JP2020014656A - パーマ処理毛髪用消臭剤組成物、消臭剤組成物の製造方法、及び毛髪の消臭方法 - Google Patents

Abstract

【課題】パーマ処理後の毛髪を消臭することができる、新規なパーマ処理毛髪用消臭剤組成物、消臭剤の製造方法、及び毛髪の消臭方法を提供すること。【解決手段】パーマ処理毛髪用消臭剤組成物は、水を含む溶媒と、溶媒中に分散した消臭剤粉末とを備える。【選択図】図１

Description

本発明は、パーマ処理毛髪用消臭剤組成物、消臭剤組成物の製造方法、及び毛髪の消臭方法に関する。

パーマ処理時には、パーマ剤が毛髪に塗布される。パーマ剤には、多くの場合、有効成分として、システアミン等の硫黄含有化合物が含まれている。それら硫黄含有化合物が毛髪に付着する結果、毛髪は、パーマ処理後に独特の臭気を有する。よって、パーマ処理された毛髪から臭気を除去する技術が望まれている。

上記に関連して、例えば、特許文献１（特開２００３−２６１４２５号公報）には、二価金属イオンを１種又は２種以上含むことを特徴とするシステアミン処理毛髪用の消臭処理剤が開示されている。

特開２００３−２６１４２５号公報

本発明者らが知る限り、パーマ処理により生じた臭気を毛髪より除去して消臭する技術は、特許文献１に記載された技術以外に報告されていない。
そこで、本発明の課題は、パーマ処理された毛髪を消臭することができる、新規なパーマ処理毛髪用消臭剤組成物、消臭剤組成物の製造方法、及び毛髪の消臭方法を提供することにある。

上記課題を解決するため、本発明は以下の事項を含む。
［１］硫黄含有化合物を吸着する機能を有する消臭剤粉末を含有する、パーマ処理毛髪用消臭剤組成物。
［２］更に、溶媒を含有し、前記消臭剤粉末が前記溶媒中に分散している、［１］に記載の消臭剤組成物。
［３］前記溶媒のｐＨが３〜１２である、［２］に記載の消臭剤組成物。
［４］前記消臭剤粉末の含有量が、０．００１〜５０質量％である、［２］又は［３］に記載の消臭剤組成物。
［５］システアミン消臭速度が、毎分５０μｇ／ｍｇ以上である、［２］乃至［４］のいずれかに記載の消臭剤組成物。
［６］前記消臭剤粉末が、マンガン、銅、ニッケル、銀、亜鉛、白金及び鉄からなる群から選ばれる少なくとも一種の金属Ｘを含む粉体である、［１］乃至［５］のいずれかに記載の消臭剤組成物。
［７］前記消臭剤粉末が、多孔質シリカを含み、前記金属Ｘが、前記多孔質シリカにドープされている、もしくは粒子として担持されている［６］に記載の消臭剤組成物。
［８］前記消臭剤粉末が、活性炭、ケイ酸塩、４価金属リン酸塩又はゼオライトを含む、［１］乃至［６］のいずれかに記載の消臭剤組成物。
［９］溶媒を調製する工程と、前記溶媒に消臭剤粉末を分散させる工程と、
を備える、パーマ処理毛髪用消臭剤組成物の製造方法。
［１０］毛髪に対してパーマ処理を行う工程と、前記毛髪に、［１］乃至［８］のいずれかに記載された消臭剤組成物を塗布する工程とを備える、毛髪の消臭方法。

本発明によれば、パーマ処理された毛髪を消臭することができる、新規なパーマ処理後毛髪用消臭剤組成物、消臭剤の製造方法、及び毛髪の消臭方法が提供される。

図１は、消臭剤組成物が塗布された毛髪の電子顕微鏡写真である。

以下、本発明の実施態様について説明する。
１：第１の実施態様
第１の実施態様に係るパーマ処理毛髪用消臭剤組成物は、溶媒と、溶媒中に分散した消臭剤粉末とを含む。本実施態様に係るパーマ処理毛髪用消臭剤組成物を毛髪に塗布すると、溶媒中に分散した消臭剤粉末が毛髪に付着する。毛髪に消臭剤粉末が付着することにより、速やかに毛髪の臭気が消臭される。
加えて、例えば、特許文献１（特開２００３−２６１４２５号公報）に記載されるように、消臭機能を実現する物質が金属イオンの状態で溶媒中に存在している場合には、排水処理等の面での負担が大きくなる。例えば、排水先において、イオン交換樹脂等により金属イオンを除去するための処理等が必要になる。これに対して、本実施態様によれば、消臭機能を有する物質が粉末として存在しているため、排水先において、沈殿装置などを用いて、消臭剤粉末を夾雑物として容易に分離回収することができる。すなわち、排水処理に要する負担を軽減できる。

以下、本実施態様の詳細を説明する。

（溶媒）
消臭剤組成物に含まれる溶媒は、消臭剤粉末が溶解せずに分散するようなものであれば、特に限定されるものでは無い。好ましくは、主成分（例えば５０質量％以上、好ましくは８０質量％以上）として水を含む液体が、溶媒として用いられる。

