JP2019524959A - 硬化性有機ポリシロキサン組成物、封止剤、および半導体デバイス - Google Patents

硬化性有機ポリシロキサン組成物、封止剤、および半導体デバイス Download PDF

Info

Publication number
JP2019524959A
JP2019524959A JP2019507191A JP2019507191A JP2019524959A JP 2019524959 A JP2019524959 A JP 2019524959A JP 2019507191 A JP2019507191 A JP 2019507191A JP 2019507191 A JP2019507191 A JP 2019507191A JP 2019524959 A JP2019524959 A JP 2019524959A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
sio
group
organic polysiloxane
curable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2019507191A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2019524959A5 (ja
Inventor
ヤン、ヒョン−クァン
ジュ、ヨン−ヒョク
キム、ヨン−ジン
アルビド、クーン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wacker Chemie AG
Original Assignee
Wacker Chemie AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wacker Chemie AG filed Critical Wacker Chemie AG
Publication of JP2019524959A publication Critical patent/JP2019524959A/ja
Publication of JP2019524959A5 publication Critical patent/JP2019524959A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/06Preparatory processes
    • C08G77/08Preparatory processes characterised by the catalysts used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/12Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/20Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/70Siloxanes defined by use of the MDTQ nomenclature
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/80Siloxanes having aromatic substituents, e.g. phenyl side groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/0008Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/0025Crosslinking or vulcanising agents; including accelerators
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/54Silicon-containing compounds
    • C08K5/541Silicon-containing compounds containing oxygen
    • C08K5/5415Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/54Silicon-containing compounds
    • C08K5/541Silicon-containing compounds containing oxygen
    • C08K5/5425Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one C=C bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J183/00Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J183/04Polysiloxanes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/52Encapsulations
    • H01L33/56Materials, e.g. epoxy or silicone resin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00Use of pretreated ingredients
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00Applications
    • C08L2203/20Applications use in electrical or conductive gadgets
    • C08L2203/206Applications use in electrical or conductive gadgets use in coating or encapsulating of electronic parts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2312/00Crosslinking
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

