JP2019527667A - セラミックとポリマーとの複合材、その作製方法および使用 - Google Patents
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Abstract
複合材の全体積に基づいて、50体積%から85体積%までの実体積、および50体積%から15体積%までの気孔率または多孔質空隙空間を有する、焼結された多孔質セラミックを含む第1連続相と、焼結された多孔質セラミックの多孔質空隙空間中に位置している第2連続ポリマー相とを含む、セラミックとポリマーとの複合材。さらに開示されるのは、複合材物品、複合材を作製する方法、および複合材を使用する方法である。
Description
本出願は、2016年7月27日に出願された米国仮出願第62/367,301号明細書の優先権の利益を米国特許法第119条のもとに主張し、その内容は、その全体が参照により依拠され、本明細書に援用される。
本出願は、本願の権利者が所有し譲渡され、2015年2月9日に出願された、「SPINEL SLURRY AND CASTING PROCESS」と称される米国仮出願番号62/113,830号明細書に関連し、当該仮出願は、200nmから800nmまでの粒径;200nmから400nmまでのメジアン粒径;およびBETによる2m2/gから10m2/gまでの表面積;を含むアルミン酸マグネシウムスピネルナノ粉末、ならびに、(NH4)2CO3水溶液と、(NH4)Al(SO4)2とMg(NO3)2との混合水溶液を、約45℃から55℃で接触させること;固体を生成するために混合しながら反応混合液を約45℃から55℃で5時間から15時間エージングすること;得られた固体を分離、洗浄、および乾燥すること;得られた固体を1300℃から1500℃までで焼結してスピネル生成物を形成すること;を含むアルミン酸マグネシウムスピネルナノ粉末を作製する方法に言及しており、ならびに、本出願は、本願の権利者が所有し譲渡され、2014年7月1日に出願された、「TRANSPARENT SPINEL ARTICLE AND TAPE CAST METHODS FOR MAKING」と称される米国仮出願番号62/019,649号明細書、現在は米国特許第20160002117号明細書、に関連し、当該仮出願は、10マイクロメートルから300マイクロメートルの単一層厚さ、または複数のラミネート加工された単一層を含み、50マイクロメートルから10ミリメートルの厚さを有するラミネート、のうちの少なくとも1つを含む、透明な、テープ成形されたスピネル物品に言及し、当該スピネル物品は、80%から87%の透明度、および1マイクロメートルから7マイクロメートルの焼結粒径を有し、当該仮出願はまた、75ナノメートルから500ナノメートルの平均粒径を有するスピネル粉末、バインダー、分散剤、可塑剤、消泡剤、および水性溶媒を含むバッチ混合物を10分から10時間までの間摩擦粉砕してスラリーを形成すること;得られる単離された当該スラリーを真空下で脱ガスすること;脱ガスされた当該スラリーを20マイクロメートルから2,000マイクロメートルの湿潤厚さにテープ成形すること;テープ成形された当該スラリーを、アンダーベッドヒータおよび加熱された流動空気を用いて、20℃から100℃で制御乾燥して、5マイクロメートルから1,000マイクロメートルの乾燥厚さを有するグリーンテープを形成すること;当該グリーンテープを十分な時間にわたり十分な温度で焼成して、焼結透明スピネルを提供すること、を含む、テープ成形された透明スピネルを作製する方法に言及しており、ならびに、本出願は、2016年3月15日に付与された「Translucent alumina filaments and tape cast methods for making」と称される米国特許第9,287,106号明細書に関連し、当該特許は、テープ成形法などの方法によって透光性アルミナ基材を作製する方法と共に透光性アルミナ基材に言及している。透光性アルミナ基材は、テープ成形法などのスケーラブルなプロセスによってこれらの材料を作製する簡単さと共にその全透過度および表面品質などの性質に起因して、従来のフィラメントに対し有利である。これらの文献およびこれらの文献の特許公報のいずれの内容も参照により援用されるが、本開示はそれらに対し優先権を主張するものではない。
本明細書で言及されるすべての出版物または特許文献の開示全体が参照により援用される。
本開示は、セラミックとポリマーとの複合材に関する。
実施形態において、本開示は、対応するモノリシックセラミックのみに比べて、すなわち、有孔であるか無孔であり、かつ共連続ポリマーがないセラミックに比べて、向上した弾力性および靭性を有する共連続ポリマー−セラミック複合材を提供する。
実施形態において、本開示は、開示される共連続ポリマー−セラミック複合材を作製する方法を提供する。
実施形態において、本開示は、共連続のポリマーとセラミックとの薄い複合材を含む開示される共連続ポリマー−セラミック複合材から作製されるプリント回路板(PCB)物品を提供する。
本開示の様々な実施形態は、図面がある場合は図面を参照して、詳細に説明される。様々な実施形態の参照は、本発明の範囲を限定するものではなく、本発明の範囲は本明細書に添付される特許請求の範囲によってのみ限定される。さらに、本明細書に記載される例はいずれも限定するものではなく、特許請求される発明の多くの可能な実施形態のいくつかを記載するものにすぎない。
実施形態において、開示される作製および使用の方法は、例えば以下で議論されるものを含む、1つまたは複数の有利な特徴または態様を提供する。いずれかの請求項に記載される特徴または態様は、一般に、本発明のすべての面に対し適用可能である。いずれか1つの請求項に記載される単一のまたは複数の特徴または態様はいずれも、他の任意の請求項(複数可)において記載される他の任意の特徴または態様と組み合わされても、交換されてもよい。
定義
「共連続の」、「両連続の」、および同様の用語は、複合材内の各セラミック相およびポリマー相毎の、連続的なまたは内部接続した性質を意味する。どちらの相も、実質的な不連続部分を有さない、すなわち、1つまたは複数の孤立した相の島などの、かなり大きい不連続な相または分断された相がない。エマルションまたはマイクロエマルション技術分野において、連続性または二相性の類似があり、両連続エマルション、多重エマルション、または複合エマルションと様々に呼ばれる。
「共連続の」、「両連続の」、および同様の用語は、複合材内の各セラミック相およびポリマー相毎の、連続的なまたは内部接続した性質を意味する。どちらの相も、実質的な不連続部分を有さない、すなわち、1つまたは複数の孤立した相の島などの、かなり大きい不連続な相または分断された相がない。エマルションまたはマイクロエマルション技術分野において、連続性または二相性の類似があり、両連続エマルション、多重エマルション、または複合エマルションと様々に呼ばれる。
「ポリマー」、「樹脂」、および同様の用語は、浸透の間および硬化の前の液相の主成分を意味し、例えば、固体ポリマーの供給源、モノマー、オリゴマー、ポリマー、樹脂、架橋性ポリマー、架橋剤、またはそれらの混合物であり得る。「ポリマー」、「樹脂」、および同様の用語は、また、硬化後の固体ポリマー相の主成分を意味し、好ましくは、浸透の間に使用された液体成分がなく、液状ポリマー、液状樹脂、液状モノマー、液状架橋剤、液状溶媒、液状担体、および同様の成分がないなどである。
「ビスク焼成」および同様の用語は、隣接する粒子間で焼結をある程度形成するために焼成されているが、焼結が起こっていない粒子間の空隙または気孔を有するか保持し、焼成されたテープにおいて相互接続した粒子の骨格を作る、セラミック品(ceramic ware)を意味する。
「FR−4」、「FR4」、「FR」、「FR408HR」、「難燃剤」は、ガラス強化エポキシ積層シート、管、棒、プリント回路板(PCB)に付与されたグレード指定である。FR−4は、繊維ガラスを織った布とエポキシ樹脂バインダーとで構成された、難燃性(すなわち、「自己消火性」)の複合材料である。FR−4は、エポキシ樹脂、ガラス織布補強材、臭素化難燃剤、および他の構成成分で構成されている。
「誘電損失」および同様の用語は、誘電材料に固有の、熱などの電磁エネルギーの散逸を定量化する、散逸率(Df)または損失正接を意味する。
「含む(include)」、「含む(includes)」または同様の用語は、包含するが限定しないことを意味し、すなわち、包括的であって排他的ではないことを意味する。
本開示の実施形態を説明する際に用いられる、例えば、組成物中の成分、濃度、体積、プロセス温度、プロセス時間、収率、流速、圧力、粘度の量、および同様の値、ならびにそれらの範囲、または構成成分の寸法、および同様の値、ならびにそれらの範囲、を修飾する「約」は、例えば、材料、組成物、複合材、濃縮物、構成部品、製造物品、または使用する配合物を調製するために使用される典型的な測定手順および取扱い手順によって;これらの手順における故意によらない誤りによって;製造、供給源、または方法を実行するために使用される出発材料もしくは成分の純度の差異によって;ならびに同様の考慮によって、生じ得る数量における変動を意味する。用語「約」は、また、特定の初濃度または初混合を有する組成物または配合物のエージングに起因して異なる量、および特定の初濃度または初混合を有する組成物または配合物の混合または処理に起因して異なる量を包含する。
「任意選択の」、「任意選択で」は、続いて説明される事象もしくは状況が生じ得るか、または生じ得ないことを意味し、その説明が、その事象または状況が起こる場合、またはその事象もしくは状況が起こらない場合を含むことを意味する。
