JP2020027130A - 回折光学素子およびそれを用いた光学機器 - Google Patents

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Abstract

【課題】 基材上に複数の壁面と複数の斜面よりなる回折格子形状を有する第1樹脂層と、第2樹脂層とが順に積層され、第1樹脂層および第2樹脂層より屈折率が高い高屈折率部が壁面に形成された回折光学素子は、高温環境下において2つの樹脂層の界面において剥離を抑制することが困難であった。【解決手段】 基材上に複数の壁面と複数の斜面よりなる回折格子形状を有する第1樹脂層と、第2樹脂層とが順に積層され、第1樹脂層および第2樹脂層より屈折率が高い高屈折率部が壁面に形成された回折光学素子において、斜面上に高屈折率部と不連続である密着部を形成する。また、密着部の厚みを壁面の高さより小さくする。【選択図】 図2

Description

本発明は、カメラやビデオ等の光学機器に使用される回折光学素子、特に光学特性が異なる2種類の樹脂を用いた回折光学素子およびそれを用いた光学機器に関する。
レンズなどに用いられる回折光学素子として、光学特性が異なる2種類の光学部材を用いた回折光学素子が知られている。この回折光学素子は、回折光学系と屈折光学系では色収差が全く逆に発生する性質を利用してレンズとしての色収差を抑制し、かつレンズ全体の大幅な小型化、軽量化を実現可能としている。また、近年のカメラやビデオ等の光学機器の高画質化に伴い、レンズの光学性能はより高いレベルが要求されている。
例えば、特許文献1には回折格子形状に起因するフレア光の発生を低減するために、回折光学素子の壁面(崖面)に2つの光学部材より屈折率が高い高屈折率部材(導波路)を設けることが開示されている。
国際公開2011−099550号パンフレット
しかしながら、特許文献1に開示された回折光学素子は高温環境に長時間放置すると、フレア光の発生を低減できなかった。以下に、その原因を説明する。
図8は従来技術の回折光学素子の概略図であり、回折光学素子900は、複数の壁面と斜面からなる回折格子形状を有する光学部材901と、光学部材901の壁面901Aに設けられた高屈折率部材902と、光学部材903からなる。高屈折率部材902は光学部材901,903より高い屈折率に設計するため、例えば、高屈折率部材902は無機材料に、光学部材901,903は有機材料にそれぞれ構成される。有機材料の線膨張係数は一般に無機材料より大きいため、光学部材901,903の線膨張係数は高屈折率部材902の線膨張係数より大きい。したがって、高温環境下において、光学部材901,903が高屈折率部材902より膨張し、高屈折率部材902の両端部(図中の点線で囲まれた部分)には光学部材901,903から圧縮応力がかかる。そこで、高屈折率部材902の両端部が起点となり、回折格子の斜面901B近傍において光学部材901と光学部材903の界面全域に剥離が発生してしまう。そのため、高屈折率部材902を用いてもフレア光の発生を低減することが出来なかった。
上記課題を解決するための回折光学素子は、基材上に複数の壁面と複数の斜面よりなる回折格子形状を有する第1樹脂層と、第2樹脂層とが順に積層され、前記第1樹脂層および前記第2樹脂層より屈折率が高い高屈折率部が前記壁面に形成された回折光学素子において、前記斜面上に、前記高屈折率部と不連続である密着部が形成されており、前記密着部の厚みが、前記壁面の高さより小さいことを特徴とする。
本発明によれば、高温環境に長時間放置しても、第1樹脂層と第2の樹脂層の界面における剥離の発生を抑制できるため、フレア光の発生が低減された回折光学素子を提供することができる。
本発明の回折光学素子の一実施態様を示す概略図である。 本発明の回折光学素子の一実施態様を示す概略図である。 本発明の回折光学素子の一実施態様を示す概略図である。 本発明の回折光学素子の製造方法の一実施態様を示す概略図である。 本発明の光学機器の一実施態様を示す概略図である。 本発明の回折光学素子の一実施態様を示す概略図である。 本発明の回折光学素子の一実施態様を示す概略図である。 従来技術の回折光学素子を示す概略図である。