本発明は、硬化性有機ポリシロキサン組成物、発光ダイオード(LED)、封止剤、および半導体デバイスについて開示する。

Description

本発明は、硬化性有機ポリシロキサン組成物、発光ダイオード(LED)、封止剤、および半導体デバイスに関する。より具体的には、本発明は、優れた靭性、柔軟性、ならびに光および熱に対する抵抗性を有する硬化性有機ポリシロキサン組成物、発光ダイオード(LED)封止剤、ならびに信頼性に優れた半導体デバイスに関する。
一般にLEDパッケージは、チップ、接着剤、封入剤、リン光体、および熱放射材料から構成される。中でも封止剤は、基本的にLEDデバイスを保護する役割を果たし、光がLEDデバイスを通過してデバイスの外部に光を放出することを可能にする。
LED封止剤の基礎材料としては、硬化性シリコーン組成物および硬化性エポキシ組成物が用いられている。特に、光学的に透明なシリコーン生成物を提供するヒドロシリル化反応によって硬化するシリコーン組成物は、熱、湿気、および光に対する抵抗性といった優れた特性のために主に用いられてきた。
近年、LEDの分野では高出力化が求められており、LEDの高出力化は耐熱性不足によるLEDパッケージ材料の問題を引き起こしている。パッケージに強い耐熱性がないと、光学特性(例えば、色)および硬度などの機械特性が変化する可能性がある。したがって、機械的特性の一貫性は非常に望ましい。
さらに、空気中の汚染物質がLED封止剤を貫通して効率を低下させ、中に含有される半導体材料の完全性に影響を及ぼす可能性がある。これによりLEDの明るさが低下する場合がある。
米国特許第7,527,871号は、(A)少なくとも2つのアルケニル基および少なくとも1つのアリール基を有する直鎖有機ポリシロキサン、(B)少なくとも1つのアルケニル基およびアリール基を有する分枝鎖有機ポリシロキサン、(C)少なくとも1つのアリール基を含有する末端Si−Hを伴う直鎖有機ポリシロキサン、ならびに(D)ヒドロシリル化反応触媒を含んでなる、硬化性有機ポリシロキサン組成物を開示する。
米国特許第8,258,502号には、(I)アルケニル官能性フェニル含有ポリオルガノシロキサン、(II)ヒドロゲンジオルガノシロキシ末端オリゴ−ジフェニルシロキサン、および(III)ヒドロシリル化触媒を含んでなる組成物が、教示されている。
米国特許第9,306,133号はまた、光学半導体デバイスのための硬化性シリコーン樹脂組成物も開示し、(A)アリール基およびアルケニル基含有有機ポリシロキサン、(B)成分(A)におけるアルケニル基に対する成分(B)におけるヒドロシリル基のモル比(SiH基/アルケニル基)が、0.70:1.00である量を有する構成単位で、分子当たり少なくとも2つのヒドロシリル基(SiH基)およびまたアリール基も有する有機ポリシロキサン、ならびに(C)ヒドロシリル化触媒を含んでなる。
残念ながら、これらの硬化性有機ポリシロキサン組成物は、充分な靭性、柔軟性、ならびに光および熱に対する抵抗性を示さないという問題が依然として残る。先行技術に記載された材料は、高温における貯蔵中での硬化後に硬度の増加を示すことが多い。硬さと重量減少における変化のため、材料は通常の使用条件では安定しない。したがって、高温において、例えば硬度および重量減少などのより良好な安定性を示す材料をもたらす配合物が必要である。
本発明の目的は、優れた靭性、柔軟性、ならびに光および熱に対する抵抗性を有する硬化性有機ポリシロキサン組成物、LED封止剤、ならびに信頼性に優れた半導体デバイスを提供することである。
発明の開示
本発明の硬化性有機ポリシロキサン組成物は、以下を含んでなる:
(A)分子当たりに少なくとも1つのケイ素結合アルケニル基および少なくとも1つのケイ素結合アリール基を有し、かつ一般式RSiO3/2(式中、Rは、置換または非置換の一価炭化水素基である)で表されるシロキサン単位を有する、分枝鎖有機ポリシロキサン;
(B)分枝鎖の両方の端末側終端がケイ素結合水素原子によって遮断され、かつ分子当たり少なくとも1つのケイ素結合アリール基を有する、直鎖有機ポリシロキサン;
(C)ヒドロシリル化反応触媒;ならびに、
(D)分子当たり少なくとも1つのケイ素結合アルケニル基を有し、次の平均式:
(R SiO1/2(R SiO2/2(RSiO3/2(SiO4/2
(式中、各Rは、同じかまたは異なっていてもよく、かつ置換または非置換の一価炭化水素基から独立して選択され、式中、分子当たり少なくとも1つのRはアルケニル基であるが、ただしアルケニル基とケイ素原子との比は0.3:1(29Si核磁気共鳴分光法によって測定)であり、
f、g、h、およびiは、独立して、0または正の数である)
で表される低分子量のシロキサンであって、
シロキサンの重量平均分子量Mwは、1,000g/mol未満である(SECによって測定、溶媒としてTHF、濃度5mg/mL、ポリスチレンを標準としたRI検出器)、シロキサン。
加えて、本発明のLED封止剤は、上述の硬化性有機ポリシロキサン組成物を含んでなる。
さらに本発明の半導体デバイスは、上述の硬化性有機ポリシロキサン組成物の硬化生成物でコーティングされた半導体素子を含んでなる。
発明の効果
本発明の硬化性有機ポリシロキサン組成物は、優れた靭性および柔軟性を示す硬化生成物に対して硬化処理される。
そのうえ、本発明の組成物は、高温にて硫黄に対し、安定性、低重量変化、低硬度変化、および低変色を示す硬化生成物に硬化処理される。
すなわち、本発明によれば、LEDチップから発生する光および動作時に発生する熱に対して安定性を有するLEDシリコーン封止剤が提供される。
加えて、本生成物は従来のシリコーンよりも蒸気および酸素の透過率が低く、硫黄の移動によるLEDパッケージ基板の変色を低減させる。
本発明によれば、高温における高い硬度および柔軟性を維持することができるため、結果としてLEDの信頼性が向上する
