JP2019532905A - 複層グレージング - Google Patents

Abstract

本発明は、複数の平行なペイン（１２、１４、２０、１１２、１２０）を有しており、これらペインが、これらペインの間において少なくとも１つの中間層空間（２２、２４、１２２）を画定している少なくとも１つのスペーサ（１６、１１６）によって離されている、複層グレージング（１０、１００）であって、上述のペインのうちの少なくとも１つ、「機能ペイン」（２０、１２０）が、熱強化されていない少なくとも１つの薄いガラスシートを有しており、その厚みｔ１が、０．１ｍｍ〜２ｍｍの範囲内であり、かつその面のうちの少なくとも１つ（２０ａ、１２０ｄ）が、少なくとも１つの銀層を有しており低放射性を有している薄層の積層体でコーティングされており、上述の積層体が、オームで表され式Ｒｓ・ｔ２２− １１５・ｎ ＜ ２５・ｔ２に対応するシート抵抗Ｒｓ、を有しており、ｔ２が、積層体に存在している銀層の厚み又はそれぞれの銀層の厚みの合計であり、かつｎが、積層体に存在している銀層の数である、複層グレージング（１０、１００）、に関する。【選択図】図１

Description

本発明は、グレージングの分野、より特には、複層グレージングの分野に関する。

複層グレージングには、複数の要件、時には矛盾していることがある複数の要件が、課される。複層グレージングは、対流、伝導、又は放射による、いかなる熱の損失をも可能な限り防いで、優れた熱絶縁特性を示す必要がある。同時に、グレージングのソーラーファクターが最大化されている必要があり、それによって、太陽放射が建物の内部を加熱できる必要がある。最後に、グレージングが、可能な限り軽量である必要があり、特には、設置時又は使用時におけるいかなる破損をも防ぐために、優れた熱機械的強度を確保しつつグレージングの取扱いを促進するために、可能な限り軽量である必要がある。

本発明の目的は、これらの異なる要件を、可能な限り満たすグレージングを提供することである。

この目的のために、本発明の主題は、少なくとも１つのスペーサによって離されている複数の平行なペインを含んでおり、少なくとも１つのこのスペーサが、上述のペインの間において少なくとも１つの中間層空間を画定している、複層グレージングであって、
上述のペインのうちの少なくとも１つ、「機能ペイン」が、少なくとも１つの、熱強化されていない薄いガラスシートを有しており、その厚みｔ１が、０．１ｍｍ〜２ｍｍの範囲内であり、かつその面のうちの少なくとも１つが、低放射性を有しており少なくとも１つの銀層を含んでいる薄層の積層体でコーティングされており、
上述の積層体が、オームで表される、以下の式に対応するシート抵抗Ｒｓを示し：
Ｒｓ・ｔ２^２ − １１５・ｎ ＜２５・ｔ２
ｔ２が、ｎｍで表される、積層体に存在している、銀層の厚み、又はそれぞれの銀層の厚みの合計であり、かつｎが、積層体に存在している銀層の数である。

図１は、断面で表されている、三重グレージングを図解している。 図２は、断面で表されている、二重グレージングを図解している。

低放射性を有している積層体又は「ｌｏｗ−ｅ」積層体は、本発明の意味の範囲において、ＥＮ１２８９８規格の意味の範囲での２８３Ｋにおける標準放射率が、概して、０．０５以下、特には０．０３以下、さらには０．０２以下、又は０．０１以下である積層体、である。

特定の実施態様によれば、グレージングが、追加的に、以下の１又は複数の追加的な特徴を、単独で、又は技術的に可能なすべての組み合わせに従って、含んでいる：

− ペイン又はそれぞれのペインが、少なくとも１つのガラスシートを含んでおり、特には、ガラスシートからなっており、ガラスシートが、特には透明又は半透明である。

− 厚みｔ１が、０．５ｍｍ〜１．６ｍｍ、特には１．０ｍｍ〜１．５ｍｍの範囲内であり、又は０．２ｍｍ〜０．９ｍｍの範囲内である。

− 低放射性を有している積層体でコーティングされている少なくとも１つの面が、中間層空間の方に向いている。このようにして、積層体が、化学的又は機械的な攻撃から保護される。

− 薄いガラスシート若しくはそれぞれの薄いガラスシートのちょうど１つの面が、低放射率を有している薄層の積層体でコーティングされている。

− グレージングが、機能ペインを１つのみ、有している。
− グレージングが、少なくとも２つの機能ペイン、特には正確に２又は３の機能ペインを有している。

− グレージングが、二重グレージングである。したがって、好ましくは、グレージングが、単一の中間層空間を画定する単一のスペーサによって離されている２つの単層ペインを、有している。この場合には、これらのペインのうちの少なくとも１つ、特にはこれらのペインの１つのみ、又はこれらのペインそれぞれが、機能ペインである。

− グレージングが、少なくとも３つのペインを有しており、特には正確に３つのペインを有している。例えば、グレージングが、三重グレージング又は四重グレージングであってよい。第一の実施態様によれば、グレージングが、それぞれが単一の中間層空間を画定している（ｐ−１）のスペーサによってペアで離されているｐのペインを、有している。第二の実施態様によれば、グレージングが、有利には、単一のスペーサを有しており、この単一のスペーサが、２つの「外部」ペインの間に固定されており、かつ上述の外部ペインの間に配置されている「内部」ペインをそれぞれ受け入れている少なくとも１つの周縁溝を、備えている。グレージングが、特には、正確に３つのペインを有している；この場合には、これは、三重グレージングである。好ましくは、この三重グレージングが、単一のスペーサを有しており、この単一のスペーサが、２つの外部ペインの間に固定されており、かつ上述の外部ペインの間に配置されている単層の内部ペインを受け入れている周縁溝を、１つのみ、備えている。