溶媒のｐＨは、好ましくは３〜１２、より好ましくは６〜１０である。ｐＨがこの範囲内であれば、髪に与えるダメージが少なくて済む。

溶媒は、低粘度であることが好ましい。低粘度であれば、消臭対象となる硫黄含有化合物が溶媒中に拡散しやすくなり、消臭剤粉末に吸着され易くなる。その結果、消臭速度を上げることができる。溶媒の粘度は、例えば２５℃において０．５〜１０００ｍＰａ／秒、好ましくは０．５〜１００ｍPa／秒である。

（消臭剤粉末）
消臭剤粉末は、パーマ剤に由来する臭気の原因となる硫黄含有化合物と反応し、かつ、溶媒中に分散するものであればよく、特に限定されない。

組成物中における消臭剤粉末の含有量は、例えば０．００１〜５０質量％、好ましくは０．１〜１０質量％である。消臭剤粉末の含有量が、０．００１質量％以上であれば、十分な消臭効果を得ることができる。消臭剤粉末の含有量が５０質量％以下であれば、流動性が維持される。

消臭剤粉末のモード径は、例えば０．１〜１００μｍ、好ましくは０．５〜５０μｍである。

消臭剤粉末としては、例えば、硫黄含有化合物を吸着する機能を有する金属Ｘを含む粉体；活性炭；及びゼオライトなどが挙げられる。

金属Ｘを含む粉体として、好ましくは、金属Ｘが母材に担持された粉体が用いられる。母材としては、例えば、多孔質シリカ、ケイ酸塩、及び４価金属リン酸塩が挙げられる。
金属Ｘとしては、例えば、マンガン、銅、ニッケル、銀、亜鉛、白金及び鉄からなる群から選ばれる少なくとも一種の金属が挙げられる。好ましい金属Ｘとして、マンガン、銅、及び鉄が挙げられる。更に好ましい金属Ｘとして、マンガン及び銅が挙げられる。

より好ましくは、金属Ｘを含む粉体として、金属Ｘを含む多孔質シリカが用いられる。
この場合、金属Ｘは、多孔質シリカに「ドープ」されていてもよいし、「粒子として多孔質シリカに担持」されていてもよい。好ましくは、金属Ｘは、多孔質シリカにドープされている。
尚、「ドープされている」とは、金属ＸがシリカのＳｉＯ₄骨格内のＳｉ元素の位置に組み込まれた状態をいう。
また、「粒子として多孔質シリカに担持」されているとは、ドープされることなく、金属Ｘが多孔質シリカに支持されている状態をいう。

多孔質シリカの比表面積は、例えば５００ｍ²／ｇ以上、好ましくは８００〜２０００ｍ²／ｇ、より好ましくは８００〜１６００ｍ²／ｇである。多孔質シリカの比表面積が５００ｍ²／ｇ以上であれば、ドープされた金属と消臭対象の臭気との接触面積が十分に確保され、高い消臭効率を得ることができる。また、比表面積が２０００ｍ²／ｇ以下であれば、細孔構造を維持するための強度も確保できる。

多孔質シリカに形成されている空孔の大きさは、溶媒分子及び硫黄含有化合物分子が出入りできる大きさであればよい。例えば、空孔の直径が２ｎｍ以上であれば、十分である。

金属Ｘが多孔質シリカにドープされていることにより、金属Ｘがドープされることなく粒状で存在している場合に比べて、消臭効率が高くなる。金属Ｘがドープされている場合には、多孔質シリカの表面全体にわたって金属Ｘが存在することになる。その結果、金属Ｘが粒状で存在する場合に比べて、臭気と金属Ｘとの接触面積が大きくなり、高い消臭効率が得られるものと考えられる。

また、例えば金属Ｘが溶媒に可溶な金属塩として多孔質シリカに担持されている場合には、消臭剤の使用場面において、金属Ｘが金属イオンとして溶媒中に溶出してしまうことが考えられる。場合によっては、金属イオンが排水として流出しないようにイオン交換など高コストな処理を施す必要が生じ、排水処理に要する負担が生じる場合がある。これに対して、金属Ｘが多孔質シリカにドープされている場合には、多孔質シリカからの金属Ｘの離脱が防止されるため、沈殿装置により粉末として容易に分離回収が可能であり、排水処理面での負担を軽減できる。

更に、金属Ｘが多孔質シリカにドープされる形で含まれていると、金属Ｘが単独で存在する場合における色味が軽減される。そのため、消臭剤組成物の外観を所望する色に制御しやすくなる。

多孔質シリカ中の金属Ｘの含有量は、例えば０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。金属Ｘの含有量が０．０１質量％以上であれば、十分な消臭効果が得られる。また、１０質量％以下であれば、金属Ｘを含有する多孔質シリカを容易に合成することができる。

