JP2019513674A - 低下した内部反射率のガラス基材およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
・ O2、Ar、N2および/またはHeの中から選択される原料ガスを提供する操作と、
・ O、Ar、N、および/またはHeの単一電荷イオンと多電荷イオンとの混合物を形成するために原料ガスをイオン化する操作と、
・ 単一電荷イオンと多電荷イオンとの混合物を含むビームを形成するために単一電荷イオンと多電荷イオンとの混合物を加速電圧で加速させる操作であって、加速電圧が15kV〜60kVに含まれ、イオン線量(ion dosage)が1017イオン/cm2〜1018イオン/cm2に含まれる操作と、
・ ガラス基材を提供する操作と、
・ 単一電荷イオンと多電荷イオンとの混合物を含むビームの軌道にガラス基材を置く操作と
を含む二重多孔質表面層を有するガラス基材の製造方法に関する。
SiO2 35〜85%、
Al2O3 0〜30%、
P2O5 0〜20%
B2O3 0〜20%、
Na2O 0〜25%、
CaO 0〜20%、
MgO 0〜20%、
K2O 0〜20%、および
BaO 0〜20%
を有する任意の厚さのガラスシートであってもよい。
イオン注入実施例は、単一電荷イオンおよび多電荷イオンのビームを発生させるためのRCEイオン源を用いて下表に詳述される様々なパラメータに従って調製された。用いられたイオン源は、Quertech Ingenierie S.A.製のHardion+RCEイオン源であった。
Claims (12)
- 以下の操作
a)N2、O2、Ar、および/またはHeから選択される原料ガスを提供する操作と、
b)N、O、Ar、および/またはHeの単一電荷イオンと多電荷イオンとの混合物を形成するために前記原料ガスをイオン化する操作と、
c)単一電荷イオンおよび多電荷イオンのビームを形成するためにNの単一電荷イオンと多電荷イオンとの前記混合物を加速電圧で加速させる操作であって、前記加速電圧が15kV〜60kVに含まれ、イオン線量が1017イオン/cm2〜1018イオン/cm2に含まれる操作と、
d)ガラス基材を提供する操作と、
e)単一電荷イオンおよび多電荷イオンの前記ビームの軌道に前記ガラス基材を置く操作と
を含む、低下した内部反射率のガラス基材の製造方法。 - 前記加速電圧が20kV〜40kVに含まれ、前記イオン線量が2.5×1017イオン/cm2〜7.5×1017イオン/cm2に含まれる請求項1に記載の低下した内部反射率のガラス基材の製造方法。
- 前記加速電圧が30kV〜40kVに含まれ、前記イオン線量が2.5×1017イオン/cm2〜5×1017イオン/cm2に含まれる請求項2に記載の低下した内部反射率のガラス基材の製造方法。
- 提供される前記ガラス基材が、前記ガラスの総重量の重量百分率として表される以下の組成範囲:
SiO2 35〜85%、
Al2O3 0〜30%、
P2O5 0〜20%
B2O3 0〜20%、
Na2O 0〜25%、
CaO 0〜20%、
MgO 0〜20%、
K2O 0〜20%、および
BaO 0〜20%
を有する請求項1〜3のいずれか一項に記載の低下した内部反射率のガラス基材の製造方法。 - 前記ガラス基材が、ソーダ石灰ガラスシート、ホウケイ酸ガラスシートまたはアルミノシリケートガラスシートから選択される請求項4に記載の低下した内部反射率のガラス基材の製造方法。
- 二重多孔質表面層をガラス基材に形成するためのN、O、Ar、および/またはHeの単一電荷イオンと多電荷イオンとの混合物の使用であって、単一電荷イオンと多電荷イオンとの前記混合物が、二重多孔質表面層を前記ガラス基材に形成するのに有効な線量および加速電圧で前記ガラス基材に注入される使用。
- 請求項6に記載の二重多孔質表面層をガラス基材に形成するためのN、O、Ar、および/またはHeの単一電荷イオンと多電荷イオンとの混合物の使用であって、単一電荷イオンと多電荷イオンとの前記混合物が、第1多孔度の上方多孔質表面層と、隣接して、第2多孔度の下方多孔質表面層とを含む二重多孔質表面層を形成するのに有効な線量および加速電圧で前記ガラス基材に注入され、
a)前記上方多孔質表面層が前記基材表面から始まり、深さD2まで下り、
b)前記下方多孔質表面層が深さD2から始まり、深さD1まで下りる
使用。 - 請求項6または7のいずれか一項に記載の二重多孔質表面層をガラス基材に形成するためのN、O、Ar、および/またはHeの単一電荷イオンと多電荷イオンとの混合物の使用であって、単一電荷イオンと多電荷イオンとの前記混合物が、二重多孔質表面層を形成するのに有効な線量および加速電圧で前記ガラス基材に注入され、
a)前記上方多孔質表面層が、21nm〜200nmに含まれる横断面円相当径を有する細孔を含み、
b)前記下方多孔質表面層が、3nm〜10nm以下に含まれる横断面円相当径を有する細孔のみを含む
使用。 - 請求項8に記載の二重多孔質表面層をガラス基材に形成するためのN、O、Ar、および/またはHeの単一電荷イオンと多電荷イオンとの混合物の使用であって、単一電荷イオンと多電荷イオンとの前記混合物が、二重多孔質表面層を形成するのに有効な線量および加速電圧で前記ガラス基材に注入され、前記上方多孔質層の断面積の10〜40%が、21〜200nmに含まれる横断面円相当径を有する細孔で占められている使用。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法によって製造された低下した内部反射率のガラス基材。
- 請求項10に記載のガラス基材を含む電気光学デバイス。
- 前記電気光学デバイスがOLEDデバイスまたは光起電力デバイスである請求項11に記載の電気光学デバイス。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP16164911 | 2016-04-12 | ||
EP16164911.6 | 2016-04-12 | ||
PCT/EP2017/055847 WO2017178166A1 (en) | 2016-04-12 | 2017-03-13 | Glass substrate with reduced internal reflectance and method for manufacturing the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019513674A true JP2019513674A (ja) | 2019-05-30 |
Family
ID=55752202