− 周縁溝又はそれぞれの周縁溝が、エラストマー材料に基づいているライニングを備えており、例えば、エチレン／プロピレン／ジエン（ＥＰＤＭ）ゴムに基づいているライニングを備えている。ライニングは、内部ペインの熱膨張において起こり得る変化を補償することを可能にしつつ、溝において内部ペインを固定する役割を果たす。このようにして、溝における内部ペインの応力のない固定が提供され、グレージングに優れた熱機械的強度を提供することが可能となり、内部ペインが本発明の意味の範囲において機能ペインである場合であっても、グレージングに優れた熱機械的強度を提供することが可能となる。

− 少なくとも１つの内部ペインが、機能ペインである。三重グレージングの場合には、内部ペインが、機能ペインである。好ましくは、内部ペインが、グレージングの唯一の機能ペインである。外部ペインの厚みが、好ましくは、２ｍｍ〜６ｍｍの範囲内、特には２ｍｍ〜４ｍｍの範囲内である。

− 機能ペイン又はそれぞれの機能ペインが、１つのみのガラスシート、したがって上記において定義されている薄いガラスシートからなっている。

− 機能ペイン又はそれぞれの機能ペインが、少なくとも２つのガラスシート、特には正確に２つのガラスシートを有している。好ましくは、少なくとも１つの薄いガラスシートが、積層中間層、例えばポリビニルブチラール（ＰＶＢ）によって、別のガラスシートに接着的に固定されている。薄いガラスシートが、それぞれ、好ましくは、中間層空間に接している。他のガラスシートが、好ましくは、その厚みが０．１ｍｍ〜２ｍｍ、特には０．５ｍｍ〜１．６ｍｍの範囲内であるという意味において、薄い。この他のガラスシートが、薄層の積層体でコーティングされていてよく、又はコーティングされていなくてもよい。

− グレージングの少なくとも１つのペインが、機能ペインではない。非機能ペインの厚みが、好ましくは、２ｍｍ〜６ｍｍ、特には２ｍｍ〜４ｍｍの範囲内である。少なくとも１つの非機能ペインが、その面のうちの少なくとも１つにおいて、特には、中間層空間に向いている面において、薄いｌｏｗ−ｅ層の積層体で、コーティングされていてよい。この積層体が、機能ペインの薄いガラスシートによって保持されているものと同一であり、又は異なる。非機能ペインのうちの少なくとも１つが、その面の少なくとも１つにおいて、他の機能、特には太陽光制御、凝縮防止、又は自己洗浄機能、を示す薄層の積層体で、コーティングされていてよい。

− 低放射性を有している、薄層の積層体又はそれぞれの薄層の積層体が、１、２、３、又は４つの銀層（ｎ＝１、２、３、又は４）を有している。明細書の続きにおいてより詳細に説明されるように、銀層又はそれぞれの銀層が、好ましくは、それぞれが少なくとも１つの誘電体層を有している少なくとも２つのコーティングによって囲まれている。

− 低放射性を有している積層体又はそれぞれの積層体が、上述の積層体の堆積の工程、特にはマグネトロンカソードスパッタリングによる上述の積層体の堆積の工程、それに続く、上述の積層体の急速アニーリングの工程、特にはレーザー放射又はフラッシュランプによる急速アニーリングの工程、を含む方法によって、得られる。これらの技術に関するさらなる詳細が、明細書の続きにおいて示される。

− 薄いガラスシート又はそれぞれの薄いガラスシートが、フローティングによって、又はドローイングによって、特には下方向へのドローイングによって、特には「フュージョンドロー」法によって、得られる。

本発明の特徴及び利点が、例示としてのみ示されておりかつ添付の図面を参照して記載されている、本発明に係る複層グレージングの以下の複数の実施態様の記載において、明らかとなるであろう。

図１は、２つの外部ペインを有している本発明に係る三重グレージング１０を説明している。２つの外部ペインは、それぞれ、建物の外側に向くことが意図されている第一ペイン１２、及び典型的には建物の内部に向くことが意図されている第二ペイン１４である。これら２つの外部ペインが、外部ペイン１２及び１４の端部に沿って連続的に延在しているスペーサ１６に、固定されている。スペーサ１６に、周縁溝１８が備えられており、この周縁溝１８が、上述の外部ペイン１２と１４との間に位置している内部ペイン２０を、受け入れている。

慣用的であるように、ペインの面が、外部ペイン１２の、外部に接している、第１面である外部面１２ａから始めて、増加する順番で、第１〜第６の範囲の数字によって、番号付けされている。

２つの外部ペイン１２及び１４が、ガラスシートを有している。これらが、例えば、２ｍｍ〜６ｍｍ、特には３ｍｍ〜５ｍｍの範囲内の厚みを有している一体的なガラスシートであってよい。これらが、特には建物の外部に向くことが意図されている外部ペイン１２に関して、積層中間層、例えばポリビニルブチラール（ＰＶＢ）製の積層中間層によって接着的に結合している２つのガラスシートの集合体であってもよい。これは、押し入り防止、及び／又は音絶縁、及び／又は人員安全（例えば破片防止）特性を付与するために、行われる。