本明細書では別段の定めがない限り、不定冠詞「a」または「an」およびそれに対応する定冠詞「the」は、少なくとも1つ、または、1つまたは複数の、を意味する。
当業者に公知の省略形が使用される場合がある(例えば、時間(複数可)に対し「h」または「hrs」、グラム(複数可)に対し「g」または「gm」、ミリリットルに対し「mL」、および室温に対し「rt」、ナノメートルに対し「nm」、および同様の省略形)。
構成成分、成分、添加剤、寸法、条件、時間、および同様の態様、ならびにそれらの範囲に関する、開示される特定の好ましい値は、例証のためだけであり、つまり、他の定義された値または他の定義された範囲内の値を排除するものではない。本開示の組成物および方法は、明示または黙示の中間の値および範囲を含む、任意の値、または本明細書に記載される値、特定の値、より特定の値、および好ましい値の任意の組み合わせを含み得る。
現在のプリント回路板(PCB)は、ポリマーおよびポリマー/ガラス繊維複合材から作製されている。現行のPCBは、満足のいく耐用寿命をもたらすために必要な熱安定性を有しないことが多いポリマーシート上に構築されている。発展する市場の、低誘電率(Dk)および低散逸率(Df)に対する需要を満たすことができる、より耐久性のあるPCBの選択肢を開発することが望ましい。セラミックは砕けやすく、厚さを100マイクロメートル以下に低減すると、取り扱い中に破損する傾向を有する材料となる。
ガラス強化積層板を使用して構築された、現在のプリント回路板(PCB)は、高速用途に対して好適ではない場合がある。例えば、ガラス強化積層板を有するPCBが高周波で動作するとき、著しい寄生容量および/またはインダクタンスがPCBの伝送線路によって生じる場合があり、このことは伝送信号を歪ませるおそれがある。現在の技術では積層板のガラスの織りを成形し直すことによってPCBの高速性能を向上しようとしている。
パッケージデバイスの厚さを低減する電子パッケージングにおける進歩は、将来のデバイスにとって有利となるだろう。現在のパッケージング材料は、250マイクロメートルから350マイクロメートルの厚さであり、産業界はデバイスの厚さ目標を達成するために100マイクロメートル以下の厚さを必要としている。市場を大きく占有する材料の一部は完全にポリマーであるが、最も市場を占有している材料(FR4材料が優位を占める)は、ガラス織布を有するポリマー材料を含有する。デバイスが薄くなるにしたがって、材料の剛性は低下し、はんだ付け中の寸法不安定性および反りをもたらす。剛性は材料のヤング率と面積モーメントとの積(EI)であり、ここで、矩形において、面積モーメントは厚さの3乗に比例する。100マイクロメートルの厚さで同じ剛性材料を得るためには、ヤング率は、現在の材料のヤング率より著しく大きくなくてはならない。
セラミックはポリマーより著しく硬直である。具体的には酸化アルミニウムが、およそ420GPaのヤング率を有する。この値は、25GPaのヤング率を有する、FR4より著しく大きい。E*t3として定義される、250マイクロメートルでのFR4材料の剛性の性能指数は単純計算で、375N*mmである。酸化アルミニウムは、非常により大きい剛性を有し、250マイクロメートルで6560N*mmの性能指数を有する。酸化アルミニウムは、250マイクロメートルの現行のFR4材料と同様の剛性を有するために96マイクロメートルに低減できる。より高い剛性は、酸化アルミニウムに限定されず、ほとんどのセラミック材料は、同等の厚さのFR4より非常に大きい剛性を有する。
硬直性のみが、寸法安定性を左右するパラメータではない。回路板上の構成要素との熱膨張の不一致も重要である。ほとんどの構成要素はケイ素または炭化ケイ素で構成されており、それぞれ、2.6×10−6および2.8×10−6K−1の熱膨張係数を有する。FR4材料は、ケイ素および炭化ケイ素よりおよそ4倍大きい13×10−6K−1の平面熱膨張係数を有する。さらに、厚さ熱膨張係数は、70×10−6K−1であり、これにより反りの傾向が増大する。多結晶セラミックは、平面方向において、FR4材料より小さい等方性熱膨張値を有する傾向がある。酸化アルミニウムは、ケイ素および炭化ケイ素よりおよそ2.5倍高いがFR4より低い、7.5×10−6K−1の熱膨張を有する。ポリマーを充填した多孔質酸化アルミニウムを含むか、ポリマーを充填した多孔質酸化アルミニウムから本質的になるか、またはポリマーを充填した多孔質酸化アルミニウムからなる、開示される複合材は、硬直性の向上、および板上の構成要素に対する熱膨張の不一致の低減のために、比較に適したFR4材料と比べて、より大きい寸法安定性を有すると予想される。寸法安定性または厚さのさらなる低減は、同等のまたはより大きい硬直性、および板上の構成要素とのより良好な熱膨張の一致を有する他のセラミックを使用して達成できる。
セラミックは砕けやすく、厚さを100マイクロメートル以下に低減すると、取り扱い中に破損する傾向を有する材料となる。開示される共連続ポリマー−セラミック複合材は、モノリシックセラミックと比べて向上した弾力性および靭性を有することが実証されている。開示される複合材料中に、セラミックは相互接続した硬直な骨格を形成し、一方でポリマーは局所的な領域への損傷を限定する亀裂停止媒介物を形成する。このセラミックは相互接続多孔性を必要とするため、そのヤング率は完全に緻密質であるセラミックのヤング率より低い。ポリマーの相を含めることは、また、熱膨張をわずかに増大し、セラミックのみに比べてより低い剛性、およびより低い寸法安定性を有するが、様々な用途に必要とされる機械的耐久性を有する材料をもたらす。
国際公開第2011/005535A1号は、共連続のセラミック相およびポリマー相を有し、セラミック相は気孔の相互接続ネットワークおよびトラス状構造の相互接続ネットワークを有し、トラス状構造は1つまたは複数の三角形形状を有し、セラミックは針状ムライト、アルミナ、およびそれらの混合物の群から選択され、ポリマー相はセラミック相内に統合され、ポリマー相はセラミック相の気孔内に含有され、ポリマー相は熱可塑性、熱硬化性、およびそれらの混合物の群から選択される、複合材に言及している。
実施形態において、本開示は、セラミックとポリマーとの複合材を提供し、セラミックとポリマーとの複合材は、
複合材の全体積に基づいて、50体積%から85体積%までの、例えば、50体積%から80体積%、50体積%から70体積%、50体積%から60体積%の、中間の値および範囲を含む、実体積、ならびに50体積%から15体積%までの、例えば、50体積%から20体積%、50体積%から30体積%、45体積%から35体積%、45体積%から40体積%の、中間の値および範囲を含む、気孔率を有する、焼結された多孔質セラミックを含む第1連続相と、
空隙空間、すなわち焼結された多孔質セラミック第1連続相の気孔率または気孔の内にあるか、または当該空隙空間中に位置している第2連続ポリマー相と、を含む。
複合材の全体積に基づいて、50体積%から85体積%までの、例えば、50体積%から80体積%、50体積%から70体積%、50体積%から60体積%の、中間の値および範囲を含む、実体積、ならびに50体積%から15体積%までの、例えば、50体積%から20体積%、50体積%から30体積%、45体積%から35体積%、45体積%から40体積%の、中間の値および範囲を含む、気孔率を有する、焼結された多孔質セラミックを含む第1連続相と、
空隙空間、すなわち焼結された多孔質セラミック第1連続相の気孔率または気孔の内にあるか、または当該空隙空間中に位置している第2連続ポリマー相と、を含む。
実施形態において、焼結された多孔質セラミックは、例えば、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、および同様の酸化物、またはそれらの混合物のうち少なくとも1つを含み得る。
実施形態において、複合材は、例えば、10マイクロメートルから1000マイクロメートルまでの厚さを有する、例えばシートであり得る。
実施形態において、複合材は、例えば、10マイクロメートルから250マイクロメートルまでの厚さを有するシートであり得る。
実施形態において、複合材は、例えば、10マイクロメートルから100マイクロメートルまでの厚さを有するシートであり得る。
実施形態において、複合材は、例えば、125MPaから250MPaまで(例えば、125MPaから150MPa)の強度、および50GPaから250GPaまで(例えば、50MPaから65GPa)のヤング率を有し得る。
実施形態において、焼結された多孔質セラミック連続相のヤング率は、例えば、50GPaから210GPa(例えば、65GPaから150GPa)であり得、完全に緻密質のセラミックのヤング率(例えば、約410GPa)より低い。
実施形態において、複合材は、例えば、50GPaから65GPaまで(例えば、55GPaから60GPaまで)の硬直性を有し得る。
実施形態において、複合材は、x軸、y軸、およびz軸のそれぞれにおいて、11×10−6K°−1から25×10−6K°−1の熱膨張係数(CTE)(すなわち、等方性CTE、例えば、概算で11×10−5K°−1)を有し得る。
実施形態において、焼結された多孔質セラミック連続相は、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、および同様の酸化物、またはそれらの混合物のうち少なくとも1つの、複数の部分的に融合した隣接する球状セラミック粒子から構成された「重なる球構造」を有する。
実施形態において、複合材は、共連続または両連続である。
実施形態において、焼結された多孔質セラミック第1連続相は、例えば、不織布である(例えば、上述のDow Chemical社に付与された特許出願、国際出願第2011/005535A1号を参照されたい)。