図1は、靭性試験の結果を示すグラフを表す。 図2は、靭性試験の結果を示すグラフを表す。 図3は、耐硫化性試験の結果を表す。 図4は、200℃での熱安定性試験の結果を表す。 図5は、200℃での硬度および重量の変化を表す。 図6は、200℃での硬度および重量の変化を表す。
以下、本発明の例示的な実施形態について詳細に説明する。しかしながら、本発明の例示的な実施形態は種々の変形が可能であり、本発明の範囲は、以下に説明する例示的な実施形態に限定されるものではない。
本発明は、以下を含んでなる硬化性有機ポリシロキサン組成物を提供する:
(A)分子当たりに少なくとも1つのケイ素結合アルケニル基および少なくとも1つのケイ素結合アリール基を有し、かつ一般式RSiO3/2(式中、Rは、置換または非置換の一価炭化水素基である)で表されるシロキサン単位を有する、分枝鎖有機ポリシロキサン;
(B)分枝鎖の両方の端末側終端がケイ素結合水素原子によって遮断され、かつ分子当たり少なくとも1つのケイ素結合アリール基を有する、直鎖有機ポリシロキサン;
(C)ヒドロシリル化反応触媒;ならびに、
(D)少なくとも1つのケイ素結合アルケニル基を有し、次の平均式:
(R SiO1/2(R SiO2/2(RSiO3/2(SiO4/2
(式中、各Rは、同じかまたは異なっていてもよく、かつ置換または非置換の一価炭化水素基から独立して選択され、式中、分子当たり少なくとも1つのRはアルケニル基であるが、ただしアルケニル基とケイ素原子との比は0.3:1であり、
f、g、h、およびiは、独立して、0または正の数である)
で表される低分子量のシロキサンであって
シロキサンの重量平均分子量Mwは、1,000g/mol未満である、シロキサン。
成分(A)
本組成物による成分の主成分である、成分(A)は、組成物を硬化させて得られる硬化生成物に強度を付与するために用いられる。
成分(A)は、分子当たりに少なくとも1つのケイ素結合アルケニル基および少なくとも1つのケイ素結合アリール基を有し、かつ一般式RSiO3/2で表されるシロキサン単位を有し、式中、Rは、置換または非置換の一価炭化水素基である、分枝鎖有機ポリシロキサンを表す。
成分(A)成分において、アルケニル基の例として、ビニル、アリル、メタリル、ブテニル、ペンテニル、およびヘキセニル基、好ましくはビニルおよびアリル基、特に好ましくはビニル基が挙げられる。
成分(A)において、アリール基の例として、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、インデニル、ベンゾフェニル、フルオレニル、キサンテニル、アントロニル;o−またはp−フェノキシフェニルといったアリールオキシアリール基;o−、m−、p−トリル、キシリル、およびエチルフェニルといったアルキル基;ベンジル、α−およびβ−フェニルエチルといったアラルキル基が挙げられる。好ましくは、アリール基は、フェニル基である。
加えて、アルケニル基およびアリール基以外の成分(A)のケイ素結合有機基の例として、置換または非置換の一価炭化水素基が挙げられ、その例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、および他のアルキル基;ならびに、クロロメチル、3−クロロプロピル、および3,3,3−トリフルオロプロピルといったハロゲン化アルキル基、特に好ましくはメチルが挙げられる。
一般式RSiO3/2によって表される成分(A)のシロキサン単位において、Rは、置換または非置換の一価炭化水素基である。炭化水素基の置換基は、上述のアルキル基、上述のアルケニル基、上述のアリール基、上述のアラルキル基、および上述のハロゲン化アルキル基、特に好ましくは、上述のアルキル基および上述のアリール基を含んでもよい。
成分(A)として、有機ポリシロキサンは、次の平均単位式:
(RSiO1/2(R SiO2/2(RSiO3/2(SiO4/2(XO1/2
によって表されるのが好ましい。
上記の式において、R、R、およびRはそれぞれ同じかまたは異なっていてもよく、かつ置換または非置換の一価炭化水素基から独立して選択され、式中、分子当たりのR、R、またはRのうち少なくとも1つがアルケニル基であり、かつ分子当たりのR、R、またはRのうち少なくとも1つがアリール基である。
一価炭化水素基は、上述のアルキル基、上述のアルケニル基、上述のアリール基、上述のアラルキル基、および上述のハロゲン化アリール基によって、より特異的に例示することもできる。
上述のアルケニル基として、分子当たりR、R、およびRの0.1〜40mol%が好ましく、5〜25mol%がより好ましい。これは、アルケニル基の含有量が上記範囲の下限以下または上限を超えると、成分(A)との反応性が低下する傾向があるためである。
また、R、R、およびRを、好ましくは10mol%以上硬化させて得られる硬化生成物中の、光屈折、反射、散乱等による低減衰を達成するためには、上述のアリール基であるべきであり、特に、一般式RSiO3/2で表されるシロキサン単位においては、Rの30mol%以上が上述のアリール基で表されるべきであり、アルケニル基およびアリール基以外のRがメチル基で表されることが好ましい。
その上、上記式において、
Xは水素原子またはアルキル基であり、aは0または正の数であり、bは0または正の数であり、cは正の数であり、dは0または正の数であり、eは0または正の数であり、b/cは0〜10の数であり、a/cは0〜0.5の数であり、d/(a+b+c+d)は0〜0.3の数であり、かつe/(a+b+c+d)は0〜0.4の数である。
成分(A)として、次の平均単位式:
(RSiO1/2(R SiO2/2(RSiO3/2
を有する有機ポリシロキサンが、特に好ましい。
上記式において、RはC〜C12のアルキル基であり、RはC〜C20のアリール基またはC〜C20のアラルキル基であり、RはC〜C12のアルケニル基であり、aは0または正の数であり、bは0または正の数であり、かつcは正の数である。
