JP2019518963A5 - - Google Patents
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- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 claims 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 230000003628 erosive Effects 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
- 238000010801 machine learning Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims 1
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Claims (24)
- 一連の区画(15−i)を含む堆積ライン(2)において、前記区画中で基材(3)上に堆積される薄層のスタックに影響を与える欠陥の発生源の位置を特定するための方法であって、各材料の薄層を前記堆積ラインの1つ以上の連続した区画(15−i)において堆積させ、区画において堆積された薄層の表面に残っているデブリ片が、後続の薄層の堆積に対するマスクとして働き、かつ前記欠陥の発生源となる方法であって、以下の工程を含む、方法:
・前記欠陥を示す少なくとも1つの画像を取得する工程(E10、F10、G10、H10)であって、前記少なくとも1つの画像を、前記堆積ラインの末端に配置された少なくとも1つの光学検査システムによって取得する、工程(E10、F10、G10、H10)、
・前記少なくとも1つの画像から、前記欠陥の少なくとも1つの代表特性を含む、前記欠陥の特徴を測定する工程(E20、F30、G20、H20)、及び、
・前記欠陥の特徴から、前記堆積ラインのうちの前記欠陥の発生源となる少なくとも1つの区画を、前記堆積ラインのうちの前記区画に関連付けられた参照特徴を使用して特定する工程(E40、F50、G40、H40)。 - 前記薄層の堆積を、前記堆積ライン(2)により、前記基材(3)へのマグネトロン陰極スパッタリングによって行う、請求項1に記載の方法。
- 前記基材(3)が、無機ガラス製又はポリマー有機材料製の透明基材である、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記特定する工程が、前記欠陥の特徴を、各々が前記堆積ラインの区画に関連付けられた複数の参照特徴と比較し、前記少なくとも1つの区画を、前記欠陥の特徴に対応する特徴に関連付けられる欠陥の発生源であるものとして特定する工程を含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- ・前記少なくとも1つの画像が、反射で撮影されたグレースケールエンコード画像(IMR)を含み、前記欠陥の特徴が、反射で撮影された前記画像から測定される、前記欠陥の反射係数に関して定義された特性を含む、及び/又は、
・前記少なくとも1つの画像が、透過で撮影されたグレースケールエンコード画像(IMT)を含み、前記欠陥の特徴が、透過で撮影された前記画像から測定される、前記欠陥の透過係数に関して定義された特性を含む、
請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。 - 前記係数を、前記グレースケールエンコード画像に示される欠陥に適用される逐次侵食法を用いて測定する、請求項5に記載の方法。
- ・前記係数の変動の勾配を測定する工程、及び、
・測定された前記変動の勾配に基づいて、前記欠陥の形状を検出する工程、
をさらに含む、請求項5又は6に記載の方法。 - 前記少なくとも1つの画像に示される前記欠陥の周囲に明るいリングが存在することを検出する工程を含み、前記欠陥の特徴が、この存在を表す特性を含む、請求項5〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの画像が、2つの少なくとも部分的に区別される波長領域で放射する2つの放射源を使用して前記少なくとも1つの光学システムによって取得される2つのグレースケールエンコード画像を含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- ・前記少なくとも1つの画像が、反射又は透過で撮影されたレッド−グリーン−ブルー(RGB)エンコード画像を含み、
・前記方法が、前記RGB画像をL*a*b*色空間に変換する工程(F10)をさらに含み、かつ、
・前記欠陥の特徴が、変換された前記画像から測定される、前記欠陥の基本面のa*及びb*成分を含む、
請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。 - 前記欠陥の特徴が、変換された前記画像から測定される、前記欠陥のL*成分をさらに含む、請求項10に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの画像が、ハイパースペクトル画像を含み、前記欠陥の特徴が、前記欠陥の基本面の反射係数又は透過係数の値を波長の関数として表すスペクトルを含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記堆積ラインの区画に関連付けられた各参照特徴が、前記区画において堆積された層の種々の厚さに対応する複数のスペクトルを含む、請求項12に記載の方法。
- 前記堆積ラインの区画に関連付けられた前記参照特徴が、前記区画の各々を叩き、それにより各区画においてこの叩くことに起因するデブリ片を発生させることによって実験的に測定される(E00、F00、G00)、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
- 前記特定する工程(H40)が、前記欠陥の特徴に機械学習法を適用すること(H30)を含み、前記学習法は、前記堆積ラインの区画に関連付けられた参照特徴を用いてトレーニングされるモデルに基づく(H00)、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記欠陥の特徴、すなわち前記少なくとも1つの画像から測定される特徴が、前記欠陥の光度に関する少なくとも1つの特性及び/又は前記欠陥の形状に関する1つの特性を含む、請求項1又は15に記載の方法。
- 前記欠陥の光度に関する前記少なくとも1つの特性が、
・前記欠陥の放射状光度プロファイルを代表する特性、及び/又は、
・前記欠陥の放射状光度プロファイルの傾きを代表する特性、及び/又は、
・前記欠陥の平均光度を代表する特性、及び/又は、
・前記欠陥の中心における光度を代表する特性、
を含む、請求項16に記載の方法。 - 前記欠陥の形状に関する前記少なくとも1つの特性が、
・前記欠陥の面積を代表する特性、及び/又は、
