スケール板１２０のＺ軸正方向側の面（つまり、上面）には、その外縁（外周）付近における異なる半径位置の全周に亘って、インクリメンタルパターン１２２及びアブソリュートパターン１２３が設けられる。

インクリメンタルパターン１２２（パターン情報の一例）は、スケール板１２０の回転位置に応じて、光学モジュール１５０からの照射光を、任意の角度位置からの回転角度（つまり、相対角度）を表す所定のパターンで反射する。インクリメンタルパターン１２２は、例えば、照射光を反射する複数の反射部が周方向に等間隔に、且つ、それぞれの反射部の間に非反射部（或いは、反射部よりも反射率が低い低反射率部）が挟まれるように配置される。インクリメンタルパターン１２２の反射部、及び、非反射部或いは低反射率部は、例えば、既知のフォトエッチング加工により形成される。以下、アブソリュートパターン１２３の反射部、及び、非反射部或いは低反射率部についても同様である。

アブソリュートパターン１２３（パターン情報の一例）は、スケール板１２０の回転位置に応じて、光学モジュール１５０からの照射光を、回転角度の絶対位置を表す所定のパターンで反射する。アブソリュートパターン１２３は、例えば、スケール板１２０の角度位置に応じて、所定のビット数（例えば、９ビット）のＭ系列コードを表す複数の反射部が周方向に配置される。このとき、アブソリュートパターン１２３の周方向における反射部同士の間には、非反射部或いは低反射率部が配置される。

また、スケール板１２０は、インクリメンタルパターン１２２及びアブソリュートパターン１２３の設置領域以外、具体的には、当該設置領域よりも内周側におけるハブ１１０の上側の端面に面する領域に、上面及び下面の間を貫通する仮固定用貫通孔１２４を有する。

仮固定用貫通孔１２４（貫通孔の一例）は、例えば、平面視で、円形状を有し、複数（本例では、４個）設けられる。具体的には、仮固定用貫通孔１２４は、平面視で、スケール板１２０の中心（回転軸２００の軸心２００ＡＸ）を原点としたときのＸ軸及びＹ軸（つまり、図１（Ａ）中の回転軸２００の軸心２００ＡＸを通過する二本の破線）で区分される四つの象限のそれぞれに一つずつ設けられる。また、スケール板１２０の中心を基準として対向する二つの象限に配置されている仮固定用貫通孔１２４（第１の貫通孔及び第２の貫通孔の一例）は、それぞれ、スケール板１２０の中心、つまり、回転軸２００の軸心２００ＡＸを基準として、対称な位置に配置されている。

尚、仮固定用貫通孔１２４は、平面視で、円形状以外の形状、例えば、矩形状であってもよい。

スケール板１２０は、接着剤１２５を用いて、ハブ１１０の上側の端面に固定される。接着剤１２５は、例えば、嫌気性（つまり、空気との接触を抑制することで固まる性質）、及び、紫外線硬化性（つまり、紫外線が照射されることで固まる性質）を有する。また、接着剤１２５は、熱硬化性（つまり、例えば、１００℃〜１５０℃まで加熱することにより固まる性質）、及び、紫外線硬化性を有していてもよい。具体的には、スケール板１２０は、図２に示すように、ハブ１１０の上側の端面の略全域に塗布された接着剤１２５の上に載置される。このとき、スケール板１２０の仮固定用貫通孔１２４からハブ１１０の上側の端面に塗布された接着剤１２５が露出する。そのため、Ｚ軸正方向側、つまり、上からスケール板１２０に紫外線が照射されることで、接着剤１２５のうちの露出部１２５Ａが硬化され、スケール板１２０が仮固定される。そして、接着剤１２５のうちの露出部１２５Ａ以外の部分は、その嫌気性の作用により、所定の時間をかけて、或いは、その熱硬化性の作用により、事後的な加熱処理過程を経て、固まる。よって、スケール板１２０の接着剤１２５が完全に固まっていない状態であっても、露出部１２５Ａの硬化により、検査工程等において、ハブ１１０を回転させて、各種検査を行うことができる。また、紫外線が照射されない限り、接着剤１２５の嫌気性或いは熱硬化性の作用によって、露出部１２５Ａが直ぐに固まることはない。そのため、例えば、治具等を用いて、機械的な位置合わせにより、スケール板１２０をハブ１１０の上側の端面に載置した後であっても、位置の微調整等を行うことができる。