実施形態において、本開示は、上述の共連続のセラミックとポリマーとの複合材を作製する方法を提供し、当該方法は、
多孔質セラミックシートの表面と硬化性ポリマーとを接触させること(すなわち、多孔質セラミックシートの気孔を浸透するまたは吸収すること)を含み、多孔質セラミックシートは、15体積%から50体積%の、中間の値および範囲を含む、開気孔または開気孔率の、体積パーセントを有する。
多孔質セラミックシートの表面と硬化性ポリマーとを接触させること(すなわち、多孔質セラミックシートの気孔を浸透するまたは吸収すること)を含み、多孔質セラミックシートは、15体積%から50体積%の、中間の値および範囲を含む、開気孔または開気孔率の、体積パーセントを有する。
実施形態において、作製する方法は、
テープ成形法、火炎加水分解法、15体積%から50体積%までで存在する気孔形成剤を有するグリーン体セラミックを焼成する方法、および同様の方法またはそれらの組み合わせのうち少なくとも1つによって、15体積パーセントから50体積パーセントの開気孔または開気孔率を有する多孔質の焼結されたセラミックシートを形成することを、さらに含み得る。
テープ成形法、火炎加水分解法、15体積%から50体積%までで存在する気孔形成剤を有するグリーン体セラミックを焼成する方法、および同様の方法またはそれらの組み合わせのうち少なくとも1つによって、15体積パーセントから50体積パーセントの開気孔または開気孔率を有する多孔質の焼結されたセラミックシートを形成することを、さらに含み得る。
実施形態において、本開示は、上述の共連続のセラミックとポリマーとの複合材を作製する方法を提供し、当該方法は、
セラミックスラリーをテープ成形してセラミックグリーンテープを形成することと、
グリーンテープを焼成することと、
焼成したテープを硬化性ポリマーで含浸させることと、
焼成したテープ中の含浸させたポリマーを硬化させて共連続ポリマー−セラミック複合材を形成することと、を含む。
セラミックスラリーをテープ成形してセラミックグリーンテープを形成することと、
グリーンテープを焼成することと、
焼成したテープを硬化性ポリマーで含浸させることと、
焼成したテープ中の含浸させたポリマーを硬化させて共連続ポリマー−セラミック複合材を形成することと、を含む。
実施形態において、グリーンテープを焼成することは、1000℃から1600℃まででビスク焼成すること(すなわち、形になるまで焼成されたセラミック品)を含み、例えば、20体積%から70体積%まで隣接する粒子間で焼結するが、焼結が起こっていない粒子間の空隙または気孔を有し、粒子間の相互接続ネットワークおよびテープ内の多孔質空隙間の相互接続ネットワークを作る。実施形態において、出発粉末が、例えば、1000℃から1300℃まで加熱され得る。ただし、より大きい粒子が使用される場合は、より高い温度が使用され得る。
実施形態において、セラミックスラリー中の無機粒子のメジアン粒径は、中間の値および範囲を含む、例えば、0.1マイクロメートルから20マイクロメートルまで(例えば、0.33マイクロメートルなどの0.2マイクロメートルから10マイクロメートル)であり得、90%の粒子は、例えば0.72マイクロメートル未満である。
実施形態において、硬化性ポリマーは、例えば、液体であり得るか、または硬化性ポリマーは、例えば、液状担体(溶媒または分散剤など)内にあり得る。
実施形態において、硬化性ポリマーは、例えば、架橋性ポリマー、重合性および架橋性モノマー、またはそれらの混合物、ならびに架橋剤であり得る。
実施形態において、硬化性ポリマーは、例えば、エポキシ樹脂、アミン−エポキシド樹脂、フェノール樹脂(例えば、官能化ビスフェノール化合物、例えば、ビスフェノールA、AP、AF、B、BF、C、E、F、G、M、S、P、PH、TMC、Z、例えば、ElanCast(登録商標)、ビスフェノールF、例えば、Epoxylite(登録商標)など)、イソシアネート樹脂、アルキド樹脂、アクリレート、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミン、および同様のポリマーまたは樹脂、またはそれらの混合物のうち少なくとも1つであり得る。
実施形態において、本開示は、上述のセラミックとポリマーとの複合材を含む物品を提供する。
実施形態において、物品は、例えば、プリント回路板であり得る。
実施形態において、プリント回路板は、例えば、10GHzで2.4から6.7まで(例えば、10GHzで2.5)の周波誘電体、および10GHzで0.0016から0.012まで(例えば、PACM GE22ポリマーに関して、10GHzで0.013)の周波誘電性能を有し得る。
実施形態において、物品は、例えば、機械加工可能、例えば、機械式ドリルまたはレーザードリル、鋸、仕上げ機、または研磨機、であり得る。
実施形態において、本開示は、共連続ポリマー−セラミック複合材を提供する。
実施形態において、本開示は、開示される共連続ポリマー−セラミック複合材を含む物品を提供する。
実施形態において、本開示は、開示される共連続ポリマー−セラミック複合材を含むプリント回路板(PCB)を提供する。
実施形態において、本開示は、開示される共連続ポリマー−セラミック複合材を含む集積回路板(ICB)を提供する。
実施形態において、種々のポリマーまたは種々のポリマーの混合物を選択することによって、ポリマーおよび全体として複合材の、誘電特性および機械的特性を系統的に調節できる。
図面を参照すると、図1は、手持ち式ドリルでの穿孔などの機械加工が容易であり得、穴またはビアの機械穿孔およびレーザー穿孔を共に可能にする、開示される共連続セラミック−ポリマー複合材(すなわち、ポリマー−浸潤アルミナ)の例を示す。
開示される、機械加工された一試料は実施例3からのものであり、具体的には、45体積%のAmicure PACM/Erisys GE22、二液性エポキシアミンで浸潤させ、次いで硬化させた55体積%の酸化アルミニウムであり、表1のA1を参照されたい。首尾よく機械加工された別の試料は、表3に挙げた複合材A3であった。
実施形態において、開示される機械加工可能な共連続ポリマー−セラミック複合材は、例えば、回転ドリルビットで、破壊、亀裂、または小片への破砕なく、穿孔および貫通され得る(図1を参照されたい)。複合材料中に、セラミックは相互接続した硬直な骨格構造を形成し、ポリマーは局所的な領域への損傷を限定できる亀裂停止媒介物または充填剤を形成する。このセラミックは必要な相互接続多孔性を有するため、多孔質セラミックのヤング率は完全に緻密質であるセラミックのヤング率より低い。ポリマーの相を複合材に含めることは、また、熱膨張をわずかに増大し、セラミックのみに比べてより低い剛性、およびより低い寸法安定性を有するが、得られる複合材料は、回路板を含む様々な用途に好適な機械的耐久性を有する。
図2は、開示される浸潤および硬化させた複合材料に関するN2中での熱−重量分析(TGA)を使用して得られた熱分解温度(Td)データのグラフを示す(ASSOCIATION CONNECTING ELECTRONICS INDUSTRIES(登録商標)、Decomposition Temperature(Td) of Laminate Material Using TGA;Number 2.4.24.6、IPM−TM−650; ipc.org/4.0_Knowledge/4.1_Standards/test/2−4_2−4−24−6.pdfを参照されたい)。開示される浸潤および硬化された複合材料は、表3に挙げた試料A3であり、これは1250℃で焼成され、次いで硬化性のEpoxylite 6107(登録商標)樹脂で浸潤され、窒素下で硬化されたアルミナであった。
図3は、開示される実験的な試料A1から試料A6(表1)および対照に関する、気孔率対曲げ強度(MPaで、塗りつぶした四角)および曲げ率(GPaで、白抜きの丸)のグラフを示す。
複合材の試料A1から試料A6のデータを、ヤング率(GPaで、塗りつぶした菱形)および曲げ強度(MPaで、白抜きの菱形)を含む比較文献のデータに対してプロットした。比較対照は、様々な量の気孔率を有する、報告されているアルミナ材料のものであり、NISTデータベース(NIST Reference:Database Reference:NIST Structural Ceramics Database、SRD Database Number 30、オンラインでsrdata.nist.gov/CeramicDataPortalを参照のこと)から得た。曲げ強度を、支持スパンを20mmの長さとし、荷重スパンを支持スパンの中央とした三点曲げ法を使用して得た。試料の幅は10mmであり、試料の厚さは焼成されたときのままであり、およそ0.08mmであった。曲げ率を、支持スパンを10mmの長さとし、荷重スパンを支持スパンの中央とした三点曲げ法を使用して、動的機械分析(DMA)を使用して得た。試料の幅は、10mmであり、試料の厚さは焼成されたときのままであり、およそ0.08mmであった。貯蔵弾性率を曲げ率として定義した。図3に示される結果により、選択され、評価された開示される共連続アルミナ−ポリマー複合材は、文献の例と比べて、予想されたように機能することが確かめられた。
図4は、開示されるセラミック−ポリマー複合材を作製する方法のフローチャートの概要(400)を示し、当該フローチャートの概要は、例えば、セラミック粉末(405)、1つまたは複数の有機添加剤(410)、および水などの好適な溶媒(415)を合わせること、合わせた混合物を完全に混合すること(420)、完全に混合した混合物をテープ成形して(425)テープ成形シートを形成すること、テープ成形シートを焼成すること(430)、テープ成形シートを、一成分(例えば、自己硬化型)ポリマーまたは二成分ポリマー(例えば、ポリマーおよび架橋性成分)で浸潤して(435)浸潤された成形シート(440)を形成すること、ならびに成形シート中の浸潤されたポリマーを硬化して(445)複合材を供給することを含む。