・前記欠陥の面積に対する前記欠陥の周囲長の比を代表する特性、及び/又は、
・前記欠陥のアスペクト比を代表する特性、
を含む、請求項16又は17に記載の方法。 - 前記薄層のスタックが、干渉システムを形成している、請求項1〜18のいずれか一項に記載の方法。
- 前記堆積ラインの区画に関連付けられた前記参照特徴が、前記基材上に前記薄層を堆積する間の前記堆積ラインの構成に依存する、請求項1〜19のいずれか一項に記載の方法。
- コンピュータにより実行する際に、請求項1〜20のいずれか一項に記載の位置を特定するための方法の工程を実施するための指令を含んでいる、コンピュータプログラム。
- 請求項1〜20のいずれか一項に記載の位置を特定するための方法の工程を実施するための指令を含んでいる請求項21に記載のコンピュータプログラムを格納している、コンピュータ可読記録媒体。
- 堆積ライン(2)において連続する複数の区画中で基材(3)上に堆積される薄層のスタックに影響を与える欠陥の発生源の位置を特定するための装置(6)であり、各材料の薄層を前記堆積ラインの1つ以上の連続した区画(15−i)において堆積させ、区画において堆積された薄層の表面に残っているデブリ片が、後続の薄層の堆積に対するマスクとして働き、かつ欠陥の発生源となる、装置(6)であって、以下のものを含む装置(6):
・前記欠陥を示す少なくとも1つの画像を取得するためのモジュール(6A)であって、前記少なくとも1つの画像を、前記堆積ラインの末端に配置された少なくとも1つの光学検査システムによって取得する、モジュール(6A)、
・前記少なくとも1つの画像から、前記欠陥の少なくとも1つの代表特性を含む前記欠陥の特徴を測定するためのモジュール(6B)、及び、
・前記欠陥の特徴から前記欠陥の発生源となる前記堆積ラインの少なくとも1つの区画を、前記堆積ラインの区画に関連付けられた参照特徴を使用して特定するためのモジュール(6C)。 - 以下のものを含むシステム:
・基材(3)上に薄層のスタックを堆積させることができる一連の区画(15−i)を含む堆積ライン(2)であって、各材料の薄層を当該堆積ラインの1つ以上の連続する区画(15−i)において堆積させ、区画において堆積させた薄層の表面に残っているデブリ片が、その後の薄層の堆積に対するマスクとして働き、かつ欠陥の発生源となる、堆積ライン(2)、
・前記堆積ラインの末端に配置され、前記基材上に堆積される薄層のスタックに影響を与える欠陥を示す少なくとも1つの画像を供給するように構成された、少なくとも1つの光学検査システム、及び、
・前記堆積ラインの一連の区画のうちで、前記欠陥の発生源となる少なくとも1つの区画を特定することができる、請求項23に記載の位置を特定するための装置(6)。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1655951A FR3053126B1 (fr) | 2016-06-27 | 2016-06-27 | Procede et dispositif de localisation de l'origine d'un defaut affectant un empilement de couches minces deposees sur un substrat |
FR1655951 | 2016-06-27 | ||
PCT/FR2017/051666 WO2018002482A1 (fr) | 2016-06-27 | 2017-06-22 | Procédé et dispositif de localisation de l'origine d'un défaut affectant un empilement de couches minces déposées sur un substrat |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019518963A JP2019518963A (ja) | 2019-07-04 |
JP2019518963A5 true JP2019518963A5 (ja) | 2020-07-02 |
JP7110121B2 JP7110121B2 (ja) | 2022-08-01 |
Family
ID=56611486
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018565723A Active JP7110121B2 (ja) | 2016-06-27 | 2017-06-22 | 基材上に堆積される薄層のスタックに影響を与える欠陥の発生源の位置を特定するための方法及び装置 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11352691B2 (ja) |
EP (1) | EP3475739A1 (ja) |
JP (1) | JP7110121B2 (ja) |
KR (1) | KR102478575B1 (ja) |
CN (1) | CN109564299B (ja) |
CA (1) | CA3026711A1 (ja) |
FR (1) | FR3053126B1 (ja) |
MX (1) | MX2018016116A (ja) |
RU (1) | RU2742201C2 (ja) |
WO (1) | WO2018002482A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021128097A (ja) * | 2020-02-14 | 2021-09-02 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 欠陥検出装置、欠陥検出方法、欠陥修正装置 |
EP3944030A1 (en) * | 2020-07-21 | 2022-01-26 | Saint-Gobain Glass France | Method to assist an operator in controlling a coating process |
WO2022154026A1 (ja) * | 2021-01-13 | 2022-07-21 | 公益財団法人電磁材料研究所 | 磁気光学材料およびその製造方法 |
CN112967267B (zh) * | 2021-03-23 | 2024-01-23 | 湖南珞佳智能科技有限公司 | 一种全卷积神经网络的激光定向能量沉积溅射计数方法 |
TWI831688B (zh) * | 2023-05-04 | 2024-02-01 | 和碩聯合科技股份有限公司 | 監控圖像中亮度改變的方法及其裝置 |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4975972A (en) * | 1988-10-18 | 1990-12-04 | At&T Bell Laboratories | Method and apparatus for surface inspection |
