JP2019532461A - 走査イオン注入システムにおけるインサイチュでのイオンビーム電流の監視および制御 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、「走査イオン注入システムにおけるインサイチュでのイオンビーム電流の監視および制御」(IN SITU ION BEAM CURRENT MONITORING AND CONTROL IN SCANNED ION IMPLANTATION SYSTEMS)というタイトルが付された米国特許出願第15/258,723号(2016年9月7日出願)による利益を主張する。当該出願の全体の内容は、参照によって本明細書に組み込まれる。
本発明は、全般的には、イオン注入システムに関する。より具体的には、本発明は、イオン注入システムに対する制御を提供するための、インサイチュ(in situ)(その場)でのリアルタイムなイオンビーム電流のサンプリング(標本化)および監視のためのシステムおよび方法に関する。
半導体デバイスの製造において、イオン注入は、典型的には基材(基板)の形態で提供されるワークピース(例:シリコンウェハまたはガリウム砒素ウェハ)をドープ(ドーピング)するために使用される。基材の電気的特性を変更する、あるいは当該基材を形質転換(transform)させるために、ウェハには不純物またはドーパントが衝突させられ、当該ウェハの結晶構造内にドーパントが注入される。このように、イオン注入システムは、(i)イオンビームに由来するイオンをワークピースに注入することによって当該ワークピースにイオンをドープするために利用される、または、(ii)集積回路の製造時にパッシベーション層を形成するために利用される、主要な装置として、半導体製造分野において周知である。半導体ウェハをドーピングするために使用される場合、イオン注入システムは、所望の外因性材料を生成するために、選択されたイオン種をワークピースに注入する。
本発明の各実施形態は、イオン注入システムにおけるイオンビーム均一性を監視および制御するための方法を含む。当該方法は、イオンビームを生成する工程(ステップ)と、上記イオンビームをワークピースに向けて輸送する工程と、走査経路に沿ってイオンビームを走査し、時間変化するポテンシャル(電位)を有する走査波形の関数としての走査スポットビームを生成する工程(上記時間変化するポテンシャルの値は、上記走査経路上のイオンビームの位置に対応している)と、上記イオンビームが上記ワークピースに向けて輸送されるときに、上記イオンビームを選択的にステアリングおよび/または整形するように少なくとも1つのビーム光学素子(上記少なくとも1つのビーム光学素子は、上記イオンビームの有効断面形状を変化させる)を設ける工程と、上記走査波形と同期して上記イオンビームをサンプリングし、上記ワークピース上の位置および走査方向の関数としての複数のイオンビーム電流密度サンプルを供給する工程と、上記複数のイオンビーム電流密度サンプルを分析し、その(上記複数のイオンビーム電流密度サンプルの)不均一性を検出する工程と、上記複数のイオンビーム電流密度サンプルにおいて検出された任意の不均一性を、所定の閾値不均一性(threshold nonuniformity)と比較する工程と、を含んでいる。上記ビーム電流のドリフト、変化、および/または変動が、(i)以前の電流サンプルに関する所定の閾値レベルを超える場合、または、(ii)上記ビーム電流が当該ビーム電流のいわゆる予測不均一性(predicted nonuniformity)(PNU)から逸脱する(外れる)場合、ビーム電流サンプリングは、所定の注入サイクルを停止させるために分析および使用されてもよい。
図1は、本発明の様々な態様に係る例示的なイオン注入システムのブロック図である。
本発明は、全般的に、イオン注入システム内のワークピースにイオンを均一に注入するための、または、イオンビーム均一性の監視に基づいて当該イオン注入システムに制御を提供するための、システム、機器、および方法に関する。従って、本発明は、添付の図面に示される例示的なイオン注入システムを参照して説明される。全体を通して、同様の参照番号は同様の部材を指すために使用されてよい。これらの態様についての説明は単に例示であり、限定的な意味で解釈されるべきではないことを理解されたい。以下の記載では、説明のために、本発明を十分に理解するために、多くの具体的な細部が開示されている。しかし、これらの具体的な細部の一部がなくとも、本本明を実施できることは、当業者には明らかであろう。
