JP2019519763A - 微細加工バルク弾性波共振器圧力センサ - Google Patents
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Abstract
圧力センサは、略平面構造及び中立軸を有する圧電基板と、該圧電基板を該圧電基板の平面構造の周囲で固定するアンカー位置とを備える。圧電基板の平面構造は、アンカー位置に隣接する第1特性厚さを有する第1領域と、基板の中間領域にある第2特性厚さを有する第2領域とを有する。第2特性厚さは、第2領域の平面構造が平面構造の中立軸に対して変位するように、第1特性厚さよりも薄く、それにより、曲げを受けている間に、第2領域は、主として圧縮応力又は主として引張応力を有する。
Description
本発明は、一般に、流体(すなわち、気体又は液体)の圧力を測定するための圧力センサに関し、特に、石英共振器を使用する圧力センサに関する。
圧力センサを使用して流体の圧力を測定することができる。例えば、従来の圧力センサのいくつかは、市販のバルク石英共振器を使用して製造されている。石英は、固有損失の低い非常に安定な弾性特性を有する圧電結晶である。これらの特性のため、石英は、電子機器のタイミングやクロッキングなどの高精度周波数制御用途に広く利用されている。
非常に正確な発振周波数を有するにもかかわらず、石英の共振周波数は、外力、曲げ、圧縮、質量負荷及び加速などの様々な環境外乱にも非常に影響を受けやすい。共振周波数の元の値f0からの分数偏差は、Δf/f0で与えられる。円形厚み−せん断モード(TSM)石英振動子の周囲で半径方向に力が加えられると、石英振動子センサにおいて一方の周波数シフト機構が生じる。石英センサは、加えられた力の振幅に比例する周波数シフトを生成する。この現象は、力−周波数効果として定義される。
特に、石英は、面内半径方向の力だけでなく、横方向の力及び湾曲曲げに対しても影響を受けやすい。したがって、圧力センサとして石英を利用するために、横方向の力がいくつかの手段によって誘起される場合がある。しかしながら、石英共振器を使用する現在の圧力センサは、典型的には約1気圧以上の圧力レベルでの非常に高い圧力の測定にしか適していない。また、現在の石英圧力センサは、広い圧力範囲にわたって圧力を効果的に測定することもできない。
概要
本明細書に記載される実施形態は、広い圧力範囲(例えば、1気圧〜10-6torrまで)にわたって高い圧力測定感度を与えることができる圧電共振器ベースの真空圧力センサを製造するために微細加工及び微細作製方法を使用する圧力センサに関する。共振器電極を特別に配置することで、センサは、高感度を達成し、かつ、バックグラウンドと周囲ノイズの補償及びノイズ低減を与えることによりコモンモード信号を効果的に補償して信号対雑音比を改善することができる。共振器の両端に差圧を加えた結果として真空圧力を正確に検出するために、微細加工ATカット石英薄板共振器の曲げ感度が使用される。差圧によってセンサ内に生成された横方向負荷により、センサの平面外曲げが生じ、それによって共振器の周波数シフトが生じる。
本明細書に記載される実施形態は、広い圧力範囲(例えば、1気圧〜10-6torrまで)にわたって高い圧力測定感度を与えることができる圧電共振器ベースの真空圧力センサを製造するために微細加工及び微細作製方法を使用する圧力センサに関する。共振器電極を特別に配置することで、センサは、高感度を達成し、かつ、バックグラウンドと周囲ノイズの補償及びノイズ低減を与えることによりコモンモード信号を効果的に補償して信号対雑音比を改善することができる。共振器の両端に差圧を加えた結果として真空圧力を正確に検出するために、微細加工ATカット石英薄板共振器の曲げ感度が使用される。差圧によってセンサ内に生成された横方向負荷により、センサの平面外曲げが生じ、それによって共振器の周波数シフトが生じる。