多孔質シリカには、金属Ｘとは異なる金属が含まれていることが好ましい。

金属Ｘとは異なる金属として、例えば、多孔質シリカの加水分解を抑制するための金属Ｙが挙げられる。金属Ｙとしては、例えば、Ａｌ及びＺｒからなる群から選択される金属が挙げられる。金属Ｙは、多孔質シリカにドープされていることが好ましい。
多孔質シリカに金属Ｙがドープされていることにより、多孔質シリカの水熱耐久性が高められる。その理由は、金属Ｙがドープされていると、シリカのシロキサン骨格の加水分解が抑制され、細孔構造が崩壊しにくくなるからであると考えられる。

多孔質シリカ中の金属Ｙの含有量は、例えば０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。金属Ｙの含有量が０．１質量％以上であれば、シロキサン骨格の加水分解抑制による経時保管による比表面積維持の効果が得られる。１０質量％以下であれば、比表面積が５００ｍ²／ｇ以上の高い比表面積を実現できる。

また、金属Ｘとは異なる金属として、硫黄含有臭気以外の臭気を除去する機能を有する金属Ｚが多孔質シリカに含まれていてもよい。金属Ｚとしては、例えば、Ｃｏ、Ｚｎ、Ａｇ及びＣａからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属が挙げられ、好ましくはＣｏ等が挙げられる。Ｃｏ等が多孔質シリカに含まれている場合、硫黄含有臭気だけでなく、アルデヒドの分解や、脂肪酸臭気の消臭も期待でき、多臭気を一括して消臭可能な多孔質シリカを得ることができる。
金属Ｚは、多孔質シリカに「ドープ」されていてもよいし、「粒子として多孔質シリカに担持」されていてもよい。

多孔質シリカ中の金属Ｚの含有量は、例えば０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。

具体的には、多孔質シリカは、下記式１で表される化学構造を少なくとも一部に有していることが好ましい。
（式１）：ＳｉＯ₂・ａＸＯ_b/2・ｃＹＯ_d/2・ｅＺＯ_f/2
なお、式１中、Ｘは、金属Ｘを表す。
Ｙは、金属Ｙを表す。
Ｚは、金属Ｚを表す。
ａは、０より大きく０．１以下である数を表す。
ｃ及びｅは、それぞれ、０以上０．１以下である数を表す。
ｂ、ｄ及びｆは、それぞれ、金属Ｘ、金属Ｙ及び金属Ｚの価数を表す。

なお、多孔質シリカに金属Ｘ、金属Ｙ、又は金属Ｚを含有させるためには、多孔質シリカの製造時に、水溶液中で、金属Ｘ、金属Ｙ又は金属Ｚを含む水溶性の金属塩を、多孔質シリカ又はその前駆体と混合すればよい。

一方、消臭剤粉末が活性炭を含んでいる場合、活性炭としては、市販のものを用いることができる。活性炭としては、例えば、比表面積が、例えば５００ｍ²／ｇ以上、好ましくは１０００〜２０００ｍ²／ｇであるものを用いることができる。

また、消臭剤粉末がゼオライトを含んでいる場合、ゼオライトとしては、細孔径と消臭したい硫黄化合物の大きさがちょうど適合しているものを用いることが好ましい。例えば、ＺＳＭ−５、モルデナイトなどが好ましい。また、細孔内の陽イオンを金属イオンで置換した銀ゼオライト、銅ゼオライトなども用いることができる。

（製造方法）
本実施態様に係るパーマ処理毛髪用消臭剤組成物の製造方法は、溶媒を調製する工程と、溶媒に消臭剤粉末を分散させる工程とを備える。

尚、消臭剤粉末として金属Ｘが含まれる多孔質シリカを用いる場合、多孔質シリカは、例えば、以下の工程を含む方法により製造することができる。
（Ａ）溶媒、界面活性剤、及び金属Ｘを含有する金属Ｘ供給用化合物を混合し、界面活性剤溶液を調製する工程
（Ｂ）界面活性剤溶液に、シリカ源を添加し、表面にシリカ源が集積したミセルを生成する工程
（Ｃ）集積したシリカ源を縮合させる工程
（Ｄ）縮合させる工程の後に、ミセルを回収し、焼成する工程

以下、各工程について詳述する。

（Ａ）：界面活性剤溶液の調製
まず、溶媒に、界面活性剤及び金属Ｘ供給用化合物を添加し、界面活性剤溶液を調製する。界面活性剤溶液は、好ましくは、室温以上２００℃以下で、３０分以上１０時間以下、攪拌される。これにより、界面活性剤がミセルを形成する。

溶媒としては、例えば水を用いることができる。また、水とエタノールやトルエンなどの有機溶媒との混合物が溶媒として用いられてもよい。

界面活性剤の添加量は、好ましくは５０〜４００ｍｍｏｌ／Ｌ、より好ましくは５０〜
１５０ｍｍｏｌ／Ｌである。
或いは、界面活性剤の添加量は、後に添加されるシリカ源１モルに対して、０．０１〜５．０モル、好ましくは０．０５〜１．０モルである。