成分(A)の分子量に制限はないが、標準ポリスチレンに変換した場合の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは500〜10,000g/molであるべきであり、特に好ましくは700〜7,000g/mol、より好ましくは1,000〜5,000g/mol、特に、1,500〜3,000g/molであるべきである。
成分(A)は、成分(A)と成分(B)との合計量に基づき、好ましくは70%以上、より好ましくは70〜90重量%、特に好ましくは75〜85重量%の量で存在する。
好ましくは、本発明の組成物は、組成物の全量に基づき、成分(A)の60〜75重量%、より好ましくは70〜75重量%を含んでなる。
成分(B)
成分(B)は、本発明の硬化剤である。
成分(B)は、分子当たり少なくとも1つのケイ素結合アリール基を有するケイ素結合水素原子によって遮断された分枝鎖の両方の端末側終端を有する、直鎖有機ポリシロキサンである。分枝鎖有機ポリシロキサンの代わりに硬化剤として直鎖有機ポリシロキサンを用いることで、良好な伸長性能を得ることができる。
成分(B)のアリール基の例は、上記の例と同一である。フェニル基が特に好ましい。
加えて、アリール基以外の成分(B)のケイ素結合有機基の例として、アルケニル基を除く置換または非置換の一価炭化水素基、例えば、上述のアルキル基、上述のアラルキル基、および上述のハロゲン化アルキル基、に好ましくはメチルが挙げられる。
成分(B)の全ケイ素結合有機基のうち、ケイ素結合アリール基の含有量を硬化させて得られる硬化生成物において、光屈折、反射、散乱等による低減衰を達成するためには、15mol%以上が好ましく、30mol%以上が特に好ましい。25℃における成分(B)の粘度は限定されないものの、1〜1,000mPa・sが好ましく、2〜500mPa・sが特に好ましい。これは、成分(B)の粘度が上記範囲の下限値を下回る場合は、揮発しやすくなる可能性があり得られた組成物の構造が不安定になり得る一方で、上記範囲の上限値を超える場合は、得られた組成物の取扱特性が低下するためである。
一般式:
によって表される有機ポリシロキサンは、成分(B)として好ましい。
上記式において、各Rは、同じかまたは異なっていてもよく、水素原子、またはアルケニル基を除く置換もしくは非置換の一価炭化水素基から独立して選択される。
の一価炭化水素基の例として、上述のアルキル基、上述のアルキル基、上述のアリール基、および上述のハロゲン化アリール基が挙げられる。
本明細書において、分子当たり少なくとも1つのRは上述のアリール基、好ましくはフェニル基の1つでなくてはならない。
その上、上記式中のnは、0以上の整数であり、好ましくは0〜20の整数であり、そして特に好ましくは0〜10の整数である。これは、nの値が上記範囲の上限を超える場合、得られた組成物の靭性または硬化生成物の接着性が低下する傾向にあるためである。nは1〜4、特に1であることが最も好ましく、すなわち、成分(B)はトリシロキサンを表す。
反復単位をM単位とすることにより、QまたはT単位の代わりに良好な伸長性能を得ることができる。
成分(B)は、成分(A)と成分(B)との合計量に基づき、好ましくは1〜30重量%、より好ましくは10〜30重量%、特に好ましくは15〜25重量%の量で存在する。
反応性残留シリコーンヒドリドを減少させるためには、成分(B)中のSi−H基/成分(A)中のアルケニル基、例えば、ビニル基のモル比が1:1.2であることが好ましい。
好ましくは、本発明の組成物は、組成物の全量に基づき、成分(B)の18〜25重量%、より好ましくは20〜22重量%を含んでなる。
成分(C)
成分(C)は、ヒドロシリル化反応触媒である。
成分(C)のヒドロシリル化反応触媒を用いて、成分(A)のアルケニル基と成分(B)のケイ素結合水素原子との反応を促進する。
成分(C)の例として、白金触媒、ロジウム触媒、およびパラジウム触媒が挙げられる。白金触媒は、本発明の組成物の硬化を有意に刺激するそれらの能力のために好ましい。白金触媒の例として、白金微粉末、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金/アルケニルシロキサン複合体、白金/オレフィン複合体、および白金/カルボニル複合体、好ましくは白金/アルケニルシロキサン複合体が挙げられる。アルケニルシロキサンの例として、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、上述のアルケニルシロキサンのメチル基のいくつかに対して、エチル、フェニル等といった置換基によって置換されたアルケニルシロキサン、および上述のアルケニルシロキサンのビニル基に対して、アリル、ヘキセニル等といった置換基によって置換されたアルケニルシロキサンが挙げられる。1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンは、白金/アルケニルシロキサン複合体の優れた安定性のため特に好ましい。また、添加によって生じ得る複合体の安定性改善のために、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3−ジアリル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3−ジビニル−1,3−ジメチル−1,3−ジフェニルジシロキサン、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラフェニルジシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、および他のアルケニルシロキサン、ならびに白金/ジメチルシロキサン複合体に対するジメチルシロキサンオリゴマーといったオルガノシロキサンオリゴマー、特に好ましくはアルケニルシロキサンを加えることが望ましい。