(回折光学素子)
図1は本発明の回折光学素子の一実施態様を示す上面図および側面図であり、図2は図1の回折光学素子の部分拡大図である。
回折光学素子100は、第1基材上に複数の壁面1Aと斜面1Bよりなる回折格子形状を有する第1樹脂層1と、第2樹脂層2とが順に積層されている。壁面1Aには高屈折率部3が設けられており、高屈折率部3は第1樹脂層1および第2樹脂層2より屈折率が高い。
(基材)
第1基材5は透明基材であり、例えば、ランタン系の高屈折率低分散ガラスであるS−LAH55(株式会社オハラ製)や超低分散ガラスであるS−FPL51(株式会社オハラ製)などを用いることができる。図1において、第1基材5はメニスレンズであるが、平板レンズであっても構わない。また、樹脂層の上に第2基材を設けても構わない。第2基材は、例えば、第1基材と同様に透明基材を用いることができる。
(樹脂層)
第1樹脂層1および第2樹脂層2は、例えば、光学用の無色透明な樹脂から構成され、回折光学素子が所望の光学特性が得られるように屈折率やアッベ数を設計する。広い波長帯域で高い回折効率を得るために、第1樹脂層1は低屈折率高分散に、第2樹脂層2は高屈折率低分散とすることが好ましい。ここで、低屈折率および高屈折率とは第1樹脂層1および第2樹脂層2の屈折率の相対的な関係を意味する。同様に、高分散および低分散とは第1樹脂層1および第2樹脂層2の分散特性(アッベ数ν)の相対的な関係を意味する。すなわち、第1樹脂層1の屈折率をnd1、アッベ数をν1、第2樹脂層2の屈折率をnd2、アッベ数をν2としたときに、nd1<nd2及びν1<ν2の関係を満たすことを意味する。
第1樹脂層1は、可視域全域で99%以上という高い回折効率を得るために、部分分散比θgFが小さいリニア分散特性を有する樹脂にすることが好ましい。このリニア分散特性を得るためには、樹脂に無機酸化物の微粒子(平均粒子径が5〜20nm程度)を含有させても良い。樹脂としては、熱硬化性樹脂および紫外線硬化樹脂等の硬化性樹脂を用いることができ、エポキシ樹脂やアクリル樹脂が好ましい。また、無機酸化物の微粒子としては、例えば、Snがドープされた酸化インジウム(ITO)やSbがドープされた酸化インジウム(ATO)を用いることができる。
第1樹脂層1は複数の壁面1Aと複数の斜面1Bよりなる回折格子形状を有する。この回折格子形状は、積層方向から平面視した際に、光軸Oを中心に複数の円からなる同心円状のレリーフパターンからなる。レリーフパターンにおける格子ピッチは、回折光学素子の中心近傍では広く、周縁部に向かうほどが狭い。光の収斂作用や発散作用を発現させるためである。回折格子の壁面の高さは、例えば、5μm以上40μm以下である。また、回折格子の斜面の長さは、例えば、100μm以上5mm以下である。
第2樹脂層2も第1樹脂層1と同様に、樹脂としては、熱硬化性樹脂および紫外線硬化樹脂等の硬化性樹脂を用いることができ、エポキシ樹脂やアクリル樹脂が好ましい。また、無機酸化物の微粒子としては、例えば、酸化ジルコニウムや酸化チタンを用いることができる。
(高屈折率部)
高屈折率部3は、第1樹脂層1の壁面1Aに設けられ、第1樹脂層1および第2樹脂層2より屈折率が高い材質で構成される。具体的には、ガラス等の無機材料を用いることができる。そのため高屈折率部3は第1樹脂層1および第2樹脂層2より線膨張係数の小さい材質で構成される。より具体的にはAl、HfO、ZrO、La、TiOのうちの一種或いは二種以上の混合物を用いることが出来る。コストの観点においては、AlもしくはAlを主成分としたLaがドープされたAl、もしくはTiがドープされたAlであることが好ましい。高屈折率部3が壁面1Aに設けられることにより、壁面から発生するフレア光(特に格子フレア)を低減することが可能となる。
高屈折率部3の長さ(壁面と平行な方向の長さ)は壁面1Aの高さと同じであることが好ましく、例えば、5μm以上40μm以下である。高屈折率部3の長さが壁面の高さより短いと、回折光学素子の回折効率が十分でなくなるおそれがある。なお、高屈折率部3の長さが壁面の高さより長く、その一部が斜面1B上に形成されていても構わない。
