JP2020007191A - Iii族窒化物単結晶基板及びiii族窒化物単結晶積層体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)前記第一改質工程における物理的作用が前記グレイン領域の少なくとも一部の領域にレーザー光を照射するものであること。
(2)前記レーザー光の照射エネルギーが、III族窒化物単結晶基板のバンドギャップエネルギーよりも小さいこと。
(3)前記第二改質工程が、III族窒化物単結晶基板を1200℃以上に加熱することによること。
(4)前記グレイン領域を有するIII族単結晶窒化物基板に含まれるシリコン、炭素、酸素不純物の合計が1×1016cm−3以上1×1021cm−3以下であること。
(5)前記グレイン領域を有するIII族単結晶窒化物基板の厚さが50μm以上であること。
(6)前記グレイン領域を有するIIII族単結晶窒化物基板が窒化アルミニウムであること。
(7)前記第一改質工程により、前記グレイン領域のX線ロッキングカーブ半値幅を100秒以上に改質すること。
本発明の製造方法におけるIII族窒化物単結晶基板10には、基板面内に少なくとも1つ以上のグレイン領域10aと、該グレイン領域10aを取り囲むように単結晶領域10bが存在する。
III族窒化物単結晶基板10に含まれるグレイン領域10aは、結晶方位が周囲の単結晶領域と異なる領域である。グレイン領域10aの構成元素は前述の通りIII族窒化物単結晶基板の単結晶領域10b(すなわち、周囲の単結晶領域)と同様である。一方で、該グレイン領域10aは、III族窒化物単結晶基板10の単結晶領域10bの中に一定の区画を伴って存在する結晶方位が周辺の単結晶領域10bと異なる領域である。グレイン領域10aの形状は特定の形状を有することは稀であり、不定形であることが多い。グレイン領域10aの内部は、一つの任意方向の結晶方位ズレを起こしている場合から、複数の任意方向の結晶方位ズレを起こしている場合まで、多様な存在形態を示す。また、グレイン領域10a内部における結晶方位ズレの方向や区画の大きさに特定の決まった状態はなく、多数の結晶方位ズレを有している場合は、多結晶の状態と認識される。また、グレイン領域10aと周辺の単結晶領域10bの境界(区画)にはグレイン領域10aの結晶方位ズレに伴って転位が存在する。
本発明の製造方法において、第一改質工程とは、III族窒化物単結晶基板10に含まれるグレイン領域10aに外部より物理的作用を加えることで、グレイン領域のIII族窒化物結晶の原子配列を一時的に乱す工程である。物理的作用とは具体的には、レーザー照射やイオン打ち込み等により、グレイン領域10aおよび、グレイン領域の境界に物理的なエネルギーを加えることを意味する。本発明の製造方法では上記グレイン領域に物理的作用を加えることで結晶方位ズレの存在する状態から、結晶配向性が低下した状態、もしくは非晶質に近い状態に変化させる。なお、III族窒化物単結晶基板10に複数のグレイン領域を有する場合には、各々のグレイン領域に対して上記第一改質工程を実施する。
本発明の製造方法において、第二改質工程102は、第一改質工程101により変化させた結晶配列をさらに変化させる工程である。具体的には、第一改質工程101において物理的作用により原子配列が乱れた第一改質後グレイン領域11aの原子配列を再配列させて、結晶配列を再構築させる工程である。かかる工程を経ることで、III族窒化物単結晶基板に当初存在していたグレイン領域10aを低減或いは消失させることが可能である。ここで、第二改質工程における結晶配列をさらに変化させる方法として具体的には、第一改質工程を経たIII族窒化物単結晶基板を熱処理する方法が挙げられる。第二改質工程における熱処理によって、第一改質後のグレイン領域11a内の原子配列は、単結晶領域10bの結晶配列に倣って原子の再配列が進行し、第二改質後グレイン領域12aとなる。