成分(C)の含有量は、本発明の組成物の硬化を促進する量であれば、特に制限はない。しかしながら、本発明の組成物において特に、成分(C)は、成分(A)と成分(B)との合計の100重量部に対して、白金含有量が0.05〜100重量ppm(百万分率)で存在することが好ましく、0.1〜10重量ppmで存在することがより好ましく、0.1〜5重量ppmで存在することが特に好ましい。これは、成分(C)の含有量が上記範囲の下限値を下回る場合、本発明の組成物は完全硬化できない傾向にある一方で、上記範囲の上限値を超える場合、得られた硬化生成物に様々な色を付与するという問題が生じ得るためである。
成分(D)
成分(D)は添加物であり、分子当たり少なくとも1つのケイ素結合アルケニル基を有し、次の平均式によって表される、低分子量のシロキサンであり、
(R SiO1/2(R SiO2/2(RSiO3/2(SiO4/2
式中、各Rは、同じかまたは異なっていてもよく、かつ置換または非置換の一価炭化水素基から独立して選択され、式中、分子当たり少なくとも1つのRはアルケニル基であるが、ただしアルケニル基とシリコン分子との比は0.3:1であり、
f、g、h、およびiは、独立して、0または正の数であり、そして、
シロキサンの重量平均分子量Mwは、1,000g/mol未満、好ましくは800g/mol未満、より好ましくは500g/mol未満である。
好ましくは、成分(D)は、Dアルケニル 、Mアルケニル Q、Mアルケニル 、Mアルケニル Tからなる群からせ選択される。好ましくは、アルケニル基はビニルである。成分(D)としては、シクロテトラシロキサンDVi およびMVi Q、特にDVi が、特に好ましい。
成分(D)は未反応部位(Si−H)と反応することによって、熱または光による未反応部位のさらなる反応を保護する役割を果たすと考えられる。結果として、成分(D)を含んでなる組成物において、色変化および高温への機械的強度変化を著しく低減することができる。
成分(D)を一切有しない、先行技術による組成物において、材料は、高温での貯蔵中に硬化した後に硬度の増加を示すことが多く、これは残存する反応部位の硬化後反応に起因する可能性があるか、および/またはポリマーネットワークに架橋しなかった低分子量種の蒸発による重量減少を示す可能性がある。硬さと重量減少における変化のため、材料は使用条件下において安定しなかった。本発明では、成分(D)と未反応部位(Si−H)との反応により、高温での硬度変化、低重量減少、および変色といった安定性が向上する。
成分(D)もまた充填効果があり、ガスおよび蒸気の透過性を低下させることができる。成分(D)をさらに含有する封止剤は、硫黄に対する安定性を提供し、その効果は充填効果から得られると期待される。
結果として、信頼性に優れたLEDパッケージを得ることができる。
成分(D)は、反応性であり、かつ残留シリコーンハイドライトと反応するのに充分なほど小さい。同時に、成分(D)はシロキサン網状結合に架橋することで、硬化材料中の揮発性成分の割合を増加させない。成分(D)は、成分(A)と成分(B)との合計100重量部に対して、好ましくは最大10重量部、より好ましくは最大7重量部以下、そしてさらにより好ましくは最大5重量部以下の量で使用される。成分(D)を多く含むと、他の成分との相溶性が低下し、透過率が低下する。好ましくは、成分(D)は、成分(A)および(B)の合計100重量部に対して、最大1重量部の量で使用される。成分(D)の量は、特異的な配合および特徴を考慮して適宜選択することができる。
好ましくは、本発明の組成物は、組成物の全量に基づき、成分(D)の1〜5重量%、より好ましくは2〜4重量%を含んでなる。
本発明の硬化性シリコーン組成物は、分子当たり少なくとも2つのケイ素結合アルケニル基および少なくとも1つのケイ素結合アリール基を有する直鎖有機ポリシロキサンを、柔軟性単位として含んでいなくともよい。成分(A)といった嵩高い分枝鎖有機ポリシロキサンを直鎖有機ポリシロキサンの代わりに樹脂として用いているため、本発明の硬化性シリコーン組成物は、優れた硬度および靭性を提供すると考えられる。すなわち、嵩高い分枝鎖有機ポリシロキサンが未反応Si−H部位に直接結合している。
本発明の硬化性有機ポリシロキサン組成物は、本分野で一般的に使用される架橋剤をさらに含んでなることができる。
本発明の硬化性有機ポリシロキサン組成物は、本分野で一般的に使用される、硬化阻害剤、触媒、およびリン光体をさらに含んでなることができる。
本発明の組成物はまた、シリカ、ガラス、石英、クリストバライト、アルミナ、酸化亜鉛、および他の無機充填剤;ポリメタクリレート樹脂といった有機樹脂の微粉末;本発明の目的を損なわない範囲の、熱安定剤、染料、顔料、難燃剤、溶媒等を含有することもできる。
上記の組成物は、本技術分野で一般的に使用される成分を混合することによって、例えば、周囲温度で全ての成分を混合することによって、調製することができる。
本発明のLED封止剤は、上述の硬化性有機ポリシロキサン組成物を含んでなる。本発明における発光デバイスの封入は当技術分野において周知であり、本発明において使用することができる。例えば、キャスティング、ディスペンシング、モールディングを用いることができる。
本発明の半導体デバイスにおいて、半導体素子は上述の硬化性有機ポリシロキサン組成物の硬化生成物でコーティングされる。このような半導体素子としては、ダイオード、トランジスタ、サイリスタ、固体撮像素子、モノリシックIC、およびハイドライドICにおいて用いられる半導体素子が例示される。特に、半導体素子は発光素子であることが好ましい。
このような半導体デバイスの例としては、ダイオード、発光ダイオード、トランジスタ、サイリスタ、フォトカプラ、CCD、モノリシックIIC、ハイブリッドIC、LSI、およびVLSIが挙げられる。
分析方法
29Si−NMR測定の解説:
溶媒:緩和用の試薬として、1% w/w Cr(acac)と共にC 99,8%d/CCl 1:1 v/v
