JP2020008858A - 偏光板及びこれを含む光学表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】側面明暗比を改善できる偏光板を提供する。【解決手段】偏光フィルム、及び前記偏光フィルムの光出射面に順次形成された第１基材層及びパターン層を含み、前記パターン層は、前記第１基材層から順次形成された第１層及び第２層を含み、前記第１層は、前記第２層より高い屈折率を有し、前記第１層は、前記第２層と対向する少なくとも一部分に２個以上の光学パターンを備えており、前記光学パターンと隣り合う前記光学パターンとの間に平坦部を備えているパターン部を含んで偏光板を構成する。【選択図】図１

Description

本発明は、偏光板及びこれを含む光学表示装置に関する。

液晶表示装置は、バックライトユニットから出た光が液晶パネルを介して出射されることによって作動する。バックライトユニットから出た光が液晶表示装置の画面に対して垂直に入射されるので、液晶表示装置の画面のうち側面は、正面に比べて明暗比（ｃｏｎｔｒａｓｔ ｒａｔｉｏ、ＣＲ）が低下せざるを得ない。よって、側面明暗比を高める光学フィルムに対する開発が進められている。

側面明暗比を高める光学フィルムは、偏光フィルムから出射された光が低屈折率樹脂層から高屈折率樹脂層を通過しながら低屈折率樹脂層と高屈折率樹脂層との界面に形成されたパターンによって拡散されることによって側面明暗比を改善する構造である。しかし、このような構造のみでは、側面明暗比を改善するのに限界があった。

側面明暗比を改善するためには、パターンの形状を変更してもよく、低屈折率樹脂層又は高屈折率樹脂層に粒子を含ませてもよい。しかし、パターンの形状を変更する場合、パターンの微細な構造の変更でも側面明暗比が激しく変化し得る。また、低屈折率樹脂層及び高屈折率樹脂層のうち一つ以上に粒子を含ませてもよいが、粒子と樹脂層との間の屈折率を制御するという追加的な過程が必要となり、粒子によってヘイズが高くなり、光学的透明性が低下し、粒子によって光効率が低下するという問題があり得る。

本発明の背景技術は、特許文献１に開示されている。

特開２００６-２５１６５９号公報

本発明の目的は、側面明暗比を改善できる偏光板を提供することにある。

本発明の他の目的は、正面明暗比を改善できる偏光板を提供することにある。

本発明の更に他の目的は、パターン層に粒子を含まなくても、側面明暗比を著しく改善することができ、粒子を含まないので、ヘイズなどが低く光学的透明性に優れ、粒子によって偏光の光出射が妨害されないので光効率を高めることができる偏光板を提供することにある。

本発明の更に他の目的は、本発明の偏光板を含む光学表示装置を提供することにある。

本発明の偏光板は、偏光フィルム、及び前記偏光フィルムの光出射面に順次形成された第１基材層及びパターン層を含み、前記パターン層は、前記第１基材層から順次形成された第１層及び第２層を含み、前記第１層は、前記第２層より高い屈折率を有し、前記第１層は、前記第２層と対向する少なくとも一部分に２個以上の光学パターンを備えると共に、前記光学パターンと隣り合う前記光学パターンとの間に平坦部を備えるパターン部を含んでもよい。

本発明の光学表示装置は、本発明の偏光板を含んでもよい。

本発明は、側面明暗比を改善できる偏光板を提供する。

本発明は、正面明暗比を改善できる偏光板を提供する。

本発明は、パターン層に粒子を含まなくても、側面明暗比を著しく改善することができ、粒子を含まないので、ヘイズなどが低く光学的透明性に優れ、粒子によって偏光の光出射が妨害されないので光効率を高めることができる偏光板を提供する。

本発明は、本発明の偏光板を含む光学表示装置を提供する。

本発明の一実施形態に係る偏光板の断面図である。 本発明の一実施形態に係る偏光板のうちパターン層の分離斜視図である。 本発明の他の実施形態に係る偏光板の断面図である。 比較例２及び比較例４の偏光板の断面図である。

以下では、添付の図面を参考にして、実施形態に対して本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は、様々な異なる形態に具現可能であり、ここで説明する実施形態に限定されない。図面において、本発明を明確に説明するために説明と関係のない部分は省略し、明細書全体にわたって同一又は類似する構成要素に対しては同一の図面符号を付した。

本明細書において、「上部」と「下部」は図面を基準にして定義したものであって、視点又は観点によって「上部」が「下部」に変更されてもよく、「下部」が「上部」に変更されてもよい。また、「上」とは、直上のみならず、中間に他の構造を介在した場合も含み得る。その一方で、「直接上（ｄｉｒｅｃｔｌｙ ｏｎ）」、「真上」、「直接形成」又は「直接接して形成」とは、中間に他の構造が介在していないことを意味する。

本明細書において、「水平方向」及び「垂直方向」は、それぞれ矩形の液晶表示装置の画面の長手方向及び短手方向を意味する。本明細書において、「正面」及び「側面」は、水平方向を基準にして、球面座標系（ｓｐｈｅｒｉｃａｌ ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅ ｓｙｓｔｅｍ）による（φ，θ）に従うとき、正面は（０゜，０゜）であり、左側端地点を（１８０゜，９０゜）とし、右側端地点を（０゜，９０゜）としたとき、側面は（０゜，６０゜）であることを意味する。

本明細書において、「アスペクト比（ａｓｐｅｃｔ ｒａｔｉｏ）」は、光学パターンの最大幅に対する最大高さの比（最大高さ／最大幅）を意味する。

本明細書において、「周期」は、隣り合う各光学パターン間の距離、例えば、一つの光学パターンの最大幅と、前記光学パターンと隣り合う一つの平坦部の幅との和を意味する。

本明細書において、「最下部（ｍｏｓｔ ｂｏｔｔｏｍ ｐａｒｔ）」は、陰刻の光学パターンのうち最大下部を意味し、最下部は、一地点になってもよく、一平面になってもよい。

本明細書において、「面方向位相差（Ｒｅ）」は、波長５５０ｎｍでの値であり、下記の数式Ａで表される。

＜数Ａ＞
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ） × ｄ
（前記数式Ａにおいて、ｎｘ及びｎｙは、波長５５０ｎｍでそれぞれ該当の保護層又は基材層の遅相軸方向及び進相軸方向の屈折率であり、ｄは、該当の保護層又は基材層の厚さ（単位：ｎｍ）である。）

本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及び／又はメタクリルを意味する。

本発明の発明者は、偏光フィルムの光出射面に下記の第１基材層及びパターン層を積層することによって、パターン層を備えていない偏光板に比べて正面輝度及び正面明暗比の減少を最小化しながら側面明暗比を著しく改善できることを見出し、本発明を完成した。また、本発明の発明者は、偏光フィルムの光出射面に下記の第１基材層及びパターン層を積層することによって、パターン層のうち各層の屈折率の関係を制御するだけでも側面明暗比を著しく改善できることを確認し、本発明を完成した。

以下では、本発明の一実施形態に係る偏光板を図１及び図２を参考にして説明する。図１は、本発明の一実施形態による偏光板の断面図で、図２は、図１におけるパターン層の分離斜視図である。

