JP2019513672A - 反射防止、耐引掻性ガラス基板およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
・N2供給源ガスを提供すること、
・供給源ガスをイオン化し、Nの単電荷イオンおよび多電荷イオンの混合物を形成すること、
・加速電圧によって、Nの単電荷イオンおよび多電荷イオンの混合物を加速し、単電荷イオンおよび多電荷イオンのビームを形成することであって、この加速電圧が15kV〜30kVに含まれ、かつイオン線量が5×1016〜1017イオン/cm2に含まれること、
・ガラス基板を提供すること、
・単電荷イオンおよび多電荷イオンのビームの軌道にガラス基板を配置すること
を含む、反射防止、耐引掻性ガラス基板の製造方法に関する。
SiO2 35〜85%、
Al2O3 0〜30%、
P2O5 0〜20%、
B2O3 0〜20%、
Na2O 0〜25%、
CaO 0〜20%、
MgO 0〜20%、
K2O 0〜20%、および
BaO 0〜20%
を有するいずれの厚さのガラスシートであってよい。
以下の表中に詳述された種々のパラメーターに従って、単電荷および多電荷イオンのビームを発生するためにRCEイオン供給源を使用して、イオン注入実施例を調製した。使用されたイオン供給源は、Quertech Ingenierie S.A.からのHardion+RCEイオン供給源であった。
Claims (18)
- 以下の操作:
a)N2供給源ガスを提供すること、
b)前記供給源ガスをイオン化し、Nの単電荷イオンおよび多電荷イオンの混合物を形成すること、
c)加速電圧によって、Nの単電荷イオンおよび多電荷イオンの前記混合物を加速し、単電荷イオンおよび多電荷イオンのビームを形成することであって、前記加速電圧が20kV〜30kVに含まれ、かつイオン線量が5×1016イオン/cm2〜1017イオン/cm2に含まれること、
d)ガラス基板を提供すること、
e)単電荷イオンおよび多電荷イオンの前記ビームの軌道に前記ガラス基板を配置すること
を含む、反射防止、耐引掻性ガラス基板の製造方法。 - 前記加速電圧が22kV〜28kVに含まれ、かつ前記イオン線量が6×1016イオン/cm2〜9×1016イオン/cm2に含まれる、請求項1に記載の反射防止、耐引掻性ガラス基板の製造方法。
- 前記加速電圧が22kV〜26kVに含まれ、かつ前記イオン線量が8×1016イオン/cm2〜9×1016イオン/cm2に含まれる、請求項2に記載の反射防止、耐引掻性ガラス基板の製造方法。
- 提供された前記ガラス基板が、ガラスの全重量の重量パーセントとして表される、以下の組成範囲:
SiO2 35〜85%、
Al2O3 0〜30%、
P2O5 0〜20%、
B2O3 0〜20%、
Na2O 0〜25%、
CaO 0〜20%、
MgO 0〜20%、
K2O 0〜20%、および
BaO 0〜20%
を有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の反射防止、耐引掻性ガラス基板の製造方法。 - 前記ガラス基板が、ソーダライムガラスシート、ボロシリケートガラスシートまたはアルミノシリケートガラスシートから選択される、請求項4に記載の反射防止、耐引掻性ガラス基板の製造方法。
- ガラス基板の反射率を減少させるため、かつ同時に、前記ガラス基板の耐引掻性を維持または増加させるための、Nの単電荷および多電荷イオンの混合物の使用であって、前記ガラス基板の反射率を減少させるため、かつ同時に、未処理のガラス基板の臨界負荷に関する耐引掻性の100%〜135%に含まれる臨界負荷に関する耐引掻性を得るために有効なイオン線量および加速電圧で、Nの単電荷および多電荷イオンの前記混合物が前記ガラス基板中で注入される、使用。
- 単電荷および多電荷イオンの前記混合物が、前記ガラス基板の反射率を高くても6.5%まで減少させるために有効なイオン線量および加速電圧で前記ガラス基板中で注入される、請求項6に記載のガラス基板の反射率を減少させるため、かつ同時に、前記ガラス基板の耐引掻性を維持または増加させるための、Nの単電荷および多電荷イオンの混合物の使用。
- 単電荷および多電荷イオンの前記混合物が、前記ガラス基板の反射率を高くても6%まで減少させるために有効なイオン線量および加速電圧で前記ガラス基板中で注入される、請求項7に記載のガラス基板の反射率を減少させるため、かつ同時に、前記ガラス基板の耐引掻性を維持または増加させるための、Nの単電荷および多電荷イオンの混合物の使用。
- 単電荷および多電荷イオンの前記混合物が、前記ガラス基板の反射率を高くても5%まで減少させるために有効なイオン線量および加速電圧で前記ガラス基板中で注入される、請求項8に記載のガラス基板の反射率を減少させるため、かつ同時に、前記ガラス基板の耐引掻性を維持または増加させるための、Nの単電荷および多電荷イオンの混合物の使用。
- 単電荷および多電荷イオンの前記混合物が、未処理のガラス基板の臨界負荷に関する耐引掻性の105%〜135%に含まれる臨界負荷に関する耐引掻性を得るために有効なイオン線量および加速電圧で前記ガラス基板中で注入される、請求項6〜9のいずれか一項に記載のガラス基板の反射率を減少させるため、かつ同時に、前記ガラス基板の耐引掻性を増加させるための、Nの単電荷および多電荷イオンの混合物の使用。
- 前記加速電圧が20kV〜30kVに含まれ、かつ前記イオン線量が5×1016イオン/cm2〜1017イオン/cm2に含まれる、請求項6〜10のいずれか一項に記載のガラス基板の反射率を減少させるため、かつ同時に、前記ガラス基板の耐引掻性を維持または増加させるための、Nの単電荷および多電荷イオンの混合物の使用。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法によって製造された、反射防止、耐引掻性ガラス基板。
- 請求項12に記載の反射防止、耐引掻性ガラス基板を含む、モノリシックグレイジング、ラミネーテッドグレイジング、またはガス層が挿入されたマルチプルグレイジング。
- サンシールド、熱吸収、反紫外線、帯電防止、低放出性、加熱、反汚染、セキュリティー、盗難防止、防音、防火、反ミスト、防水、抗菌またはミラー手段をさらに含む、請求項13に記載のグレイジング。
- 前記反射防止、耐引掻性ガラス基板が、フロスティング、印刷またはスクリーンプロセス印刷されている、請求項13または14に記載のグレイジング。
- 前記基板が、着色されたか、焼戻しされたか、強化されたか、曲げられたか、畳まれたか、または紫外線フィルタリングである、請求項13〜15のいずれか一項に記載のグレイジング。
- ポリマーアセンブリシートから離れて面するイオン注入処理面を有する本発明の反射防止、耐引掻性ガラス基板と、別のガラス基板との間に挿入されたポリマー型アセンブリシートを含むラミネーテッド構造を有する、請求項13〜16のいずれか一項に記載のグレイジング。
- 前記グレイジングが自動車用ウインドシールドである、請求項17に記載のグレイジング。
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