基板１４０は、例えば、円板形状を有し、ハブ１１０（スケール板１２０等）からＺ軸正方向に所定の距離だけ離れた位置において、回転軸２００の軸心２００ＡＸと垂直に、即ち、スケール板１２０と平行に配置される。また、基板１４０は、円板形状の軸心が回転軸２００の軸心２００ＡＸと一致するように配置される。具体的には、基板１４０は、エンコーダ１００の構成要素を収容する図示しないケースに固定される。つまり、基板１４０は、回転軸２００と共に回転しないため、基板１４０に実装される各種センサ（例えば、光学モジュール１５０等）は、回転軸２００と共に回転するスケール板１２０の回転状態を観測できる。基板１４０は、例えば、ＦＲ−４（Flame Retardant type 4）規格の配線基板である。基板１４０には、光学モジュール１５０等が実装される。また、基板１４０には、その他、光学モジュール１５０に接続され、回転数や回転位置等を検出する各種処理を行う電子部品や、基板１４０に実装される電子部品を駆動する電源ＩＣ等の電気部品が実装される。

光学モジュール１５０（受光部の一例）は、基板１４０のＺ軸負方向側の面、つまり、下面において、スケール板１２０のインクリメンタルパターン１２２及びアブソリュートパターン１２３に対応する、回転軸２００の軸心２００ＡＸを中心とする半径位置に設けられる。具体的には、光学モジュール１５０は、スケール板１２０に向けて光を照射する発光素子と、インクリメンタルパターン１２２やアブソリュートパターン１２３の反射部で反射された反射光を受光する受光素子を含む。このとき、発光素子は、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）であり、受光素子は、例えば、ＰＤ（Photo Diode）である。また、受光素子には、インクリメンタルパターン１２２に対応する反射光を受光する受光素子と、アブソリュートパターン１２３に対応する反射光を受光する受光素子とを含む。

［作用］
次に、引き続き、図１、図２を参照して、本実施形態に係るエンコーダ１００の作用について説明する。

本実施形態では、スケール板１２０は、インクリメンタルパターン１２２等が設けられる領域以外で、ハブ１１０の上側の端面に面する領域に仮固定用貫通孔１２４を有する。

例えば、製造工程等において、治具等を用いた機械的な位置決めによって、スケール板１２０を回転軸２００と一体として回転可能に固定する場合、スケール板１２０の中心、つまり、インクリメンタルパターン１２２等の中心と、測定対象の回転軸２００の軸心２００ＡＸとの一致度（同芯度）が許容範囲を満足しない状態になってしまう可能性がある。その結果、エンコーダ１００は、精度良く測定対象の回転位置を測定することができなくなってしまう可能性がある。

これに対して、本実施形態では、仮固定用貫通孔１２４から露出する接着剤１２５の露出部１２５Ａに紫外線を照射することにより、仮固定することができる。そのため、例えば、紫外線を照射する前に、検査工程等において、スケール板１２０と回転軸２００との間の同芯度を検査し、許容範囲を超えてずれている場合、調整具等により同芯度を調整し、その調整後、紫外線を照射することで、スケール板１２０を仮固定できる。つまり、スケール板１２０の中心と測定対象の回転軸２００の軸心２００ＡＸとの同芯度を事後的に調整することができると共に、その調整後の適切な配置状態で、即時的に、スケール板１２０を仮固定することができる。よって、調整後の適切な配置状態のスケール板１２０を回転させて、各種検査を行うことができる。

また、本実施形態では、スケール板１２０は、例えば、光を透過させないように構成されてよい。具体的には、素材自体が非透明（例えば、金属製）であったり、透明な素材（例えば、ポリカーボネート、ＰＥＴ、ガラス等）に対して、光を透過させないような処理（例えば、着色や表面処理等）が施されたりしていてよい。

例えば、スケール板１２０が非透明な素材の場合、スケール板１２０を紫外線が透過しないため、スケール板１２０の裏面にある接着剤１２５を硬化させることができない。

これに対して、本実施形態では、仮固定用貫通孔１２４から露出する接着剤１２５の露出部１２５Ａに紫外線を照射できるため、非透明のスケール板１２０であっても、紫外線の照射により、スケール板１２０を仮固定させることができる。