図１を参照すると、偏光板１０は、偏光フィルム１００、第１基材層２００、パターン層３００及び第２基材層４００を含んでもよい。

偏光フィルム
偏光フィルム１００の光出射面には、第１基材層２００、パターン層３００及び第２基材層４００が順次形成されている。偏光フィルム１００は、液晶パネル（図１には図示せず）から入射された光を偏光させて出射させることができる。偏光フィルム１００から出射された偏光は、第１基材層２００、パターン層３００及び第２基材層４００の順に透過され得る。

一具体例において、偏光フィルム１００は偏光子を含んでもよい。具体的には、偏光子は、ポリビニルアルコール系フィルムの一軸延伸によって製造されるポリビニルアルコール系偏光子を含んでもよく、ポリビニルアルコール系フィルムの脱水によって製造されるポリエン系偏光子を含んでもよい。偏光子は、厚さが５μｍ以上４０μｍ以下、例えば、５μｍ、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、又は４０μｍになってもよい。前記範囲で、偏光子が光学表示装置に使用可能である。

他の具体例において、偏光フィルム１００は、偏光子、及び偏光子の少なくとも一面に形成された基材層をさらに含んでもよい。基材層は、偏光子を保護することによって偏光板の信頼性を高め、偏光板の機械的強度を高めることができる。基材層は、光学的に透明な保護フィルム及び保護コーティング層のうち一つ以上を含んでもよい。基材層は、下記の通りである。

図１には示していないが、偏光フィルム１００の光入射面には、上述した基材層及び粘着層のうち１種以上がさらに積層されてもよい。粘着層は、偏光板を被着体、例えば、液晶パネル及びＯＬＥＤパネルなどに粘着させることができる。

第１基材層
第１基材層２００は、パターン層３００の光入射面に形成され、パターン層３００を支持することができる。第１基材層２００は、パターン層３００のうち第１層３１０に直接形成され、偏光板１０を薄型化させることができる。前記「直接形成」とは、第１基材層２００とパターン層３００との間に任意の粘着層、接着層又は粘接着層が介在しないことを意味する。しかし、第１基材層２００と第１層３１０とが粘着層、接着層又は粘接着層によって積層される場合も本発明の範囲に含まれ得る。

第１基材層２００は、可視光線領域での全光線透過率が９０％以上、例えば、９０％以上１００％以下、９０％、９１％、９２％、９３％、９４％、９５％、９６％、９７％、９８％、９９％、又は１００％になってもよい。前記範囲で、入射光に影響を与えずに入射光を透過させることができる。

第１基材層２００は、光入射面、及び光入射面と対向する光出射面を含む保護フィルム又は保護コーティング層であってもよい。好ましくは、第１基材層２００として保護フィルムを使用することによって、パターン層３００をより強固に支持し得る。

第１基材層２００が保護フィルムである場合、第１基材層２００は、単一層の光学的に透明な樹脂フィルムを含んでもよい。しかし、第１基材層２００は、樹脂フィルムが複数積層される場合も含み得る。保護フィルムは、樹脂の溶融及び押出によって形成されてもよい。必要な場合は、延伸工程をさらに追加してもよい。前記樹脂は、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などを含むセルロースエステル系樹脂、非晶性環状ポリオレフィン（ＣＯＰ）などを含む環状ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などを含むポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、非環状ポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂などを含むポリ（メタ）アクリレート系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、及びポリ塩化ビニリデン系樹脂のうち一つ以上を含んでもよい。

保護フィルムは、無延伸フィルムであってもよいが、前記樹脂を所定の方法で延伸させることによって、所定範囲の位相差を有する位相差フィルム又は等方性光学フィルムになってもよい。一具体例において、保護フィルムは、Ｒｅが６０ｎｍ以下、具体的には０ｎｍ以上６０ｎｍ以下、さらに具体的には４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下、例えば、４０ｎｍ、４１ｎｍ、４２ｎｍ、４３ｎｍ、４４ｎｍ、４５ｎｍ、４６ｎｍ、４７ｎｍ、４８ｎｍ、４９ｎｍ、５０ｎｍ、５１ｎｍ、５２ｎｍ、５３ｎｍ、５４ｎｍ、５５ｎｍ、５６ｎｍ、５７ｎｍ、５８ｎｍ、５９ｎｍ、又は６０ｎｍの等方性光学フィルムになってもよい。前記範囲で、視野角を補償することによって画像品質を良好にすることができる。前記「等方性光学フィルム」とは、ｎｘ、ｎｙ及びｎｚが実質的に同一なフィルムを意味し、前記「実質的に同一」とは、完全に同一な場合のみならず、少しの誤差を含む場合を全て含む。また、保護フィルムの虹ムラが視認されることを防止するために、一軸延伸を行ってもよい。

一具体例において、第１基材層２００は、Ｒｅが１５，０００ｎｍ以下、具体的には３，０００ｎｍ以上１５，０００ｎｍ以下、具体的には４，０００ｎｍ以上、さらに具体的には５，０００ｎｍ以上、さらに具体的には６，０００ｎｍ以上１５，０００ｎｍ以下、８，０００ｎｍ以上１５，０００ｎｍ以下、例えば、８，０００ｎｍ、９，０００ｎｍ、１０，０００ｎｍ、１１，０００ｎｍ、１２，０００ｎｍ、１３，０００ｎｍ、１４，０００ｎｍ、又は１５，０００ｎｍになってもよい。前記範囲で、パターン層３００は、第１基材層２００を通過した光の拡散効果をさらに大きくし、明暗比の改善に効果を与えることができる。

保護コーティング層は、活性エネルギー線硬化性化合物及び重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物で形成されてもよい。活性エネルギー線硬化性化合物は、陽イオン重合性硬化性化合物、ラジカル重合性の硬化性化合物、ウレタン樹脂、及びシリコン系樹脂のうち一つ以上を含んでもよい。陽イオン重合性硬化性化合物は、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有するエポキシ系化合物、分子内に少なくとも一つのオキセタン環を有するオキセタン系化合物になってもよい。エポキシ系化合物は、水素化エポキシ系化合物、鎖状脂肪族エポキシ系化合物、環状脂肪族エポキシ系化合物、及び芳香族エポキシ系化合物のうち一つ以上になってもよい。

ラジカル重合性の硬化性化合物は、分子内に少なくとも一つの（メタ）アクリロイルオキシ基を有する（メタ）アクリレートモノマー、及び分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する（メタ）アクリレートオリゴマーを含んでもよく、これらは、官能基含有化合物を２種以上反応させることによって得ることができる。（メタ）アクリレートモノマーは、分子内に１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単官能（メタ）アクリレートモノマー、分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する２官能（メタ）アクリレートモノマー、及び分子内に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマーになってもよい。（メタ）アクリレートオリゴマーは、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー、及びエポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーなどになってもよい。重合開始剤は、活性エネルギー線硬化性化合物を硬化させることができる。重合開始剤は、光カチオン開始剤及び光増感剤のうち一つ以上を含んでもよい。光カチオン開始剤及び光増感剤としては、当業者に通常知られているものを使用可能である。