外部ペイン１２及び１４の異なる面が、グレージング１０に種々の機能性を付与するための薄層の積層体でコーティングされていてよく、又はコーティングされていなくてよい。例えば、外部ペイン１２の外部面１２ａが、少なくとも１つの、光触媒層、特には酸化チタン、特にはアナターゼ形態で少なくとも部分的に結晶化されている酸化チタンの光触媒層を有している自己洗浄性積層体で、かつ／又は、低放射性を有している少なくとも１つの層、例えば、透明伝導性酸化物（ＴＣＯ）の層、特にはインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）若しくはドープされている亜鉛酸化物の層を有している耐凝縮積層体で、コーティングされていてよい。

外部ペイン１２及び１４の他の面が、少なくとも１つの銀層を有しており低放射性を有している薄層の積層体で、コーティングされていてよい。

スペーサ１６が、金属材料、及び／又はポリマー材料で形成されていてよい。適切な金属材料の例としては、特には、アルミニウム又はステンレス鋼が挙げられる。適切なポリマー材料の例としては、特には、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリエステル、ポリウレタン、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン（ＡＢＳ）、アクリロニトリル／スチレン／アクリレート（ＡＳＡ）、又はスチレン／アクリロニトリルコポリマー（ＳＡＮ）が挙げられる。これらの材料の任意の組み合わせ又は混合物を想定することもできる。例えば、スペーサのプロファイル要素それぞれが、ステンレス鋼シートからなる補強を有しているポリプロピレンに基づいていてよい。これがポリマー材料に基づいている場合には、プロファイル要素が、有利には、繊維、特にはガラス繊維又は炭素繊維によって、補強されている。

溝１８が、ライニング１９を備えており、このライニング１９が、エラストマー材料、典型的にはエチレン／プロピレン／ジエン（ＥＰＤＭ）ゴムに基づいている。このようにして、熱的に強化されていない薄いガラスシートの、内部ペインとしての使用にも関わらず、グレージングの熱機械的強度が向上することが、見いだされた。

外部ペイン１２、１４、スペーサ１６、及び内部ペイン２０によって形成されるアセンブリが、２つの中間層空間２２及び２４を形成している。中間層空間２２、２４それぞれが、空気で充填されていてよい。しかしながら、好ましくは、それぞれの中間層空間２２、２４が、ペインの間で空気に取って代わる、絶縁性ガス層を、有している。複層グレージングのそれぞれの中間層空間において絶縁性ガス層を形成するために使用されるガスの例としては、特には、アルゴン（Ａｒ）、クリプトン（Ｋｒ）、及びキセノン（Ｘｅ）が挙げられる。有利には、複層グレージングのそれぞれの中間層空間における絶縁性ガス層が、空気の熱伝導率よりも低い熱伝導率を示すガスを８５％以上含有している。適切なガスは、好ましくは、無色であり、無毒であり、非腐食性であり、難燃性であり、かつ紫外放射への曝露に対して非感受性である。

中間層空間２２、２４に耐漏洩性を付与するために、耐漏洩性ストリップ２６が、２つの外部ペイン１２、１４と、スペーサ１６の側方端部との間に配置される。耐漏洩性ストリップ２６が、例えば、ポリイソブチレン（ブチル）に基づいている。

スペーサ１６が、乾燥剤材料２８を受け入れるための筐体を画定しており、それによって、中間層空間２２、２４に存在し得るいかなる残余の湿分をも吸収する。乾燥剤材料２８は、副層グレージング１０の中間層空間２２、２４それぞれに存在している空気又はガス層を脱水することができる任意の材料であってよく、特には、分子ふるい、シリカゲル、ＣａＣｌ_２、Ｎａ_２ＳＯ_４、活性炭、ゼオライト、及び／又はこれ等の混合物から選択される。

封止バリア３０、例えばポリスルフィド樹脂製の封止バリア３０が、スペーサ１６の外側周縁部において、外部ペイン１２と１４との間に、適用され、それによって、ペイン１２、１４が、スペーサ１６に保持される。

内部ペイン２０が、本発明の意味の範囲において、機能ペインである。これは、薄いガラスシートであり、その厚みが、０．１ｍｍ〜２ｍｍの範囲内であり、その面のうちの１つの面２０ａ、すなわちグレージングの第３面であり中間層空間２２の方に向いている面２０ａが、低放射性を有している薄層の積層体でコーティングされている。示されていない他の実施態様によれば、積層体が、ガラスシートの他の面、又はガラスシートの両面において、コーティングされていてよい。

この積層体が、ｎ個の銀層（ｎが、例えば、１、２、３などの値を有している）を有しており、かつ、オームで表され下記の式に対応しているシート抵抗Ｒｓを、示す：
Ｒｓ・ｔ２^２ − １１５・ｎ ＜ ２５・ｔ２
ここで、ｔ２が、銀層の厚み、又はそれぞれの銀層の厚みの合計である。

この積層体が、好ましくは、基材から出発して、少なくとも１つの第一誘電体層を有している第一コーティング、少なくとも１つの銀層、随意にオーバーブロッカー層、及び少なくとも１つの第二誘電体層を有している第二コーティングを、有している。

好ましくは、銀層又はそれぞれの銀層の物理的な厚みが、６ｎｍと２０ｎｍの間である。

オーバーブロッカー層は、（例えば、後に続く層が酸化性又は窒化性雰囲気の下で堆積される場合に）後に続く層の堆積の間に、かつ強化又は曲げタイプの随意の加熱処理の間に、銀層を保護することが、意図されている。

銀層が、アンダーブロッカー層の上に、かつこれに接触して、堆積されてもよい。したがって、積層体が、銀層又はそれぞれの銀層に隣接している、オーバーブロッカー層、及び／又はアンダーブロッカー層を、有していてよい。

