JP2020031194A - 基板搬送モジュール及び基板搬送方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記筐体の側壁に設けられた第1の基板搬送口と、
前記筐体の外側に設けられるモジュールと前記筐体内との間で基板を搬送するために、前記筐体の側壁に設けられる開閉自在な第2の基板搬送口と、
容器本体と蓋体とにより構成されると共に前記基板が格納される搬送容器の前記容器本体を、当該容器本体に開口する基板取り出し口の口縁部が前記第1の基板搬送口の口縁部に密着するように前記筐体の側壁に接続し、前記容器本体に対する前記蓋体の着脱による前記基板取り出し口の開閉と、前記第1の基板搬送口の開閉とを行うロードポートと、
前記筐体内に設けられ、前記第1の基板搬送口と前記第2の基板搬送口との間で基板を搬送する搬送機構と、
前記筐体内に清浄な気体を供給する清浄気体供給部と、
前記筐体内を排気する排気機構と、
前記筐体内における前記第1の基板搬送口と前記第2の基板搬送口との間で搬送される前記基板の搬送路の上方に開口し、当該筐体内の雰囲気を吸引する吸引孔と、
前記吸引された雰囲気における、前記搬送路を移動する基板から放出されるガスに含まれる成分を検出する検出部と、
を備える。
本開示の実施形態に関連して行われた評価試験について説明する。この評価試験では、既述の真空処理装置1と略同様の試験装置を用いて試験を行ったが、この試験装置では上記の吸引孔73を設けていない。そしてこの試験装置においては、受け渡し位置における容器本体B1の上部と、分析部76に相当するガス濃度分析器とを配管を介して接続した。このガス濃度分析器は、配管を介して容器本体B1内を上方から吸引し、成膜処理を受けて容器本体B1に戻されたウエハWのアウトガス中の塩素の濃度を測定することができるように構成されている。
評価試験1−1では、成膜モジュール2においてTiN膜を成膜した複数のウエハWを、容器本体B1に戻したときに測定される塩素濃度を調べた。このTiN膜の成膜処理時の温度について、ウエハW毎に440℃〜680℃の範囲内の互いに異なる温度に設定している。この評価試験1−1では、ウエハWは凹凸パターンが形成されていないウエハ(ベアウエハ)Wの表面積の10倍の表面積を持つように、凹凸パターンが形成されたウエハW(10倍表面積ウエハWとする)を用いた。また評価試験1−2として、ベアウエハWの表面積の5倍の表面積を持つように凹凸パターンが形成されたウエハW(5倍表面積ウエハWとする)を用いたことを除いては、評価試験1−1と同様に試験を行った。
評価試験2−1として、評価試験1で用いた試験装置を用いて、440℃でTiN膜の成膜処理が行われた同一ロットの25枚のウエハWを、周期的に容器本体B1に戻すときにおける塩素濃度をモニタした。この評価試験2−1では、1時間あたり25枚のウエハWを成膜処理して容器本体B1に戻せるように設定した。また、評価試験2−2として評価試験2−1と略同様の試験を行ったが、この評価試験2−2では1時間あたり50枚のウエハWを成膜処理して容器本体B1に戻せるように設定した。
4 ローダーモジュール
42 搬送口
40 搬送機構
45 FFU
52 排気用ファン
6 ロードポート
61 搬送口
73 吸引孔
76 分析部
8 制御部
Claims (13)
- 筐体と、
前記筐体の側壁に設けられた第1の基板搬送口と、
前記筐体の外側に設けられるモジュールと前記筐体内との間で基板を搬送するために、前記筐体の側壁に設けられる開閉自在な第2の基板搬送口と、
容器本体と蓋体とにより構成されると共に前記基板が格納される搬送容器の前記容器本体を、当該容器本体に開口する基板取り出し口の口縁部が前記第1の基板搬送口の口縁部に密着するように前記筐体の側壁に接続し、前記容器本体に対する前記蓋体の着脱による前記基板取り出し口の開閉と、前記第1の基板搬送口の開閉とを行うロードポートと、
前記筐体内に設けられ、前記第1の基板搬送口と前記第2の基板搬送口との間で基板を搬送する搬送機構と、
前記筐体内に清浄な気体を供給する清浄気体供給部と、