高屈折率部3の厚み(壁面と垂直な方向の長さ)は、例えば、10nm以上1.0μm以下である。この範囲であれば、壁面から発生するフレア光を効率よく抑制することが可能になる。
(密着部)
密着部4は、第1樹脂層1の斜面1B上に設けられており、その厚み(斜面と垂直な方向の長さ)は壁面の高さより小さい。密着部4が斜面上に設けられ、その厚みが壁面の高さに対し小さいと、斜面における樹脂層間の剥がれが生じにくく、かつ、散乱フレアの影響が少ない回折光学素子を提供することができる。これは、斜面1B上に密着部4を設けることにより、高屈折率部3に集中していた圧縮応力が密着部4にも分散し、且つ斜面における樹脂層間にいわゆるアンカー効果がするためである。また、高屈折率部3の端部にかかる圧縮応力により壁面端部に剥離が発生したとしても、このアンカー効果により剥離の斜面への進展を防止することができる。
ここで、密着部4の厚みは壁面の高さの1/400以上1/50以下であることが好ましい。より好ましくは10nm以上200nm以下である。密着部4の厚みが10nm未満であると、凹凸形状が浅すぎるため、アンカー効果を発現することが出来ないおそれがある。また、密着部4に応力がかかると、密着部4が薄いため割れるおそれがある。一方、密着部4の厚みが200nmより厚くなると、密着部4からレイリー散乱に起因する散乱フレア光が発生してしまうおそれがある。
また、密着部4は高屈折率部3とは不連続に形成されており、高屈折率部3とは別の部材である。密着部4と高屈折率部3とが連続的に形成されてしまうと、高屈折率部3の両端部ではなく、密着部4に圧縮応力が集中し、密着部4に割れが発生する可能性が高くなる。密着部4に割れが発生すると、フレア光が抑制できなくなり回折効率が低下する。
密着部4の斜面1Bに対する被覆面積は、斜面100面積部に対して5面積部以上99面積部以下であることが好ましい。この範囲であると、壁面1Aに設けられた高屈折率部3と密着部4とに発生する圧縮応力が互いに移動分散可能となり、第1樹脂層1と第2樹脂層2との界面に発生する剥離を抑制する確率をより高めることできる。一方、5面積部未満であると、圧縮応力が高屈折率部3に集中し、剥離が斜面へ進展するおそれがある。
密着部4は、回折光学素子100を積層方向から平面視した際に、回折光学素子の半径をR、回折光学素子の中心Oから周縁方向の距離をrとしたときに、0.1R≦|r|≦Rの領域に設けられていることが好ましい(図3参照)。回折光学素子の中心から0.1Rまでの範囲に密着部4を設けないことにより、回折光学素子の透過波面を良好にすることができるためである。回折光学素子の周縁に近い領域では格子間のピッチ間隔が狭くなり、隣り合う高屈折率部の応力が干渉して相乗するおそれがあるが、回折光学素子の中心から0.1R未満の範囲では、格子間のピッチ間隔が十分に広い。そのため、回折光学素子の中心から0.1R未満の範囲では、密着部4がなくても剥離が発生する確率が低い。
また、回折光学素子の中心から周縁に向かうほど、密着部4の厚みが厚いことが好ましい。さらに、回折光学素子の中心から周縁に向かうほど、密着部4の斜面に対する被覆面積が大きいことが好ましい。格子ピッチの間隔が狭くなる周縁に向かうほど隣接する高屈折率部3から発生する応力が相乗してしまうため、周縁に向かうほど密着部の厚みおよび被覆面積を多くすることによりアンカー効果を強め、より剥がれが生じにくい構造となる。
また、密着部4は斜面1B上において、図2のような海島構造を形成することが好ましい。同じ被覆面積であっても、一様に被覆されているより海島構造を形成されている方が凹凸領域が増え、アンカー効果を強めることが出来るためである。なお、図2においては密着部4が島、斜面が海となり海島構造が形成されている。
密着部4の材質は、透明性があり、かつ、第1樹脂層1および第2樹脂層2との密着性が十分に得られれば、特に限定されないが、第1樹脂層1および第2樹脂層2と屈折率が近い材質であることが好ましい。回折効率を高く得るためである。