ブロッカー（アンダーブロッカー及び／又はオーバーブロッカー）層が、一般に、ニッケル、クロム、チタン、ニオブ、又はこれらの異なる金属の合金から選択される金属に基づいている。特には、ニッケル／チタン合金（特にはそれぞれの金属を約５０重量％含んでいるもの）、又はニッケル／クロム合金（特には８０重量％のニッケル及び２０重量％のクロムを含んでいるもの）に、言及することができる。オーバーブロッカー層が、複数の重なり合っている層からなっていてもよく、例えば、基材から離れる方向に移動して、チタンの層、そしてニッケル合金（特には、ニッケル／クロム合金）の層、又はその逆、からなっていてもよい。引用されている種々の金属又は合金が、部分的に酸化されていてもよく、かつ、特には、酸素に関して化学量論以下（例えばＴｉＯ_ｘ、ＮｉＣｒＯ_ｘ）であってよい。

これらのブロッカー（アンダーブロッカー及び／又はオーバーブロッカー）層は、非常に薄く、通常は、１ｎｍ未満の厚みを有しており、それにより、積層体の光透過性に影響しないようになっており、かつ本発明に係る加熱処理の間に部分的に酸化されうるようになっている。一般的に、ブロッカー層は、犠牲層であり、大気又は基材に由来する酸素を捕捉することができ、そのようにして銀層が酸化することが防止される。

第一及び／又は第二誘電体層が、典型的には、酸化物でできており（特にはスズ酸化物でできており）、又は好ましくは窒化物でできており、特には、（特には基材から最も遠くにある第二誘電体層に関して）窒化ケイ素でできている。一般に、窒化ケイ素が、ドープされていてよく、例えば、アルミニウム又はホウ素でドープされていてよく、それによって、カソードスパッタリング技術によるその堆積が、促進される。（ケイ素の量に対する原子パーセントに対応する）ドープの程度は、一般的に、２％以下である。これら誘電体層の機能は、銀層を化学的及び機械的攻撃から保護することであり、かつ、誘電体層は、干渉現象によって、積層体の光学的特性、特には反射における光学的特性にも、影響を及ぼす。

第一コーティングが、１つの誘電体層、又は複数の、典型的には２〜４の誘電体層を有していてよい。第二コーティングが、１つの誘電体層、又は複数の、典型的には２〜３の誘電体層を有していてよい。これらの誘電体層は、好ましくは、窒化ケイ素、酸化チタン、酸化スズ、若しくは酸化亜鉛、又はそれらの混合物若しくは固体溶液の任意の１つ、例えばスズ亜鉛酸化物若しくはチタン亜鉛酸化物から選択される材料でできている。第一コーティングであっても、又は第二コーティングであっても、誘電体層の物理的な厚み、又はすべての誘電体層の全体としての物理的な厚みが、好ましくは１５ｎｍと６０ｎｍの間、特には２０ｎｍと５０ｎｍの間である。

第一コーティングが、好ましくは、銀層の直下に、又は随意のアンダーブロッカー層の直下に、湿潤層を有している。この層の機能は、銀層の濡れ及び結合を増加させることである。亜鉛酸化物、特にはアルミニウムでドープされている亜鉛酸化物が、この点に関して特に有利であることが証明されている。

第一コーティングが、湿潤層の直下において、平滑層を有していてもよい。平滑層は、部分的に、さらには完全に、非結晶質の混合酸化物である（したがって非常に粗さが低い）。平滑層の役割は、好ましい結晶学的方向性に従って湿潤層の成長を促進することであり、これが、エピタキシー現象によって、銀の結晶化を促進する。平滑層が、好ましくは、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｇａ、及びＳｂから選択される少なくとも２つの金属の混合酸化物から構成されている。好ましい酸化物は、アンチモンでドープされているインジウムスズ酸化物である。

第一コーティングにおいて、湿潤層又は随意の平滑層が、好ましくは第一誘電体層に直接に堆積される。第一誘電体層が、好ましくは、基材に直接に堆積される。積層体の光学的特性（特には反射における外観）の最適な適合のために、第一誘電体層を、代替的に、別の酸化物層又は窒化物層に、例えばチタン酸化物層に、堆積してもよい。

第二コーティングにおいて、第二誘電体層を、銀層に直接に、若しくは好ましくはオーバーブロッカー層に直接に、堆積してよく、又は、積層体の光学的特性を適合することが意図されている他の酸化物層若しくは窒化物層の上に、堆積してもよい。例えば、亜鉛酸化物層、特にはアルミニウムでドープされている亜鉛酸化物層を、又はスズ酸化物層も、オーバーブロッカー層と第二誘電体層との間に配置してよく、第二誘電体層が、好ましくは、窒化ケイ素製である。亜鉛酸化物、特にはアルミニウムでドープされている亜鉛酸化物が、銀層と上方の層との間の接着を向上させることを、可能にする。

したがって、積層体が、好ましくは、少なくとも１つの、一連のＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯを、有している。亜鉛酸化物が、アルミニウムでドープされていてよい。アンダーブロッカー層が、銀層と下方に位置している層との間に位置していてよい。代替的には又は累積的に、オーバーブロッカー層が、銀層と上に存在している層との間に位置していてよい。