本発明の圧力センサの実施形態は、略平面構造及び中立軸を有する圧電基板と、該圧電基板を共振させかつ該圧電基板の周波数を感知するための、該平面構造上にある上部電極及び該平面構造上にある下部電極とを備える。また、該センサは、圧電基板を該圧電基板の平面構造の周囲で固定具に固定するアンカー位置も有する。圧電基板の平面構造は、アンカー位置に隣接する第1特性厚さを有する第1領域と、基板の中間領域にある第2特性厚さを有する第2領域とを有する。第2特性厚さは、第2領域の平面構造が平面構造の中立軸に対して変位するように、第1特性厚さよりも薄い。これにより、曲げを受けている間に、第2領域は、主として圧縮応力又は主として引張応力を有することが確保される。
他の実施形態では、センサは、微細加工(マイクロマシニング)技術を使用して製造される。実施形態では、基板はATカット石英基板である。実施形態では、上部電極及び下部電極の両方は金製である。実施形態では、基板は、シリコーンゴムセメントを使用して固定具に固定される。実施形態では、第2領域はドライエッチングプロセスによって形成される。実施形態では、第2領域の直径は1cm以下であり、第2領域の特性厚さは約100μm未満である。実施形態では、検出される周波数は100MHz以上である。実施形態では、センサはMEMSデバイスである。
本発明の圧力センサのさらなる実施形態は、ダイアフラムを備えるバルク弾性波共振器圧力センサを含む。実施形態では、ダイアフラムは、第1表面と、該第1表面に対向する第2表面とを有する基板を備える。第1表面の一部は予め選択された深さまでエッチングされる。実施形態では、センサは、第1表面上に堆積されパターン化された第1電極と、第2表面上に堆積されパターン化された第2電極とを備える。実施形態では、第1電極及び第2電極は、圧力センサの共振時インピーダンス特性の変化を測定するように構成される。
さらに別の実施形態では、基板はATカット石英基板である。実施形態では、基板のエッチングされていない部分の厚さは約100μmである。実施形態では、予め選択されたエッチング深さは、約63μm又は約80μmである。実施形態では、第1電極及び第2電極は金を含み、フォトリソグラフィプロセスを使用して堆積されパターン化される。実施形態では、センサは、マイクロマシニング技術を使用して製造される。実施形態では、第1表面及び第2表面に加えられる圧力は、ダイアフラムの撓み及び応力を生じさせ、該撓み及び応力は、ダイアフラムの厚さを通して非対称である。実施形態では、ダイアフラムは、第2表面に加えられる正味圧力については主として引張性であり、第1表面に加えられる正味圧力については主として圧縮性である。実施形態では、センサはMEMSデバイスである。
これら及び他の特徴及び利点は、以下の詳細な説明を読み、かつ、関連する図面を検討すれば明らかになるであろう。上記一般的な説明及び下記の詳細な説明は単なる例示であり、特許請求される態様を限定するものではないものとする。
本発明は、以下の図面と併せて詳細な説明を参照することにより、より完全に理解されるであろう。
詳細な説明
以下の説明では、説明する構成要素、工程、特徴、目的、利益及び利点は単なる例示に過ぎない。これらのいずれも、またこれらに関する議論においても、保護の範囲を限定する意図はない。他の多数の実施形態も考えられる。これらの実施形態には、さらに少ない、追加の及び/又は異なる構成要素、工程、特徴、目的、利益及び利点を有する実施形態が含まれる。また、これらの実施形態には、構成要素及び/又は工程が様々に配置及び/又は順序付けされる実施形態も含まれる。特に断りのない限り、本明細書に記載されている全ての測定値、値、定格、位置、大きさその他の仕様は、以下の特許請求の範囲を含めて概算であり正確ではない。これらは、関連する機能及び関連する技術分野において一般的なものと一致する合理的な範囲を有するものとする。