実施形態において、本開示は、共連続のポリマーとセラミックとの複合材を含む複合PCBを提供する。複合材は、例えば、ビスク焼成されたセラミックテープを形成し、次いで、セラミックテープ中の得られた気孔率を選択された樹脂で浸潤することによって、製造できる。
実施形態において、テープはテープ成形プロセスを使用して形成され得、このプロセスでは、例えば、有機バインダー、水性バインダー、またはそれらの混合物、ならびに有機液剤、水性液剤、またはそれらの混合物を使用し得る。液剤は、ビスク焼成前に除去するのが好ましい。
実施形態において、樹脂はテープの表面に塗布され得、テープの気孔に毛管作用で吸収され得る。毛管浸透プロセスは公知であり、樹脂、テープ基材、および周囲空気(例えば、組成、気圧、および温度)間の界面工学は、毛管作用プロセスにおいて考慮されるプロセスパラメータである。実施形態において、例は、酸化アルミニウムテープをアミン−エポキシド樹脂で、基準周囲条件下(すなわち、制御されていない)で浸潤することを含む。このプロセスは、硬直性で機械的耐久性である等方性材料をもたらした。実施形態において、125MPaから150MPaまでの強度、および50GPaから65GPaまでのヤング率が等方性材料に関して測定された。実施形態において、強度およびヤング率は、セラミック含有量の関数として変化し得る。
実施形態において、開示される共連続セラミック−ポリマー複合材は、いくつかの点で利点があり、例えば、
開示される複合材は、高周波用途および電子産業内で比較的薄いプロファイルを可能にする技術を可能にできる、
開示される複合材は、FR4または同様の材料に匹敵する、またはそれらを上回り得る、誘電特性および機械的耐久特性を有し得る、
開示される複合材は、優れた機械的硬直性、材料の選択肢、および周波誘電性能を提供できる、
開示されるPCB物品は、例えば、低誘電率、低散逸率、および調節可能な機械的特性を有し得る、ならびに
本開示は、テープなどの多孔質セラミックをポリマーで浸透することおよびポリマー熱硬化工程またはポリマー放射線硬化工程を含む作製する方法、ならびに、例えば50マイクロメートルから100マイクロメートルまでのテープ厚さを有する薄い形状因子プロファイルを提供する。
開示される複合材は、高周波用途および電子産業内で比較的薄いプロファイルを可能にする技術を可能にできる、
開示される複合材は、FR4または同様の材料に匹敵する、またはそれらを上回り得る、誘電特性および機械的耐久特性を有し得る、
開示される複合材は、優れた機械的硬直性、材料の選択肢、および周波誘電性能を提供できる、
開示されるPCB物品は、例えば、低誘電率、低散逸率、および調節可能な機械的特性を有し得る、ならびに
本開示は、テープなどの多孔質セラミックをポリマーで浸透することおよびポリマー熱硬化工程またはポリマー放射線硬化工程を含む作製する方法、ならびに、例えば50マイクロメートルから100マイクロメートルまでのテープ厚さを有する薄い形状因子プロファイルを提供する。
実施形態において、本開示は、例えば、4工程順序を含む複合材を作製する方法を提供し、当該順序は、セラミックテープを、例えばスラリーからテープ成形すること、テープを焼成すること、テープを硬化性液状ポリマーまたは液状樹脂で含浸すること、ならびに樹脂をその場で(in situ)硬化して複合材を形成することを含む。
実施形態において、樹脂をその場で硬化することは、自己硬化樹脂と共になど、同時に遂行することも、または熱もしくは放射線への硬化性樹脂の曝露など、順を追って遂行することもできる。
実施形態において、本開示は、開示される共連続ポリマー−セラミック複合材を生成するために使用でき、低散逸率(例えば、10GHzで0.01未満のDf)を有し得、複合材を回路板用途に好適にする、様々な種類のポリマー系を提供する。実施形態において、開示されるポリマーは、例えば、多孔質セラミックに浸潤され、次いで、例えばUVまたは熱的方法によって、硬化され得る。ポリマーは、誘電特性、ガラス転移温度(Tg)、ヤング率、化学的耐久性、またはそれらの組み合わせなどの特性のために選択できる。得られる構造は、少なくともこれらの特性において、市販の樹脂/ガラス繊維板と比べて優れている。ポリマーの選択は、例えば特定のポリマー分子量、架橋密度、配合の変更、またはポリマー構造および種類を変えることによる、を含み得る(例えばPCB製品産業における第一人者、isola−group.comを参照されたい)。
セラミックは、99%から1%までの気孔率で作製されている。集積回路板(ICB)用途に関して、60%から99%までの範囲にわたる気孔率を有するセラミックを使用することには材料上の利点がある。特定のICB用途および耐久性機能に関して、好ましいセラミック基材は、50体積%から90体積%の内部空隙空間または気孔率を有し得る。
セラミック材料は、材料の固有特性に基づいて選択できる。アルミナを、その誘電特性および高い硬直性のため、ICB用途のために選択した。他の材料が選択されてもよく、例えばシリカは、硬直性があまり重要でない場合、その優れた誘電特性のために選択され得る。窒化アルミニウムは、熱伝導率が重要であり、誘電特性が犠牲になってもよい場合、使用できる。
ポリマーは、また、複合材物品において所望の特性に基づいて、変更できる。ICBでは、ポリマーが低誘電損失を有することが必要である。低温硬化ポリマーおよびUV硬化性ポリマーは、ICB用途において、処理上の理由から、有利である。
実施形態において、本開示は、代表的なものであり、0.01未満の散逸率(Df)をもたらすことになるポリマー−複合材の共連続ポリマー相のために選択され得る、いくつかのポリマー系を提供する。表1に、いくつかの代表的なアルミナ基材および複合材を調製するために使用される基準基材の例を列挙する。
表2に、比較のおよび開示される複合材における共連続ポリマー相を調製するためのいくつかの代表的なポリマー系の例を列挙する。
実施形態において、複合材のために選択されたポリマーは、例えば、アミンが1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル(Emerald Performance Materials社製のErisys GE22)と混合された4,4’−メチレンビスシクロヘキサンアミン樹脂(Air Products社製のAmicure PACM)である場合など、熱硬化されたエポキシ/アミンポリマーであった。このポリマーを有する、開示されるPCBにおいて達成された散逸率(Df)は、0.013であった。
硬化剤または架橋剤
例は、イソシアネート、フェノール、ジカルボン酸もしくはジカルボン酸無水物、アクリレート、スチレンもしくはポリスチレン、ポリイミド、ポリアミンを含み、架橋剤は、グリシジルエーテル、例えば、式
例は、イソシアネート、フェノール、ジカルボン酸もしくはジカルボン酸無水物、アクリレート、スチレンもしくはポリスチレン、ポリイミド、ポリアミンを含み、架橋剤は、グリシジルエーテル、例えば、式
のビスフェノールAジグリシジルエーテル、二官能性アクリレート、二官能性ビニルモノマー、アミン、酸、酸無水物、フェノール、アルコール、チオール、およびそれらの混合物から選択されるエポキシ樹脂のための二官能性硬化剤、からなる群から選択される。
実施形態において、ホルムアルデヒドは、フェノール樹脂の架橋剤であり得、ポリオールはイソシアネート樹脂、アルキド樹脂、またはそれらの混合物の架橋剤であり得る。
実施形態において、本開示は、例えば80マイクロメートルから90マイクロメートルまでの厚さを有する、1つまたは複数の開示されるポリマー系で浸潤された多孔質アルミナ基材を提供する。セラミックの気孔率は、40体積%から50体積%(体積パーセント)であった。表3に、例示的な開示される共連続ポリマー−セラミック複合材および市販のBTエポキシ樹脂で調製された比較の複合材料の結果と特性を列挙する。
実施形態において、本開示は、例えばおよそ55体積パーセントの酸化アルミニウムおよび45体積パーセントのエポキシを有する共連続複合材を提供する。複合材の硬直性は、およそ60GPaであり、938N*mmの剛性の性能指数値を与え、250マイクロメートルのFR−4材料と同じ剛性を維持しながら180マイクロメートルに厚さを低減することを可能にする(透光性アルミナ基材およびテープ成形法に言及している、上述の本願の権利者が所有し譲渡された、「Translucent alumina filaments and tape cast methods for making」と称される米国特許第9,287,106号明細書を参照されたい)。
実施形態において、複合材に好適な開示されるポリマーは、好ましくは、多孔質セラミックへの完全な浸潤を可能にする粘度を有し得る。これらの液状ポリマーまたは溶液ポリマーの25℃での粘度は、例えば、0.6cP(0.0006Pa・s)から2000cP(2Pa・s)であり得る。温度の上昇によりポリマーの粘度は低くなり得、浸潤の間、高温を任意選択で有利に使用できることは、ポリマー技術分野で知られている。多孔質セラミック中の得られた浸透または浸潤させたポリマーは、例えば、熱によって、またはUV照射などの化学線によって、その場で硬化できる。
実施形態において、開示されるポリマーは、例えば、熱硬化性であり、Elantas PDG社から市販されている、Elan−Cast(登録商標)(例えば、E500 ResinおよびC−46 Hardener、二成分エポキシポッティング化合物)、および「Epoxylite」(例えば、E6107 Hi Temp二成分エポキシ含浸樹脂)(elantas.comを参照されたい)を含み得る。
