JP2019537271A5 - - Google Patents
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Description
本発明の1つ以上の実施形態の詳細が、添付図面および下記の説明内に記載される。本発明の他の特徴、側面、および利点も、説明、図面、および請求項から明白となるであろう。
本願明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
(項目1)
光学層を構成するインプリントリソグラフィ方法であって、前記インプリントリソグラフィ方法は、
パターン化テンプレートを用いて、基板の側面上に第1の規模のサイズの第1の特徴をインプリントすることと、その間に、
前記パターン化テンプレートを用いて、前記基板の前記側面上に第2の規模のサイズの第2の特徴をインプリントすることと
含み、
前記第2の特徴は、前記基板と隣接する表面との間に間隙を画定するようにサイズを決定され、配置されている、インプリントリソグラフィ方法。
(項目2)
前記第1の特徴をインプリントすることは、前記基板の前記側面上に回折格子および反射防止特徴の一方または両方を形成することを含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目3)
前記第2の特徴をインプリントすることは、前記基板の前記側面上にスペーサを形成することを含む、項目2に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目4)
前記基板の前記側面の周辺縁に沿って前記スペーサおよび前記反射防止特徴の一方または両方をインプリントすることをさらに含む、項目3に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目5)
前記基板の前記側面の内部領域内に前記スペーサおよび前記反射防止特徴の一方または両方をインプリントすることをさらに含む、項目3に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目6)
前記基板の前記側面は、前記基板の第1の側面であり、前記インプリントリソグラフィ方法は、前記基板の第2の側面上に前記第1の規模のサイズの第3の特徴をインプリントすることをさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目7)
前記第3の特徴をインプリントすることは、前記基板の前記第2の側面上に回折格子または反射防止特徴を形成することを含む、項目6に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目8)
前記第2の規模のサイズは、前記第1の規模のサイズより大きい、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目9)
前記第1の規模のサイズは、ナノスケールであり、前記第2の規模のサイズは、マイクロスケールである、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目10)
前記第1の特徴の両側上に前記第2の特徴をインプリントすることをさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目11)
先の金型から前記パターン化テンプレートを作成することをさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目12)
前記先の金型において前記第2の規模のサイズの深い特徴を形成することをさらに含む、項目11に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目13)
前記先の金型において前記第1の規模のサイズの浅い特徴を形成することをさらに含む、項目11に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目14)
前記基板は、第1の基板であり、前記隣接する表面は、第2の基板によって画定されている、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目15)
前記第1および第2の基板を互いに整列させることをさらに含む、項目14に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目16)
前記第1の基板の前記側面上にインプリントされた前記第2の特徴の上に接着性物質を分注することをさらに含む、項目14に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目17)
前記第1の基板の前記側面上にインプリントされた前記第2の特徴の上の前記接着性物質において、前記第1および第2の基板を互いに取り付け、前記第1の基板と、前記第2の基板によって画定された前記隣接する表面との間に前記間隙を形成することをさらに含む、項目16に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目18)
前記間隙は、低屈折率領域を提供する、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目19)
前記低屈折率領域は、1の屈折率を伴う空気を備えている、項目18に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目20)
光学層であって、前記光学層は、
基板と、
パターン化テンプレートを用いて前記基板の側面上にインプリントされたパターンと
を備え、
前記パターンは、第1の規模のサイズの第1の特徴と、第2の規模のサイズの第2の特徴とを備え、
前記第2の特徴は、前記基板と隣接する表面との間に間隙を画定するようにサイズを決定され、配置されている、光学層。
本願明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
(項目1)
光学層を構成するインプリントリソグラフィ方法であって、前記インプリントリソグラフィ方法は、
パターン化テンプレートを用いて、基板の側面上に第1の規模のサイズの第1の特徴をインプリントすることと、その間に、