第１基材層２００の厚さは、５μｍ以上２００μｍ以下、具体的には３０μｍ以上１２０μｍ以下であって、保護フィルムタイプである場合は、３０μｍ以上１００μｍ以下、好ましくは３０μｍ以上９０μｍ以下、例えば、３０μｍ、４０μｍ、５０μｍ、６０μｍ、７０μｍ、８０μｍ、又は９０μｍになってもよく、保護コーティング層タイプである場合は、１μｍ以上５０μｍ以下、例えば、１μｍ、５μｍ、１０μｍ、２０μｍ、３０μｍ、４０μｍ、又は５０μｍになってもよい。前記範囲で、第１基材層２００が偏光板に使用可能である。

第１基材層２００の少なくとも一面には、プライマー層、ハードコーティング層、耐指紋性層、反射防止層、アンチグレア層、低反射層、超低反射層などの表面処理層がさらに形成されてもよい。ハードコーティング層、耐指紋性層、反射防止層などは、第１基材層２００、偏光フィルム１００などに追加的な機能を提供することができる。プライマー層は、第１基材層２００と被着体（例えば、パターン層又は偏光フィルム）との間の接着を良好にすることができる。

パターン層
パターン層３００は、第１基材層２００の光出射面に形成され、第１基材層２００を透過した光を拡散させることができる。

パターン層３００は、第１層３１０、及び第１層３１０と対向する第２層３２０で構成される。好ましくは、パターン層３００は、第１層３１０及び第２層３２０のみで構成されている。

第１層３１０は、第２層３２０より高い屈折率を有する。第１層３１０は、第２層３２０と対向する少なくとも一部分に２個以上の陰刻の光学パターン３１１を備えており、陰刻の光学パターン３１１と隣り合う陰刻の光学パターン３１１との間に平坦部３１２を備えているパターン部を含んでもよい。これを通じて、第１基材層２００から出射された光に対する側面明暗比を著しく改善させることができる。本発明の発明者は、本発明の偏光板１０において、パターン層３００のうち第１層３１０と第２層３２０との間の屈折率の大小が逆転したり、偏光フィルム１００が第２層３２０側に形成される場合、側面での明暗比の改善効果が著しく低下したりすることを確認した。

第１層３１０は、第２層３２０に直接形成され、第１層３１０と第２層３２０とが直接接触する界面に下記のパターン部が形成されている。図１は、第１層３１０と第２層３２０とが接触する全面にパターン部が形成されたことを示した図である。しかし、第１層３１０と第２層３２０とが接触する全面のうち一部にパターン部が形成される偏光板も本発明の範囲に含まれ得る。

パターン部は、２個以上の陰刻の光学パターン３１１及び陰刻の光学パターン３１１と隣り合う陰刻の光学パターン３１１との間に形成された平坦部３１２で構成される。偏光板には、陰刻の光学パターン３１１と平坦部３１２との組み合わせが繰り返し形成されている。前記「陰刻の光学パターン」とは、第１基材層２００の光出射面に向かって光学パターンが突出した形態を意味する。

パターン部は、下記の数式１を満足することができる。前記範囲で、側面明暗比の改善効果がさらに向上し得る。

＜数１＞
１＜Ｃ／Ｐ≦１０
（前記数式１において、Ｃは、パターン部の周期（単位：μｍ）で、Ｐは、光学パターンの最大幅（単位：μｍ）である。）

好ましくは、Ｃ／Ｐ（Ｐに対するＣの比）は、１．１以上８．０以下、具体的には、１．１以上５．０以下、例えば、１．１、１．２、１．３、１．４、１．５、１．６、１．７、１．８、１．９、２．０、２．１、２．２、２．３、２．４、２．５、２．６、２．７、２．８、２．９、３．０、３．１、３．２、３．３、３．４、３．５、３．６、３．７、３．８、３．９、４．０、４．１、４．２、４．３、４．４、４．５、４．６、４．７、４．８、４．９、又は５．０になってもよい。

陰刻の光学パターン３１１には曲面が形成されている。第１層３１０から入射された偏光が第２層３２０に曲面を介して出射され、曲面によって第１基材層２００から入射された光を陰刻の光学パターン３１１の到達位置によって多様な方向に第１層３１０から第２層３２０に出射させることによって、側面明暗比を著しく改善することができる。

図１は、曲面が非球面で、陰刻の光学パターン３１１がレンチキュラーレンズパターンである偏光板を示した図である。しかし、曲面は、球面、放物面、楕円面、双曲面又は無定形の曲面になってもよい。図１は、曲面が滑らかな陰刻の光学パターンを示した図であるが、曲面に凹凸がさらに形成されることによって、光の拡散効果をさらに高めることもできる。

本発明において、陰刻の光学パターンは、レンチキュラーレンズパターン以外にも、最下部に一つの平面が形成され、傾斜面が平面で、断面が台形の形態（例えば、断面が三角形であるプリズムの上部が切断された形態（ｃｕｔ−ｐｒｉｓｍ形態）であるパターン、最下部に一つの平面が形成され、傾斜面が曲面である陰刻パターン（例えば、図１のレンチキュラーレンズパターンの下部が切断された形態（ｃｕｔ−ｌｅｎｔｉｃｕｌａｒ ｌｅｎｓパターン）、マイクロレンズパターンの下部が切断された形態（ｃｕｔ−ｍｉｃｒｏ ｌｅｎｓパターン）、又は断面が長方形又は正方形などのＮ角形（Ｎは、３以上２０以下の整数）であるパターンを含んでもよい。

陰刻の光学パターン３１１は、アスペクト比が０を超え３．０以下、具体的には０．４以上３．０以下、さらに具体的には０．７以上３．０以下、例えば、０．７、０．８、０．９、１．０、１．１、１．２、１．３、１．４、１．５、１．６、１．７、１．８、１．９、２．０、２．１、２．２、２．３、２．４、２．５、２．６、２．７、２．８、２．９、又は３．０になってもよい。前記範囲で、側面での明暗比及び側面での視野角を改善することができる。

陰刻の光学パターン３１１の最大幅Ｐは、０μｍを超え１５μｍ以下、具体的には２μｍ以上１５μｍ以下、例えば、２μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍ、６μｍ、７μｍ、８μｍ、９μｍ、１０μｍ、１１μｍ、１２μｍ、１３μｍ、１４μｍ、又は１５μｍになってもよい。陰刻の光学パターン３１１の最大高さＨは、０μｍを超え５０μｍ以下、具体的には１μｍ以上４５μｍ以下、例えば、１μｍ、５μｍ、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、又は４５μｍになってもよい。前記幅及び高さの範囲で、拡散効果があり得る。

陰刻の光学パターン３１１の最大幅の全体の和は、第１層３１０の全体の幅に対して４０％以上６０％以下、具体的には４５％以上５５％以下、例えば、４５％、４６％、４７％、４８％、４９％、５０％、５１％、５２％、５３％、５４％、又は５５％になってもよい。前記範囲で、側面での明暗比を高め、側面での視野角を改善することができる。陰刻の光学パターン３１１は、所定の周期Ｃで配置されることによって、集光を拡散させるという効果が大きくなり得る。陰刻の光学パターン３１１の周期Ｃは、０μｍを超え６０μｍ以下以下、具体的には５μｍ以上６０μｍ以下、例えば、５μｍ、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍ、５５μｍ、又は６０μｍになってもよい。前記範囲で、集光及び拡散効果が大きくなり得る。