テープ成形法は、アドバンストセラミックにおいて公知であり、1ミリメートルから50マイクロメートル以下の厚さを有する大型の薄いシートを形成するようにスケーラブルである。ほとんどのセラミック材料、金属材料、およびポリマー材料は、テープ成形することができ、多数の基材(テープ)組成の選択肢を可能にする。
実施形態において、セラミック骨格の硬直性は、生じた焼結の量およびテープ成形した材料に固有の硬直性に左右される。硬直性は、すべての寸法が同様の特性を有するように、等方性である。気孔形成剤を使用せずにビスク焼成したセラミックは、40%から99%までの完全密度を有し得る。
ある特定の市販されるポリマー−セラミック複合材は、ガラスの粘弾特性を利用して線引きしたガラス繊維から作製される。現行の技術が、ガラスの代用として代替セラミック材料へ拡大すると、コスト高であるセラミック繊維形成法が使用される可能性がある。現在、ガラス繊維は平面の繊維マットへと織布され、次いで、適当な厚さに積層されている。
開示される発明の材料およびプロセスは、準等方特性を与え、平面特性とは異なる厚さ特性がもたらされることになる上述のコスト高の立体織りを使用しない。
実施形態において、開示される作製する方法では、多孔質セラミックが樹脂で浸潤され、次いで、樹脂が硬化されることが必要である。ある特定の市販されるポリマー−セラミック複合材は、例えば50体積パーセントから70体積パーセントまでの樹脂を使用して、繊維トウ間の空間を満たすことができる。対照的に、開示されるビスク焼成したセラミックは、10体積パーセントから50体積パーセントまでの樹脂を有し得、現行技術と比べてセラミック含有量がより高い複合材を提供する。より高いセラミック含有量およびより低い樹脂含有量により、構造安定性が向上する。
実施形態において、開示される複合材は、より高い無機物含有量、ならびにより高い周波数での誘電能力およびより高い周波数での性能をもたらす等方的な構造を有する。
セラミック複合材は、PCB用途の要件を目標にして機能上設計され得る。硬直なセラミック骨格を使用して、弾力性のあるポリマーネットワークが靭性の高い相を生み出す、硬直性および寸法安定性を生み出すことができる。共連続複合材中では、セラミックが剛性を生み出し、ポリマーが、セラミックが破損し始めるときに生じる場合がある亀裂を止める。これらの構造上の特徴は、セラミックとポリマーとの間で中間の機械的特性を有する剛性で靭性の材料を相乗効果的に生み出す。
以下の実施例は、開示される複合材を作製すること、開示される複合材の使用、および分析、ならびに上述の一般的な手順に従った方法を実証する。
実施例1
多孔質アルミナ基材の調製 3×4インチ(約7.62×約10.2センチメートル)の面積、80マイクロメートルから90マイクロメートルまでの厚さ、および50体積パーセントから60体積パーセントまでの気孔率を有する多孔質アルミナセラミック基材を以下の通り調製した。
多孔質アルミナ基材の調製 3×4インチ(約7.62×約10.2センチメートル)の面積、80マイクロメートルから90マイクロメートルまでの厚さ、および50体積パーセントから60体積パーセントまでの気孔率を有する多孔質アルミナセラミック基材を以下の通り調製した。
テープ成形された、透光性アルミナフィラメントまたは透光性アルミナ板前駆体などの基材を、一般的な方法で調製でき、当該方法は、例えば、
50ナノメートルから500ナノメートルまでの平均粒径を有するアルミナ(すなわち、セラミック)粉末を含むバッチ混合物、バインダー、分散剤、可塑剤、消泡剤(すなわち、有機添加剤)および水性溶媒または非水性溶媒(例えば、水)を、例えば10分から10時間まで摩擦粉砕して、スラリーを形成することと、
任意選択で、得られたスラリーを真空下で脱ガスすることと、
脱ガスしたスラリーを20マイクロメートルから2,000マイクロメートルまでの湿潤厚さにテープ成形することと、
例えば、アンダーベッドヒータおよび20℃から100℃までに加熱された流動空気を使用して、テープ成形したスラリーを制御乾燥して、例えば5マイクロメートルから1,000マイクロメートルまでの乾燥厚さを有するグリーンテープを形成することと、
グリーンテープを十分な時間および十分な温度で焼成して、焼結した、透光性アルミナフィラメントまたは透光性アルミナ板前駆体を提供することと、を含む。
50ナノメートルから500ナノメートルまでの平均粒径を有するアルミナ(すなわち、セラミック)粉末を含むバッチ混合物、バインダー、分散剤、可塑剤、消泡剤(すなわち、有機添加剤)および水性溶媒または非水性溶媒(例えば、水)を、例えば10分から10時間まで摩擦粉砕して、スラリーを形成することと、
任意選択で、得られたスラリーを真空下で脱ガスすることと、
脱ガスしたスラリーを20マイクロメートルから2,000マイクロメートルまでの湿潤厚さにテープ成形することと、
例えば、アンダーベッドヒータおよび20℃から100℃までに加熱された流動空気を使用して、テープ成形したスラリーを制御乾燥して、例えば5マイクロメートルから1,000マイクロメートルまでの乾燥厚さを有するグリーンテープを形成することと、
グリーンテープを十分な時間および十分な温度で焼成して、焼結した、透光性アルミナフィラメントまたは透光性アルミナ板前駆体を提供することと、を含む。
典型的なスラリー成分およびそれらの量(体積%および重量%)を、表4に列挙する。
実施形態において、テープ成形された透光性アルミナなどの基材は、水性ベースまたは非水性ベースいずれかのテープ成形法によって調製でき、当該テープ成形法は、例えば、上述の本願の権利者が所有する、米国仮出願番号62/019,649号明細書、現在は米国特許第20160002117号明細書において説明されるものを含む。さらに、テープ成形に関連する一般的な概念および原理は、James S. Reedによる「Principles of Ceramic Processing」、1995年、第2版、ISBN−13:978−0471597216において言及されている。米国特許第20160002117号明細書は、透光性アルミナ基材のテープ成形プロセスに言及し、その中の図2において、プロセスフローチャートを提供している。アルミナ粉末は、任意選択で、バインダー、分散剤、可塑剤、および消泡剤を含む、水性テープ成形系において混合される。代替的には、溶媒ベースのテープ成形系を使用でき、エタノール、メタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール、メチルエチルケトンなどのケトン、ベンゼン、トルエン、および同様の溶媒で、透光性アルミナテープを作製できる。一例は、エタノールベース溶媒系およびポリビニルブチラールバインダーに言及している。他の非水性系は、例えば、ジメチルカーボネートまたはジエチルカーボネートなどのカーボネート溶媒を有するポリプロピレンカーボネート(PPC)バインダー、および燃焼ではなくアンジップ(unzip)または解重合できるアクリル系バインダーを含む。
バッチ材料は、例えば、ボールミル法、高せん断混合法、摩擦粉砕法、振動粉砕法、ローラ粉砕法、および同様の方法のうち1つまたは複数によって、混合および粉砕できる。粉砕プロセスは、好ましくは、集塊を完全に除いた粒子を提供し、均一の、すなわち十分に分散したスラリーを作り出すべき重要な工程である。実施形態において、摩耗粉砕(別名、攪拌ボールミル)は、アルミナ粉末の集塊を除くことに優れている。摩耗粉砕は、粉砕プロセス中に材料へ高エネルギーを入力するために、他の粉砕のプロセスおよび設備を上回る利点を有する。このことにより、バッチを他の技法より短い期間時間でより小さい粒径へと粉砕することが可能になり、例えば、ボールミル法で、1時間から3時間対50時間から100時間である。実施形態において、このことにより、テープの微細構造はより均質になる。
アルミナ粉末の粒径は、所望の用途および制約に対して選択され得る。実施形態において、アルミナ粉末は、50ナノメートルから1000ナノメートルまでの平均粒径を有し得る。実施形態において、アルミナ粉末は、スラリーへの導入前に、例えば、2m2/gから30m2/gまでのBET表面積を有し得る。実施形態において、アルミナ粉末は、例えば、スラリー中で5体積%から60体積%までのセラミック固形量を有し得、グリーンテープは、例えば、35体積%から85体積%までのセラミック固形量を有し得る。
実施形態において、粉砕プロセスは、過熱を避け、かつ溶媒(複数可)の蒸発を低減するために、例えば、0℃、5℃、10℃、または15℃などの制御された温度で遂行され得る。実施形態において、スラリーは、初めは大きい集塊を破砕するために、短い時間期間(例えば、約5分から20分)、低いrpm(例えば、約4rpmから600rpm)で粉砕でき、次いで、rpmを約1000rpmから1500rpmに増大し、例えば30分から2時間、粉砕できる。
アルミナが十分に粉砕されたら、メッシュスクリーン(例えば、80から120)によって粉砕媒体をスラリーから濾過し、真空を使用してスラリーを脱気/脱ガスする。このことにより、除去されなければ混合物内で気泡として見える閉じ込められた空気が、粉砕された生成物から除去される。例えば、脱気はデシケーターチャンバーによって、次いで、真空プラネタリーミキサーによって遂行できる。そのような例において、スラリーをデシケーターチャンバーに入れ、最大10分間まで脱気する。初めの脱気後、スラリーをプラネタリーミキサーに入れ、真空下で処理した。代替の脱気手順では、デシケーターチャンバーで、より高い真空度を使用できる。
脱ガスプロセスが完了すると、スラリーを任意選択でフィルターに通して、除去されなければ焼結される材料の不都合な特性を付与する、すべての大きいサイズの汚染物を混合物から除去できる。フィルターに通すことは、例えば、ナイロン、繊維、または他の好適な材料から作製された、例えば100マイクロメートル、50マイクロメートル、25マイクロメートル、10マイクロメートル、または1マイクロメートルのフィルターで行い得る。