第二改質工程102で得た第二改質後III族窒化物単結晶基板12は、該基板上に良好な結晶品質を有するIII族窒化物単結晶層14を形成する成膜工程を施すことにより、III族窒化物単結晶積層体13を得ることができる。
第二改質工程102で得た第二改質後III族窒化物単結晶基板12上にIII族窒化物単結晶層14を形成するにあたり、III族窒化物単結晶層14の積層前に第二改質後III族窒化物単結晶基板12の表面を適宜平坦化加工、凹凸加工等を実施することが可能である。
(III族窒化物単結晶基板)
III族窒化物単結晶基板10として厚さ450μm、直径35mmの両面CMP研磨の単結晶窒化アルミニウム基板を用いた。表面はc面(Al極性面)であり、m面方向に0.25°、a面方向に0.01°のオフ角を有していた。二次イオン質量分析法により測定したシリコン、酸素および炭素の不純物濃度は、それぞれ5×1017cm−3、1×1019cm−3、1.5×1019cm−3であり、不純物濃度の合計は2.55×1019cm−3であった。また、単結晶窒化アルミニウム基板のグレイン領域以外の領域において、ゲルマニウム単結晶(220)を4回回折により単色化したX線源として用いたX線オメガロッキングカーブ測定を行ったところ、窒化アルミニウムの(101)面方位のX線オメガロッキングカーブの半値幅は12秒であった。
次いで、該単結晶窒化アルミニウム基板の第一改質工程を実施した。第一改質工程には、波長800nmのチタンサファイアレーザーを用いた。レーザー出力は2.5mW、周波数10kHz、バルス幅は1ns、集光部スポット系はφ20μmに設定した。該単結晶窒化アルミニウム基板へのレーザー照射前に、別の試験基板でレーザー照射試験を行い、レーザー照射による改質領域を調査したところ、面内方向については焦点位置からφ100μmの範囲、深さ方向については焦点位置から上下に30μmの範囲に渡って改質領域が分布していた。2カ所のグレイン領域へのレーザー照射は単結晶窒化アルミニウム基板の表面(Al極性面)側から照射し、照射開始時には、レーザー照射側から遠い側、すなわち裏面(N極性面)から10μm上方位置にグレイン領域に焦点を合わせて物理的作用を加え、グレイン領域の同一面内全体にレーザーを照射した後、焦点をレーザー照射面に近い方向へ40μm移動させ、再びグレイン領域の同一面内全体にレーザーを照射した。これを焦点位置を40μmずつ表面に移動しながらサイクル繰り返すことにより、深さ方向を含めたグレイン領域全体に渡って物理的作用を加え、グレイン領域の原子配列を改質した。
次にタングステン製ヒーター素線からなる雰囲気制御電気炉を使用して、第二改質工程を実施した。第一改質工程後の単結晶窒化アルミニウム基板を該電気炉内のタングステン製サセプタ上に設置し、電気炉内部の真空排気を行った後、純度99.999%の窒素ガスを充填した。さらに真空排気と窒素充填を合計3回繰り返し、電気炉内部の酸素や水分を低減した。窒素ガスとアルゴンガス(純度99.999%)の混合ガス(混合比率1:1)を流量200ml/分にて流通した状態で、室温から1650℃まで60分で昇温した。その後、1650℃で30分間保持した後、加熱を中止して基板を放冷し、電気炉から第二改質工程後の単結晶窒化アルミニウム基板を取り出した。
第二改質後の単結晶窒化アルミニウム基板の表面(Al極性面)側に新たなIII族窒化物単結晶層を成長する前に、該表面を化学的機械研磨により平坦化処理を行った。化学的機械研磨直前の研削処理は行わず、単結晶窒化アルミニウム基板を対アルカリ性ワックスを使用して定盤に張り付けた後、ウレタン製研磨パッドとアルカリ性シリカスラリーを用いて化学的機械研磨を実施した。研磨後の単結晶窒化アルミニウム基板の表面は、観察視野2×2μm2の原子間力顕微鏡観察でステップとテラスを有する表面状態となり、算術平均粗さ(Ra)は0.08nmであった。次いで、該基板の表面を弱アルカリ性洗剤を供給しながらスクラブ洗浄を実施した後、超純水でリンスして、スピン乾燥にて残留水分を除去した。