以下の説明では、説明する構成要素、工程、特徴、目的、利益及び利点は単なる例示に過ぎない。これらのいずれも、またこれらに関する議論においても、保護の範囲を限定する意図はない。他の多数の実施形態も考えられる。これらの実施形態には、さらに少ない、追加の及び/又は異なる構成要素、工程、特徴、目的、利益及び利点を有する実施形態が含まれる。また、これらの実施形態には、構成要素及び/又は工程が様々に配置及び/又は順序付けされる実施形態も含まれる。特に断りのない限り、本明細書に記載されている全ての測定値、値、定格、位置、大きさその他の仕様は、以下の特許請求の範囲を含めて概算であり正確ではない。これらは、関連する機能及び関連する技術分野において一般的なものと一致する合理的な範囲を有するものとする。
図1を参照すると、例示実施形態に係る圧力センサ100を製造するために使用される工程が示されている。センサ100は、共通基板上に一連の層を堆積、パターニング、エッチング、ウェハボンディング及び/又はウェハ薄化することを含むことができるマイクロマシニング技術によって製造された微小電気機械システム(MEMS)デバイスである。他の実施形態では、別の方法及び工程の組み合わせを使用することができる。100μm厚のATカット石英基板150を用いてセンサ製造を開始する(工程S104)。基板150を、直径1mmの膜158を有するニッケルハードマスク154を用いてパターン化し(工程S108)、SF6及びNF3プラズマを使用した反応性イオンエッチング(RIE)プロセスにより深さ約63μm(45MHzの共振器の場合)及び約80μm(82MHzの共振器の場合)にエッチングする(工程S112)。次いで、塩酸と硝酸との混合物である王水を使用してニッケルマスク154を剥離する(工程S116)。フォトリソグラフィプロセスを使用して、底部金電極162を堆積させ、パターン化する(工程S120)。フォトリソグラフィプロセスを使用して、上部金電極166を堆積させ、パターン化する(工程S124)。次いで、センサ100を、底部に穴が切られた改変セラミックパッケージ(図示せず)にパッケージングする。センサ100を、RTVシリコーンを使用してパッケージに取り付けて、ダイアフラムの2つの面間に気密封止を生じさせてパッケージング応力を最小限に抑える。固定具を使用して、セラミックの両面にOリングを用いて圧縮シール(図示せず)を形成する。その後、パッケージの両側を、別個の圧力リザーバ(図示せず)に接続する。
図2を参照すると、センサ100を試験するために、ターボ分子ポンプ110がセンサ100(DUT−被試験デバイスとして示される)の2つの側に接続され、このターボ分子ポンプ110を使用して圧力を≦0.08mTorrの基準圧力まで低下させる。センサ100の2つの側は、基準圧力に達した後に隔離弁112を閉じることによって隔離される。センサ100の一方の側を高真空ポンプして基準圧力を維持する。次に、制御された量の高圧窒素ガス114を、ニードル弁116を使用して共振器ダイアフラム118の他方の側に面するセンサ100に導入する。較正された静電容量型ダイアフラムゲージ(CDG)120及び100μTorr未満の圧力のための電離ゲージ122を使用して試験圧力を連続的に監視する。石英共振周波数及び共鳴時サセプタンス特性を、インピーダンスアナライザ124を使用して監視する。
図3Aは、本発明の別の例示実施形態に係る石英センサ300の平面(上面)図である。図2に示すように、図3Aに示すように、センサ300は、アンカー領域304で周囲の固定具に固定される。一実施形態では、センサ300は、シリコーンゴムセメントを使用してその外周にセンサ300を接合することによって固定される。次に、ドライエッチング(又は他の)プロセスを使用して、センサ300を中間領域306内において所望の厚さ(t)(図3B)及び直径(D)にまで薄化する。
図3Bは、図3Aのセンサ300の断面図である。図3Bに示すように、センサ300は、上部電極366と下部電極362とを有するダイアフラム318を有する。ドライエッチングプロセスの結果として、センサ300は、異なる圧力を有する2つの領域(図3Bに関してセンサ300の上部及び下部)を分離するダイアフラム318の薄化領域312も有する。薄化領域312の一方の面324は、ダイアフラム318の全厚み領域316の面328と同一平面上にある。センサ300の双方向挙動は、薄化領域312と全厚み領域316との寸法関係と、全厚み領域316の320の境界での境界条件との組み合わせのため生じる。