次に、ドクターブレードまたは他の成形設備を使用して、スラリーを所望の厚さでテープ成形し、湿潤で薄いセラミックスラリーのシートを形成する。スラリーの湿潤厚さは、約20マイクロメートルから約20,000マイクロメートルまでであり得る。アルミナの汚染を避けるため、成形は、クラス100またはクラス1000のクリーンルームなどのクリーンルーム条件下で遂行されるのが好ましい。粉砕工程、脱気工程、および積層工程などの他の工程も、汚染の程度をさらに低減するために、クリーンルームで行い得る。実施形態において、シリコーン被覆された、およそ50マイクロメートルから500マイクロメートル厚さのマイラー(登録商標)フィルム上に試料をテープ成形した。シリコーン被覆により、乾燥後のテープ材料の取り外しが容易になる。テープのための他の好適なフィルムまたは表面は、例えば、テフロン(登録商標)、ガラス、金属ベルト、および同様の代替材料であり得る。約100マイクロメートルから1000マイクロメートルの隙間を有するドクターブレードの下にスラリーを通し、薄いセラミックテープのシートを形成した。成形ブレードを、例えば、10mm/秒の速度で、「マイラー」にわたって移動させた。当該速度は、プロセスの速度を増大しテープの厚さを調整するために、必要に応じて変更できる。湿潤テープを制御条件下で乾燥して、「グリーン状態」のテープ、または代替的に「グリーンテープ」と呼ばれる薄いセラミック/ポリマー複合材テープを形成し、当該テープは、所望の形状に形成できる。
実施形態において、例えばアンダーベッドヒータおよび例えば20℃から100℃までに加熱された流動空気を、所望の程度までテープを乾燥するのに十分な時間、テープの上に使用して、テープを制御された制約下で乾燥する。一般に、透光性アルミナ基材および基材前駆体は、テープ成形スラリー中のバインダーの量または気孔率の量のいずれかにおけるわずかな変動に影響を受けない。実施形態において、グリーンテープは、好ましくは、約0.01体積%から約25体積%までの気孔率を有し得る。実施形態において、グリーンテープセラミック固形量は、例えば、45体積%より大きい、例えば、45体積%、50体積%、60体積%、または70体積%以上であり得る。
焼成 単一の炉におけるバインダーの燃え尽きを完了する工程および焼結工程を含む、単一の熱サイクルを使用して、グリーンテープまたは乾燥したグリーンテープを焼成した。テープ部分を、1100℃と1300℃との間の焼結温度に加熱し、2時間から10時間まで保持した。基材内の気孔率の量は、用いられる加熱サイクルに関連している。
実施例2
浸透させた多孔質アルミナ基材の調製:UV硬化性アクリレート 実施例1の多孔質アルミナセラミック基材を、約74.62重量%のイソボルニルアクリレート(IA)、約24.87重量%のジシクロペンチルアクリレート(DA)、および約0.5重量%のTPO(すなわち、BASF社から入手可能な「Irgacure」TPO光開始剤)を含むUV硬化性一液性アクリレートIA−DAで浸潤した。浸潤させたポリマーを、窒素パージ下で、600W/インチ(約236W/cm)Dバルブ放射線源(50%出力およびおよそ12フィート/分(約366cm/分)ベルト速度)を有するFusion Systems UV硬化装置で、Light BugモデルIL490(International Light社)で測定される225nmから400nmで9.6J/cm2(1パスあたり1.2J/cm2、8パス)の総用量で硬化した。
浸透させた多孔質アルミナ基材の調製:UV硬化性アクリレート 実施例1の多孔質アルミナセラミック基材を、約74.62重量%のイソボルニルアクリレート(IA)、約24.87重量%のジシクロペンチルアクリレート(DA)、および約0.5重量%のTPO(すなわち、BASF社から入手可能な「Irgacure」TPO光開始剤)を含むUV硬化性一液性アクリレートIA−DAで浸潤した。浸潤させたポリマーを、窒素パージ下で、600W/インチ(約236W/cm)Dバルブ放射線源(50%出力およびおよそ12フィート/分(約366cm/分)ベルト速度)を有するFusion Systems UV硬化装置で、Light BugモデルIL490(International Light社)で測定される225nmから400nmで9.6J/cm2(1パスあたり1.2J/cm2、8パス)の総用量で硬化した。
実施例3
浸透させた多孔質アルミナ基材の調製:二液性エポキシ 80マイクロメートルから90マイクロメートルまでの厚さ、および50体積パーセントから60体積パーセントまでの気孔率を有する実施例1の多孔質アルミナセラミック基材を、1:1モル当量比の、4,4’−メチレンビスシクロヘキサンアミン樹脂と1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルとの混合物を基材の上面に流し、上面が混合物で完全に被覆されるまでスパチュラで広げることによって、周囲温度において混合物で浸潤した。代替的に、または追加的に、混合物が過剰である場合、過剰の混合物を基材の表面からふき取ることができる。代替的に、または追加的に、混合物を、スロットダイコーターで基材の表面上に制御可能に堆積させることができ、残渣のまたは過剰な混合物が上面から除去されることを避けることができる。得られた被覆された基材を、完全にまたはほぼ完全に浸潤させるために、周囲温度で、例えば約1分間、表面上のポリマーの量の見かけに変化、例えば、あるとすれば可視の薄いフィルム、がなくなるまで放置した。得られた、被覆され浸潤された基材を、100℃に材料を加熱し、120分間滞留させることによって熱硬化し、次いで、150℃に加熱し、120分間窒素雰囲気内で滞留させた。上述の実施例3の二液性エポキシの代わりに使用できる、代替的な二液性エポキシ樹脂は、例えば、「ElanCast」または「Epoxylite」であるが、これらのどちらかが、異なる硬化スケジュールを伴ってもよい。
浸透させた多孔質アルミナ基材の調製:二液性エポキシ 80マイクロメートルから90マイクロメートルまでの厚さ、および50体積パーセントから60体積パーセントまでの気孔率を有する実施例1の多孔質アルミナセラミック基材を、1:1モル当量比の、4,4’−メチレンビスシクロヘキサンアミン樹脂と1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルとの混合物を基材の上面に流し、上面が混合物で完全に被覆されるまでスパチュラで広げることによって、周囲温度において混合物で浸潤した。代替的に、または追加的に、混合物が過剰である場合、過剰の混合物を基材の表面からふき取ることができる。代替的に、または追加的に、混合物を、スロットダイコーターで基材の表面上に制御可能に堆積させることができ、残渣のまたは過剰な混合物が上面から除去されることを避けることができる。得られた被覆された基材を、完全にまたはほぼ完全に浸潤させるために、周囲温度で、例えば約1分間、表面上のポリマーの量の見かけに変化、例えば、あるとすれば可視の薄いフィルム、がなくなるまで放置した。得られた、被覆され浸潤された基材を、100℃に材料を加熱し、120分間滞留させることによって熱硬化し、次いで、150℃に加熱し、120分間窒素雰囲気内で滞留させた。上述の実施例3の二液性エポキシの代わりに使用できる、代替的な二液性エポキシ樹脂は、例えば、「ElanCast」または「Epoxylite」であるが、これらのどちらかが、異なる硬化スケジュールを伴ってもよい。
本開示を、様々な特定の実施形態および技法を参照して説明してきた。しかしながら、本開示の範囲にとどまりながら、多くの変形および修正が可能であることが理解されるべきである。
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
実施形態1
セラミックとポリマーとの複合材であって、
当該複合材の全体積に基づいて、50体積%から85体積%までの実体積、および50体積%から15体積%までの気孔率を有する、焼結された多孔質セラミックを含む第1連続相と、
当該焼結された多孔質セラミック第1連続相の気孔率中に位置している第2連続ポリマー相と、
を含む、複合材。
セラミックとポリマーとの複合材であって、
当該複合材の全体積に基づいて、50体積%から85体積%までの実体積、および50体積%から15体積%までの気孔率を有する、焼結された多孔質セラミックを含む第1連続相と、
当該焼結された多孔質セラミック第1連続相の気孔率中に位置している第2連続ポリマー相と、
を含む、複合材。
実施形態2
前記焼結された多孔質セラミックは、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、またはそれらの混合物のうち少なくとも1つを含む、実施形態1記載の複合材。
前記焼結された多孔質セラミックは、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、またはそれらの混合物のうち少なくとも1つを含む、実施形態1記載の複合材。
実施形態3
前記複合材は、10マイクロメートルから1000マイクロメートルまでの厚さを有するシートである、実施形態1から2いずれかに記載の複合材。
前記複合材は、10マイクロメートルから1000マイクロメートルまでの厚さを有するシートである、実施形態1から2いずれかに記載の複合材。
実施形態4
前記複合材は、10マイクロメートルから250マイクロメートルまでの厚さを有するシートである、実施形態1から3いずれかに記載の複合材。
前記複合材は、10マイクロメートルから250マイクロメートルまでの厚さを有するシートである、実施形態1から3いずれかに記載の複合材。