最後に、第二コーティングに、本技術分野において「オーバーコート」として言及されることがある、オーバー層を、載せてよい。積層体の最終層、したがって周囲空気と接している層は、積層体を任意の機械的攻撃（傷、及び類似のもの）又は化学的な攻撃から保護することが、意図されている。このオーバーコートは、一般に、非常に薄く、それにより、積層体の反射における外観が阻害されないようになっている（その厚みが、典型的には、１ｎｍと５ｎｍの間である）。オーバーコートは、好ましくは、チタン酸化物又は混合スズ亜鉛酸化物に基づいており、特には、アンチモンでドープされており、準化学量論の形態で堆積されている。

積層体が、１又は複数の銀層を有していてよく、特には２又は３の銀層を有していてよい。複数の銀層が存在する場合には、上記において示された一般的な構造が、繰り返されうる。この場合には、所与の銀層に対する（したがってこの銀層の上に位置している）第二のコーティングが、一般的に、後に続く銀層に対する第一コーティングに一致する。

この場合には、積層体が、マグネトロンカソードスパッタリングによって得られる。他の堆積技術も、可能であり、例えば、プラズマ強化型化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）技術も可能である。

非常に低い抵抗性及び非常に低い放射性を達成するために、銀層が、高い程度の結晶性を示している必要があり、これは、堆積の間には得ることができず、その結果として、加熱処理が必要であることが分かっている。慣用的に、ガラスが、加熱強化され、すなわち、ガラスが、約６００℃〜６３０℃の温度にされ、そして、急速に冷却される。加熱強化は、銀層の抵抗性特性及び放射性特性における改善に加えて、ペインの熱機械的な強度を向上させることができる。しかしながら、加熱強化は、薄いガラスシートに関しては、工業的に実行することができない。

積層体の優れた抵抗性及び放射性特性が、この場合には、急速アニーリングの工程によって、特にはレーザー放射又はフラッシュランプによる急速アニーリングの工程によって、得られる。

用語「急速アニーリング」は、処理される積層体の各場所を、非常に短い時間の間に、典型的には１０秒未満の間に、特には１秒未満の間に、さらには０．１秒未満の間に、典型的には３００℃以上の温度にすることができる処理を意味するものと理解される。熱は、ガラスシートへと拡散する時間を有しておらず、その結果として、ガラスシートの温度が、一般に、５０℃を超えない。

好ましい実施態様によれば、急速アニーリングが、フラッシュランプによって実行される。

フラッシュランプは、一般的に、希ガスで充填されておりかつそれらの端部に電極が備わっている、封止された、ガラスチューブ又は石英チューブの形態で、提供される。コンデンサの放電によって得られる、短い時間間隔の電気パルスの影響の下で、ガスがイオン化し、かつ特に強い非コヒーレントな光が生じる。放射スペクトルが、一般に、少なくとも２つの放射ラインを有している。これは、好ましくは、近紫外において放射最大値を示す連続的なスペクトルである。

ランプは、好ましくは、キセノンランプである。ランプは、アルゴンランプ、ヘリウムランプ、又はクリプトンランプであってもよい。放射スペクトルが、好ましくは、複数のライン、特には１６０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲の波長における複数のラインを、有している。

フラッシュの持続時間が、好ましくは、０．０５ミリ秒〜２０ミリ秒、特には０．１ミリ秒〜５ミリ秒の範囲内である。繰返し速度が、好ましくは、０．１Ｈｚ〜５Ｈｚ、特には０．２Ｈｚ〜２Ｈｚの範囲内である。

放射が、隣り合って配置されている複数のランプ、例えば５〜２０のランプ、又は８〜１５のランプから生じてよく、それにより、同時に比較的広い区域を処理するようになっていてよい。この場合には、すべてのランプが、同時にフラッシュを放射してよい。

ランプ又は各ランプが、好ましくは、基材の最も大きい面に対して横方向に、配置されている。ランプ又は各ランプが、好ましくは１ｍ以上、特には２ｍ以上、さらには３ｍ以上の長さを有しており、それにより、広いサイズの基材を処理することができるようになっている。

コンデンサは、典型的には、５００Ｖ〜５００ｋＶの電圧で充電される。電流密度が、好ましくは、４０００Ａ／ｃｍ^２以上である。フラッシュランプによって放射される合計エネルギーの密度が、積層体の表面面積に対して、好ましくは１Ｊ／ｃｍ^２と１００Ｊ／ｃｍ^２の間、特には１Ｊ／ｃｍ^２と３０Ｊ／ｃｍ^２の間、さらには５Ｊ／ｃｍ^２と２０Ｊ／ｃｍ^２の間である。

別の好ましい実施態様によれば、急速アニーリングが、レーザー放射によって実行される。レーザー放射が、好ましくは、少なくとも１つのレーザーラインの形態で、積層体において焦点合わせされる。

レーザー放射が、好ましくは、１又は複数のレーザー源を有しておりかつ成形光学部品及びリダイレクト光学部品も有しているモジュールによって、生成される。

レーザー源が、典型的には、レーザーダイオード又はファイバーレーザーであり、特には、ファイバー、ダイオード、又はディスクレーザーである。レーザーダイオードは、要求される空間が小さいにもかかわらず、供給電力に対して、高い出力密度を経済的に達成することを可能にする。ファイバーレーザーの空間要件は、さらに比較的小さく、かつ、得られる線形出力密度が、さらに比較的高い可能性があり、しかしながら、コストに関しては、比較的大きい。用語「ファイバーレーザー」は、レーザー光が生成される場所がレーザー光が送られる場所から空間的に離れており、レーザー光が少なくとも１つの光学ファイバーによって送られる、レーザー、を意味しているものと理解される。ディスクレーザーの場合には、レーザー光が、Ｙｂ：ＹＡＧ製のディスク、例えば薄い（約０．１ｍｍ厚）ディスクの形状の放射媒体が備えられている共振キャビティにおいて、生成される。このようにして生成される光が、処理の場所に向けられている少なくとも１つの光学ファイバーにカップリングされる。ファイバーレーザー又はディスクレーザーが、好ましくは、レーザーダイオードによって、光学的にポンピングされる。