実施例1と同様の単結晶窒化アルミニウム基板を使用し、かつ実施例1で示した第一改質工程と第二改質工程を適用せずに、実施例1と同様の研磨を実施した後、実施例1と同一の成長バッチにてMOCVD法によりLED素子層を成長した比較例である。その結果、単結晶領域に形成された素子の故障率は9%であったが、グレイン領域に形成された素子10個全数が故障した。
実施例1と同様の単結晶窒化アルミニウム基板を使用し、かつ実施例1で示した第一改質工程を実施せずに第二改質工程のみを実施し、実施例1と同様の研磨を実施した後、実施例1と同一の成長バッチにてMOCVD法によりLED素子層を成長した比較例である。その結果、単結晶領域に形成された素子の故障率は8%であったが、グレイン領域に形成された素子10個全数が故障した。
10a グレイン領域
10b 単結晶領域
101 第一改質工程
11 第一改質後III族窒化物単結晶基板
11a 第一改質後グレイン領域
11b 改質手段(物理的作用)
102 第二改質工程
12 第二改質後III族窒化物単結晶基板
12a 第二改質後グレイン領域
103 成膜工程
13 III族窒化物単結晶積層体
14 III族窒化物単結晶層
Claims (10)
- 結晶方位が周囲の単結晶領域と異なるグレイン領域を有するIII族窒化物単結晶基板の該グレイン領域の少なくとも一部の領域に物理的作用を加えて該領域の結晶配列を変化させる第一改質工程、
次いで前記第一改質工程により変化させた結晶配列をさらに変化させる第二改質工程
を含むことを特徴とするIII族窒化物単結晶基板の製造方法。 - 前記第一改質工程における物理的作用が前記グレイン領域の少なくとも一部の領域にレーザー光を照射するものである請求項1記載のIII族窒化物単結晶基板の製造方法。
- 前記レーザー光の照射エネルギーが、III族窒化物単結晶基板のバンドギャップエネルギーよりも小さい請求項2記載のIII族窒化物単結晶基板の製造方法。
- 前記第二改質工程が、III族窒化物単結晶基板を1200℃以上に加熱することによる請求項1記載のIII族窒化物単結晶基板の製造方法。
- 前記グレイン領域を有するIII族単結晶窒化物基板に含まれるシリコン、炭素、酸素不純物の合計が1×1016cm−3以上1×1021cm−3以下である請求項1記載のIII族窒化物単結晶基板の製造方法。
- 前記グレイン領域を有するIII族単結晶窒化物基板の厚さが50μm以上である請求項1記載のIII族窒化物単結晶基板の製造方法。
- 前記グレイン領域を有するIII族単結晶窒化物基板が窒化アルミニウムである請求項1記載のIII族窒化物単結晶基板の製造方法。
- 前記第一改質工程により、前記グレイン領域のX線ロッキングカーブ半値幅を100秒以上に改質する請求項1記載のIII族窒化物単結晶基板の製造方法。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法にてIII族窒化物単結晶基板を得、次いで、得られた該III族窒化物単結晶基板に、III族窒化物単結晶層を積層するIII族窒化物単結晶積層体の製造方法。
- III族窒化物単結晶層を積層する前に前記III族窒化物単結晶基板の表面の研磨を行う請求項9記載の積層体の製造方法。
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---|---|---|---|---|
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JPH07187890A (ja) * | 1993-12-22 | 1995-07-25 | Nippon Steel Corp | レーザーアニーリング方法 |
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