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018552190A Pending JP2019513674A (ja) | 2016-04-12 | 2017-03-13 | 低下した内部反射率のガラス基材およびその製造方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190119154A1 (ja) |
EP (1) | EP3442923A1 (ja) |
JP (1) | JP2019513674A (ja) |
KR (1) | KR20190116903A (ja) |
CN (1) | CN109641790A (ja) |
EA (1) | EA201892197A1 (ja) |
SG (1) | SG11201808095RA (ja) |
WO (1) | WO2017178166A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3146086B1 (en) * | 2014-05-23 | 2019-10-02 | Quertech | Single- and/or multi-charged gas ion beam treatment method for producing an anti-glare sapphire material |
US10612129B2 (en) * | 2016-06-28 | 2020-04-07 | Corning Incorporated | Thin glass based article with high resistance to contact damage |
KR20210034929A (ko) | 2019-09-23 | 2021-03-31 | 주식회사 엘지화학 | 돌기 구조가 형성된 홀드다운 브라켓을 포함하는 전지팩 |
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JPH0323238A (ja) * | 1989-06-19 | 1991-01-31 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス基材の表面改質法 |
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US20160052821A1 (en) * | 2013-03-28 | 2016-02-25 | Quertech | Ion beam treatment method for producing superhydrophilic glass materials |
WO2016036150A1 (ko) * | 2014-09-05 | 2016-03-10 | 코닝정밀소재 주식회사 | 유기발광소자용 광추출 기판 제조방법, 유기발광소자용 광추출 기판 및 이를 포함하는 유기발광소자 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US8338211B2 (en) * | 2010-07-27 | 2012-12-25 | Amtech Systems, Inc. | Systems and methods for charging solar cell layers |
US8541792B2 (en) * | 2010-10-15 | 2013-09-24 | Guardian Industries Corp. | Method of treating the surface of a soda lime silica glass substrate, surface-treated glass substrate, and device incorporating the same |
WO2014085414A1 (en) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Corning Incorporated | Reduced reflection glass articles and methods for making and using same |
CN107074641B (zh) * | 2014-10-24 | 2020-08-07 | 旭硝子欧洲玻璃公司 | 离子注入方法和离子注入的玻璃基板 |
-
2017
- 2017-03-13 EP EP17710535.0A patent/EP3442923A1/en not_active Withdrawn
- 2017-03-13 US US16/092,533 patent/US20190119154A1/en not_active Abandoned
- 2017-03-13 SG SG11201808095RA patent/SG11201808095RA/en unknown
- 2017-03-13 EA EA201892197A patent/EA201892197A1/ru unknown
- 2017-03-13 CN CN201780022707.4A patent/CN109641790A/zh active Pending
- 2017-03-13 JP JP2018552190A patent/JP2019513674A/ja active Pending
- 2017-03-13 KR KR1020187032643A patent/KR20190116903A/ko not_active Application Discontinuation
- 2017-03-13 WO PCT/EP2017/055847 patent/WO2017178166A1/en active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2017178166A1 (en) | 2017-10-19 |
KR20190116903A (ko) | 2019-10-15 |
US20190119154A1 (en) | 2019-04-25 |
EP3442923A1 (en) | 2019-02-20 |
EA201892197A1 (ru) | 2019-04-30 |
CN109641790A (zh) | 2019-04-16 |
SG11201808095RA (en) | 2018-10-30 |
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