なお、密着部4の材質が高屈折率部3の材質と同一であることが好ましい。密着部4と高屈折率部3を同時に形成することが容易となり、製造コストが低減できるためである。
また、密着部4の0℃から40℃における線膨張係数は、第1樹脂層1および第2樹脂層2の0℃から40℃における線膨張係数の1/10以上であることが好ましい。線膨張係数が1/10未満すなわち、密着部4と樹脂層の線膨張係数の差が大きすぎると、密着部と樹脂層の界面で剥がれが発生するおそれがあるためである。
また、密着部4と第1樹脂層1や第2樹脂層2との材料親和性が強いほどアンカー効果は強く発現する。例えば、密着部4の表面に水酸基が存在すると、第1樹脂層1や第2樹脂層2にも水酸基が水素結合で強く結合して存在しているため、アンカー効果がより増長されることが期待できる。
図2において密着部4は円柱状であるが、密着部4の形状はこれに限定されず、多角柱や多角錐や円錐であっても良い。
(回折光学素子の製造方法)
本発明の回折光学素子の製造方法を以下に説明する。
図4は本発明の回折光学素子の製造方法の一実施態様を示す概略図である。
まず、図4(a)のように第1基材5と型10の間に第1樹脂層の前駆体である第1樹脂11を設ける。ここで、型10は所望の回折格子形状を反転した形状を有しており、型の材質は例えば、ステンレス鋼(SUS材及びウッデホルム社製STAVAXなど)やNiPである。また、第1樹脂11は硬化性の樹脂を含有する樹脂であり、以下は紫外線硬化樹脂を用いた例である。
次に、図4(b)のように第1基材5と同じ材質の透明基材からなる押圧治具15を用いて第1基材5上に第1樹脂11を押圧転写した後に、第1基材5を通して紫外線光源9より紫外線を照射する。紫外線を照射して第1樹脂11を硬化させ、型10を離型することにより、回折格子形状を有する第1樹脂層1を形成する(この中間体をレンズAとよぶ)。
続いて、図4(c)のようにレンズAの回折格子の壁面に対して、高屈折率部3を蒸着法で形成する。形成時にはマスク13を用い、蒸着源14に対してレンズAを所望の角度に傾け、光軸中心に所望の速度で回転させることにより、周縁方向に均一な厚みをもつ高屈折率部3を形成する。
さらに、レンズAの回折格子の斜面に対して密着部4を蒸着法で形成する。高屈折率部3の形成時とは異なり、まず、蒸着源14をレンズAに対し垂直に配置し、密着部4を形成する(この中間体をレンズBとよぶ)。なお、この際には壁面に密着部を形成させないために、回折格子形状の輪帯に間隔に合わせたマスクをしておくなお、密着部4と高屈折率部3の材質を同一にする場合は、密着部4と高屈折率部3とを連続的に形成することもできる。また、マスクに所望の形状の孔部を設けることにより、密着部4を海島構造にすることも可能である。なお、蒸着源14に対しレンズAを鋭角に配置して回転させることにより、密着部4の厚みを一様にしないことも可能である。
さらに密着部4の被覆面積、厚みを制御するためにエッチングを行っても構わない。エッチングはドライエッチングでもウェットエッチングでも構わず、超音波の周波数や温度や処理時間によって、密着部4の形状を所望の形状に調整することも可能である。
続いて、図4(d)のようにレンズBに第2樹脂層2を形成するために、レンズBと第2基材6の間に第2樹脂層の前駆体である第2樹脂12を設ける。ここで、第2樹脂12は硬化性の樹脂を含有する樹脂である。続いて第2樹脂層2が所望の厚みになるように、レンズBと第2基材6との距離を調整する。
そして、図4(e)のように、第1基材5もしくは第2基材6を通して紫外線光源9より紫外線を照射し、第2樹脂12を硬化させることにより、第2樹脂層2を形成し、本発明の回折光学素子が得られる。なお、第2基材6は第2樹脂層2を形成後に取り除いても構わない。
(回折光学素子の評価方法)
以下に本発明の回折光学素子の評価方法を示す。
<格子斜面に対する密着部の被覆面積>
各輪帯における格子斜面の面積に対する密着部の被覆面積はフィゾー干渉計による透過波面の測定から算出した。