試料濃度:10mmのNMRチューブ中約2g/1.5mLの溶媒
分光器:Bruker Avance 300
サンプルヘッド:10mm H/13C/15N/29SiガラスフリーQNPヘッド(Bruker)
測定パラメーター:Pulprog=zgig60、TD=64k、NS=1024、SW=200ppm、AQ=2.75秒、D1=4秒、SFO1=300.13MHz、O1=−50ppm
処理パラメーター:SI=64k、WDW=EM、LB=0.3Hz
粘度:
粘度データは、DIN EN ISO3219に準拠してD−OstfildernのAnton Paar社製レオメーターモデルMCR302を使用し、コーンプレート測定システムで回転させて測定する。測定は試料の挙動がニュートン的である範囲で行った。粘度データは、温度25℃および周囲圧力1013mbarについて得られている。
分子量:
分子量は、重量平均分子量Mwおよび数平均分子量Mnとしてサイズ排除クロマトグラフィー(Size Exclusion Chromatography)SECにより測定する。ポリスチレンを標準として使用する。検出器はRI検出器である。THFを溶媒として用いる。試料濃度は5mg/mLである。
合成例1
700g(2.91モル)のフェニルトリエトキシシラン、61.6g(0.415モル)のジエトキシジメチルシラン、および77.6g(0.416モル)の1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンを、2Lの丸底フラスコ中で混合した。600gの蒸留水および3.0gの20%塩酸を溶液に加えた。この反応混合物を2時間還流した。冷却後、4.5gの25%水酸化ナトリウム溶液を添加し、反応混合物を1時間還流した。均一混合物を2.0gの20%塩酸で中和した。エタノールを、真空下において40℃で蒸留し、1Lのエチルアセテートおよび50gの塩化ナトリウムを加えた。水相を除去し、有機相を飽和塩化ナトリウム水溶液で3回洗浄した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、加圧ろ過装置でろ過した。真空中で溶媒を除去した後、470gの無色で高粘性な生成物を得た。重量平均分子量Mwは2,546g/molである。29Si核磁気共鳴の結果は、ViMeSiO1/2:16.6%、MeSiO2/2:9.7%、Ph(OR)SiO2/2:12である。8%およびPhSiO3/2:60.9%。
実施例1
成分Aとして合成例1より化合物の75重量%、成分Bとして1,1,5,5−テトラメチル−3,3−ジフェニルトリシロキサンの25重量%を調製した。加えて、成分A成分と成分B成分との合計100重量部に対して、成分C成分として白金(0)−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチル−ジシロキサン複合体の0.0002重量部(白金に対して)、および成分DとしてDVi の4.99重量部を調製した。次に、上記成分から、実施例1による硬化性有機ポリシロキサン組成物を調製した。
比較例1
比較例1として、Dow Corningより市販されているOE−7651Nを用いた。
実施例2〜4
実施例2〜4による硬化性有機ポリシロキサン組成物は、成分AおよびBを次の表1に示される量で用いた以外は、実施例1と同様にして調製した。
実施例5〜10
実施例5〜10による硬化性有機ポリシロキサン組成物は、成分Dを次の表2に示される量で用いた以外は、実施例1と同様にして調製した。
比較例2
比較例2による硬化性有機ポリシロキサン組成物は、成分Dを次の表2に示される通りに用いた以外は、実施例1と同様にして調製した。
[靭性試験]
実験例1
実施例1および比較例1による組成物について、靭性試験を行った。結果は図1に示す。
図1に示すように、実施例1による組成物は、比較例1による組成物と比較して、高伸長および良好な引っ張り強さを示す。実施例1による組成物は、比較例1による組成物よりも硬度および柔軟性が高いことが分かる。
実験例2
次に、実施例2〜4と同様に成分AとおよびBの量比を変えながら、靭性試験を行った。結果は次の表3および図2に示す。
[耐硫化性試験]
実験例3
実施例1および比較例1による組成物について、耐硫化性試験、KS暴露試験を行った。この試験は、LEDの効率に及ぶ硫黄の影響を示した。
容器に水を入れ、水の上に浮かぶアルミ鍋にKSを置く。LEDパッケージの初期輝度を測定する。LEDパッケージは、容器キャップの内側に取り付けられる。次いで、キャップを閉じ、水の温度を85℃まで上昇させる。数時間後、キャップを開け、LEDパッケージの輝度を再度測定する。結果は図3に示す。
図3に示すように、実施例1による組成物は、比較例1による組成物と比較して、良好な耐硫化性を示す。
実験例4
実施例9および10ならびに比較例2による組成物についても、実験例3と同様に耐硫化性試験を行った。
結果は次の表4に示す。
[熱安定性試験]
実験例5
実施例1および比較例1による組成物について、熱安定性試験を行った。硬化シリコーンの見本を調製し、200℃で保存する。見本の透過率および黄色度指数を高温曝露前後に測定する。結果は図4に示す。
図4に示すように、実施例1による組成物は、比較例1による組成物が変色を示すのに対して、200℃において変色を示さない。
実験例6
実施例5〜8および比較例2による組成物についても、実験例5と同様に熱安定性試験を行った。結果は図5に示す。
[硬度および重量変化試験]
実験例7
実施例1および比較例1による組成物について、200℃で保存後の硬度および重量の変化を測定した。硬化シリコーンの見本を調製し、200℃で保存する。その後、見本の硬度および重量の変化を測定した。結果は図6に示す。
図6に示すように、実施例1による組成物は、比較例1による組成物が硬度および重量の増加を示すのに対して、200℃においておよび重量の変化をほとんど示さない。