JP3665215B2 (ja) * | 1999-01-28 | 2005-06-29 | 株式会社日立製作所 | 異常原因特定システムおよびその方法 |
JP2001343332A (ja) | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Sharp Corp | 電子部品の評価方法および評価装置 |
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DE10358275A1 (de) * | 2003-12-11 | 2005-07-21 | Wiessner Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen wenigstens einer Prozesskammer zum Beschichten wenigstens eines Substrats |
JP2005181549A (ja) | 2003-12-17 | 2005-07-07 | Nippon Zeon Co Ltd | 偏光板保護フィルム及びその製造方法 |
JP2006237580A (ja) | 2005-01-26 | 2006-09-07 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | パターン検査方法およびパターン検査装置 |
JP4930748B2 (ja) * | 2005-01-28 | 2012-05-16 | 大日本印刷株式会社 | 被膜検査装置および方法 |
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FR2911130B1 (fr) * | 2007-01-05 | 2009-11-27 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince et produit obtenu |
JP5458345B2 (ja) | 2008-03-14 | 2014-04-02 | セイコーNpc株式会社 | 欠陥検査方法 |
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DE102011083588A1 (de) * | 2011-09-28 | 2013-03-28 | Siemens Aktiengesellschaft | Anordnung aufweisend eine Leistungsschalterunterbrechereinheit |
JP5832855B2 (ja) * | 2011-11-01 | 2015-12-16 | クラリオン株式会社 | 画像処理装置、撮像装置および画像処理プログラム |
JP2012164677A (ja) | 2012-04-25 | 2012-08-30 | Ulvac Japan Ltd | イオンガン、及び成膜装置 |
JP2014048206A (ja) | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Sharp Corp | 欠陥分類装置、欠陥分類方法、制御プログラム、および記録媒体 |
CN105900418B (zh) * | 2013-02-18 | 2018-01-12 | 卡帝瓦公司 | Oled堆叠膜的质量评估的系统、设备和方法 |
FR3002534B1 (fr) | 2013-02-27 | 2018-04-13 | Saint-Gobain Glass France | Substrat revetu d'un empilement bas-emissif. |
JP6021764B2 (ja) * | 2013-08-30 | 2016-11-09 | 株式会社東芝 | 検査装置および検査方法 |
JP6229506B2 (ja) | 2014-01-15 | 2017-11-15 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリア性フィルム、およびこれを用いた電子デバイス |
KR102003781B1 (ko) * | 2014-09-16 | 2019-07-25 | 한화정밀기계 주식회사 | 초분광영상화 기법을 이용한 글라스(Glass) 결함 검출 장치 |
JP6394422B2 (ja) * | 2015-01-30 | 2018-09-26 | 信越化学工業株式会社 | 欠陥検査方法及び検査光の照射方法 |
GB201509080D0 (en) * | 2015-05-27 | 2015-07-08 | Landa Labs 2012 Ltd | Coating apparatus |
EP3417276B1 (en) * | 2016-02-16 | 2021-06-30 | Stichting Het Nederlands Kanker Instituut- Antoni van Leeuwenhoek Ziekenhuis | Method, apparatus and computer program for estimating a property of an optically diffuse medium |
-
2016
- 2016-06-27 FR FR1655951A patent/FR3053126B1/fr active Active
-
2017
- 2017-06-22 EP EP17740056.1A patent/EP3475739A1/fr active Pending
- 2017-06-22 CN CN201780050232.XA patent/CN109564299B/zh active Active
- 2017-06-22 WO PCT/FR2017/051666 patent/WO2018002482A1/fr unknown
- 2017-06-22 MX MX2018016116A patent/MX2018016116A/es unknown
- 2017-06-22 US US16/309,184 patent/US11352691B2/en active Active
- 2017-06-22 CA CA3026711A patent/CA3026711A1/fr active Pending
- 2017-06-22 JP JP2018565723A patent/JP7110121B2/ja active Active
- 2017-06-22 RU RU2019105190A patent/RU2742201C2/ru active
- 2017-06-22 KR KR1020197001513A patent/KR102478575B1/ko active IP Right Grant
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