回折光学素子の密着部を有する格子斜面の透過波面を測定すると、密着部が有る領域と無い領域で透過波面の位相が異なる。具体的には、密着部4の屈折率が第1樹脂層1と第2樹脂層2の屈折率よりも高い場合は、密着部が有る領域の透過波面の位相は密着部が無い領域よりも遅くなる。一方、密着部4の屈折率が第1樹脂層1と第2樹脂層2の屈折率よりも低い場合は、密着部が有る領域の透過波面の位相は密着部が無い領域よりも早くなる。
<フレア率>
高温耐久試験(温度60℃、湿度70%、1200時間)の前後でフレア率を評価した。
回折光学素子をフレア率測定用に改造を施した撮像光学系(キヤノン(株)製EFレンズ鏡筒)に組み込んで、高屈折率部材におけるフレア光の測定を行った。フレア光の測定では、測定する回折光学素子を組み込んだ撮像光学系で黒体を撮影して、その撮像の輝度を評価する。回折光学素子からのフレア光が多いほど、黒体へ被る漏れ光が多くなるので、黒体の撮像輝度は明るくなる。フレア光の定量には、フレア光の無い完全黒体に対するフレア光による漏れ光の輝度割合を解析した。具体的には、黒体の無い白色画面の輝度を100%、完全黒体の輝度を0%とした時、完全黒体へかかるフレア光による輝度の増加割合をフレア率と定義した。フレア率としては0.15%が好ましく、より好ましくは0.10%以下である。また、高温耐久試験前後のフレア率の変化は0.05%未満が好ましく、より好ましくは0.02%以下である。
(光学機器)
次に本発明の光学機器に関して説明する。本発明の光学機器は、筐体と、該筐体内に配置された複数のレンズからなる光学系とを備える光学機器であって、前記レンズの少なくとも1つが上記回折光学素子であることを特徴とする。
図5は、本発明の光学機器の好適な実施形態の一例である一眼レフカメラの交換レンズ鏡筒の光学系の断面図である。レンズ鏡筒30の光学系は、筐体31の内部において、レンズ21〜29および回折光学素子20が光軸Oに対して垂直に配列されている。ここでレンズ21側が外光の入射面であり、レンズ29側がカメラとの着脱マウント側である。
本発明の回折光学素子20を光学系の適切な位置に配置させることにより、高温環境下においても、フレア光の発生を抑制できる光学機器を提供することができる。
以下に、実施例を挙げて本発明の回折光学素子を具体的に説明する。
(実施例1)
図4で説明した製造方法で図6の回折光学素子を製造した。
第1基材5としてガラス製のメニスレンズを用意した(平面視した際の直径が60mm)。また、型10としてステンレス鋼(ウッデホルム株式会社製、商品名:STAVAX)の土台にNiPを200μmメッキしたものを研削機で鋸歯断面形状に加工したものを用意した。
型10を用いて、第1基材5上に設けた第1樹脂11である光硬化性のエポキシ樹脂を押圧転写した。その状態で、第1基材5を通して第1樹脂11に紫外線を照射して、樹脂を硬化させた。紫外線の照射には紫外線照射装置(HOYA CANDEO OPTRONICS 社製、商品名:UV光源UL750)を使用し、その照射量は15J/cm(15mW/cmの照度で1000秒照射)とした。照射終了後に型10を第1基材5上に同心円状の回折格子形状を有する第1樹脂層1を形成した。得られた回折格子形状は、壁面の高さが10μm、格子間のピッチは0.1mm〜3mmの範囲で形成されており、その格子ピッチは第1輪帯において最も広く、周縁部である第80輪帯に向かうほど狭かった。また、第1樹脂層1の屈折率nd1は1.58であり、アッベ数ν1は32であった。
続いて、第1樹脂層1の回折格子形状の壁面に高屈折率部3を、斜面に密着部4をそれぞれ形成するために、マスクを介してアルミナを蒸着した。高屈折率部3の蒸着条件は、角度は蒸着源14に対して45°、回転速度は5rpm、成膜時間は20分とした。高屈折率部3の厚みは200nmであり、屈折率は1.75であった。
また、密着部4の蒸着条件は、角度は蒸着源14に対して90°、成膜時間は15分とした。密着部4の厚みは100nmであり、壁面の高さに対して1/100であった。また、マスクの形状で調整した各輪帯における格子斜面の被覆面積は平均で20面積%であった。
第2基材6としてガラス製の凹レンズを用意し、第2基材6と第1樹脂層1との間に第2樹脂12である光硬化性のアクリル樹脂を所望の厚みになるように調整した。そして、第2基材6を通して第2樹脂12に紫外線を照射して、樹脂を硬化させ、第2樹脂層2を形成し、実施例1の回折光学素子を得た。なお、第2樹脂層2の屈折率nd2は1.61であり、アッベ数ν2は41であった。