レーザー源から生じる放射が、好ましくは、連続的である。

レーザー放射の波長が、好ましくは、５００ｎｍ〜２０００ｎｍ、特には７００ｎｍ〜１１００ｎｍ、さらには８００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内である。８０８ｎｍ、８８０ｎｍ、９１５ｎｍ、９４０ｎｍ、又は９８０ｎｍから選択される１又は複数の波長で放射する高出力レーザーダイオードが、特に良好に適していることが証明されている。ディスクレーザーの場合には、波長が、例えば、１０３０ｎｍ（Ｙｂ：ＹＡＧレーザーに関する放射波長）である。ファイバーレーザーに関しては、波長が、典型的には、１０７０ｎｍである。

非ファイバーレーザーの場合には、成形光学部品及びリダイレクト光学部品が、好ましくは、レンズ及びミラーを含んでおり、かつ放射の位置合わせ、均一化、及び焦点合わせのための手段として、使用される。

位置合わせ手段の目的は、適切な場合に、ラインに沿って、レーザー源によって放射される放射を、配置することである。これは、好ましくは、ミラーを含んでいる。均一化手段の目的は、レーザー源の空間的プロファイルを重ね合わせ、それによって、ラインの全体に沿って、均一な直線的な出力密度を得ることである。均一化手段が、好ましくは、入射光線を二次的な光線に分離すること、及び上述の二次的な光線を均一なラインへと再結合させることを可能にする、レンズを、含んでいる。放射焦点合わせ手段は、放射を、処理される積層体において、所望の長さ及び幅のラインの形状で、焦点合わせすることを、可能にする。焦点合わせ手段が、好ましくは、焦点合わせミラー又は集束レンズを含んでいる。

ファイバーレーザーの場合には、成形光学部品が、好ましくは、光学ファイバー又はそれぞれの光学ファイバーの出口に位置している光学ヘッドの形態で、一緒にまとめられている。

上述の光学ヘッドの成形光学部品が、好ましくは、レンズ、ミラー、及びプリズムを有しており、かつ放射を、変換するための、均一化するための、かつ焦点合わせするための、手段として、使用される。

変換手段が、ミラー及び／又はプリズムを含んでおり、かつ、光学ファイバーの出口において得られる円状の光線を、ラインの形状で、異方性の非円状光線に変換する役割を果たす。これのために、変換手段が、その軸のうちの１つ（高速軸、又はレーザーラインの幅ｗの軸）に沿って光線の質を増加させ、かつ他の軸（低速軸、又はレーザーラインの長さｌの軸）に沿って光線の質を低減させる。

均一化手段は、レーザー源の空間プロファイルを重ね合わせ、それによって、ライン全体に沿って、均一な線形出力密度を得る。均一化手段が、好ましくは、入射光線を二次的な光線に分離すること、及びこの二次的な光線を均一なラインに再統合することを可能にする、レンズを、有している。

最後に、放射焦点合わせ手段が、放射を、作業平面のレベルにおいて、すなわち処理される積層体の平面において、所望の長さ及び幅のラインの形状で、焦点合わせすることを、可能にする。焦点合わせ手段が、好ましくは、焦点合わせミラー又は集束レンズを含んでいる。

単一のレーザーラインが使用される場合には、ラインの長さが、有利には、基材の幅に等しい。この長さは、典型的には、１ｍ以上、特には２ｍ以上、さらには３ｍ以上である。複数のライン、分離されており又は分離されておらず、しかしながら基材の全幅を処理するように配置されている複数のラインを、使用することも、可能である。この場合には、それぞれのレーザーラインの長さが、好ましくは、１０ｃｍ以上、又は２０ｃｍ以上、特には、３０ｃｍ〜１００ｃｍ、特には３０ｃｍ〜７５ｃｍ、さらには３０ｃｍ〜６０ｃｍの範囲内である。

ラインの「長さ」という用語は、基材が前進する方向に対して横向きの第一の方向において、積層体の表面において計測したときの、ラインの最大の寸法を意味しており、かつ用語「幅」は、第一の方向に対して直交している第二の方向に沿った寸法を意味しているものと理解される。レーザーの分野において慣用的であるように、ラインの幅ｗは、光線の軸（放射の強度が最大である場所）と、放射の強度が最大強度の１／ｅ^２倍に等しい場所との間の（この第二方向に沿う）距離に、対応している。レーザーラインの長さ方向軸がｘとして言及される場合には、この軸に沿う、ｗ（ｘ）として言及される幅分布を、定義することが可能である。

レーザーライン又はそれぞれのレーザーラインの平均の幅が、好ましくは、少なくとも３５μｍ、特には４０μｍ〜１００μｍ、又は４０μｍ〜７０μｍの範囲内である。本記載を通じて、用語「平均」は、算術平均を意味するものと理解される。ラインの全長にわたって、幅分布が、せまく、それによって、いかなる処理の不均一性をも、可能な限り制限する。したがって、最大幅と最小幅との間の違いが、好ましくは、平均幅の値の１０％以下である。この値が、好ましくは、５％以下、さらには３％以下である。

