JP2020023620A5 - - Google Patents
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Description
そうすると上記被印刷面を、先に印刷したクリアインクからなる透明な下地層によって被覆した上に、着色インクによって文字などの着色層を印刷できるため、当該着色層を、できるだけ滲みが抑制された、鮮明な状態とすることができる。
上記印刷方法においては、クリアインクと着色インクの組み合わせ(インクセット)について、種々検討されている。
上記印刷方法においては、クリアインクと着色インクの組み合わせ(インクセット)について、種々検討されている。
上記3種のラジカル重合性成分の、合計の割合の上限はとくに限定されない。
ラジカル重合性成分は、その全量、つまり100質量%が、(1)〜(3)の3種のラジカル重合性成分であってもよい。
ただし、ラジカル重合性成分としては、先に説明したように、(4)のアミン変性(メタ)アクリレート、(5)のシリコン変性ポリエーテル(メタ)アクリレート、あるいは(6)の他のラジカル重合性成分を併用してもよい。
ラジカル重合性成分は、その全量、つまり100質量%が、(1)〜(3)の3種のラジカル重合性成分であってもよい。
ただし、ラジカル重合性成分としては、先に説明したように、(4)のアミン変性(メタ)アクリレート、(5)のシリコン変性ポリエーテル(メタ)アクリレート、あるいは(6)の他のラジカル重合性成分を併用してもよい。
光ラジカル重合開始剤としては、たとえば、下記化合物等の1種または2種以上を用いることができる。
ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4′−ジクロロベンゾフェノン、4,4′−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4′−ビスジメチルアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、特開2008−280427号公報の一般式(1)で表されるベンゾフェノン化合物等のベンゾフェノン類またはその塩。
ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4′−ジクロロベンゾフェノン、4,4′−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4′−ビスジメチルアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、特開2008−280427号公報の一般式(1)で表されるベンゾフェノン化合物等のベンゾフェノン類またはその塩。
チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、イソプロポキシクロロチオキサントン、特開2008−280427号公報の一般式(2)で表されるチオキサントン化合物等のチオキサントン類またはその塩。
エチルアントラキノン、ベンズアントラキノン、アミノアントラキノン、クロロアントラキノン等のアントラキノン類。
エチルアントラキノン、ベンズアントラキノン、アミノアントラキノン、クロロアントラキノン等のアントラキノン類。
また、その他の増感剤としては、たとえば、ナフタレンベンゾオキサゾリル誘導体、チオフェンベンゾオキサゾリル誘導体、スチルベンベンゾオキサゾリル誘導体、クマリン誘導体、スチレンビフェニル誘導体、ピラゾロン誘導体、スチルベン誘導体、ベンゼンおよびビフェニルのスチリル誘導体、ビス(ベンザゾール−2−イル)誘導体、カルボスチリル、ナフタルイミド、ジベンゾチオフェン−5,5’−ジオキシドの誘導体、ピレン誘導体、ピリドトリアゾール、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等が挙げられる。
かかる印刷方法によれば、先に説明したように、まず被印刷面に、光硬化性のクリアインクを用いて、未硬化の下地層を印刷した上に、光硬化性の着色インクを用いて、未硬化の着色層を重ねて印刷したのち、紫外線等の光を照射して両層を硬化させる。
そうすると上記被印刷面を、先に印刷したクリアインクからなる透明な下地層によって被覆した上に、着色インクによって文字などの着色層を印刷できるため、当該着色層を、できるだけ滲みが抑制された、鮮明な状態とすることができる。
そうすると上記被印刷面を、先に印刷したクリアインクからなる透明な下地層によって被覆した上に、着色インクによって文字などの着色層を印刷できるため、当該着色層を、できるだけ滲みが抑制された、鮮明な状態とすることができる。
表中の各成分は下記の通り。
(1) SR368
イソシアヌル酸トリアクリレート〔3官能、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート〕、窒素含有複素環式アクリレート、サートマー社製のSR368
(2) RP−1040
エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート(EO変性、4官能)、多官能アクリレート、日本化薬(株)製のKAYARAD(登録商標)RP−1040
(3) V−Cap
N−ビニルカプロラクタム、窒素含有複素環式ビニル化合物、アシュランド・ジャパン(株)製のV−Cap
(4) CN371
アミン変性アクリレート、サートマー社製のCN371
(5) Rad 2300
シリコン変性ポリエーテルアクリレート、エボニック インダストリーズ社製のTEGO Rad 2300
(6) NP−A
ネオペンチルグリコールジアクリレート、他のラジカル重合性成分、共栄社化学(株)製のライトアクリレート(登録商標)NP−A
・ 光ラジカル重合開始剤TPO
2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、IGM Resin社製のOmnirad TPO
・ 光ラジカル重合開始剤819
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、LEDピークシフト用、IGM Resin社製のOmnirad 819
・ 増感剤
2−イソプロピルチオキサントン、ランブソンジャパン(株)製のSpeedcure 2−ITX
・ 顔料分散液
顔料分散液としては、下記の各成分を配合し、撹拌したのちビーズミルを用いて分散させたものを用いた。
(1) SR368
イソシアヌル酸トリアクリレート〔3官能、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート〕、窒素含有複素環式アクリレート、サートマー社製のSR368
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(3) V−Cap
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(4) CN371
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シリコン変性ポリエーテルアクリレート、エボニック インダストリーズ社製のTEGO Rad 2300
(6) NP−A
ネオペンチルグリコールジアクリレート、他のラジカル重合性成分、共栄社化学(株)製のライトアクリレート(登録商標)NP−A
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2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、IGM Resin社製のOmnirad TPO
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・ 増感剤
2−イソプロピルチオキサントン、ランブソンジャパン(株)製のSpeedcure 2−ITX
・ 顔料分散液
顔料分散液としては、下記の各成分を配合し、撹拌したのちビーズミルを用いて分散させたものを用いた。
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2018
- 2018-08-07 JP JP2018148648A patent/JP7216494B2/ja active Active
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