続いて実施例1の回折光学素子の高温耐久試験前後のフレア率を評価した、その結果、試験前のフレア率が0.03%であったのに対し、試験後のフレア率は0.04%であった。すなわち、その変化分は0.01%と良好な値であった。
(比較例1)
高屈折率部3と密着部4を形成する際に格子斜面にマスクをして、アルミナを蒸着した点以外は、実施例1と同様の方法で比較例1の回折光学素子を製造した。そのため、比較例1の回折光学素子は密着部がなかった。
比較例1の回折光学素子の高温耐久試験前後のフレア率を評価した、その結果、試験前のフレア率が0.03%であったのに対し、試験後のフレア率は0.31%であった。すなわち、その変化分は0.28%と実施例1より大きかった。また、高温耐久試験後において、第1樹脂層1と第2樹脂層2との界面を電子顕微鏡で観察したところ剥離が発生していることを確認した。
(比較例2)
アルミナを蒸着する際の回転角度を変更し、密着部4を形成せずに、格子壁面および格子斜面に一様に、アルミナを蒸着した点以外は実施例1と同様の方法で比較例2の回折光学素子を製造した。すなわち、比較例2の回折光学素子は格子斜面の被覆面積が100面積%であった。また、換言すると、比較例2は密着部と高屈折率部が一体に連続的に形成された形態である。
高屈折率部3の厚みは壁面および斜面において100nmであり、屈折率は1.75であった。
比較例2の回折光学素子の高温耐久試験前後のフレア率を評価した、その結果、試験前のフレア率が0.12%であったのに対し、試験後のフレア率は0.33%であった。すなわち、その変化分は0.21%と実施例1より大きかった。また、高温耐久試験後において、第1樹脂層1と高屈折率部3の界面および第2樹脂層2と高屈折率部3の界面を電子顕微鏡で観察したところ、斜面付近にクラックが発生し、各樹脂層と高屈折率部3との界面に剥離が発生していることを確認した。
(実施例2)
高屈折率部3と密着部4を形成する際の、アルミナを蒸着する時間を実施例1より長くした点およびマスクの形状を変更した点、高屈折率部3を形成する際の回転角度を変更した点以外は、実施例1と同様の方法で実施例2の回折光学素子を製造した。
高屈折率部3の厚みは300nmであり、屈折率は1.75であった。また、密着部4の厚みは200nmであり、各輪帯における格子斜面の被覆面積は平均で50面積%であった。
実施例2の回折光学素子の高温耐久試験前後のフレア率を評価した、その結果、試験前のフレア率が0.08%であったのに対し、試験後のフレア率は0.10%であった。すなわち、その変化分は0.02%と良好な値であった。
(実施例3)
図4で説明した製造方法で図7の回折光学素子を製造した。
第1基材5としてガラス製の平板レンズを用意した(平面視した際の直径が40mm)。また、型10としてステンレス鋼(ウッデホルム株式会社製、商品名:STAVAX)の土台にNiPを200μmメッキしたものを研削機で鋸歯断面形状に加工したものを用意した。
型10を用いて、第1基材5上に設けた第1樹脂11である光硬化性のフッ素系アクリル樹脂を押圧転写した。その状態で、第1基材5を通して第1樹脂11に紫外線を照射して、樹脂を硬化させた。紫外線の照射には紫外線照射装置(HOYA CANDEO OPTRONICS 社製、商品名:UV光源UL750)を使用し、その照射量は15J/cm(15mW/cmの照度で1000秒照射)とした。照射終了後に型10を第1基材5上に同心円状の回折格子形状を有する第1樹脂層1を形成した。得られた回折格子形状は、壁面の高さが20μm、格子間のピッチは0.1mm〜2mmの範囲で形成されており、その格子ピッチは第1輪帯において最も広く、周縁部である第35輪帯に向かうほど狭かった。また、第1樹脂層1の屈折率は1.49であり、アッベ数ν1は33であった。
続いて、第1樹脂層1の回折格子形状の壁面に高屈折率部3を形成するために、マスクを介してLa添加アルミナを蒸着した。なお、角度は蒸着源14に対して40°、回転速度は8rpm、成膜時間は7分とした。高屈折率部3の厚みは120nmであり、屈折率は1.71であった。