界面活性剤としては、特に限定されるものではなく、陽イオン性、陰イオン性、及び非イオン性の何れの界面活性剤も使用可能である。
好ましくは、界面活性剤は、中性又は陽イオン性のものであり、より好ましくはアルキルアンモニウム塩である。アルキルアンモニウム塩は、炭素数が８以上のものが好ましく、工業的な入手の容易さを鑑みると、炭素数が１２から１８のものがより好ましい。アルキルアンモニウム塩としては、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド、セチルトリメチルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド、セチルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、オクタデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、オクタデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ジドデシルジメチルアンモニウムブロマイド、ジテトラデシルジメチルアンモニウムブロマイド、ジドデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジテトラデシルジメチルアンモニウムクロライドなどが挙げられる。これらの界面活性剤は、単独で用いてもよく、また２種以上を組み合わせて用いてもよい。

金属Ｘ供給用化合物は、多孔質シリカに含まれる金属Ｘの供給源となる物質である。金属Ｘ供給用化合物としては、金属Ｘを含む水溶性の化合物が好ましく用いられる。より好ましくは、金属Ｘの塩化物、硝酸塩及び硫酸塩などが用いられる。

例えば、金属Ｘが鉄である場合、塩化鉄（ＩＩＩ）等が金属Ｘ供給用化合物として添加される。
例えば、金属Ｘが銅である場合、硝酸銅等が金属Ｘ供給用化合物として添加される。
例えば、金属Ｘがマンガンである場合、塩化マンガン等が金属Ｘ供給用化合物として添加される。
例えば、金属Ｘがニッケルである場合、硝酸ニッケル等が金属Ｘ供給用化合物として添加される。
例えば、金属Ｘが銀である場合、硝酸銀等が金属Ｘ供給用化合物として添加される。
例えば、金属Ｘが亜鉛である場合、硝酸亜鉛等が金属Ｘ供給用化合物として添加される。
例えば、金属Ｘが白金である場合、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）酸６水和物等が金属供給用化合物として添加される。
なお、金属Ｘが鉄、銅、マンガン及びニッケル等である場合には、金属Ｘは、通常、最終的に多孔質シリカにドープされる。
一方、金属Ｘが銀又は白金である場合、通常、金属Ｘは、最終的に、粒子として、多孔質シリカに担持される。

金属Ｘ供給用化合物の添加量は、例えば、シリカ源１モルに対して０．００１〜０．５モル、好ましくは０．０１〜０．１モルである。

（Ｂ）：シリカ源の添加
続いて、界面活性剤溶液に、シリカ源を添加する。

シリカ源は、シリカの原料となるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、およびケイ酸ナトリウムなどが挙げられる。これらのシリカ源は、単独で用いてもよく、また２種以上を組み合わせて用いてもよい。シリカ源は、好ましくはアルコキシシランである。シリカ源は、より好ましくはテトラエトキシシランである。ケイ素原子上の有機官能基は、加水分解によって失われるため、合成物の構造に影響を与えない。ただし、有機官能基が嵩高いと加水分解速度が遅くなり、合成時間が長くかかってしまう。
尚、シリカ源としてケイ酸ナトリウムを単独もしくは併用して用いる場合、界面活性剤溶液について、２００℃以下で２０〜２時間、加熱還流する操作をする。

シリカ源の添加量は、特に限定されるものではないが、例えば、０．２〜１．８モル／Ｌである。或いは、溶媒が水を含む場合、シリカ源の濃度は、水１モルに対して、例えば０．００１〜０．０５モルである。

（Ｃ）：シリカ源の縮合
次に、シリカ源を縮合させる。具体的には、シリカ源が縮合するまで、溶液のｐＨを増加または減少させる。例えば、塩基性水溶液を添加し、攪拌することにより、シリカ源を縮合させることができる。攪拌は、例えば、１時間以上行う。塩基性水溶液の添加により、ミセルの表面に集積したシリカ源が脱水縮合し、シリカの壁を形成する。
塩基性水溶液としては、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニアなどの水溶液が挙げられる。塩基性水溶液は、好ましくは水酸化ナトリウム水溶液である。これらの塩基性水溶液は、単独で用いてもよく、また２種以上を組み合わせて用いてもよい。塩基性水溶液は、添加直後に好ましくはｐＨが８〜１４となるように、より好ましくは９〜１１となるように添加される。塩基水溶液の添加により、シリカ源の脱水縮合反応が加速する。
その結果、縮合部分の表面張力が上昇して、シリカの壁が球状となり、さらに球体が幾重にも接合した形態となって、スピノーダル分解（相分離）が引き起こされる。化学架橋によってこれらの構造が凍結される。

尚、シリカ源は、ｐＨが低い状態においても縮合する性質を有している。従って、塩基性水溶液ではなく、酸性水溶液を添加することによっても、シリカ源を縮合させることができる。

（Ｄ）：ミセルの回収及び焼成
続いて、ミセルを、水溶液から前駆体として回収する。詳細には、シリカ源を縮合させると、ミセルが沈殿する。そこで、沈殿物を濾別することにより、ミセルを前駆体として回収する。回収した前駆体を乾燥させる。乾燥後、前駆体を焼成し、前駆体中に含まれる有機成分を除去する。すなわち、ミセルを構成していた界面活性剤を除去する。これにより、細孔を有する多孔質シリカが形成される。なお、焼成は、界面活性剤の分解温度以上で行われる。焼成温度は、例えば４００〜６００℃である。

