JP2019537263A5 - - Google Patents

Claims (17)

1. キャリアウエハ上に配置されたトップウエハを有する貼り合わせウエハを支持するように構成されたステージと、
   前記貼り合わせウエハの周縁エッジのウエハエッジプロファイルイメージを生成するように構成されたイメージングシステムであって、コリメート光を生成するように構成された光源と、前記ウエハエッジプロファイルイメージを生成するように構成された検出器と、を含むイメージングシステムと、
   前記イメージングシステムに電子通信するコントローラであって、前記貼り合わせウエハの周囲の複数の位置で前記ウエハエッジプロファイルイメージを分析し、前記ウエハエッジプロファイルイメージに基づいてオフセット曲線を生成し、前記オフセット曲線に基づいて前記キャリアウエハに対する前記トップウエハの変位を決定するようにプログラムされている、コントローラと、
   を備え、
   前記分析の間に、前記コントローラがさらに、
   前記ウエハエッジプロファイルイメージの各々からエッジ座標を抽出し、
   前記ウエハエッジプロファイルイメージの各々における傾斜（ベベル）及び頂点の点の座標を求め、
   前記傾斜座標と前記頂点座標とを楕円モデルに当てはめ、
   前記トップウエハ及び前記キャリアウエハの中心位置を計算する、
   ようにさらに構成された、計測システム。
2. 前記ウエハエッジプロファイルイメージが陰影像イメージである、請求項１に記載の計測システム。
3. 前記分析の間に、前記コントローラがさらに、
   前記トップウエハに対する前記ウエハエッジプロファイルイメージの各々における第１の垂直線セグメントを決定し、
   前記キャリアウエハに対する前記ウエハエッジプロファイルイメージの各々における第２の垂直線セグメントを決定し、
   前記ウエハエッジプロファイルイメージの各々について前記第１の垂直線セグメント及び前記第２の垂直線セグメントの横方向位置を比較する、
   ように構成されている、請求項１に記載の計測システム。
4. キャリアウエハ上に配置されたトップウエハを有する貼り合わせウエハの周囲の複数の位置で、ウエハエッジプロファイルイメージをコントローラで分析するステップと、
   前記ウエハエッジプロファイルイメージに基づいて前記コントローラでオフセット曲線を生成するステップと、
   前記オフセット曲線に基づいて前記キャリアウエハに対する前記トップウエハの変位を前記コントローラで決定するステップと、
   を包含し、
   前記分析するステップが、
   前記ウエハエッジプロファイルイメージの各々からエッジ座標を抽出し、
   前記ウエハエッジプロファイルイメージの各々における傾斜（ベベル）及び頂点の点の座標を求め、
   前記傾斜座標と前記頂点座標とを楕円モデルに当てはめ、
   前記トップウエハ及び前記キャリアウエハの中心位置を計算する、ステップを含む、
   方法。
5. 前記ウエハエッジプロファイルイメージを前記貼り合わせウエハの周囲の複数の位置で生成するステップをさらに包含する、請求項４に記載の方法。
6. 前記ウエハエッジプロファイルイメージが陰影像イメージである、請求項４に記載の方法。
7. 前記分析ステップがさらに、
   前記トップウエハに対する前記ウエハエッジプロファイルイメージの各々における第１の垂直線セグメントを決定するステップと、
   前記キャリアウエハに対する前記ウエハエッジプロファイルイメージの各々における第２の垂直線セグメントを決定するステップと、
   前記ウエハエッジプロファイルイメージの各々について前記第１の垂直線セグメント及び前記第２の垂直線セグメントの横方向位置を比較するステップと、
   をさらに包含する、請求項４に記載の方法。
8. 前記第１の垂直線セグメントの決定ステップ及び前記第２の垂直線セグメントの決定ステップは、ハフ変換を使用して、前記ウエハエッジプロファイルイメージの輪郭に沿って、垂直に接続された画素を孤立させるステップを含む、請求項７に記載の方法。
9. 前記変位を決定するために正弦波モデルが使用される、請求項７に記載の方法。
10. 前記抽出ステップの後にステージ効果を補正するステップをさらに包含する、請求項４に記載の方法。
11. 前記トップウエハ及び前記キャリアウエハのエッジプロファイルの形状を評価するステップをさらに包含する、請求項４に記載の方法。
12. プロセッサに、
    キャリアウエハ上に配置されたトップウエハを有する貼り合わせウエハの周囲の複数の位置でウエハエッジプロファイルイメージを分析し、
    前記ウエハエッジプロファイルイメージに基づいてオフセット曲線を生成し、
    前記オフセット曲線に基づいて前記キャリアウエハに対する前記トップウエハの変位を決定する、
    ステップを指令するように構成されたプログラムを記憶している、非一時的コンピュータ読み取り可能媒体、であって、
    前記分析するステップがさらに、
    前記ウエハエッジプロファイルイメージの各々からエッジ座標を抽出するステップと、
    前記ウエハエッジプロファイルイメージの各々における傾斜（ベベル）及び頂点の点の座標を決定するステップと、
    前記座標を楕円モデルに当てはめるステップと、
    前記トップウエハ及び前記キャリアウエハの中心位置を計算するステップと、
    を含む、非一時的コンピュータ読み取り可能媒体。
13. 前記ウエハエッジプロファイルイメージが陰影像イメージである、請求項１２に記載の非一時的コンピュータ読み取り可能媒体。
14. 前記変位の決定ステップが
    前記トップウエハに対する前記ウエハエッジプロファイルイメージの各々における第１の垂直線セグメントを決定するステップと、
    前記キャリアウエハに対する前記ウエハエッジプロファイルイメージの各々における第２の垂直線セグメントを決定するステップと、
    前記ウエハエッジプロファイルイメージの各々について前記第１の垂直線セグメント及び前記第２の垂直線セグメントの横方向位置を比較するステップと、
    を含む、請求項１２に記載の非一時的コンピュータ読み取り可能媒体。
15. 前記第１の垂直線セグメントの決定及び前記第２の垂直線セグメントの決定ステップが、ハフ変換を使用して、前記ウエハエッジプロファイルイメージの輪郭に沿って、垂直に接続された画素を孤立させるステップを含む、請求項１４に記載の非一時的コンピュータ読み取り可能媒体。
16. 前記変位を決定するために正弦波モデルが使用される、請求項１４に記載の非一時的コンピュータ読み取り可能媒体。
17. 前記抽出ステップの後にステージ効果を補正するステップをさらに包含する、請求項１２に記載の非一時的コンピュータ読み取り可能媒体。