平坦部３１２の幅Ｌに対する陰刻の光学パターン３１１の最大幅Ｐの比率は、０を超え９以下、具体的には０．１以上３以下、さらに具体的には０．１５以上２以下、例えば、０．１５、０．２、０．２５、０．３、０．３５、０．４、０．４５、０．５、０．５５、０．６、０．６５、０．７、０．７５、０．８、０．８５、０．９、０．９５、１．０、１．０５、１．１、１．１５、１．２、１．２５、１．３、１．３５、１．４、１．４５、１．５、１．５５、１．６、１．６５、１．７、１．７５、１．８、１．８５、１．９、１．９５、又は２であってもよい。前記範囲で、正面明暗比と側面明暗比との差を減少させることができ、同一の側面視野角及び同一の正面視野角で明暗比を高めることができる。また、モアレ防止効果があり得る。

陰刻の光学パターン３１１と第１基材層２００との間の最小距離、すなわち、陰刻の光学パターン３１１の最下部と第１基材層２００との間の最小距離Ｄ（「肉厚」ともいう）は、０μｍを超え３０μｍ以下、具体的には１μｍ以上２０μｍ以下、例えば、１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍ、６μｍ、７μｍ、８μｍ、９μｍ、１０μｍ、１１μｍ、１２μｍ、１３μｍ、１４μｍ、１５μｍ、１６μｍ、１７μｍ、１８μｍ、１９μｍ、又は２０μｍになってもよい。前記範囲で、フィルムの硬度及びコーティング厚さの均一度を確保する効果があり得る。

パターン層３００の最上部面から陰刻の光学パターン３１１の最下部までの距離Ａに対する陰刻の光学パターン３１１の最大高さＨの比（Ｈ／Ａ）は、０を超え１以下、具体的には０．３以上１．０以下、例えば、０．３、０．４、０．５、０．６、０．７、０．８、０．９、又は１．０になってもよい。前記範囲で、フィルムの硬度及びコーティング厚さの均一度を確保する効果があり得る。

パターン層３００の断面積において、第１層３１０の全体の断面積に対する第２層３２０のうち充填パターン３２１の全体の断面積の総和の比は、４０％以上６０％以下、好ましくは４５％以上５５％以下、例えば、４５％、４６％、４７％、４８％、４９％、５０％、５１％、５２％、５３％、５４％、又は５５％になってもよい。前記範囲で、側面視認性の改善効果があり得る。

第２層３２０は、第１層３１０との界面に、陰刻の光学パターン３１１の少なくとも一部分を充填する充填パターン３２１が形成されている。充填パターン３２１は、陰刻の光学パターン３１１を完全に充填してもよく、陰刻の光学パターン３１１を部分的に充填してもよい。充填パターン３２１は、陰刻の光学パターン３１１を完全に充填することが好ましい。

図１は、アスペクト比、最大幅、最大高さ、周期がそれぞれ同一な陰刻の光学パターンが形成された偏光板を示した図であるが、互いに異なるアスペクト比、最大幅、最大高さ又は周期を有する陰刻の光学パターンがパターン部に形成されてもよい。

各陰刻の光学パターン３１１間には平坦部３１２が形成されてもよい。平坦部３１２は、第１層３１０から第２層３２０に偏光を連続的に透過させることによって、正面輝度を改善し、正面明暗比を改善することができる。

第１基材層２００から入射された偏光は、第１層３１０から第２層３２０に透過され、陰刻の光学パターン３１１は、その突出部が第１基材層２００に向かっており、平坦部３１２の幅（Ｌ）は、０μｍを超え５０μｍ以下、具体的には０μｍを超え３０μｍ以下、例えば、１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍ、６μｍ、７μｍ、８μｍ、９μｍ、１０μｍ、１１μｍ、１２μｍ、１３μｍ、１４μｍ、１５μｍ、１６μｍ、１７μｍ、１８μｍ、１９μｍ、２０μｍ、２１μｍ、２２μｍ、２３μｍ、２４μｍ、２５μｍ、２６μｍ、２７μｍ、２８μｍ、２９μｍ、又は３０μｍになってもよい。前記比率及び幅の範囲で、集光及び拡散効果があり得る。

図１は、平坦部の幅が互いに同一な偏光板を示した図であるが、平坦部の幅が互いに異なる偏光板も本発明に含まれ得る。

図２を参照すると、陰刻の光学パターン３１１は、光学パターンの長さ方向にストライプ状に延長された形態で形成されてもよい。これを通じて、左右の視野角を拡大させることができる。しかし、本発明では、陰刻の光学パターンがドット状に形成されてもよい。前記「ドット」とは、光学パターンが分散されていることを意味する。

第１層３１０は、第２層３２０より高い屈折率を有する。本発明の発明者は、偏光フィルム１００から出射された偏光が第１層３１０から第２層３２０に出射され、第１層３１０に偏光フィルム１００の方向に突出した陰刻の光学パターン３１１が形成されるように構成することによって、側面明暗比を著しく改善できることを確認した。第１層３１０と第２層３２０との間の屈折率の差は、０．０５以上、具体的には０．０５以上０．３以下、さらに具体的には０．０５以上０．２以下、０．１以上０．２以下になってもよい。前記範囲で、側面明暗比の改善効果がさらに大きくなり得る。

第１層３１０は、屈折率が１．５０以上、具体的には１．５０以上１．７０以下、さらに具体的には１．５０以上１．６５以下になってもよい。前記範囲で、側面明暗比を改善することができる。第２層３２０は、屈折率が０を超え１．５０未満、具体的には１．３０以上１．５０未満、さらに具体的には１．３５以上１．５０未満になってもよい。前記範囲で、側面明暗比を改善することができる。

第１層３１０は、上述した屈折率の範囲を満足できる樹脂を含む組成物で形成され得る。例えば、第１層３１０は、ＵＶ硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、例えば、（メタ）アクリル系、エポキシ系、ウレタン系、及びシリコン系のうち１種以上を含んでもよいが、これに制限されない。前記組成物は、樹脂の硬化を促進する開始剤、各種添加剤などをさらに含んでもよい。

一具体例において、第１層３１０は、粒子を含まない無粒子型樹脂層であってもよい。従来の側面明暗比を改善するために、高屈折率層に第１層３１０に比べて高い屈折率を有する高屈折率粒子、例えば、光拡散剤、光吸収剤などを含ませることが知られている。しかし、本発明は、偏光フィルム１００の光出射面における第１層３１０と第２層３２０との間の積層関係及び陰刻の光学パターン３１１の突出方向を調節することによって、第１層３１０に粒子を含まなくても側面明暗比を著しく改善することができ、光学的透明性をさらに高め、光効率を高めることができた。偏光板１０は、ヘイズが０％以上３０％以下、好ましくは０％以上２５％以下、例えば、０％、１％、２％、３％、４％、５％、６％、７％、８％、９％、１０％、１１％、１２％、１３％、１４％、１５％、１６％、１７％、１８％、１９％、２０％、２１％、２２％、２３％、２４％、又は２５％になってもよい。