成形光学部品及びリダイレクト光学部品、特には位置合わせ手段を、手動で調節してよく、又はそれらの位置合わせを遠隔的に調節することを可能にするアクチュエータによって調節してよい。これらのアクチュエータ（典型的には圧電モーター又はブロック）を、手動で制御してよく、かつ／又は自動で調節してよい。後者の場合には、アクチュエータが、好ましくは、検出器に接続され、かつフィードバックループにも接続されるであろう。

レーザーモジュールの少なくとも部分、さらにはこれの全てが、好ましくは、耐漏洩性のボックスに配置され、有利には冷却されている、特には換気されている、耐漏洩性のボックスに配置され、それによって、それらの熱安定性が確保される。

レーザーモジュールが、剛性構造、「ブリッジ」として言及され、金属要素に基づいており、典型的にはアルミニウム製である剛性構造に、好ましくは、取り付けられている。この構造が、好ましくは、大理石スラブを含んでいない。ブリッジが、好ましくは、搬送手段に平行に配置され、それにより、レーザーライン又はそれぞれのレーザーラインの焦点平面が、処理される基材の表面に平行なままであるようになっている。好ましくは、ブリッジが、少なくとも４つの脚部を有しており、これらの高さを別個に調節することができ、それによって、すべての環境下において平行な位置合わせが確保される。調節を、距離センサと関連付けて、それぞれの脚部に位置しているモーターによって、手動で又は自動的に、提供してよい。ブリッジの高さを、処理される基材の厚みを考慮に入れ、かつそのようにして基材の平面がレーザーライン又はそれぞれのレーザーラインの焦点平面に一致することが確保されるように、（手動又は自動で）、適合させてよい。

レーザーラインの線形出力密度が、好ましくは、３００Ｗ／ｃｍ以上、有利には３５０Ｗ／ｃｍ以上又は４００Ｗ／ｃｍ以上、特には４５０Ｗ／ｃｍ以上、さらには５００Ｗ／ｃｍ以上、さらには５５０Ｗ／ｃｍ以上である。これが、有利には、６００Ｗ／ｃｍ以上、特には８００Ｗ／ｃｍ以上、さらには１０００Ｗ／ｃｍ以上である。線形出力密度は、積層体においてレーザーライン又はそれぞれのレーザーラインが焦点合わせされる場所において、計測される。これは、出力検出計、例えば、熱量計測器、例えば特には、Ｃｏｈｅｒｅｎｔ社のＢｅａｍ Ｆｉｎｄｅｒ Ｓ／Ｎ ２０００７１６出力計を、ラインに沿って配置することによって、計測してよい。出力は、有利には、ライン又はそれぞれのラインの全長にわたって均一に分布している。好ましくは、最大の出力と最小の出力との間の差異が、平均出力の１０％未満である。

積層体に提供されるエネルギー密度が、好ましくは、２０Ｊ／ｃｍ^２以上、さらには３０Ｊ／ｃｍ^２以上である。

高出力及びエネルギー密度は、基材を実質的に加熱することなく、積層体を非常に急速に加熱することを、可能にする。

加熱処理の間に積層体の各場所がさらされる最大の温度が、好ましくは、３００℃以上、特には３５０℃以上、さらには４００℃以上、さらには５００℃以上又は６００℃以上である。通常は、対象となっている積層体の場所が放射装置の下、例えばレーザーラインの下又はフラッシュランプの下を通過した瞬間に、最大の温度を受ける。所与の瞬間において、積層体の、放射装置の下（例えばレーザーラインの下）に位置している表面、及びそのすぐ近傍の（例えば１ｍｍ未満離れている）場所のみが、通常は、３００℃以上の温度である。レーザーラインの下流を含めて、２ｍｍ超、特には５ｍｍ超の、（全身の方向に沿って計測した）レーザーラインまでの距離に関しては、積層体の温度が、通常は、５０℃以下、さらには４０℃以下又は３０℃以下である。

積層体のそれぞれの場所が、有利には０．０５ｍｓ〜１０ｍｓ、特には０．１ｍｓ〜５ｍｓ、又は０．１ｍｓ〜２ｍｓの範囲内である時間にわたって、熱処理を受ける（又は最大温度にされる）。レーザーラインによる処理の場合には、この時間が、レーザーラインの幅によって、かつ基材とレーザーラインとの間の相対的な変位の速度によって、固定される。フラッシュランプによる処理の場合には、この時間が、フラッシュの持続時間に対応する。

レーザー放射が、部分的に、処理される積層体によって反射され、かつ部分的に、基材を通って透過する。安全上の理由から、好ましくは、放射制止手段を、この反射されたかつ／又は透過した放射の経路に、配置する。これらの放射制止手段は、典型的には、流体、特には水の循環によって冷却される、金属筐体である。反射された放射がレーザーモジュールを損傷することを防止するために、レーザーライン又はそれぞれのレーザーラインの伝搬の軸が、好ましくは、基材に対する垂直と、ゼロでない角度、典型的には５°と２０°の間の角度を、形成している。

図２は、本発明に係る二重グレージング１００を説明している。二重グレージング１００が、２つの外部ペインを有している。２つの外部ペインは、それぞれ、建物の外部に向くことが意図されている第一ペイン１１２、及び典型的には建物の内部に向くことが意図されている第二ペイン１２０である。これらの２つの外部ペインが、外部ペイン１１２及び１２０の端部に沿って連続的に延在しているスペーサ１１６に、固定されている。

２つの外部ペイン１１２及び１２０が、ガラスシートを有している。これは、例えば外部ペイン１１２に関しては、２ｍｍ〜６ｍｍ、特には３ｍｍ〜５ｍｍの範囲内の厚みを有している一体的なガラスシートである。