実施形態5
前記複合材は、10マイクロメートルから100マイクロメートルまでの厚さを有するシートである、実施形態1から4いずれかに記載の複合材。
前記複合材は、10マイクロメートルから100マイクロメートルまでの厚さを有するシートである、実施形態1から4いずれかに記載の複合材。
実施形態6
前記複合材は、125MPaから250MPaまでの強度、および50GPaから250GPaまでのヤング率を有する、実施形態1から5いずれかに記載の複合材。
前記複合材は、125MPaから250MPaまでの強度、および50GPaから250GPaまでのヤング率を有する、実施形態1から5いずれかに記載の複合材。
実施形態7
前記焼結された多孔質セラミック連続相の前記ヤング率は、50GPaから210GPaまでである、実施形態1から6いずれかに記載の複合材。
前記焼結された多孔質セラミック連続相の前記ヤング率は、50GPaから210GPaまでである、実施形態1から6いずれかに記載の複合材。
実施形態8
前記複合材は、50GPaから65GPaまでの硬直性を有する、実施形態1から7いずれかに記載の複合材。
前記複合材は、50GPaから65GPaまでの硬直性を有する、実施形態1から7いずれかに記載の複合材。
実施形態9
前記複合材は、x軸、y軸、およびz軸のそれぞれにおいて、11×10−6K°−1から25×10−6K°−1の熱膨張係数(CTE)を有する、実施形態1から8いずれかに記載の複合材。
前記複合材は、x軸、y軸、およびz軸のそれぞれにおいて、11×10−6K°−1から25×10−6K°−1の熱膨張係数(CTE)を有する、実施形態1から8いずれかに記載の複合材。
実施形態10
前記焼結された多孔質セラミック連続相は、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、またはそれらの混合物のうち少なくとも1つの、複数の部分的に融合した隣接する球状セラミック粒子から構成された重なる球構造を有する、実施形態1から9いずれかに記載の複合材。
前記焼結された多孔質セラミック連続相は、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、またはそれらの混合物のうち少なくとも1つの、複数の部分的に融合した隣接する球状セラミック粒子から構成された重なる球構造を有する、実施形態1から9いずれかに記載の複合材。
実施形態11
前記焼結された多孔質セラミック連続相は不織である、実施形態1から10いずれかに記載の複合材。
前記焼結された多孔質セラミック連続相は不織である、実施形態1から10いずれかに記載の複合材。
実施形態12
実施形態1から11いずれかに記載のセラミックとポリマーとの複合材を作製する方法であって、
多孔質セラミックシートの表面と硬化性ポリマーとを接触させることを含み、当該多孔質セラミックシートは、15%から50%の開気孔の体積パーセントを有する、方法。
実施形態1から11いずれかに記載のセラミックとポリマーとの複合材を作製する方法であって、
多孔質セラミックシートの表面と硬化性ポリマーとを接触させることを含み、当該多孔質セラミックシートは、15%から50%の開気孔の体積パーセントを有する、方法。
実施形態13
テープ成形法、火炎加水分解法、15体積%から50体積%までで存在する気孔形成剤を有するグリーン体セラミックを焼成する方法、またはそれらの組み合わせのうち少なくとも1つによって、15体積パーセントから50体積パーセントの開気孔を有する多孔質の焼結されたセラミックシートを形成することを、さらに含む、実施形態12記載の方法。
テープ成形法、火炎加水分解法、15体積%から50体積%までで存在する気孔形成剤を有するグリーン体セラミックを焼成する方法、またはそれらの組み合わせのうち少なくとも1つによって、15体積パーセントから50体積パーセントの開気孔を有する多孔質の焼結されたセラミックシートを形成することを、さらに含む、実施形態12記載の方法。
実施形態14
前記硬化性ポリマーは、液体を含むか、または液状担体である、実施形態12から13いずれかに記載の方法。
前記硬化性ポリマーは、液体を含むか、または液状担体である、実施形態12から13いずれかに記載の方法。
実施形態15
前記硬化性ポリマーは、架橋性ポリマー、重合性および架橋性モノマー、またはそれらの混合物、ならびに架橋剤の混合物を含む、実施形態12から14いずれかに記載の方法。
前記硬化性ポリマーは、架橋性ポリマー、重合性および架橋性モノマー、またはそれらの混合物、ならびに架橋剤の混合物を含む、実施形態12から14いずれかに記載の方法。
実施形態16
前記硬化性ポリマーは、エポキシ樹脂、アミン−エポキシド樹脂、フェノール樹脂、イソシアネート樹脂、アルキド樹脂、アクリレート、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミン、またはそれらの混合物のうち少なくとも1つを含む、実施形態12から15いずれかに記載の方法。
前記硬化性ポリマーは、エポキシ樹脂、アミン−エポキシド樹脂、フェノール樹脂、イソシアネート樹脂、アルキド樹脂、アクリレート、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミン、またはそれらの混合物のうち少なくとも1つを含む、実施形態12から15いずれかに記載の方法。
実施形態17
実施形態1記載のセラミックとポリマーとの複合材を含む物品。
実施形態1記載のセラミックとポリマーとの複合材を含む物品。
実施形態18
前記物品はプリント回路板である、実施形態17記載の物品。
前記物品はプリント回路板である、実施形態17記載の物品。
実施形態19
前記プリント回路板は、10GHzで2.4から6.7までの周波誘電体、および10GHzで0.0016から0.012までの周波誘電性能を有する、実施形態18記載の物品。
前記プリント回路板は、10GHzで2.4から6.7までの周波誘電体、および10GHzで0.0016から0.012までの周波誘電性能を有する、実施形態18記載の物品。
実施形態20
少なくとも1つの機械加工された表面、
少なくとも1つの、前記物品に部分的に穿孔された孔、
少なくとも1つの、当該物品に貫通された孔、またはそれらの組み合わせ
のうち少なくとも1つをさらに含む、実施形態17記載の物品。
少なくとも1つの機械加工された表面、
少なくとも1つの、前記物品に部分的に穿孔された孔、
少なくとも1つの、当該物品に貫通された孔、またはそれらの組み合わせ
のうち少なくとも1つをさらに含む、実施形態17記載の物品。
Claims (7)
- セラミックとポリマーとの複合材であって、
該複合材の全体積に基づいて、50体積%から85体積%までの実体積、および50体積%から15体積%までの気孔率を有する、焼結された多孔質セラミックを含む第1連続相と、
該焼結された多孔質セラミック第1連続相の気孔率中に位置している第2連続ポリマー相と、を含む、複合材。 - 前記焼結された多孔質セラミックは、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、またはそれらの混合物のうち少なくとも1つを含む、請求項1記載の複合材。
- 前記複合材は、10マイクロメートルから1000マイクロメートルまでの厚さを有するシートである、請求項1または2いずれか一項に記載の複合材。
- 前記複合材は、
125MPaから250MPaまでの強度、
50GPaから250GPaまでのヤング率、
50GPaから65GPaまでの硬直性、または
x軸、y軸、およびz軸のそれぞれにおいて、11×10−6K°−1から25×10−6K°−1の熱膨張係数(CTE)
のうち少なくとも1つを有する、請求項1から3いずれか一項に記載の複合材。 - 前記焼結された多孔質セラミック連続相の前記ヤング率は、50GPaから210GPaまでである、請求項1から4いずれか一項に記載の複合材。
- 前記焼結された多孔質セラミック連続相は、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、またはそれらの混合物のうち少なくとも1つの、複数の部分的に融合した隣接する球状セラミック粒子から構成された重なる球構造を有する、請求項1から5いずれか一項に記載の複合材。
- 前記焼結された多孔質セラミック連続相は不織である、請求項1から6いずれか一項に記載の複合材。
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Family Cites Families (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US2089444A (en) | 1933-11-01 | 1937-08-10 | Ig Farbenindustrie Ag | Polymerized styrene |
US4134848A (en) | 1976-06-28 | 1979-01-16 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Composite for improved stripline board material |
EP0196865B1 (en) | 1985-03-27 | 1990-09-12 | Ibiden Co, Ltd. | Electronic circuit substrates |
EP0211979B2 (en) | 1985-08-14 | 1992-01-29 | Toray Industries, Inc. | Laminate board containing uniformly distributed filler particles and method for producing the same |