第２層３２０は、上述した屈折率の範囲を満足できる樹脂を含む組成物で形成され得る。例えば、第２層３２０は、ＵＶ硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、例えば、（メタ）アクリル系、エポキシ系、ウレタン系、及びシリコン系のうち１種以上を含んでもよいが、これに制限されない。前記組成物は、樹脂の硬化を促進する開始剤、各種添加剤などをさらに含んでもよい。

一具体例において、第２層３２０は、粒子を含まない無粒子型樹脂層であってもよい。従来の側面明暗比を改善するために、第２層３２０に粒子、例えば、光拡散剤、光吸収剤などを含ませることが知られている。しかし、本発明は、偏光フィルム１００の光出射面における第１層３１０と第２層３２０との間の積層関係及び陰刻の光学パターン３１１の突出方向を調節することによって、第２層３２０に粒子を含まなくても側面明暗比を著しく改善することができる。

一具体例において、第２層３２０は、硬化後に接着性を示す接着剤組成物で形成され、接着性であってもよい。これを通じて、第２層３２０と第２基材層４００とを接着させることによって偏光板１０を薄型化させることができる。第２層３２０は、第２基材層４００、特に、ポリエステルフィルムに対する接着性を高めることができる。

パターン層３００は、厚さが０μｍを超え２００μｍ以下、具体的には１０μｍ以上１５０μｍ以下、例えば、１０μｍ、２０μｍ、３０μｍ、４０μｍ、５０μｍ、６０μｍ、７０μｍ、８０μｍ、９０μｍ、１００μｍ、１１０μｍ、１２０μｍ、１３０μｍ、１４０μｍ、又は１５０μｍになってもよい。前記範囲で、パターン層３００が偏光板１０に使用可能である。

第２基材層
第２基材層４００は、パターン層３００の光出射面に形成され、パターン層３００から出射された光を出射させることができる。第２基材層４００は、パターン層３００のうち第２層３２０に直接形成され、偏光板１０を薄型化させることができる。前記「直接形成」とは、第２基材層４００とパターン層３００との間に任意の粘着層、接着層、又は粘接着層が介在しないことを意味する。しかし、第２基材層４００と第２層３２０とが粘着層、接着層又は粘接着層によって積層される場合も本発明の範囲に含まれ得る。

第２基材層４００は、上述した第１基材層２００と同一又は異種の材質、厚さ、屈折率、及び位相差を有し得る。

一具体例において、第２基材層４００は、Ｒｅが１５，０００ｎｍ以下、具体的には３，０００ｎｍ以上１５，０００ｎｍ以下、具体的には４，０００ｎｍ以上、さらに具体的には５，０００ｎｍ以上、さらに具体的には６，０００ｎｍ以上１５，０００ｎｍ以下、８，０００ｎｍ以上１５，０００ｎｍ以下、例えば、８，０００ｎｍ、９，０００ｎｍ、１０，０００ｎｍ、１１，０００ｎｍ、１２，０００ｎｍ、１３，０００ｎｍ、１４，０００ｎｍ、又は１５，０００ｎｍになってもよい。前記範囲で、明暗比改善層を介して拡散された光の拡散効果がさらに大きくなり、明暗比の改善効果が大きくなり得る。一具体例において、第１基材層２００及び第２基材層４００がそれぞれ上述したＲｅの範囲を確保することによって、明暗比の改善効果がさらに大きくなり得る。

図１には示していないが、第２基材層４００の光出射面には機能層がさらに形成されてもよい。前記機能層は、偏光板１０に追加的な機能を提供することができる。例えば、機能層は、プライマー層、ハードコーティング層、耐指紋性層、反射防止層、アンチグレア層、低反射層、及び超低反射層のうち１種以上を含んでもよいが、これに制限されない。

一方、図１は、パターン層３００に第２基材層４００が形成された偏光板を示したが、第２基材層４００は省略されてもよい。この場合、第２層３２０の最上部面は機能層化されてもよい。前記「機能層化」とは、第２層３２０の最上部面がプライマー層、ハードコーティング層、耐指紋性層、反射防止層、アンチグレア層、低反射層、及び超低反射層のうち１種以上の機能を行うことを意味する。前記機能層化は、第２層の形成過程で表面処理などを通じて行われてもよい。

以下、図３を参考にして、本発明の他の実施形態に係る偏光板を説明する。

図３を参考にすると、偏光板２０にはパターン層３００Ａが形成されてもよい。パターン層３００の代わりにパターン層３００Ａが形成された点を除いては、本発明の一実施形態に係る偏光板１０と実質的に同一である。

パターン層３００Ａは、第１層３１０Ａ及び第１層３１０Ａに直接形成された第２層３２０Ａを含み、第１層３１０Ａと第２層３２０Ａとが直接接触する界面に下記のパターン部が形成されている。

パターン部は、２個以上の陰刻の光学パターン３１１Ａ及び陰刻の光学パターン３１１Ａと隣り合う陰刻の光学パターン３１１Ａとの間に形成された平坦部３１２Ａで構成される。第１層３１０Ａと第２層３２０Ａとが接触する界面には、陰刻の光学パターン３１１Ａと平坦部３１２Ａとの組み合わせが繰り返し形成されている。前記「陰刻の光学パターン」とは、第１基材層２００に向かって陰刻の光学パターンが突出した形態を意味する。

パターン部は、下記の数式１を満足し、陰刻の光学パターン３１１Ａは、底角θが６０゜以上９０゜以下になってもよい。底角θは、陰刻の光学パターン３１１Ａの傾斜面３１３Ａと陰刻の光学パターン３１１Ａの最大幅Ｐ１とがなす角を意味する。このとき、前記傾斜面３１３Ａは、陰刻の光学パターン３１１Ａの平坦部３１２Ａにそのまま連結される傾斜面を意味する。前記範囲で、側面明暗比を改善させることができ、同一の側面視野角で明暗比を高めることができる。具体的に、底角θは、７０゜以上９０゜以下、Ｃ１／Ｐ１（Ｐ１に対するＣ１の比）は、１．１以上８．０以下、例えば、１．１以上５．０以下、１．１、１．２、１．３、１．４、１．５、１．６、１．７、１．８、１．９、２．０、２．１、２．２、２．３、２．４、２．５、２．６、２．７、２．８、２．９、３．０、３．１、３．２、３．３、３．４、３．５、３．６、３．７、３．８、３．９、４．０、４．１、４．２、４．３、４．４、４．５、４．６、４．７、４．８、４．９、５．０になってもよい。

＜数１＞
１＜Ｃ１／Ｐ１≦１０
（前記数式１において、Ｃ１は、パターン部の周期（単位：μｍ）で、Ｐ１は、光学パターンの最大幅（単位：μｍ）である。）

図1は、陰刻の光学パターン３１１Ａの両側の底角θが同一である場合を示したが、底角が上述した６０゜以上９０゜以下に含まれる場合、底角θが互いに異なる陰刻の光学パターンも本発明の範囲に含まれ得る。

陰刻の光学パターン３１１Ａは、最下部に第１面３１４Ａが形成され、第１面３１４Ａと連結される一つ以上の傾斜面３１３Ａで構成される陰刻の光学パターンであってもよい。図３は、陰刻の光学パターン３１１Ａが、隣り合う２個の傾斜面３１３Ａが第１面３１４Ａによって連結される台形の光学パターンであることを示した図であるが、本発明がこれに制限されることはなく、光学パターンは、断面が台形である光学パターン以外に、長方形又は正方形の光学パターンであってもよい。