以上の方法により得られた多孔質シリカには、金属Ｘ供給用化合物由来の金属Ｘが含まれている。すなわち、金属Ｘが含まれた多孔質シリカが得られる。

なお、上記の方法では、金属Ｘ供給用化合物が、工程（Ａ）において添加される例について説明した。但し、金属Ｘ供給用化合物は、必ずしも工程（Ａ）において添加される必要はなく、工程（Ｄ）の焼成前であればどの段階で溶液中に添加されてもよい。溶液中において、集積したシリカ源と金属Ｘ供給用化合物とが混合されていれば、金属Ｘ供給用化合物由来の金属Ｘがシリカ源に取り込まれ、金属Ｘが含まれる多孔質シリカが得られる。

また、多孔質シリカとして、金属Ｘに加えて、金属Ｙ及び／又は金属Ｚが含まれる多孔質シリカを製造する場合には、工程（Ｄ）より前のいずれかの段階において、金属Ｙ供給用化合物又は金属Ｚ供給用化合物を添加すればよい。
金属Ｙ供給用化合物及び金属Ｚ供給用化合物は、それぞれ、金属Ｙ及び金属Ｚの供給源となる物質である。金属Ｙ供給用化合物及び金属Ｚ供給用化合物としては、金属Ｙ又はＺを含む水溶性の化合物が好ましく用いられる。より好ましくは、金属Ｙ又は金属Ｚの塩化物、硝酸塩及び硫酸塩などが用いられる。

例えば、金属Ｙがアルミニウムである場合、塩化アルミニウム等が金属Ｙ供給用化合物として添加される。
例えば、金属ＹがＺｒである場合、オキシ塩化ジルコニウム等が金属Ｙ供給用化合物として添加される。
例えば、金属Ｚがコバルトである場合、硝酸コバルト等が金属Ｚ供給用化合物として添加される。
例えば、金属ＺがＺｎである場合、硝酸亜鉛等が金属Ｚ供給用化合物として添加される。
例えば、金属ＺがＡｇである場合、硝酸銀等が金属Ｚ供給用化合物として添加される。
例えば、金属ＺがＣａである場合、炭酸カルシウム等が金属Ｚ供給用化合物として添加される。
金属Ｙ供給用化合物及び金属Ｚ供給用化合物は、単独で用いられてもよく、２種以上が組み合わされて用いられてもよい。

金属Ｙ供給用化合物及び金属Ｚ供給用化合物の添加量は、それぞれ、例えば、シリカ源１モルに対して０．００１〜０．５モル、好ましくは０．０１モル〜０．１モルである。

（使用方法）
本実施態様に係る消臭剤組成物は、パーマ処理後に、毛髪に塗布される。

一般的に、パーマ処理時には、まず、毛髪がシャンプー等により洗浄される。次いで、毛髪がカーラーに巻かれる。次いで、パーマ１剤と呼ばれる薬剤が毛髪に塗布される。パーマ１剤には、毛髪のシスチン結合を切断させる還元剤が含まれている。パーマ１剤の塗布によってシスチン結合が切断されると、毛髪は、カーラーに巻かれた形状に適合する。その後、パーマ２剤が毛髪に塗布される。パーマ２剤には酸化剤が含まれている。酸化剤によって、切断されたシスチン結合が再結合する。これにより、毛髪の形状が、カーラーに対応する形状に固定される。尚、パーマ１剤の塗布が塗布されてからパーマ２剤が塗布されるまでの間に、中間処理剤（コンディショナー）が塗布される場合もある。また、パーマ２剤の塗布後に、後処理剤による処理、リンス、及びトリートメント等が行われる場合もある。
ここで、パーマ１剤に含まれる還元剤として、具体的には、システアミン、チオグリコール酸及びシステイン等の硫黄含有化合物が挙げられる。また、毛髪との反応過程でこれらが変質してチアゾリジンなどの硫黄含有化合物を発生する場合もある。これら硫黄含有化合物は、臭気を有している。この臭気が、本実施態様に係るパーマ処理毛髪用消臭剤組成物の消臭対象である。

詳細には、本実施態様に係る消臭剤組成物は、例えば、上記の中間処理剤、パーマ２剤、後処理剤、リンス剤、及びトリートメント剤等に配合され、使用することができる。あるいは、消臭剤組成物は、これらとは別途に毛髪に塗布される薬剤として、使用することもできる。また、例えば、消臭剤組成物は、パーマ処理後に家庭で使用されるシャンプーに配合される薬剤として、使用することもできる。
また、本実施態様に係る消臭剤は、ヘアスプレー、及びヘアワックスなどの形態として使用することもできる。

また、本実施態様の消臭剤組成物は、液状の組成物として保管されるものであってもよいし、消臭剤粉末の状態で保管されるものであってもよい。後者の場合、例えば、現場（美容室等）において、使用直前に、水やコンディショナーなどの溶媒に消臭剤粉末が添加され、本実施態様に係る消臭剤組成物が調製される。