DE3750205T2 (de) * | 1986-08-29 | 1994-12-08 | Hitachi Chemical Co Ltd | Substrat für Hochfrequenzschaltung und Verfahren zur Herstellung desselben. |
US4994316A (en) | 1989-07-18 | 1991-02-19 | The Dexter Corporation | Circuit boards |
JP2787953B2 (ja) * | 1989-08-03 | 1998-08-20 | イビデン株式会社 | 電子回路基板 |
WO1992018213A1 (en) * | 1991-04-12 | 1992-10-29 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | High dielectric constant flexible ceramic composite |
JPH0799646B2 (ja) | 1991-05-03 | 1995-10-25 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 分子的多孔性エーロゲルで充填された低誘電率複合積層品 |
JPH05148009A (ja) * | 1991-11-29 | 1993-06-15 | Fujitsu General Ltd | セラミツク基板の製造方法 |
JPH08172251A (ja) * | 1994-12-20 | 1996-07-02 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 複合セラミックス高周波基板の製造法 |
US6011607A (en) | 1995-02-15 | 2000-01-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., | Active matrix display with sealing material |
JPH10100320A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-04-21 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 複合セラミックス板およびその製造法 |
WO1998018845A1 (en) | 1996-10-29 | 1998-05-07 | Akzo Nobel N.V. | Copolymer of styrene and maleic anhydride comprising an epoxy resin composition and a co-cross-linking agent |
JPH1129379A (ja) | 1997-02-14 | 1999-02-02 | Ngk Insulators Ltd | 半導体ヒートシンク用複合材料及びその製造方法 |
US5886134A (en) | 1997-10-06 | 1999-03-23 | National Science Council Of Republic Of China | Bismaleimide-triazine resin and production method thereof |
US6528145B1 (en) * | 2000-06-29 | 2003-03-04 | International Business Machines Corporation | Polymer and ceramic composite electronic substrates |
JP2002057459A (ja) * | 2000-08-09 | 2002-02-22 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 複合セラミックスプリント配線板の製造法 |
EP1238956A1 (de) | 2001-03-10 | 2002-09-11 | Vita Zahnfabrik H. Rauter GmbH & Co. KG | Verbundwerkstoff und Verfahren zu seiner Herstellung |
JP4203283B2 (ja) | 2001-09-19 | 2008-12-24 | 日本碍子株式会社 | 複合材料 |
US6835889B2 (en) * | 2001-09-21 | 2004-12-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Passive element component and substrate with built-in passive element |
JP2004356618A (ja) * | 2003-03-19 | 2004-12-16 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 中継基板、半導体素子付き中継基板、中継基板付き基板、半導体素子と中継基板と基板とからなる構造体、中継基板の製造方法 |
CN100586256C (zh) * | 2005-11-30 | 2010-01-27 | 株式会社村田制作所 | 陶瓷基板、电子器件及陶瓷基板的制造方法 |
KR100824679B1 (ko) | 2006-06-29 | 2008-04-24 | 요업기술원 | 저 손실 유전체 기판 소재용 필러 조성물 및 저 손실유전체 기판 소재 |
TWI378747B (en) | 2006-08-18 | 2012-12-01 | Ind Tech Res Inst | Flexible electronic assembly |
TW200822831A (en) | 2006-11-14 | 2008-05-16 | Leatec Fine Ceramics Co Ltd | Method for manufacturing hybrid substrate |
CN101687719A (zh) * | 2007-03-20 | 2010-03-31 | 康宁股份有限公司 | 用于陶瓷过滤器的低收缩性堵塞混合物,堵塞的蜂窝体过滤器及其制造方法 |
CN101874429B (zh) * | 2007-11-30 | 2013-04-03 | 株式会社村田制作所 | 陶瓷复合多层基板及其制造方法以及电子元器件 |
FR2935897B1 (fr) | 2008-09-12 | 2010-12-03 | Michael Sadoun | Bloc ceramique composite. |
WO2011005535A1 (en) | 2009-06-22 | 2011-01-13 | Dow Global Technologies, Inc. | Ceramic-polymer composites |
GB0911616D0 (en) * | 2009-07-03 | 2009-08-12 | Atraverda Ltd | Ceramic material |
CN102468183A (zh) | 2010-11-05 | 2012-05-23 | 九豪精密陶瓷(昆山)有限公司 | 制造复合基板的方法 |
JP2012119671A (ja) | 2010-11-11 | 2012-06-21 | Kitagawa Ind Co Ltd | 電子回路及びヒートシンク |
CN102468296A (zh) | 2010-11-19 | 2012-05-23 | 上海恒耐陶瓷技术有限公司 | 99.6%氧化铝陶瓷薄膜基片的应用 |
KR20140023284A (ko) | 2011-02-14 | 2014-02-26 | 바이오메트 매뉴팩츄어링, 엘엘씨 | 비재흡수형 중합체-세라믹 합성물 임플란트 물질 |
ES2437183B1 (es) | 2012-06-01 | 2014-10-14 | Universidad Politécnica De Valencia | Material hibrido polimero-ceramica |
US9623360B2 (en) * | 2013-05-20 | 2017-04-18 | Corning Incorporated | Porous ceramic article and method of manufacturing the same |
US9258892B2 (en) | 2013-07-23 | 2016-02-09 | Rogers Corporation | Circuit materials, circuits laminates, and method of manufacture thereof |
KR102033987B1 (ko) * | 2013-08-14 | 2019-10-18 | 덴카 주식회사 | 질화 붕소-수지 복합체 회로 기판, 질화 붕소-수지 복합체 방열판 일체형 회로 기판 |
CN104844198B (zh) * | 2014-02-18 | 2017-04-26 | 清华大学 | 手持终端产品外观陶瓷薄型件及其制备方法 |
US9624136B2 (en) | 2014-07-01 | 2017-04-18 | Corning Incorporated | Transparent spinel article and tape cast methods for making |
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