第１面３１４Ａは、最下部に形成され、光学表示装置で第１層３１０Ａに到逹した光を第１面３１４Ａによってさらに拡散させることによって、視野角及び輝度を高めることができる。よって、光拡散効果を高め、輝度損失を最小化することができる。第１面３１４Ａは、平坦な面であって、偏光板２０の製造工程を容易にすることもできる。しかし、第１面３１４Ａは、微細な凹凸が形成された面であってもよく、曲面になってもよい。

第１面３１４Ａは、平坦部３１２Ａ、第１層３１０Ａの最低面、及び第２層３２０Ａの最高面のうち一つ以上と平行に形成されてもよい。

第１面３１４Ａは、幅が０．５μｍ以上３０μｍ以下、具体的には１μｍ以上１５μｍ以下、例えば、１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍ、６μｍ、７μｍ、８μｍ、９μｍ、１０μｍ、１１μｍ、１２μｍ、１３μｍ、１４μｍ、又は１５μｍになってもよい。前記範囲で、偏光板２０が光学表示装置に使用可能であり、明暗比の改善効果を期待することができる。

陰刻の光学パターン３１１Ａは、アスペクト比が０を超え３．０以下、具体的には０．４以上３．０以下、さらに具体的には０．７以上３．０以下、例えば、０．７、０．８、０．９、１．０、１．１、１．２、１．３、１．４、１．５、１．６、１．７、１．８、１．９、２．０、２．１、２．２、２．３、２．４、２．５、２．６、２．７、２．８、２．９、又は３．０になってもよい。前記範囲で、側面での明暗比及び側面での視野角を改善することができる。

陰刻の光学パターン３１１Ａの最大高さＨ１は、０μｍを超え５０μｍ以下、具体的には１μｍ以上４５μｍ以下、例えば、１μｍ、５μｍ、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、又は４５μｍになってもよい。前記範囲で、明暗比の改善、視野角の改善、及び輝度の向上を示し、モアレなどが発生しなくなる。

陰刻の光学パターン３１１Ａの最大幅Ｐ１は、０μｍを超え１５μｍ以下、具体的には２μｍ以上１５μｍ以下、例えば、２μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍ、６μｍ、７μｍ、８μｍ、９μｍ、１０μｍ、１１μｍ、１２μｍ、１３μｍ、１４μｍ、又は１５μｍになってもよい。前記範囲で、明暗比の改善、視野角の改善、及び輝度の向上を示し、モアレなどが発生しなくなる。

陰刻の光学パターン３１１Ａと第１基材層２００との間の最小距離、すなわち、陰刻の光学パターン３１１Ａの最下部と第１基材層２００との間の最小距離Ｄ１（「肉厚」ともいう）は、０μｍを超え３０μｍ以下、具体的には１μｍ以上２０μｍ以下、例えば、１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍ、６μｍ、７μｍ、８μｍ、９μｍ、１０μｍ、１１μｍ、１２μｍ、１３μｍ、１４μｍ、１５μｍ、１６μｍ、１７μｍ、１８μｍ、１９μｍ、又は２０μｍになってもよい。前記範囲で、フィルムの硬度及びコーティング厚さの均一度を確保する効果があり得る。

陰刻の光学パターン３１１Ａの最大幅Ｐ１の全体の和は、第１層３１０Ａの全体の幅に対して４０％以上６０％以下、具体的には４５％以上５５％以下、例えば、４５％、４６％、４７％、４８％、４９％、５０％、５１％、５２％、５３％、５４％、又は５５％になってもよい。前記範囲で、側面での明暗比を高め、側面での視野角を改善することができる。

パターン層３００Ａの最上部面から陰刻の光学パターン３１１Ａの最下部までの距離Ａ１に対する陰刻の光学パターン３１１Ａの最大高さＨ１の比（Ｈ１／Ａ１）は、０を超え１以下、具体的には０．３以上１．０以下、例えば、０．３、０．４、０．５、０．６、０．７、０．８、０．９、又は１．０になってもよい。前記範囲で、フィルムの硬度及びコーティング厚さの均一度を確保する効果があり得る。図３は、隣り合う陰刻の各光学パターン３１１Ａとして、底角θ、第１面３１４Ａの幅、最大高さＨ１、最大幅Ｐ１がそれぞれ同一な光学パターンが形成されたパターン部を示した図である。しかし、隣り合う各光学パターン３１１Ａは、底角θ、第１面３１４Ａの幅、最大高さＨ１、最大幅Ｐ１がそれぞれ互いに異なってもよい。

平坦部３１２Ａは、第１層３１０Ａを通過した光を第２層３２０Ａに出射させることによって、正面輝度を高めることができる。

平坦部３１２Ａの幅Ｌ１に対する陰刻の光学パターン３１１Ａの最大幅Ｐ１の比率は、０を超え９以下、具体的には０．１以上３以下、さらに具体的には０．１５以上２以下、例えば、０．１５、０．２、０．２５、０．３、０．３５、０．４、０．４５、０．５、０．５５、０．６、０．６５、０．７、０．７５、０．８、０．８５、０．９、０．９５、１．０、１．０５、１．１、１．１５、１．２、１．２５、１．３、１．３５、１．４、１．４５、１．５、１．５５、１．６、１．６５、１．７、１．７５、１．８、１．８５、１．９、１．９５、又は２であってもよい。前記範囲で、正面明暗比と側面明暗比との差を減少させることができ、同一の側面視野角及び同一の正面視野角で明暗比を高めることができる。また、モアレ防止効果があり得る。

平坦部３１２Ａの幅Ｌ１は、０μｍを超え５０μｍ以下、具体的には０μｍを超え３０μｍ以下、例えば、１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍ、６μｍ、７μｍ、８μｍ、９μｍ、１０μｍ、１１μｍ、１２μｍ、１３μｍ、１４μｍ、１５μｍ、１６μｍ、１７μｍ、１８μｍ、１９μｍ、２０μｍ、２１μｍ、２２μｍ、２３μｍ、２４μｍ、２５μｍ、２６μｍ、２７μｍ、２８μｍ、２９μｍ、又は３０μｍになってもよい。前記範囲で、正面輝度を上昇させるという効果があり得る。

一つの陰刻の光学パターン３１１Ａの最大幅Ｐ１と隣り合う平坦部３１２Ａは、一つの周期Ｃ１を形成する。周期Ｃ１は、０μｍを超え６０μｍ以下、具体的には５μｍ以上６０μｍ以下、例えば、５μｍ、１０μｍ、１５μｍ、２０μｍ、２５μｍ、３０μｍ、３５μｍ、４０μｍ、４５μｍ、５０μｍ、５５μｍ、又は６０μｍになってもよい。前記範囲内で、明暗比の改善効果があると共に、モアレを防止することができる。

パターン層３００Ａの断面積において、第１層３１０Ａの全体の断面積に対する第２層３２０Ａのうち充填パターン３２１Ａの全体の断面積の総和の比は、４０％以上６０％以下、好ましくは４５％以上５５％以下、例えば、４５％、４６％、４７％、４８％、４９％、５０％、５１％、５２％、５３％、５４％、又は５５％になってもよい。前記範囲で、側面視認性の改善効果があり得る。