また、本実施形態では、スケール板１２０は、紫外線硬化性、及び、熱硬化性或いは嫌気性を有する接着剤１２５を用いて、ハブ１１０の上側の端面に取り付けられる。

これにより、上述の如く、紫外線が照射されない限り、接着剤１２５が直ぐに固まることはないため、スケール板１２０の事後的な調整が可能になると共に、事後的な調整後の適切な配置状態のスケール板１２０を紫外線の照射により仮固定することができる。

また、本実施形態では、ハブ１１０の上側の端面のうちの仮固定用貫通孔１２４から露出する領域に塗布される。

これにより、具体的に、仮固定用貫通孔１２４から露出する接着剤１２５の露出部１２５Ａを紫外線の照射により硬化させ、スケール板１２０を仮固定させることができる。

また、本実施形態では、仮固定用貫通孔１２４は、複数設けられてよい。

これにより、適当な数の仮固定用貫通孔１２４を設け、検査工程等において、スケール板１２０を回転させても、調整後のスケール板１２０の配置状態が維持されるような相対的に高い仮固定の強度の確保を図ることができる。

尚、要求される仮固定の強度が確保できる限り、仮固定用貫通孔１２４は、一つであってもよい。

また、本実施形態では、複数の仮固定用貫通孔１２４には、スケール板１２０の中心を基準として対向する二つの仮固定用貫通孔１２４（第１の貫通孔及び第２の貫通孔）が含まれてよい。

これにより、スケール板１２０の中心（つまり、回転軸２００の軸心２００ＡＸ）を基準として、対向する方向でのスケール板１２０の仮固定の強度のバランスを図ることができる。

＜第２実施形態＞
次いで、第２実施形態について説明する。

本実施形態のエンコーダ１００は、スケール板１２０の構成及び構造等が第１実施形態と異なる。以下、第１実施形態と同一或いは対応する構成には、同一の符号を付し、第１実施形態と異なる部分を中心に説明する。

［エンコーダの構成及び構造］
まず、図３を参照して、本実施形態に係るエンコーダ１００の構成及び構造等について説明する。

図３は、本実施形態に係るエンコーダ１００の一例を示す図である。具体的には、図３（Ａ）は、本実施形態に係るエンコーダ１００の一例を示す平面図であり、図３（Ｂ）は、本実施形態に係るエンコーダ１００の一例を示す側面断面図（図３（Ａ）のＡ−Ａ断面図）である。

本実施形態に係るエンコーダ１００は、第１実施形態と同様、ハブ１１０と、スケール板１２０と、基板１４０と、光学モジュール１５０を含む。

スケール板１２０は、略円板形状の中央部が円形状に切り欠かれた切り欠き部１２１を有する。これにより、平面視で、ハブ１１０の軸心位置付近の領域が切り欠き部１２１から露出するため、当該領域に、例えば、図示しない磁気系の多回転量検出用の磁石を配置し、取り付けることができる。

また、スケール板１２０は、第１実施形態と同様、インクリメンタルパターン１２２及びアブソリュートパターン１２３の設置領域以外、具体的には、当該設置領域よりも内周側におけるハブ１１０の上側の端面に面する領域に、仮固定用貫通孔１２４Ａ，１２４Ｂを有する。

仮固定用貫通孔１２４Ａ（貫通孔の一例）は、スケール板１２０の中心、つまり、回転軸２００の軸心２００ＡＸを基準とする所定の半径位置（第１の半径位置或いは第２の半径位置の一例）において、全周に亘り、等間隔に複数（本例では、３２個）設けられる。

尚、全周に亘り配置される複数の仮固定用貫通孔１２４Ａは、それぞれの形状や大きさが同じでなくてもよい。仮固定用貫通孔１２４Ｂについても同様である。

仮固定用貫通孔１２４Ｂ（貫通孔の一例）は、スケール板１２０の中心を基準とする、仮固定用貫通孔１２４Ａが設けられる半径位置とは異なる半径位置（第２の半径位置或いは第１の半径位置の一例）において、全周に亘り、等間隔に複数（本例では、３２個）設けられる。