前記パターン化テンプレートを用いて、前記基板の前記側面上に第2の規模のサイズの第2の特徴をインプリントすることと
含み、
前記第2の特徴は、前記基板と隣接する表面との間に間隙を画定するようにサイズを決定され、配置されている、インプリントリソグラフィ方法。
(項目2)
前記第1の特徴をインプリントすることは、前記基板の前記側面上に回折格子および反射防止特徴の一方または両方を形成することを含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目3)
前記第2の特徴をインプリントすることは、前記基板の前記側面上にスペーサを形成することを含む、項目2に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目4)
前記基板の前記側面の周辺縁に沿って前記スペーサおよび前記反射防止特徴の一方または両方をインプリントすることをさらに含む、項目3に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目5)
前記基板の前記側面の内部領域内に前記スペーサおよび前記反射防止特徴の一方または両方をインプリントすることをさらに含む、項目3に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目6)
前記基板の前記側面は、前記基板の第1の側面であり、前記インプリントリソグラフィ方法は、前記基板の第2の側面上に前記第1の規模のサイズの第3の特徴をインプリントすることをさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目7)
前記第3の特徴をインプリントすることは、前記基板の前記第2の側面上に回折格子または反射防止特徴を形成することを含む、項目6に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目8)
前記第2の規模のサイズは、前記第1の規模のサイズより大きい、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目9)
前記第1の規模のサイズは、ナノスケールであり、前記第2の規模のサイズは、マイクロスケールである、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目10)
前記第1の特徴の両側上に前記第2の特徴をインプリントすることをさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目11)
先の金型から前記パターン化テンプレートを作成することをさらに含む、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目12)
前記先の金型において前記第2の規模のサイズの深い特徴を形成することをさらに含む、項目11に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目13)
前記先の金型において前記第1の規模のサイズの浅い特徴を形成することをさらに含む、項目11に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目14)
前記基板は、第1の基板であり、前記隣接する表面は、第2の基板によって画定されている、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目15)
前記第1および第2の基板を互いに整列させることをさらに含む、項目14に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目16)
前記第1の基板の前記側面上にインプリントされた前記第2の特徴の上に接着性物質を分注することをさらに含む、項目14に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目17)
前記第1の基板の前記側面上にインプリントされた前記第2の特徴の上の前記接着性物質において、前記第1および第2の基板を互いに取り付け、前記第1の基板と、前記第2の基板によって画定された前記隣接する表面との間に前記間隙を形成することをさらに含む、項目16に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目18)
前記間隙は、低屈折率領域を提供する、項目1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目19)
前記低屈折率領域は、1の屈折率を伴う空気を備えている、項目18に記載のインプリントリソグラフィ方法。
(項目20)
光学層であって、前記光学層は、
基板と、
パターン化テンプレートを用いて前記基板の側面上にインプリントされたパターンと
を備え、
前記パターンは、第1の規模のサイズの第1の特徴と、第2の規模のサイズの第2の特徴とを備え、
前記第2の特徴は、前記基板と隣接する表面との間に間隙を画定するようにサイズを決定され、配置されている、光学層。
Claims (23)
- 多層ウェアラブル接眼レンズを構成するインプリントリソグラフィ方法であって、前記インプリントリソグラフィ方法は、
パターン化テンプレートの第1のサイズ範囲の浅い特徴を使用して基板の側面上に、第1の場所にそれぞれに前記第1のサイズ範囲の第1の特徴を備える機能性パターンをインプリントすることにより、第1の導波管をもたらすことであって、前記第1の導波管は、第1の波長範囲の光を投影し、かつ第1の深度平面に仮想画像を集束させるように構成されている、第1の回折格子を備え、前記第1の回折格子は、第1の内部結合格子を備え、第1の直交瞳拡大器領域および第1の射出瞳拡大器領域を形成する、ことと、
前記機能性パターンをインプリントする間に、前記機能性パターンを包囲する補助パターンをインプリントすることであって、前記補助パターンは、
前記第1のサイズ範囲の追加の第1の特徴であって、前記追加の第1の特徴は、反射防止特徴を備える、追加の第1の特徴と、