さらに図3Bを参照すると、ダイアフラム318は、薄化領域312の方が全厚み領域316よりも薄く、それによって、薄化領域312の平面構造が平面構造の中立軸360に対して変位する。実施形態では、曲げを受けている間に、薄化領域312の平面構造は、主として圧縮応力又は主として引張応力を有する(図8にも示される)。別の実施形態では、薄化領域312の平面構造は、曲げを受ける間に対称レベルの圧縮応力及び引張応力を同時に受けないように、平面構造の中立軸360に対して変位する。このような実施形態では、センサ300は、依然として本明細書に記載された所望の双方向性の挙動を示す。しかし、この効果は、他の構成方法で得ることができる場合がある。例えば、さらに厚い外周基板又は支持体に接合される均一に厚いダイアフラム318は、このアセンブリが同等の機械的構成(曲げ剛性、応力状態、及び中立軸形状を含む)を生じさせる限りにおいて、上記効果を示すと考えられる。ダイアフラム318が受ける正味の曲げモーメントは、ダイアフラムにわたる圧力差のため、共振周波数のシフトを誘発し、これば、電極362、366を使用して測定されたときのセンサ300(図4参照)の共振時インピーダンス特性の変化によって感度良く監視できる。したがって、センサ300は、有利には、パワー・周波数の効果を利用して、高い分解能で大きな動作圧力範囲にわたる。
図4は、ダイアフラム404にわたる圧力差のないセンサ400aと、ダイアフラム404にわたる圧力差があるセンサ400bの概略図である。圧電材料のダイアフラムが圧力センサとして有効に使用されるためには、センサが良好な共振器構造、圧力撓みが十分なダイアフラム、必要な感度を達成するのに十分な撓みと周波数との結合利得を有することが必要である。石英振動子を共振させるための設計要件により、所望の石英振動子の寸法及びアスペクト比がかなり制限される。さらに、高い電気的読み出し分解能を得るためには、共振周波数範囲を適切に高くする必要がある。さらに、非常に低い圧力(すなわち、高真空)を測定するためには、Δf利得に対する圧力撓みは極めて高くなければならない。
特に、本発明のセンサの製造の際にマイクロマシニング技術を使用することで、センサは良好な共振器特性を示すだけでなく、高真空領域で測定可能な周波数分解能を達成することが可能になる。マイクロマシニングを使用することなしに、高真空状態で分解能を有するセンサを達成することはできない。マイクロマシニングなしに製造されたセンサでは、共振ダイアフラム直径(D)は、約1〜10センチメートルの範囲に制限される。ダイアフラムの厚さ(t)は、分数ミリメートル以上の範囲に制限される。これらの寸法上の制約は、共振器を10MHz程度の周波数に制限するが、これは高真空使用のために十分な分解能を得ることを可能にしないと考えられる。10MHzの共振器は、感度が低く、ノイズが大きいため、高真空状態で圧力を分解するための所望の分解能を与えない。周波数が高くなると共振器の分解能が上がる。測定中に信号の周波数を分解するためには、有限のサイクル数が必要である。したがって、より高い周波数で動作する共振器は、所望のサイクル数をより迅速に達成することになる。マイクロマシニング技術を使用することにより、センサの直径を約1センチメートル以下となるように製造することができ、厚さをミクロン以下の範囲に縮小することができる。これらのタイプの寸法は、センサの共振周波数が100MHz以上の範囲にあることを可能にする。この周波数範囲は、共振周波数測定の望ましい信号対雑音比を与える。さらに重要なことに、これらの寸法は圧力偏向利得の増加をもたらすところ、これは500〜1000倍の感度の増加と同等である。この改善により、マイクロトル範囲内で非常に低い圧力を分解するために必要な感度が得られる。