以上説明したように、本実施態様によれば、水を含む溶媒中に消臭剤粉末が分散しているため、毛髪に消臭剤組成物を塗布すると、消臭剤粉末が毛髪に付着する。消臭剤が毛髪に付着しているので、毛髪の臭気を速やかに除去することができる。毛髪に付着した消臭剤粉末は、消臭機能を発揮した後に、洗い流されてもよいし、洗い流されなくてもよい。
なお、毛髪に消臭剤粉末を付着させたままにしておけば、空気中にただよう臭気を引き続き消臭することも可能である。
更には、消臭剤粉末中に、活性炭及びシリカ等が含まれている場合には、硫黄含有臭気以外の臭気も消臭することが可能である。例えば、活性炭及びシリカ等は、硫黄含有臭気以外の酸性ガスや塩基性ガスを消臭する機能を有している。そのため、パーマ処理以外に由来する臭気、例えば、汗臭や体臭等に対する消臭機能をも実現することができる。

本実施態様によれば、例えば、システアミン消臭速度が毎分５０μｇ／ｍｇ以上である消臭剤組成物が得られる。システアミン消臭速度は、後述の実施例で測定される方法によって求めることができる。

加えて、本実施態様によれば、消臭機能を有する物質が粉末状態で存在しているため、排水先において容易に消臭剤粉末を排水から分離回収することができる。よって、排水処理に要する負担が軽減される。

尚、本実施態様に係る消臭剤組成物には、香料又は毛髪保護成分が含まれていてもよい。香料又は毛髪保護成分が含まれている場合、毛髪に消臭剤組成物を塗布した後、放置しておくと、香料又は毛髪保護成分が徐放される。これにより、単なる硫黄含有臭気の消臭機能だけではなく、香料による体臭や頭皮臭の消臭や、毛髪保護等、他の機能をも実現できる。これらの香料又は毛髪保護成分は、多孔質シリカ等の母材に担持される形態で含まれていてもよいし、母材とは別に消臭剤組成物中に添加されていてもよい。多孔質シリカに香料又は毛髪保護成分を含ませるためには、これら成分を分散させた溶液中に多孔質シリカを投入、攪拌した後、真空乾燥で溶媒を留去するなどの方法がある。

また、消臭剤粉末として金属Ｘがドープされた多孔質シリカを用いた場合には、次のような効果をも得ることができる。
まず、多孔質シリカが使用されているため、消臭機能を発現する金属Ｘを溶媒中にて均一に分散させることができ、その結果、金属Ｘと硫黄含有化合物との化学反応速度を向上させることができる。
加えて、多孔質シリカはそれ自体で硫黄含有臭気以外の臭気（酸性・塩基性臭気）に対する消臭性能も有している。よって、硫黄含有臭気以外の臭気を消臭することも可能である。
また、多孔質シリカは、毛髪に付着しやすい。よって、毛髪に消臭剤をより付着させやすくなる。これにより、金属Ｘによる消臭作用をより確実に発揮させることが可能になる。

２：第２の実施態様
第１の実施態様においては、消臭剤組成物が溶媒と消臭剤粉末を含む態様について説明した。これに対して、本実施態様においては、溶媒が用いられてない。すなわち、消臭剤粉末がそれ自体で消臭剤として使用される。すなわち、本実施態様においては、毛髪に、消臭剤粉末（消臭剤組成物）が振りかけられる。例えば、消臭剤粉末は、水で濡れたた毛髪に対して、振りかけられる。より詳細には、例えばトリートメント等の処理が行われている際に、毛髪に消臭剤粉末が振りかけられる。これにより、振りかけられた消臭剤粉末が濡れた毛髪に付着し、その結果、第１の実施態様と同様の作用効果を発揮する。

（実施例）
以下、本発明の実施例について説明する。但し、本発明は、これら実施例に限定されて解釈されるものではない。
下記の方法により、実施例１〜５に係る消臭剤粉末を調製した。得られた消臭剤粉末について、比表面積、モード径、及び金属含有量を測定した。また、システアミン吸着試験を実施した。
また、実施例１〜４に係る消臭剤粉末を蒸留水に分散させ、液状の消臭剤組成物を得た。得られた液状の消臭剤組成物に対して、髪の毛の消臭試験を実施した。各実施例の調製方法及び試験方法は、以下の通りである。

実施例１
溶媒としての水に、界面活性剤としてヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド、金属Ｘ供給用化合物として塩化マンガン、金属Ｙ供給用化合物として塩化アルミニウム、金属Ｚ供給用化合物として硝酸コバルトを加え、１００℃で１時間攪拌した。室温まで水溶液を冷却した後、シリカ源としてテトラエトキシシランを加え、攪拌した。次いで、縮合触媒として水酸化ナトリウムを加え、攪拌した。各化合物の添加量は、テトラエトキシシラン１モルに対して、以下の量とした。
界面活性剤（ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド）：０．２２５モル
金属Ｘ供給用化合物（塩化マンガン）：０．０１１８モル
金属Ｙ供給用化合物（塩化アルミニウム）：０．０２４１モル
金属Ｚ供給用化合物（硝酸コバルト）：０．０１１モル
水：１２５モル
水酸化ナトリウム：０．１９５モル
得られた懸濁液から固体生成物をろ別し、乾燥した後、焼成を行い有機成分を除去し、多孔質シリカを得た。これを、実施例１に係る消臭剤粉末とした。