前記パターン化テンプレートの第2のサイズ範囲の深い特徴を使用する、前記基板の前記側面上に前記第1の場所から横方向に離間された第2の場所にそれぞれにおける前記第2のサイズ範囲の第2の特徴であって、前記第2のサイズ範囲は、前記第1のサイズ範囲より少なくともサイズが1桁大きく、前記第2の特徴は、前記第1の導波管と第2の導波管との間に前記第2のサイズ範囲の間隙を画定するようにサイズを決定され、配置されている、第2の特徴と
を備える、ことと、
前記第1の特徴、前記追加の第1の特徴、および前記第2の特徴を切断することと、
前記第1の導波管と前記第2の導波管との間に前記間隙を画定するように前記第2の特徴に沿って前記第1の導波管を前記第2の導波管に取り付け、それによって前記多層ウェアラブル接眼レンズの少なくとも一部をもたらすことと
を含み、
前記第2の導波管は、第2の波長範囲の光を投影し、かつ第2の深度平面に前記仮想画像を集束させるように構成されている、第2の回折格子を備え、前記第2の回折格子は、第2の内部結合格子を備え、第2の直交瞳拡大器領域および第2の射出瞳拡大器領域を形成する、インプリントリソグラフィ方法。 - 前記第2の特徴は、前記基板の前記側面上にスペーサを備える、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板の前記側面の周辺縁に沿って前記スペーサおよび前記反射防止特徴の一方または両方をインプリントすることをさらに含む、請求項2に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板の前記側面の内部領域内に前記スペーサおよび前記反射防止特徴の一方または両方をインプリントすることをさらに含む、請求項2に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記基板の前記側面は、前記基板の第1の側面であり、前記インプリントリソグラフィ方法は、前記基板の第2の側面上に前記第1のサイズ範囲の第3の特徴をインプリントすることをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記第3の特徴をインプリントすることは、前記基板の前記第2の側面上に回折格子または反射防止特徴を形成することを含む、請求項5に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記第2のサイズ範囲は、前記第2の特徴の高さが約1μm〜約50μmと、前記第2の特徴の幅が約1μm〜約100μmとのうちの一方または両方のマイクロメートル範囲を備える、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記第1のサイズ範囲は、前記第1の特徴の高さが最大約300nmまでのナノメートル範囲を備える、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記第1の特徴の両側の横方向側面上に前記第2の特徴をインプリントすることをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 先の金型から前記パターン化テンプレートを作成することをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記先の金型において前記第2のサイズ範囲の前記深い特徴を形成することをさらに含む、請求項10に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記先の金型において前記第1のサイズ範囲の前記浅い特徴を形成することをさらに含む、請求項10に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 第1および第2の基板を互いに整列させることをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 第1の基板の前記側面上にインプリントされた前記第2の特徴の上に接着性物質を分注することをさらに含む、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記第1の基板の前記側面上にインプリントされた前記第2の特徴の上の前記接着性物質において、前記第1および第2の基板を互いに取り付け、前記第1の基板と、前記第2の基板によって画定された隣接する表面との間に前記間隙を形成することをさらに含む、請求項14に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- それぞれに、前記第1および第2の基板の第1および第2の周辺縁に沿ってシールを用いて前記第1および第2の基板を互いに取り付けることをさらに含む、請求項15に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記間隙は、低屈折率領域を提供する、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記低屈折率領域は、1の屈折率を伴う空気を備えている、請求項17に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記第2の特徴の各々は、前記第1の特徴の各々から少なくとも約5μm〜約100μmで横方向に離間されている、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記第1の波長範囲および前記第2の波長範囲のうちの少なくとも1つは、約560nm〜640nmの範囲内の波長を伴う赤色光、約490nm〜約570nmの範囲内の波長を伴う緑色光、または約390nm〜約470nmの範囲内の波長を伴う青色光に対応する、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記第1の深度平面および前記第2の深度平面は、同じである、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記第2の特徴は、前記基板の前記側面上に前記追加の第1の特徴から横方向に離間されている、請求項1に記載のインプリントリソグラフィ方法。
- 前記第2の特徴は、前記追加の第1の特徴から約5μm〜約100μmに位置している、請求項22に記載のインプリントリソグラフィ方法。
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