Claims (23)
- イオン注入システムにおけるイオンビーム均一性を制御するための方法であって、
イオンビームを発生させる工程と、
上記イオンビームをワークピースに向けて輸送する工程と、
走査イオンビームを発生させるために、第1軸に沿って上記イオンビームを走査する工程と、
上記イオンビームが上記ワークピースに向けて輸送される場合に当該イオンビームを選択的にステアリングおよび/または整形する、少なくとも1つのビーム光学素子を設ける工程と、
複数のイオンビーム電流サンプルを供給するために、上記イオンビームをサンプリングする工程と、
上記走査イオンビームに対応する位置および方向の情報を供給するために、上記イオンビーム電流サンプルを走査電流と関連付ける工程と、
上記複数のイオンビーム電流サンプルの不均一性を検出するために、当該複数のイオンビーム電流サンプルを分析する工程と、
上記分析する工程に応じて制御信号を生成する工程と、
を含んでいる、方法。 - 上記制御信号は、上記イオン注入システムにおけるイオンビーム輸送をインターロックするための信号を含んでいる、請求項1に記載の方法。
- 上記制御信号は、上記イオンビームの有効断面形状の変化を制御するために、上記少なくとも1つのビーム光学素子に対する入力を変化させるための信号を含んでいる、請求項1に記載の方法。
- 上記分析する工程は、上記複数のイオンビーム電流サンプルのうちの少なくとも1つを、以前のイオンビーム電流サンプルと比較する工程を含んでおり、
上記複数のイオンビーム電流サンプルにおいて検出された不均一性が所定の閾値を超えた場合に、上記生成する工程が開始される、請求項1に記載の方法。 - 上記分析する工程は、上記複数のイオンビーム電流サンプルのうちの少なくとも1つを、予測不均一性仕様と比較する工程を含んでおり、
上記複数のイオンビーム電流サンプルにおいて検出された不均一性が上記予測不均一性仕様を超えた場合に、上記生成する工程が開始される、請求項1に記載の方法。 - (i)上記複数のビーム電流密度サンプルと、(ii)複数のワークピースに対する複数の走査に応じた上記イオンビームの関連位置と、を記憶する工程をさらに含んでいる、請求項1に記載の方法。
- 上記少なくとも1つのビーム光学素子は、上記イオンビームの有効断面形状を変化させる、請求項1に記載の方法。
- イオン注入システムであって、
イオンビームを発生させるためのイオン源と、
ワークピースを保持するエンドステーションに向かうビーム経路に沿って、上記イオンビームを輸送するビームラインと、
上記ビームラインに沿って配置されており、かつ、上記イオンビームが上記ワークピースに向けて輸送される場合に当該イオンビームを選択的にステアリング、偏向、および/または整形する、複数のビーム光学素子と、
複数のイオンビーム電流サンプルを供給するために、上記イオンビームをサンプリングするビームサンプリングシステムと、
上記ビーム電流密度サンプルを分析して当該ビーム電流密度サンプルの不均一性を検出するとともに、検出された不均一性に応じて制御信号を生成するコントローラと、
を備えている、イオン注入システム。 - 上記ビームサンプリングシステムは、上記イオンビームと交わる複数のファラデーカップをさらに含んでいる、請求項8に記載のイオン注入システム。
- 上記複数のファラデーカップは、上記ワークピースの周囲に近接して配置された、少なくとも1つのサイドファラデーカップを含んでいる、請求項9に記載のイオン注入システム。
- 上記複数のファラデーカップは、上記ビーム経路に沿って上記ワークピースの下流に配置された、少なくとも1つのチューニングファラデーカップを含んでいる、請求項9に記載のイオン注入システム。
- 上記コントローラは、上記ワークピースに対する上記イオンビームの位置を関連付ける、請求項8に記載のイオン注入システム。
- 上記ワークピースに対する上記イオンビームの上記位置に関連付けられたビーム電流密度プロファイルを記憶する記憶デバイスをさらに含んでいる、請求項12に記載のイオン注入システム。
- 上記コントローラは、上記複数のイオンビーム電流密度サンプルにおいて検出された不均一性が所定の閾値を超えたことに応じて、制御信号を生成する、請求項8に記載のイオン注入システム。