実施例２
実施例１と同様の方法により、実施例２に係る消臭剤粉末を得た。但し、金属Ｘ供給用化合物として硝酸銅、金属Ｙ供給用化合物として塩化アルミニウムを添加した。金属Ｚ供給用化合物は添加しなかった。また、各化合物の添加量は、以下の通りとした。
界面活性剤（ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド）：０．２２５モル
金属Ｘ供給用化合物（硝酸銅）：０．０２０４モル
金属Ｙ供給用化合物（塩化アルミニウム）：０．０４８２モル
水：１２５モル
水酸化ナトリウム：０．１９５モル
その他の点は、実施例１と同様にして、実施例２に係る消臭剤を用意した。

実施例３
東京化成製の活性炭素（カタログコード：Ｃ２１９４）を実施例３に係る消臭剤粉末として用意した。

実施例４
東亞合成製のケスモンＮＳ２０Ｃ（商品名）（ケイ酸塩含有粉末）を、実施例４に係る消臭剤粉末として用意した。

実施例５
金属Ｘ供給用化合物として塩化鉄を添加した。各化合物の添加量を、テトラエトキシシラン１モルに対して、それぞれ以下の量とした。
界面活性剤（ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド）：０．２２５モル
金属Ｘ供給用化合物（塩化鉄）：０．０５３７モル
金属Ｙ供給用化合物（塩化アルミニウム）：０．０２４１モル
水：１２５モル
水酸化ナトリウム：０．１９５モル
その他の点は実施例１と同様にして、実施例６に係る消臭剤を用意した。

比表面積の測定方法
マイクロメリティックス社製フローソーブＩＩ２３００形を使用し、１点法で液体窒素温度にて測定した。

モード径の測定方法
島津製作所製のレーザー回折粒度分布測定装置ＳＡＬＤ−３１００を使用して測定した。

金属Ｘ及び金属Ｙの含有量の測定方法
消臭剤粉末約５０ｍｇを精確に量りとり、４ｍｌの塩酸で溶解した後に、水溶液中の各金属（Ｍｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ａｌ、及びＣｏ）の濃度を、Ｔｈｅｒｍｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製のＩＣＰ−ＯＥＳにて測定した。塩酸で処理することにより、消臭剤粉末に含まれる金属成分は、全て塩酸に溶解するものと考えられる。そこで、測定結果に基づき、消臭剤粉末中に存在する各金属の含有量を、金属量として算出した。

システアミン吸着試験
システアミン０．５８９６ｇを量り取り、１０ｍｌのメスフラスコを用いて超純水でメスアップし、溶液１−１を得た。この溶液１−１中のシステアミン濃度は、５．８５ｗｔ％であり、これはパーマ液原液相当の濃度である。
遠沈管チューブに、測定対象の消臭剤粉末１０ｍｇを量り取った。チューブに水０．９ｍｌを加え、よく振って均一な分散液とした。分散液に、溶液１−１を０．１ｍｌ加え、３０秒間よく振って反応させた。反応前のシステアミン濃度は、７．６４×１０^-2モル／Ｌ、初期システアミン量は５．８９ｍｇである。９０秒間、遠心分離処理を実施した。上澄みをすみやかに取り出し、反応液の２３５ｎｍにおける吸光度を測定した。
検量線の測定から、システアミン濃度が７．５×１０^-4モル／Ｌ〜１．２×１０^-4モル／Ｌの範囲で、２３５ｎｍの吸光度とシステアミン濃度との間に比例関係が成立することを確認した。そこで、この濃度範囲に入るように、オートピペットを用いて、反応液を適宜希釈し、２３５ｎｍの吸光度を測定した。結果から、システアミンの残存濃度を下記式１により計算した。また、吸着率の値を、下記式２により算出した。

（式１）残存濃度＝定数×２３５ｎｍの吸光度×希釈倍率
（式２）吸着率（％）＝（初濃度―残存濃度）／初濃度×１００

更に、容量等を、下記式３〜６から算出した。
（式３）吸着量（ｍｇ）＝吸着率（％）×初期システアミン量（ｍｇ）／１００
（式４）金属Ｘ量（ｍｇ）＝消臭剤粉末量（ｍｇ）×金属Ｘ金属量（ｗｔ％）／１００
（式５）容量（ｍｇ／金属Ｘｍｇ）＝吸着量（ｍｇ）／金属Ｘ量（ｍｇ）
（式６）システアミン消臭速度（μｇ／剤ｍｇ・分）＝（吸着量（mg）×１０００（μｇ／ｍｇ））／（消臭剤量（ｍｇ）×２（分））

なお、吸光度測定装置としては、以下のものを使用した。
吸光度測定装置：コロナ吸光グレーティングマイクロプレートリーダーＳＨ−１０００（コロナ電気株式会社製）、プレート：ＵＶ Ｆｌａｔ Ｂｏｔｔｏｍ Ｍｉｃｒｏｔｉｔｅ(登録商標) Ｐｌａｔｅｓ（Ｔｈｅｒｍｏ製）、測定範囲：２００〜６００ｎｍ、レスポンス：３