図３は、隣り合う周期Ｃ１、最大幅Ｐ１がそれぞれ互いに同一なパターン部を示した図であるが、周期Ｃ１及び最大幅Ｐ１はそれぞれ互いに異なってもよい。

本発明の光学表示装置は、本発明の偏光板を含んでもよい。一具体例において、光学表示装置は、液晶表示装置及び発光素子表示装置であってもよい。

一具体例において、液晶表示装置において、本発明の偏光板は、液晶パネルに対して視認側偏光板として含んでもよい。前記「視認側偏光板」とは、液晶パネルに対して画面側、すなわち、光源側に対向して配置されるものである。

一具体例において、液晶表示装置は、バックライトユニット、第１偏光板、液晶パネル、及び第２偏光板が順次積層され、第２偏光板は、本発明の偏光板を含んでもよい。液晶パネルは、ＶＡ（ｖｅｒｔｉｃａｌ ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＩＰＳモード、ＰＶＡ（ｐａｔｔｅｒｎｅｄ ｖｅｒｔｉｃａｌ ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード又はＳ−ＰＶＡ（ｓｕｐｅｒ−ｐａｔｔｅｒｎｅｄ ｖｅｒｔｉｃａｌ ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードを採用可能であるが、これに制限されない。他の具体例において、本発明の偏光板は、液晶パネルに対して光源側偏光板であってもよい。前記「光源側偏光板」とは、液晶パネルに対して光源側に配置されるものである。更に他の具体例において、液晶パネルに対して視認側偏光板と光源側偏光板の全てが本発明の偏光板であってもよい。

以下では、本発明の好ましい実施例を通じて本発明の構成及び作用をさらに詳細に説明する。但し、下記の実施例は、本発明の理解を促進するためのものであって、本発明の範囲が下記の実施例に限定されることはない。

（実施例１）
ＳＳＣ−６０００（ＳＨＩＮ−Ａ Ｔ＆Ｃ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）樹脂を高屈折層用組成物（粒子を含まない）として使用した。高屈折層用組成物は、所定の溶媒をさらに含んでもよい。

ＳＳＣ−４０００（ＳＨＩＮ−Ａ Ｔ＆Ｃ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）樹脂を低屈折層用組成物（粒子を含まない）として使用した。低屈折層用組成物は、所定の溶媒をさらに含んでもよい。

第１基材層用透明ＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社、ＳＲＦ、厚さ：８０μｍ、Ｒｅ＝８，０００ｎｍ）の上部面に前記高屈折層用組成物を所定の厚さで塗布した。パターンと平坦部とが交互に形成されたフィルムを用いて前記塗布層にパターンを印加し、これをＵＶ硬化させることによって、下記の表１のパターン部として陰刻の光学パターンと平坦部とが交互に形成された第１層を形成した。前記第１層には、前記低屈折層用組成物を、前記陰刻の光学パターンを完全に充填するように塗布した。

第２基材層として反射防止層が一面に形成された透明ＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社、ＳＲＦ、厚さ：８０μｍ、透明ＰＥＴフィルムのみのＲｅ＝８，０００ｎｍ）の他の一面と前記塗布層とを互いに合わせ、これをＵＶ硬化させることによってパターン層に第２基材層を形成した。

ポリビニルアルコールフィルムを６０℃で３倍延伸し、ヨウ素を吸着させた後、４０℃のホウ酸水溶液で２．５倍延伸することによって偏光子を製造した。

前記第１基材層用透明ＰＥＴフィルムの下部面に前記製造した偏光子をＵＶ硬化型接着剤で接着させることによって偏光板を製造した。

製造した偏光板は、偏光子の光出射面に第１基材層、第１層（高屈折率層）、第２層（低屈折率層）及び第２基材層が順次積層され、陰刻の光学パターンは第１基材層の方向に突出している。

（実施例２）
ＳＳＣ−５５００（ＳＨＩＮ−Ａ Ｔ＆Ｃ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）樹脂を高屈折層用組成物（粒子を含まない）として使用した。高屈折層用組成物は、所定の溶媒をさらに含んでもよい。

ＳＳＣ−４５００（ＳＨＩＮ−Ａ Ｔ＆Ｃ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．ＳＨＩＮ−Ａ）樹脂を低屈折層用組成物（粒子を含まない）として使用した。低屈折層用組成物は、所定の溶媒をさらに含んでもよい。

実施例１において、前記高屈折層用組成物及び低屈折率層用組成物を用いて第１層と第２層の屈折率を下記の表２のように変更したことを除いては、同一の方法で偏光板を製造した。

（実施例３）
実施例１において、陰刻の光学パターンと平坦部を下記の表１のように変更したことを除いては、同一の方法で偏光板を製造した。

（実施例４）
実施例３において、第１層と第２層の屈折率を実施例２の高屈折層用組成物及び低屈折層用組成物を用いて下記の表２のように変更したことを除いては、同一の方法で偏光板を製造した。

（比較例１）
ポリビニルアルコールフィルムを６０℃で３倍延伸し、ヨウ素を吸着させた後、４０℃のホウ酸水溶液で２．５倍延伸することによって偏光子を製造した。前記製造した偏光子の上部面に第１基材層用透明ＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社、ＳＲＦ、厚さ：８０μｍ、Ｒｅ＝１４，０００ｎｍ）をＵＶ硬化型接着剤で接着させることによって偏光板を製造した。

（比較例２）
第２基材層として反射防止層が一面に形成された透明ＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社、ＳＲＦ、厚さ：８０μｍ、Ｒｅ＝８，０００ｎｍ）の他の一面に、前記実施例１の高屈折率層用組成物を所定の厚さで塗布した。前記塗布層にパターンと平坦部とが交互に形成されたフィルムを用いてパターンを印加し、これをＵＶ硬化させることによって、下記の表１の陰刻の光学パターンと平坦部とが交互に形成された高屈折率層を形成した。前記高屈折層には、前記実施例１の低屈折率層用組成物を、前記陰刻の光学パターンを完全に充填するように塗布した。

前記塗布層と第１基材層用透明ＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社、ＳＲＦ、厚さ：８０μｍ、Ｒｅ＝８，０００ｎｍ）の上部面とを互いに合わせて硬化させた。前記第１基材層用透明ＰＥＴフィルムの下部面に前記実施例１の偏光子をＵＶ硬化型接着剤で硬化させることによって偏光板を製造した。

図４は、比較例２の偏光板の断面図である。図４を参照すると、偏光板は、偏光子１００を含み、偏光子１００の光出射面に第１基材層２００、低屈折率層５１０、高屈折率層５２０、及び第２基材層４００が順次積層されたものである。

（比較例３）
実施例１において、第１層と第２層の屈折率を下記の表２のように変更したことを除いては、同一の方法で偏光板を製造した。

（比較例４）
比較例２において、第１層と第２層の屈折率を下記の表２のように変更し、高屈折率層に高屈折率粒子としてジルコニアを添加したことを除いては、同一の方法で偏光板を製造した。