スペーサ１１６が、図１のスペーサ１６との関連で上述したように、金属及び／又はポリマー材料からできていていよい。

外部ペイン１１２、１２０及びスペーサ１１６から形成されるアセンブリが、中間層空間１２２を形成している。この中間層空間１２２が、空気で充填されていてよい。しかしながら、好ましくは、中間層空間１２２が、ペインの間で空気と置き換わっている、絶縁性ガス層を、含んでいる。ガスの例が、図１の中間層空間２２及び２４との関連で、上記において示されている。

中間層空間１２２を耐漏洩性にするために、耐漏洩性ストリップ１２６を、２つの外部ペイン１１２、１２０と、スペーサ１１６の側方端部との間に、配置する。耐漏洩性ストリップ１２６が、例えば、ポリイソブチレン（ブチル）に基づいている。

スペーサ１１６が、乾燥剤材料１２８を受け入れるための筐体を規定しており、それによって、中間層空間１２２に存在し得るいかなる残余の湿分をも吸収する。乾燥剤材料１２８が、複層グレージング１００の中間層空間１２２に存在する空気又はガス層を脱水することができる任意の材料であってよく、特には、分子ふるい、シリカゲル、ＣａＣｌ_２、ＮａＳＯ_４、活性炭、ゼオライト、及び／又はこれらの混合物から、選択される。

封止バリア１３０、例えばポリスルフィド樹脂製の封止バリア１３０が、外部ペイン１１２と１２０との間において、スペーサ１１６の外側周縁部に適用されており、それによって、ペイン１１２、１２０が、スペーサ１１６に保持されている。

外部ペイン１２０が、本発明の意味の範囲において、機能ペインである。この機能ペイン１２０が、この場合には、積層中間層１２０ｃ、例えばポリビニルブチラール（ＰＶＢ）製の積層中間層１２０ｃによって接着的に結合されている２つの薄いガラスシート１２０ａ、１２０ｂのアセンブリである。

薄いガラスシート１２０ａ、１２０ｂの厚みが、０．１ｍｍ〜２ｍｍの範囲内である。

シート１２０ａの面のうちの１つであり、グレージングの第３面であり、中間層空間１２２に面している、面１２０ｄが、低放射性を有している薄層の積層体でコーティングされている。低放射性を有している薄層の積層体及びこれを得るための手段に関して図１との関連で上記において示された種々の細部が、本発明に係るグレージングの任意のタイプについてそうであるように、図２のグレージングにも、適用される。

Claims (10)

1. 複数の平行なペイン（１２、１４、２０、１１２、１２０）を有しており、これらペインが、これらペインの間において少なくとも１つの中間層空間（２２、２４、１２２）を画定している少なくとも１つのスペーサ（１６、１１６）によって離されている、複層グレージング（１０、１００）であって、
   前記ペインのうちの少なくとも１つである「機能ペイン」（２０、１２０）が、熱強化されていない少なくとも１つの薄いガラスシートを有しており、その厚みｔ１が、０．１ｍｍ〜２ｍｍの範囲内であり、かつその面のうちの少なくとも１つ（２０ａ、１２０ｄ）が、少なくとも１つの銀層を有しており低放射性を有している薄層の積層体でコーティングされており、
   前記積層体が、オームで表される、下記の式に対応するシート抵抗Ｒｓ、を示し：
   Ｒｓ・ｔ２^２−１１５・ｎ＜２５・ｔ２
   ｔ２が、ｎｍで表される、前記積層体に存在している、銀層の厚み、又はそれぞれの銀層の厚みの合計であり、かつｎが、前記積層体に存在している銀層の数である、
   複層グレージング（１０、１００）。
2. 厚みｔ１が、０．５ｍｍ〜１．６ｍｍの範囲内である、請求項１に記載の複層グレージング（１０、１００）。
3. 低放射性を有しているスタックでコーティングされている少なくとも１つの面（２０ａ、１２０ｄ）が、中間層空間（２２、１２０）に向いている、請求項１又は２に記載の複層グレージング（１０、１００）。
4. 二重グレージングである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の複層グレージング（１００）。
5. 少なくとも３つのペイン（１２、１４、２０）、特には正確に３つのペインを有している、請求項１〜３のいずれか一項に記載の複層グレージング（１０）。
6. ２つの「外部」ペイン（１２、１４）の間に固定されており、かつ少なくとも１つの周縁溝（１８）が提供されており、この周縁溝が、それぞれ、前記外部ペイン（１２、１４）の間に位置している「内部」ペイン（２０）を受け入れている、単一のスペーサ（１６）、を有している、請求項１〜５のいずれか一項に記載の複層グレージング（１０）。
7. 前記周縁溝（１８）又はそれぞれの前記周縁溝（１８）が、エラストマー材料に基づいているライニング（１９）を備えている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の複層グレージング（１０）。
8. 少なくとも１つの内部ペイン（２０）が、機能ペインである、請求項６又は７に記載の複層ペイン（１０）。
9. 少なくとも１つの薄いガラスシートが、積層中間層によって、別のガラスシートに接着的に固定されている、請求項１〜８のいずれか一項に記載の複層グレージング（１０、１００）。
10. 低放射性を有している前記積層体又はそれぞれの前記積層体が、前記積層体の堆積の工程、特にはマグネトロンカソードスパッタリングによる前記積層体の堆積の工程、それに続く、前記積層体の急速アニーリングの工程、特にはレーザー放射又はフラッシュランプによる前記積層体の急速アニーリングの工程、を含む方法によって得られる、請求項１〜９のいずれか一項に記載の複層グレージング（１０、１００）。

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