続いて、回折格子の中心からの距離rが4mmの位置から40mmの位置までにある格子斜面に対し密着部4を形成するために、SiOを蒸着した。この際、壁面にSiOが付着しないよう壁面と蒸着源の間にはマスク(不図示)を設けた。密着部4の蒸着条件は、角度は蒸着源14に対して90°、成膜時間は10分とした。密着部4の厚みは20nmであり、壁面の高さに対し1/100であった。また、屈折率は1.45であった。また、マスクの形状で調整した各輪帯における格子斜面の被覆面積は平均で70面積%であった。
第2基材6としてガラス製の平板レンズを用意し、第2基材6と第1樹脂層1との間に第2樹脂12である光硬化性のエポキシ樹脂を所望の厚みになるように調整した。そして、第2基材6を通して第2樹脂12に紫外線を照射して、樹脂を硬化させ、第2樹脂層2を形成し、実施例3の回折光学素子を得た。なお、第2樹脂層2の屈折率は1.53であり、アッベ数は39であった。
続いて実施例1の回折光学素子の高温耐久試験前後のフレア率を評価した、その結果、試験前のフレア率が0.05%であったのに対し、試験後のフレア率は0.07%であった。すなわち、その変化分は0.02%と良好な値であった。
(実施例4)
図4で説明した製造方法で図1の回折光学素子を製造した。
第1基材5としてガラス製のメニスレンズを用意した(平面視した際の直径が100mm)。また、型10としてステンレス鋼(ウッデホルム株式会社製、商品名:STAVAX)の土台にNiPを200μmメッキしたものを研削機で鋸歯断面形状に加工したものを用意した。
型10を用いて、第1基材5上に設けた第1樹脂11であるITO微粒子を16体積%分散させた光硬化性のアクリル樹脂を押圧転写した。その状態で、第1基材5を通して第1樹脂11に紫外線を照射して、樹脂を硬化させた。紫外線の照射には紫外線照射装置(HOYA CANDEO OPTRONICS 社製、商品名:UV光源UL750)を使用し、その照射量は15J/cm(15mW/cmの照度で1000秒照射)とした。照射終了後に型10を第1基材5上に同心円状の回折格子形状を有する第1樹脂層1を形成した。得られた回折格子形状は、壁面の高さが8μm、格子間のピッチは0.1mm〜5mmの範囲で形成されており、その格子ピッチは第1輪帯において最も広く、周縁部である第120輪帯に向かうほど狭かった。また、第1樹脂層1の屈折率は1.62であり、アッベ数は19であった。
続いて、第1樹脂層1の回折格子形状の壁面に高屈折率部3を、斜面に密着部4をそれぞれ形成するために、マスクを介してTi添加アルミナを蒸着した。なお、高屈折率部3の蒸着条件は、角度は蒸着源14に対して40°、回転速度は10rpm、成膜時間は5分とした。高屈折率部3の厚みは80nmであり、屈折率は1.81であった。
また、密着部4の蒸着条件は、角度は蒸着源14に対して50°、回転速度は6rpm、成膜時間は7分とした。密着部4の厚みは第1輪帯で20nm、第117輪帯で80nmであった。すなわち、壁面の高さに対し1/400以上1/100以下であった。また、マスクの形状により調整した各輪帯における格子斜面の被覆面積は第1輪帯で5面積%、第117輪帯で99面積%であった。なお、第118輪帯から第120輪帯までは被覆面積が100面積%であったが、光学有効外であるため、回折効率に影響を与えるものではなかった。
第2基材6としてガラス製の凹レンズを用意し、第2基材6と第1樹脂層1との間に第2樹脂12であるジルコニア微粒子を20体積%分散させた光硬化性のアクリル樹脂を所望の厚みになるように調整した。そして、第2基材6を通して第2樹脂12に紫外線を照射して、樹脂を硬化させ、第2樹脂層2を形成した後に、第2基材6を取り除き、実施例4の回折光学素子を得た。なお、第2樹脂層2の屈折率nd2は1.66であり、アッベ数ν2は45であった。
続いて実施例4の回折光学素子の高温耐久試験前後のフレア率を評価した、その結果、試験前のフレア率が0.09%であったのに対し、試験後のフレア率は0.11%であった。すなわち、その変化分は0.02%と良好な値であった。