測定結果を表１に示す。表１に示されるように、実施例１乃至５に係る消臭剤粉末は、いずれも、水中にてシステアミンを吸着する機能を有していることが確認された。

髪の毛の消臭試験
消臭剤組成物の調製
蒸留水に対して、実施例１〜４それぞれの消臭剤粉末を２ｗｔ％の添加率で加え、塩酸および水酸化ナトリウムで所望のｐＨになるように調製した。これにより、実施例１〜４のそれぞれについて、ｐＨが異なる複数の消臭剤組成物を得た。

パーマネントウェーブ処理
日本人毛髪２ｇに、パーマネントウェーブ用第１剤４ｍｌをオートピペットで塗布した。塗布された毛髪をサランラップ(登録商標)で包んで４５℃設定の乾燥機で１５分放置した。次いで、１Lの蒸留水の中で１０秒間毛髪をすすぎ、流水の蒸留水で１０秒間さらにすすぎ、工業用ウェス（キムタオル：日本製紙クレシア社製、商品名）で軽く水分を除いた。
なお、パーマネントウェーブ第１剤の組成は以下の通りであった。
システアミン塩酸塩：７ｇ
ＥＤＴＡ・２Ｎａ：０．２ｇ、
アンモニア水（２８％）：４．５ｍｌ、
蒸留水：９３ｇ

消臭処理
上記パーマネントウェーブ処理をした毛髪に、調製した各消臭剤組成物を、それぞれ２ｍｌ、オートピペットで塗布した。サランラップ(登録商標)で包んで室温で５分間放置した。これをためておいた１Ｌの蒸留水の中で１０秒間すすぎ、流水の蒸留水で１０秒間さらにすすぎ、工業用ウェス（キムタオル：日本製紙クレシア社製、商品名）で軽く水分を除いた後、ドライヤーで乾燥した。

消臭処理評価
消臭処理後の毛髪について、においの強度を嗅ぎ比べ、毛髪の不快臭の有無について、下記の５段階で評価を行った。
１：不快臭を全く感じない
２：不快臭をほとんど感じない
３：弱い不快臭を感じる
４：不快臭を感じる
５：強い不快臭を感じる
なお、消臭処理を行わなかった毛髪の評点を「５」とした。

消臭処理評価は、２名のパネルにより行った。また、各実施例につき、２束の毛髪を用意し、ｎ＝２で評価を行った。毛髪２点×パネル２名＝計４点のデータの平均値を結果として求めた。

髪の毛の消臭試験の結果を表１に示す。実施例１乃至４に係る消臭剤粉末を溶媒である水と混合して得られた消臭剤組成物によって処理された毛髪は、いずれも、消臭処理を行わなかった毛髪と比べて、不快臭が著しく低減されていた。

毛髪表面の観察
日立ハイテク製電子顕微鏡Ｓ−４８００を用いて、パーマネントウェーブ処理および消臭処理後の毛髪表面を観察した。観察は、実施例２に係る消臭剤粉末を用いてｐＨ７．５に調製した消臭剤組成物について行った。結果を図１に示す。図１に示されるように、消臭処理を行った毛髪の表面には、微小な消臭剤粉末が残留していることが確認できた。

Claims (10)

1. 硫黄含有化合物を吸着する機能を有する消臭剤粉末を含有する、パーマ処理毛髪用消臭剤組成物。
2. 更に、溶媒を含有し、
   前記消臭剤粉末が前記溶媒中に分散している、
   請求項１に記載の消臭剤組成物。
3. 前記溶媒のｐＨが３〜１２である、請求項２に記載の消臭剤組成物。
4. 前記消臭剤粉末の含有量が、０．００１〜５０質量％である、請求項２又は３に記載の消臭剤組成物。
5. システアミン消臭速度が、毎分５０μｇ／ｍｇ以上である、請求項２乃至４のいずれかに記載の消臭剤組成物。
6. 前記消臭剤粉末が、マンガン、銅、ニッケル、銀、亜鉛、白金及び鉄からなる群から選ばれる少なくとも一種の金属Ｘを含む粉体である、請求項１乃至５のいずれかに記載の消臭剤組成物。
7. 前記消臭剤粉末が、多孔質シリカを含み、
   前記金属Ｘが、前記多孔質シリカにドープされている、もしくは粒子として担持されている
   請求項６に記載の消臭剤組成物。
8. 前記消臭剤粉末が、活性炭、ケイ酸塩、４価金属リン酸塩又はゼオライトを含む、請求項１乃至６のいずれかに記載の消臭剤組成物。
9. 溶媒を調製する工程と、
   前記溶媒に消臭剤粉末を分散させる工程と、
   を備える、
   パーマ処理毛髪用消臭剤組成物の製造方法。
10. 毛髪に対してパーマ処理を行う工程と、
    前記毛髪に、請求項１乃至８のいずれかに記載された消臭剤組成物を塗布する工程と、
    を備える、
    毛髪の消臭方法。