実施例と比較例の偏光板に対して下記の物性を評価し、その結果を下記の表２に示した。

（光源側偏光板の製造）
ポリビニルアルコールフィルムを６０℃で３倍延伸し、ヨウ素を吸着させた後、４０℃のホウ酸水溶液で２．５倍延伸することによって偏光子を製造した。偏光子の両面に基材層としてトリアセチルセルロースフィルム（厚さ８０μｍ）を偏光板用接着剤（Ｚ−２００、日本合成化学工業株式会社）で接着させることによって偏光板を製造した。製造した偏光板を光源側偏光板として使用した。

（液晶表示装置用モジュールの製造）
前記製造した光源側偏光板、液晶パネル（ＰＶＡモード）、前記実施例と比較例で製造した偏光板を順次組み立てることによって液晶表示装置用モジュールを製造した。そして、実施例と比較例で製造した偏光板のうち第２基材層が最外郭に出るように組み立てた。

ＬＥＤ光源、導光板、及び液晶表示装置用モジュールを組み立てることによって、シングルエッジ型ＬＥＤ光源を含む液晶表示装置（実施例及び比較例の液晶表示装置用モジュールの構成を除いては、サムスンＴＶ（５５インチのＵＨＤ ＴＶ、１６年製造モデル名：ＵＮ５５ＫＳ８０００Ｆ）と同一の構成）を製造した。

ＥＺＣＯＮＴＲＡＳＴ Ｘ８８ＲＣ（ＥＺＸＬ−１７６Ｒ−Ｆ４２２Ａ４、ＥＬＤＩＭ社）を用いて球面座標系の正面（０゜，０゜）及び側面（０゜，６０゜）において白色モード（ｗｈｉｔｅ ｍｏｄｅ）及び黒色モード（ｂｌａｃｋ ｍｏｄｅ）のそれぞれで輝度値を測定した。

正面明暗比は、球面座標系（０゜，０゜）で黒色モードの輝度値に対する白色モードの輝度値の比と計算した。側面明暗比は、球面座標系（０゜，６０゜）で黒色モードの輝度値に対する白色モードの輝度値の比と計算した。

１／２視野角は、正面輝度の１／２の輝度を有する視野角を意味する。

１／３視野角は、正面輝度の１／３の輝度を有する視野角を意味する。

光学的透明性：偏光板に対してヘイズメーター機器を用いて測定した。ヘイズが０％〜３０％である場合は半透明と評価し、ヘイズが３０％超過である場合は不透明と評価した。

表２において、（）内の数値は、比較例１の明暗比に対する実施例又は比較例の明暗比の比率の百分率値を意味する。

前記表２のように、本発明の偏光板は、正面明暗比の減少を最小化しながらも側面明暗比を著しく改善することができた。また、本発明の偏光板は、光学的透明性も良好であった。

その一方で、粒子を含まず、本発明の偏光板構造を有さない比較例２及び比較例３は、正面明暗比が多く減少し、側面明暗比の改善効果が本発明に比べて著しく低かった。また、高屈折率層に粒子を含む比較例４は、透明性及び輝度の均一度に問題があった。

本発明の単純な変形及び変更は、本分野で通常の知識を有する者によって容易に実施可能であり、このような変形や変更は、いずれも本発明の範囲に含まれる。

Claims (20)

1. 偏光フィルム、及び前記偏光フィルムの光出射面に順次形成された第１基材層及びパターン層を含み、
   前記パターン層は、前記第１基材層から順次形成された第１層及び第２層を含み、前記第１層は、前記第２層より高い屈折率を有し、
   前記第１層は、前記第２層と対向する少なくとも一部分に２個以上の光学パターンを備えており、前記光学パターンと隣り合う前記光学パターンとの間に平坦部を備えているパターン部を含む、偏光板。
2. 前記第１層と前記第２層との間の屈折率の差は０．０５以上である、請求項１に記載の偏光板。
3. 前記第１層は、粒子を含まない無粒子型樹脂層である、請求項１に記載の偏光板。
4. 前記第２層は、粒子を含まない無粒子型樹脂層である、請求項１に記載の偏光板。
5. 前記光学パターンは、レンチキュラーレンズパターン、最下部に一つの平面が形成され、傾斜面が平面の断面が多角形であるパターン、最下部に一つの平面が形成され、傾斜面が曲面であるパターン、及び断面が長方形又は正方形などのＮ角形であるパターンのうち１種以上を含む、請求項１に記載の偏光板。
6. 前記光学パターンは、レンチキュラーレンズパターン、又は、最下部に一つの平面が形成され、傾斜面が平面の断面が多角形であるパターンである、請求項１に記載の偏光板。
7. 前記パターン部は、下記の数式１を満足する、請求項１に記載の偏光板。
   ＜数１＞
   １＜Ｃ／Ｐ≦１０
   （前記数式１において、Ｃは、パターン部の周期（単位：μｍ）で、Ｐは、光学パターンの最大幅（単位：μｍ）である。）
8. 前記光学パターンは、最下部に一つの平面が形成され、傾斜面が平面の断面が多角形である陰刻の光学パターン、又は陰刻のレンチキュラーレンズパターンである、請求項１に記載の偏光板。
9. 前記光学パターンは、アスペクト比が０を超え３．０以下である、請求項１に記載の偏光板。
10. 前記パターン層は、肉厚が０μｍを超え３０μｍ以下である、請求項１に記載の偏光板。
11. 前記光学パターンは陰刻の光学パターンであって、
    前記第２層は、前記第１層との界面に前記陰刻の光学パターンの少なくとも一部分を充填する充填パターンを有する、請求項１に記載の偏光板。
12. 前記パターン層の断面積において、前記第１層の全体の断面積に対する前記第２層のうち前記充填パターンの全体の断面積の総和の比は４０％以上６０％以下である、請求項１１に記載の偏光板。
13. 前記第１基材層は、前記第１層に直接形成され、前記第１基材層は、波長５５０ｎｍでＲｅが１５，０００ｎｍ以下である、請求項１に記載の偏光板。
14. 前記第２層の光出射面に第２基材層がさらに形成された、請求項１に記載の偏光板。
15. 前記第２基材層は、前記第２層に直接形成され、前記第２基材層は、波長５５０ｎｍでＲｅが１５，０００ｎｍ以下である、請求項１４に記載の偏光板。
16. 前記第２基材層は、セルロースエステル系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、非環状ポリオレフィン系樹脂、ポリ（メタ）アクリレート系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、及びポリ塩化ビニリデン系樹脂のうち一つ以上を含む、請求項１４に記載の偏光板。
17. 前記第２基材層の光出射面にプライマー層、ハードコーティング層、耐指紋性層、反射防止層、アンチグレア層、低反射層、及び超低反射層のうち１種以上の機能層がさらに形成された、請求項１４に記載の偏光板。
18. 前記第２層の最上部面が機能層化された、請求項１に記載の偏光板。
19. 前記第１基材層は、前記第１層に直接形成され、前記第１基材層は、波長５５０ｎｍでＲｅが３，０００ｎｍ以上１５，０００ｎｍ以下であって、
    前記第２基材層は、前記第２層に直接形成され、前記第２基材層は、波長５５０ｎｍでＲｅが３，０００ｎｍ以上１５，０００ｎｍ以下のものである、請求項１４に記載の偏光板。
20. 請求項１から１９のいずれか１項に記載の偏光板を含む、光学表示装置。
    

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