図5及び図6は、感度が向上し、それによってマイクロトル範囲での動作が可能になる、マイクロマシニングによって達成できる設計空間を示す。図5は、センサのダイアフラムの厚さに応じたセンサの感度(左軸)及び撓み(右軸)の図である。センサの感度は、約20μm未満の厚さではより迅速に増加する。感度はサセプティビリティ(μS)/圧力(mTorr)に等しい。図5では、サセプティビリティの変化は出力信号であり、共振器の共振周波数の変化に等しい。図6は、センサのダイアフラムの直径に応じたセンサの撓みの図である。
上記のように、本発明のセンサの厚さにわたって圧力差を加えることにより、ダイアフラムの応力状態に非対称的な影響を与えるエッジ境界が生成される。図7Aは、均一に厚いダイアフラム718が、エッチングされていないセンサ700の下面及び上面の圧力によって撓むことを示す。これにより、応力の対称性、すなわちセンサ700の共振周波数のシフトが生じる。破線は、センサ700の全体構造の中立面704を表す。黒色領域は引張応力を示し、薄灰色領域は圧縮応力を示す(例えば、図7Bにおけるセンサ700の上部の黒色領域及び図7Bにおける下部の薄灰色領域)。図7A〜図7Cに関して、中立面704は、全厚み領域716の中心線に位置する。これにより、下からの正味圧力に関する図7B及び上からの正味圧力に関する図7Cに示すようなダイアフラム718の厚みを介した圧縮応力から引張応力への対称的な遷移が生じる。この場合、正味の周波数シフトはいずれの圧力方向においても同じである(大きさ及び符号)。
図8Aは、不均一に厚いダイアフラム818(例えば、図3Aのセンサ300)が、下面及び上面の圧力によって撓むことを示す。破線は、センサ800の全体構造の中立面804を表す。撓みと応力は、センサの厚みを通して対称ではない。図8Aの実施形態では、ダイアフラム818の可撓性の薄い部分812は、全体的な中立面804から離間して配置されている。結果として、ダイアフラム818は、図8Bに示されるように、下からの正味圧力に対して主として引張性であり、図8Cに示されるように、上からの正味圧力に対して主として圧縮性である。この応力非対称性は、主として圧縮応力状態から主として引張応力状態までの間の遷移を生じさせる。これにより、双方向出力を生成する石英振動子の周波数シフトが生じる。さらに、全厚み層816の機械的境界条件(「アンカー」と示された位置での)は、薄いダイアフラム領域812の中心線と比較して、全体的な中立軸804の正味位置に影響を及ぼす。最大の効果の大きさを得るためには、これらの境界条件は、全体の中立軸804と薄いダイアフラム領域812の中心線との間の距離を強調するように適切に設計される必要がある。双方向出力は、上記センサ800の非対称構成の関数である。特に、図8に示すように、ダイアフラム818の薄化部分812は、センサ800の全体構造の中立軸804と比較して薄くなければならない。
図9は、82.4MHzの共振器を表す、例示実施形態に係るセンサ900の双方向効果を示すシミュレーション結果を提供するものである。下向きの圧力(図9の下向きの矢印によって表される)は、応力大きさ画像908に示されるように、ダイアフラム918において平均引張応力を誘発する。この応力状態は、サセプティビリティ対圧力図912の「エッチング側加圧」部分に示されるように、周波数(及び磁化率)を低下させる。同様に、上向きの圧力は、応力大きさ画像904に示されるように、ダイアフラム918に平均圧縮応力を誘起する。この応力状態は、サセプティビリティ対圧力図の「エッチング側ポンプ」部分に示されるように、周波数(及びサセプティビリティ)を増加させる。サセプティビリティ対圧力図912は、正味上方(904)から正味下方(908)への圧力遷移として、双方向効果を明確に示す。
図10は、図3A及び図3Bのセンサ300に関して上記した構造を有するいくつかの石英センサについての共振時サセプタンス変化の図である。プロットのX軸は、センサ300のダイアフラム318にわたってmTorr単位で加えられる圧力差である。Y軸は、mS単位で表される、共振時サセプタンスの測定された変化である。共振器ダイアフラム318の双方向検出能力は、圧力の大きさと符号の両方の関数として共振器の共振時のサセプティビリティ変化の符号によって示される。この挙動は、応力方向の逆転に起因すると考えられる。図10は、2つのセンサ300の動作範囲を示す。