前記筐体内を排気する排気機構と、
前記筐体内における前記第1の基板搬送口と前記第2の基板搬送口との間で搬送される前記基板の搬送路の上方に開口し、当該筐体内の雰囲気を吸引する吸引孔と、
前記吸引された雰囲気における、前記搬送路を移動する基板から放出されるガスに含まれる成分を検出する検出部と、
を備える基板搬送モジュール。 - 前記筐体は金属により構成され、
前記検出部により検出される成分は、前記筐体内の雰囲気において前記金属を腐食させる成分である請求項1記載の基板搬送モジュール。 - 前記成分は塩素である請求項2記載の基板搬送モジュール。
- 前記基板の搬送路は、前記第2の基板搬送口から前記第1の基板搬送口へと搬送される基板の搬送路である請求項1ないし3のいずれか一つに記載の基板搬送モジュール。
- 前記吸引孔は、前記筐体の側壁における前記第1の基板搬送口の上方、あるいは前記第2の基板搬送口の上方に開口する請求項1ないし4のいずれか一つに記載の基板搬送モジュール。
- 前記吸引孔は、前記筐体の側壁において少なくとも前記第1の基板搬送口の上方に開口する請求項5記載の基板搬送モジュール。
- 前記第1の基板搬送口は横方向に複数設けられ、
前記吸引孔は複数設けられ、当該複数の吸引孔は、前記複数の第1の基板搬送口の上方に各々位置する請求項6記載の基板搬送モジュール。 - 前記複数の吸引孔は、横方向に等間隔に設けられ、且つ互いに同じ高さに位置している請求項7記載の基板搬送モジュール。
- 前記検出部は前記成分の濃度を検出し、
検出された成分の濃度と、予め設定された濃度の許容値と、に基づいて異常の有無を判定する判定部が設けられる請求項1ないし8記載の基板搬送モジュール。 - 前記吸引孔は、前記筐体の側壁における前記第1の基板搬送口の上方、前記第2の基板搬送口の上方に各々開口する第1の吸引孔、第2の吸引孔を含み、
前記検出部は、前記第1の吸引孔から吸引される雰囲気中の成分の濃度、前記第2の吸引孔から吸引される雰囲気中の成分の濃度を各々検出し、
前記判定部は、各々検出された成分の濃度と、予め設定された許容値と、に基づいて異常の有無を判定する請求項9記載の基板搬送モジュール。 - 前記検出部による検出結果に応じて、
前記清浄気体供給部、前記排気機構及び前記搬送機構のうちの少なくともいずれかの動作が制御されるように制御信号を出力する制御部が設けられる請求項1ないし10のいずれか一つに記載の基板搬送モジュール。 - 前記ロードポートには、前記蓋体が取り外された前記容器本体内をパージするパージガス供給機構が設けられ、
前記制御部は、
前記検出部による検出結果に応じて、前記清浄気体供給部、前記排気機構及び前記搬送機構のうちの少なくともいずれかの動作が制御されるように制御信号を出力する代わりに、
前記検出部による検出結果に応じて、少なくとも前記パージガス供給機構の動作を制御するように制御信号を出力する請求項11記載の基板搬送モジュール。 - 筐体内に設けられる基板搬送機構により、当該筐体の側壁に各々設けられた第1の基板搬送口と第2の基板搬送口との間で基板を搬送する工程と、
前記筐体の外側に設けられるモジュールと前記筐体内との間で前記基板を搬送するために前記第2の基板搬送口を開閉する工程と、
ロードポートにより、前記基板が格納される搬送容器を、当該搬送容器に設けられる基板取り出し口の口縁部が、前記第1の基板搬送口の口縁部に密着するように前記筐体の側壁に接続し、前記蓋体の開閉と前記第1の基板搬送口の開閉とを行う工程と、
清浄気体供給部により前記筐体内に清浄な気体を供給する工程と、
排気機構により前記筐体内を排気する工程と、
前記筐体内における前記第1の基板搬送口と前記第2の基板搬送口との間で搬送される前記基板の搬送路の上方に開口する吸引孔により、前記筐体内の雰囲気を吸引する工程と、
前記吸引された雰囲気における、前記搬送路を移動する基板から放出されるガスに含まれる成分を、検出部により検出する工程と、
を備える基板搬送方法。
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