スケール板１２０は、第１実施形態の場合と同様、接着剤１２５を用いて、ハブ１１０の上側に固定される。具体的には、第１実施形態（図２）と同様に、スケール板１２０は、ハブ１１０の上側の端面のうちのスケール板１２０の切り欠き部１２１に対応する中央領域を除く全領域に塗布された接着剤１２５の上に載置される。このとき、スケール板１２０の仮固定用貫通孔１２４Ａ，１２４Ｂからハブ１１０の上側の端面に塗布された接着剤１２５が露出する。よって、第１の実施形態と同様の作用・効果を奏する。また、仮固定用貫通孔１２４Ａ，１２４Ｂは、全周に亘り複数設けられるため、スケール板１２０の中心、つまり、回転軸２００の軸心２００ＡＸを基準とする周方向での仮固定の強度のバランス確保を図ることができる。

また、仮固定用貫通孔１２４Ａ及び仮固定用貫通孔１２４Ｂのうちの一方の仮固定用貫通孔は、スケール板１２０の中心を基準として、他方の仮固定用貫通孔が設けられていない角度位置（角度方向）に設けられている。具体的には、隣接する任意の二つの仮固定用貫通孔１２４Ａ同士の間の非設置領域の角度範囲全体をカバーするように、仮固定用貫通孔１２４Ｂが設けられる。換言すれば、隣接する任意の二つの仮固定用貫通孔１２４Ｂ同士の間の非設置領域の角度範囲全体をカバーするように、仮固定用貫通孔１２４Ａが設けられる。これにより、スケール板１２０の中心を基準とする周方向での仮固定の強度のバランス確保をより適切に図ることができる。このとき、平面視で見たときに、仮固定用貫通孔１２４Ａの内周の長さ（以下、「内周長」）と、仮固定用貫通孔１２４Ｂの内周長は、略同じであってよい。仮固定用貫通孔１２４Ａ，１２４Ｂから露出する接着剤１２５（露出部１２５Ａ）が紫外線の照射によって硬化される際の仮固定の強度は、その内周長に依存する。よって、スケール板１２０の中心を基準として、仮固定用貫通孔１２４Ａが設けられる角度位置（範囲）の仮固定の強度と、仮固定用貫通孔１２４Ｂが設けられる角度位置（範囲）の仮固定の強度を略一致させることができる。つまり、スケール板１２０の中心を基準とする周方向での仮固定の強度のバランス確保を更に適切に図ることができる。

尚、仮固定用貫通孔１２４Ｂは、隣接する任意の二つの仮固定用貫通孔１２４Ａ同士の間の非設置領域の角度範囲全体ではなく、一部をカバーする態様で設けられてもよい。換言すれば、仮固定用貫通孔１２４Ａは、隣接する任意の二つの仮固定用貫通孔１２４Ｂ同士の間の非設置領域の角度範囲全体ではなく、一部をカバーする態様で設けられてもよい。

［作用］
次に、引き続き、図３を参照して、本実施形態に係るエンコーダ１００の作用について説明する。

本実施形態では、仮固定用貫通孔１２４Ａ，１２４Ｂは、スケール板１２０の中心を基準とする所定の半径位置（第１の半径位置）において、全周に亘って複数設けられる。

これにより、上述の如く、スケール板１２０の中心を基準とする周方向での仮固定の強度のバランス確保を図ることができる。

尚、その仮固定の強度が確保される限り、スケール板１２０は、仮固定用貫通孔１２４Ａ，１２４Ｂの何れか一方だけを有し、何れか他方が省略されてもよい。

また、本実施形態では、仮固定用貫通孔１２４Ａ，１２４Ｂは、それぞれ、スケール板１２０の中心を基準とする異なる半径位置において、全周に亘って複数設けられる。そして、仮固定用貫通孔１２４Ａ，１２４Ｂのうちの一方の仮固定用貫通孔は、他方の仮固定用貫通孔が設けられていない、スケール板１２０の中心を基準とする角度範囲に設けられる態様であってよい。

これにより、上述の如く、スケール板１２０の中心を基準とする周方向での仮固定の強度のバランス確保をより適切に図ることができる。

また、仮固定用貫通孔１２４Ａの内周長と、仮固定用貫通孔１２４Ｂの内周長とは、略同じであってよい。

これにより、上述の如く、スケール板１２０の中心を基準とする周方向での仮固定の強度のバランス確保を更に適切に図ることができる。

＜変形・変更＞
以上、本発明を実施するための形態について詳述したが、本発明はかかる特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。