Claims (15)

  1. (A)分子当たりに少なくとも1つのケイ素結合アルケニル基および少なくとも1つのケイ素結合アリール基を有し、かつ一般式:RSiO3/2(式中、Rは、置換または非置換の一価炭化水素基である)で表されるシロキサン単位を有する、分枝鎖有機ポリシロキサンと、
    (B)分枝鎖の両方の端末側終端がケイ素結合水素原子によって遮断され、かつ分子当たり少なくとも1つのケイ素結合アリール基を有する、直鎖有機ポリシロキサンと、
    (C)ヒドロシリル化反応触媒と、
    (D)分子当たり少なくとも1つのケイ素結合アルケニル基を有し、次の平均式:
    (R SiO1/2(R SiO2/2(RSiO3/2(SiO4/2
    (式中、各Rは、同じかまたは異なっていてもよく、かつ置換または非置換の一価炭化水素基から独立して選択され、分子当たり少なくとも1つのRはアルケニル基であるが、ただしアルケニル基とケイ素原子との比は0.3:1であり、
    f、g、h、およびiは、独立して、0または正の数である)
    で表される低分子量のシロキサンであって、
    シロキサンの重量平均分子量Mwは1,000g/mol未満である、シロキサンと、
    を含んでなる、硬化性有機ポリシロキサン組成物。
  2. 成分(D)が、DVi 、MVi Q、MVi 2、Vi Tからなる群から選択される、請求項1に記載の硬化性有機ポリシロキサン組成物。
  3. 成分(A)が、次の平均単位式:
    (RSiO1/2(R SiO2/2(RSiO3/2(SiO4/2(XO1/2
    (式中、R、R、およびRはそれぞれ同じかまたは異なっていてもよく、かつ置換または非置換の一価炭化水素基から独立して選択され、分子当たりのR、R、またはRのうち少なくとも1つがアルケニル基であり、かつ分子当たりのR、R、またはRのうち少なくとも1つがアリール基であり、
    Xが、水素原子またはアルキル基であり、
    aが、0または正数であり、
    bが、0または正数であり、
    cが、正数であり、
    dが、0または正数であり、
    eが、0または正数であり、
    b/cが、0〜10の数であり、
    a/cが、0〜0.5の数であり、
    d/(a+b+c+d)が、0〜0.3の数であり、
    e/(a+b+c+d)が、0〜0.4の数である)
    で表される有機ポリシロキサンである、請求項1または2に記載の硬化性有機ポリシロキサン組成物。
  4. 成分(A)が、次の平均単位式:
    (RSiO1/2(R SiO2/2(RSiO3/2
    (式中、Rが、C〜C12のアルキル基であり、
    が、C〜C20のアリール基またはC〜C20のアラルキル基であり、
    が、C〜C12のアルケニル基であり、
    aが、0または正数であり、
    bが、0または正数であり、
    cが、正数である)
    を有する有機ポリシロキサンである、請求項1〜3のいずれか一項に記載の硬化性有機ポリシロキサン組成物。
  5. 成分(B)が、次の一般式:
    (式中、各Rは同じかまたは異なっていてもよく、かつ水素原子、またはアルケニル基を除く置換もしくは非置換の一価炭化水素基から独立して選択され、式中、分子当たり少なくとも1つのRがアリール基であり、nが0以上の整数である)
    で表される、有機ポリシロキサンである、請求項1〜4のいずれか一項に記載の硬化性有機ポリシロキサン組成物。
  6. 成分(D)が、DVi を含んでなる、請求項1〜5のいずれか一項に記載の硬化性有機ポリシロキサン組成物。
  7. 成分(A)と成分(B)との重量比が、70:30〜90:10である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の硬化性有機ポリシロキサン組成物。
  8. 成分(A)と成分(B)との重量比が、75:25〜85:15である、請求項7に記載の硬化性有機ポリシロキサン組成物。
  9. 成分(D)が、成分(A)および(B)の合計100重量部に対して、最大10重量部の量で含まれる、請求項1〜8のいずれか一項に記載の硬化性有機ポリシロキサン組成物。
  10. 成分(A)におけるアルケニル基に対する成分(B)におけるヒドロシリル基のモル比が、1:1.2である、請求項1〜9のいずれか一項に記載の硬化性有機ポリシロキサン組成物。
  11. 架橋剤をさらに含んでなる、請求項1〜10のいずれか一項に記載の硬化性有機ポリシロキサン組成物。
  12. 硬化阻害剤、触媒、およびリン光体をさらに含んでなる、請求項1〜11のいずれか一項に記載の硬化性有機ポリシロキサン組成物。
  13. 請求項1〜12のいずれか一項に記載の硬化性有機ポリシロキサン組成物を含んでなる、LED封止剤。
  14. 半導体素子が、請求項1〜12のいずれか一項に記載の硬化性有機ポリシロキサン組成物の硬化生成物でコーティングされた、半導体デバイス。
  15. 前記半導体素子が、発光素子である、請求項14に記載の半導体デバイス。
JP2019507191A 2016-08-12 2016-08-12 硬化性有機ポリシロキサン組成物、封止剤、および半導体デバイス Pending JP2019524959A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/EP2016/069244 WO2018028792A1 (en) 2016-08-12 2016-08-12 Curable organopolysiloxane composition, encapsulant and semiconductor device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019524959A true JP2019524959A (ja) 2019-09-05
JP2019524959A5 JP2019524959A5 (ja) 2020-08-13