以上の結果を表1にまとめる。
Figure 2020027130
以上の結果より、厚みが壁面の高さより小さい密着部を斜面に設けた実施例1〜4は、高温耐久試験前後において比較例1、2より低いフレア率を達成できることが分かった。
1 第1樹脂層
1A 壁面
1B 斜面
2 第2樹脂層
3 高屈折率部
4 密着部
5 第1基材
6 第2基材
20 回折光学素子
30 光学機器
100 回折光学素子

Claims (15)

  1. 基材上に複数の壁面と複数の斜面よりなる回折格子形状を有する第1樹脂層と、第2樹脂層とが順に積層され、前記第1樹脂層および前記第2樹脂層より屈折率が高い高屈折率部が前記壁面に形成された回折光学素子において、
    前記斜面上に、前記高屈折率部と不連続である密着部が形成されており、
    前記密着部の厚みが、前記壁面の高さより小さいことを特徴とする回折光学素子。
  2. 前記密着部の厚みが前記壁面の高さの1/400以上1/50以下である請求項1に記載の回折光学素子。
  3. 前記密着部の厚みが10nm以上200nm以下である請求項1または2に記載の回折光学素子。
  4. 前記密着部の厚みが、前記回折光学素子の中心から周縁に向かうほど厚い請求項1乃至3のいずれか1項に記載の回折光学素子。
  5. 前記密着部の前記斜面に対する被覆面積が、前記斜面100面積部に対し5面積部以上99面積部以下である請求項1乃至4のいずれか1項に記載の回折光学素子。
  6. 前記密着部の前記斜面に対する被覆面積が、前記回折光学素子の中心から周縁に向かうほど大きい請求項1乃至5のいずれか1項に記載の回折光学素子。
  7. 前記回折光学素子を積層方向から平面視した際に、前記回折光学素子の半径をR、前記回折光学素子の中心から周縁方向の距離をrとしたときに
    前記密着部が、式(1)の領域にある斜面に形成されている請求項1乃至6のいずれか1項に記載の回折光学素子。
    0.1R≦|r|≦R (1)
  8. 前記密着部が無機材料からなる請求項1乃至7のいずれか1項に記載に回折光学素子。
  9. 前記高屈折率部が無機材料からなる請求項1乃至8のいずれか1項に記載に回折光学素子。
  10. 前記密着部が前記高屈折率部と同じ材質からなる請求項1乃至9のいずれか1項に記載の回折光学素子。
  11. 前記密着部の0℃から40℃における線膨張係数が、前記第1樹脂層および前記第2樹脂層の0℃から40℃における線膨張係数の1/10以上である請求項1乃至10のいずれか1項に記載の回折光学素子。
  12. 前記第1樹脂層の屈折率をnd1、前記第1樹脂層のアッベ数をν1、前記第2樹脂層の屈折率をnd2、前記第2樹脂層のアッベ数をν2としたときに、
    nd1<nd2及びν1<ν2を満たす請求項1乃至11のいずれか1項に記載の回折光学素子。
  13. 前記第2樹脂層の上に第2基材が積層された請求項1乃至12のいずれか1項に記載の回折光学素子。
  14. 筐体と、該筐体内に配置された複数のレンズからなる光学系と、を備える光学機器であって、前記レンズの少なくとも1つが請求項1乃至13のいずれか1項に記載の回折光学素子であることを特徴とする光学機器。
  15. 基材上に複数の壁面と複数の斜面よりなる回折格子形状を有する第1樹脂層と、第2樹脂層とが順に積層され、前記第1樹脂層および前記第2樹脂層より屈折率が高い高屈折率部が前記壁面に形成された回折光学素子の製造方法であって、
    基材上に、複数の壁面と複数の斜面よりなる回折格子形状を有する第1樹脂層を設ける工程と、
    前記複数の壁面に、前記第1樹脂層および第2樹脂層より屈折率が高い高屈折率部を設ける工程と、
    前記複数の斜面に、前記高屈折率部と不連続である密着部を、前記密着部の厚みが前記壁面の高さより小さくなるように設ける工程と、
    前記第1樹脂層の上に前記第2の樹脂層を設ける工程と、
    を備えることを特徴とする回折光学素子の製造方法。
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