上記詳細な説明は特定の実施形態を含むが、当業者であれば、特許請求の範囲によって規定される本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、形態及び詳細の様々な変更を行うことができることが分かるはずである。
Claims (22)
- 圧力センサであって、
略平面構造及び中立軸を有する圧電基板と、前記圧電基板を共振させかつ該圧電基板の周波数を感知するための、前記平面構造上にある上部電極及び前記平面構造上にある下部電極と;
前記圧電基板を前記圧電基板の前記平面構造の周囲で固定具に固定するアンカー位置と
を備え、
前記圧電基板の前記平面構造は、前記アンカー位置に隣接する第1特性厚さを有する第1領域と、前記圧電基板の中間領域にある第2特性厚さを有する第2領域とを有し
前記第2特性厚さは、前記第2領域の前記平面構造が平面構造の中立軸に対して変位するように前記第1特性厚さよりも薄く、それによって、前記第2領域は、曲げを受けている間に、主として圧縮応力又は主として引張応力のいずれかを有する、圧力センサ。 - 前記センサがマイクロマシニング技術を使用して製造されている、請求項1に記載のセンサ。
- 前記圧電基板がATカット石英基板である、請求項1に記載のセンサ。
- 前記上部電極が金を含む、請求項1に記載のセンサ。
- 前記下部電極が金を含む、請求項1に記載のセンサ。
- 前記圧電基板がシリコーンゴムセメントを使用して前記固定具に固定される、請求項1に記載のセンサ。
- 前記第2領域がドライエッチングプロセスによって形成される、請求項1に記載のセンサ。
- 前記第2領域の直径が1cm以下である、請求項1に記載のセンサ。
- 前記第2領域の前記特性厚さが約100μm未満である、請求項1に記載のセンサ。
- 検出される周波数が100MHz以上である、請求項1に記載のセンサ。
- 前記センサがMEMSデバイスである、請求項1に記載のセンサ。
- ダイアフラムを備えるバルク弾性波共振器圧力センサであって、前記ダイアフラムは、
一部が予め選択された深さまでエッチングされた第1表面と、前記第1表面に対向する第2表面とを有する基板と;
前記第1表面上に堆積されパターン化された第1電極と;
前記第2表面上に堆積されパターン化された第2電極と
を備え、
前記第1電極及び前記第2電極は、前記圧力センサの共振時インピーダンス特性の変化を測定するように構成される、バルク弾性波共振器圧力センサ。 - 前記基板がATカット石英基板である、請求項12に記載のセンサ。
- 前記基板のエッチングされていない部分の厚さが約100μmである、請求項12に記載のセンサ。
- 前記予め選択されたエッチング深さが約63μmである、請求項12に記載のセンサ。
- 前記予め選択されたエッチング深さが約80μmである、請求項12に記載のセンサ。
- 前記第1電極及び前記第2電極が金を含む、請求項12に記載のセンサ。
- 前記第1電極及び前記第2電極がフォトリソグラフィプロセスを使用して堆積されパターン化された、請求項12に記載のセンサ。
- 前記センサがマイクロマシニング技術を使用して製造された、請求項12に記載のセンサ。
- 前記第1表面及び前記第2表面に加えられる圧力が前記ダイアフラムの撓み及び応力を生じさせ、前記撓み及び前記応力が前記ダイアフラムの厚さを通して非対称である、請求項12に記載のセンサ。
- 前記ダイアフラムは、前記第2表面に加えられる正味圧力については主として引張性であり、前記第1表面に加えられる正味圧力については主として圧縮性である、請求項12に記載のセンサ。
- 前記センサがMEMSデバイスである、請求項12に記載のセンサ。
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