Family

ID=56682127

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019507191A Pending JP2019524959A (ja) 2016-08-12 2016-08-12 硬化性有機ポリシロキサン組成物、封止剤、および半導体デバイス

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11028266B2 (ja)
EP (1) EP3497160B1 (ja)
JP (1) JP2019524959A (ja)
KR (1) KR102165826B1 (ja)
CN (1) CN109563312B (ja)
TW (1) TWI654257B (ja)
WO (1) WO2018028792A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230135676A (ko) 2021-03-08 2023-09-25 듀폰 도레이 스페셜티 머티리얼즈 가부시키가이샤 경화성 실리콘 조성물, 봉지재 및 광반도체 장치

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020043313A1 (en) * 2018-08-31 2020-03-05 Wacker Chemie Ag Curable organopolysiloxane composition, encapsulant and semiconductor device
WO2020043312A1 (en) * 2018-08-31 2020-03-05 Wacker Chemie Ag Thermosetting silicone resin composition for reflector of led, reflector of led and semiconductor device using the same
WO2020203304A1 (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 ダウ・東レ株式会社 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、およびその製造方法
WO2024000245A1 (en) * 2022-06-29 2024-01-04 Dow Toray Co., Ltd. Uv curable organopolysiloxane composition and application thereof

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012233153A (ja) * 2011-04-21 2012-11-29 Jsr Corp 硬化性組成物、硬化物、光半導体装置およびポリシロキサン
JP2013076050A (ja) * 2011-09-16 2013-04-25 Dow Corning Toray Co Ltd 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置
JP2013159670A (ja) * 2012-02-02 2013-08-19 Dow Corning Toray Co Ltd 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置
JP2013159671A (ja) * 2012-02-02 2013-08-19 Dow Corning Toray Co Ltd 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置
WO2013176238A1 (ja) * 2012-05-25 2013-11-28 株式会社ダイセル 硬化性樹脂組成物及びその硬化物、封止剤、並びに光半導体装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10062181A1 (de) * 2000-12-14 2002-07-04 Wacker Chemie Gmbh Härtbare Organopolysiloxanmassen
JP4409160B2 (ja) 2002-10-28 2010-02-03 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物および半導体装置
JP4908736B2 (ja) 2003-10-01 2012-04-04 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物および半導体装置
US8258502B2 (en) 2006-02-24 2012-09-04 Dow Corning Corporation Light emitting device encapsulated with silicones and curable silicone compositions for preparing the silicones
DE102006016753A1 (de) * 2006-04-10 2007-10-11 Wacker Chemie Ag Vernetzbare Massen auf der Basis von Organosiliciumverbindungen
DE102006031107A1 (de) * 2006-07-05 2008-01-10 Wacker Chemie Ag Härtbare Organopolysiloxanmassen
JP5972512B2 (ja) * 2008-06-18 2016-08-17 東レ・ダウコーニング株式会社 硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び半導体装置
TWI435914B (zh) * 2010-12-31 2014-05-01 Eternal Chemical Co Ltd 可固化之有機聚矽氧烷組合物及其製法
KR101882052B1 (ko) * 2011-09-01 2018-07-25 도아고세이가부시키가이샤 내열충격성 경화물 및 그의 제조 방법
JP5893874B2 (ja) 2011-09-02 2016-03-23 信越化学工業株式会社 光半導体装置
JP5545601B2 (ja) * 2011-11-07 2014-07-09 信越化学工業株式会社 蛍光体高充填波長変換シート、それを用いた発光半導体装置の製造方法、及び該発光半導体装置
CN104619780B (zh) * 2012-09-14 2017-07-07 横滨橡胶株式会社 固化性树脂组合物
KR20160049539A (ko) * 2013-08-30 2016-05-09 다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드 1액형 경화성 실리콘 조성물 및 광반도체 장치
TWI653295B (zh) 2014-02-04 2019-03-11 日商道康寧東麗股份有限公司 硬化性聚矽氧組合物、其硬化物及光半導體裝置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012233153A (ja) * 2011-04-21 2012-11-29 Jsr Corp 硬化性組成物、硬化物、光半導体装置およびポリシロキサン
JP2013076050A (ja) * 2011-09-16 2013-04-25 Dow Corning Toray Co Ltd 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置
JP2013159670A (ja) * 2012-02-02 2013-08-19 Dow Corning Toray Co Ltd 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置
JP2013159671A (ja) * 2012-02-02 2013-08-19 Dow Corning Toray Co Ltd 硬化性シリコーン組成物、その硬化物、および光半導体装置
WO2013176238A1 (ja) * 2012-05-25 2013-11-28 株式会社ダイセル 硬化性樹脂組成物及びその硬化物、封止剤、並びに光半導体装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230135676A (ko) 2021-03-08 2023-09-25 듀폰 도레이 스페셜티 머티리얼즈 가부시키가이샤 경화성 실리콘 조성물, 봉지재 및 광반도체 장치

Also Published As

Publication number Publication date
US20190194458A1 (en) 2019-06-27
EP3497160A1 (en) 2019-06-19
US11028266B2 (en) 2021-06-08
TWI654257B (zh) 2019-03-21
KR102165826B1 (ko) 2020-10-15
EP3497160B1 (en) 2019-11-13
CN109563312B (zh) 2021-02-26
CN109563312A (zh) 2019-04-02
WO2018028792A1 (en) 2018-02-15
TW201805362A (zh) 2018-02-16
KR20190026012A (ko) 2019-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1556443B2 (en) Curable organopolysiloxane composition and a semiconductor device made with the use of this composition
JP4908736B2 (ja) 硬化性オルガノポリシロキサン組成物および半導体装置
JP4933179B2 (ja) 硬化性シリコーンゴム組成物及びその硬化物
TWI654257B (zh) 可固化有機聚矽氧烷組合物、密封劑和半導體裝置
KR101565762B1 (ko) 경화성 오가노폴리실록산 조성물 및 이의 경화물
CN108350275A (zh) 加成固化型硅酮树脂组合物、所述组合物的制造方法以及光学半导体装置
JP6965346B2 (ja) ダイボンディング用硬化性シリコーン組成物
CN104487518B (zh) 可固化组合物
EP1927636A1 (en) Aryl(thio)ether aryl polysiloxane composition and methods for making and using same
KR20150065672A (ko) 광반도체 소자 밀봉용 실리콘 조성물 및 광반도체 장치
KR20140017447A (ko) 부가 경화형 실리콘 조성물, 및 상기 조성물의 경화물에 의해 반도체 소자가 피복된 반도체 장치
JP2010180323A (ja) 硬化性シリコーン組成物およびその硬化物
TWI644986B (zh) 硬化性樹脂組成物
TWI714561B (zh) 有機聚矽氧烷、其製造方法及可固化聚矽氧組合物
KR101909914B1 (ko) 경화성 조성물, 반도체 장치, 및 에스테르결합함유 유기규소 화합물
JP6998905B2 (ja) 付加硬化型シリコーン組成物、硬化物及び光半導体素子
US20210253858A1 (en) Curable organopolysiloxane composition, encapsulant, and semiconductor device
KR20200024719A (ko) 부가 경화형 실리콘 조성물 및 반도체 장치
JP2015078375A (ja) 硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び半導体装置
WO2020043313A1 (en) Curable organopolysiloxane composition, encapsulant and semiconductor device
JP2020143206A (ja) 硬化性有機ケイ素樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190411

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190412

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200318

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200529

A524 Written submission of copy of amendment under article 19 pct

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524

Effective date: 20200701

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210105

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210402

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20210921