- 上記制御信号は、上記イオン注入システムにおけるイオンビーム輸送を中断させるためのインターロック信号を含んでいる、請求項14に記載のイオン注入システム。
- 上記制御信号は、上記イオンビームの有効断面形状の変化を制御するために、上記複数のビーム光学素子のうちの少なくとも1つに対する入力を変化させるための信号を含んでいる、請求項14にイオン注入システム。
- 上記複数のビーム光学素子は、上記イオンビームの有効断面形状を変化させる、請求項8に記載のイオン注入システム。
- ワークピースにイオンを均一に注入するための方法であって、
イオンビームを発生させる工程と、
ビーム経路に沿って上記イオンビームを輸送する工程と、
上記イオンビームが上記ビーム経路に沿って輸送される場合に当該イオンビームに作用する、少なくとも1つのビーム光学素子を設ける工程と、
走査イオンビームを発生させるために上記イオンビームを走査する工程と、
上記イオンビームが上記ワークピースの表面に対して走査される場合に、複数の異なるイオンビーム電流密度サンプルを取得することにより、ビーム電流密度の変動を検出するために上記走査イオンビームをサンプリングする工程と、
上記複数の異なるイオンビーム電流密度サンプルを、上記ワークピースに対する上記イオンビームの位置と関連付ける工程と、
それぞれの関連位置における上記イオンビーム電流密度を決定するために、上記イオンビーム電流密度サンプルおよび上記イオンビームの関連位置を分析する工程と、
現在のイオンビーム電流密度サンプルを先行するイオンビーム電流密度サンプルと比較する工程と、
上記比較する工程に応じて制御信号を生成する工程と、
を含んでいる、方法。 - 上記制御信号は、
上記比較する工程が、上記先行するイオンビーム電流密度サンプルに関する閾値を超える現在のイオンビーム電流密度サンプル値をもたらす場合に、上記注入を停止させるための信号を含んでいる、請求項18に記載の方法。 - 上記制御信号は、
上記イオンビームが上記ビーム経路に沿って輸送される場合に、当該イオンビームに作用する少なくとも1つのビーム光学素子に印加されるバイアス電圧を調整するための信号を含んでいる、請求項18に記載の方法。 - 上記制御信号は、
上記比較する工程が、予測イオンビーム電流密度波形と整合しないイオンビーム電流密度サンプル値をもたらす場合に、上記注入を停止させるための信号を含んでいる、請求項18に記載の方法。 - 上記制御信号は、
上記比較する工程が、予測イオンビーム電流密度波形と整合しないイオンビーム電流密度サンプル値をもたらす場合に、上記イオンビームが上記ビーム経路に沿って輸送されるときに、当該イオンビームに作用する少なくとも1つのビーム光学素子に印加されるバイアス電圧を調整するための信号を含んでいる、請求項18に記載の方法。 - イオン注入システムであって、
ワークピースを保持するエンドステーションに向かうビーム経路に沿って、イオンビームを導くビームラインと、
ファストスキャン方向にワークピースの表面を横断させるようにイオンビームを走査する走査システムと、
上記イオンビームが走査される上記エンドステーションに向けて導かれている場合に当該イオンビームを曲げ、偏向させ、集束させ、または修正する、少なくとも1つのビーム光学素子と、
上記イオンビームが上記ファストスキャン方向に走査される場合に、当該イオンビームのビーム電流密度をサンプリングするビームサンプリングシステムと、
コントローラと、を備えており、
上記ビームサンプリングシステムは、
上記ワークピースの周囲に配置された複数のサイドファラデーカップと、
上記ビーム経路に沿って上記ワークピースの下流に配置されたチューニングファラデーカップと、を有しており、
上記コントローラは、
(i)上記ワークピースに対する上記イオンビームの位置に関するビーム電流密度値を供給するために、上記ビームサンプリングシステムの出力を分析し、かつ、当該出力を上記走査システムと関連付けるとともに、
(ii)上記イオンビームの予測線量均一性を算出し、
上記コントローラは、さらに、
サンプリングされたイオンビーム値が上記予測線量均一性と整合しない場合、制御信号を供給する、イオン注入システム。
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