例えば、上述した実施形態において、エンコーダ１００は、アブソリュート形であったが、インクリメンタル形であってもよい。この場合、スケール板１２０のアブソリュートパターン１２３、及び光学モジュール１５０のアブソリュートパターン１２３に対応する受光素子等は、省略される。

また、上述した実施形態及び変形例において、エンコーダ１００は、反射型であったが、透過型であってもよい。この場合、スケール板１２０のインクリメンタルパターン１２２やアブソリュートパターン１２３は、反射部、及び、非反射部或いは低反射率部の代わりに、照射光を透過する透過部、及び、照射光を透過しない非透過部により構成される。また、スケール板１２０に光を照射する発光素子は、光学モジュール１５０とは別に、スケール板１２０から見て、光学モジュール１５０（受光素子）とは反対側、つまり、スケール板１２０からＺ軸負方向（つまり、下方）に所定距離だけ離れた位置に設けられる。

１００ エンコーダ
１１０ ハブ（ハブ部）
１１５ 雄ねじ
１２０ スケール板（エンコーダ用スケール板）
１２１ 切り欠き部
１２２ インクリメンタルパターン（パターン情報）
１２３ アブソリュートパターン（パターン情報）
１２４，１２４Ａ，１２４Ｂ 仮固定用貫通孔（貫通孔）
１２５ 接着剤
１２５Ａ 露出部
１４０ 基板
１５０ 光学モジュール（受光部）
２００ 回転軸
２００ＡＸ 軸心

Claims (10)

1. 測定対象の回転軸の一端に取り付けられるハブ部と、
   前記ハブ部の前記回転軸と反対側の端面に取り付けられ、その外周部の全周に亘って、回転位置に応じて所定の照射光を所定のパターンで反射又は透過するパターン情報を有するスケール板と、
   前記スケール板から反射又は透過される前記照射光を受光し、前記パターン情報を検出する受光部と、を備え、
   前記スケール板は、前記パターン情報が設けられる領域以外で、前記ハブ部の前記端面に面する領域に貫通孔を有する、
   エンコーダ。
2. 前記スケール板は、光を透過させないように構成されている、
   請求項１に記載のエンコーダ。
3. 前記スケール板は、紫外線硬化性、及び、熱硬化性又は嫌気性を有する接着剤を用いて、前記ハブ部の前記端面に取り付けられる、
   請求項１又は２に記載のエンコーダ。
4. 前記接着剤は、前記ハブ部の前記端面の中の前記貫通孔から露出する領域に塗布されている、
   請求項３に記載のエンコーダ。
5. 前記貫通孔は、複数設けられる、
   請求項１乃至４の何れか一項に記載のエンコーダ。
6. 複数の前記貫通孔のうちの第１の貫通孔及び第２の貫通孔は、前記スケール板の中心を基準として対向する位置に設けられる、
   請求項５に記載のエンコーダ。
7. 前記貫通孔は、前記スケール板の中心を基準とする第１の半径位置において、全周に亘って複数設けられる、
   請求項５又は６に記載のエンコーダ。
8. 前記貫通孔は、更に、前記スケール板の中心を基準とする第２の半径位置において、全周に亘って複数設けられ、
   前記第１の半径位置の前記貫通孔及び前記第２の半径位置の前記貫通孔のうちの一方の前記貫通孔は、他方の前記貫通孔が設けられていない、前記スケール板の中心を基準とする角度範囲に設けられる、
   請求項７に記載のエンコーダ。
9. 前記第１の半径位置の前記貫通孔の内周長と、前記第２の半径位置の前記貫通孔の内周長とは、略同じである、
   請求項８に記載のエンコーダ。
10. 測定対象の回転軸の一端に取り付けられるハブ部の前記回転軸と反対側の端面に取り付けられ、その外周部の全周に亘って、回転位置に応じて所定の照射光を所定のパターンで反射又は透過するパターン情報を有するエンコーダ用スケール板であって、
    前記パターン情報が設けられる領域以外で、前記ハブ部の前記端面に面する領域に貫通孔を有する、
    エンコーダ用スケール板。

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