JP2017531609A - イオン注入方法およびイオン注入されたガラス基材 - Google Patents
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Abstract
Description
SiO2 55〜85%
Al2O3 0〜30%
B2O3 0〜20%
Na2O 0〜25%
CaO 0〜20%
MgO 0〜15%
K2O 0〜20%
BaO 0〜20%
全鉄(Fe2O3として表される) 0.002〜0.1%。
1.一価および多価イオン(2つ以上の正電荷を有するイオン)を同時に生成するイオン源により、正に帯電したイオンが生成される。このようなイオン源の1つは、たとえば電子サイクロトロン共鳴(RCE)イオン源であり、
2.ビームのイオンは、Ar、N、およびHeのイオンから選択される。イオン源によって同時に生成される一価および多価イオンがビームのイオンを構成し、
3.イオン加速電圧は、5〜200kVに含まれる値に設定され、
4.ビーム出力は、1W〜500Wに含まれる値に設定され、
5.単位表面積当たりのイオン線量は、1012イオン/cm2〜1018イオン/cm2、好ましくは1014イオン/cm2〜2.5×1017イオン/cm2に含まれる値に設定される。
Claims (11)
- Nの一価および多価イオンの注入により、ガラス基材の耐擦傷性を向上させる方法であって、
− 処理される前記ガラス基材の領域の温度を、前記ガラス基材のガラス転移温度以下である温度に維持するステップと、
− 前記イオンを抽出するための加速電圧を25kV〜60kVに含まれる値に設定するステップと、
− イオン線量を1014イオン/cm2〜1017イオン/cm2に含まれる値に設定するステップと
を含む方法。 - 前記加速電圧が25kV〜35kVに含まれる値、好ましくは35kVに設定される、請求項1に記載の方法。
- 前記イオン線量が5.0×1014イオン/cm2〜1017イオン/cm2、好ましくは2.5×1015イオン/cm2〜1017イオン/cm2、好ましくは2.5×1015イオン/cm2〜5×1016イオン/cm2に含まれる値に設定される、請求項2に記載の方法。
- 前記ガラス基材がソーダ石灰ガラスおよびアルミノケイ酸塩ガラスから選択される、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の一価および多価イオンの注入によって処理された領域を含むガラス基材。
- 機械的接触時の前記ガラス基材上の擦傷の可能性を低下させるために、イオン濃度Δ/Dが少なくとも4.5μm−1であり、かつ21.3μm−1未満である窒素イオン注入ゾーンを含むガラス基材の使用。
- 前記イオン濃度Δ/Dが少なくとも4.5μm−1であり、かつ16.5μm−1未満である、請求項6に記載のガラス基材の使用。
- 前記イオン濃度Δ/Dが4.5μm−1〜7.7μm−1に含まれる、請求項6に記載のガラス基材の使用。
- 前記イオン濃度Δ/Dが5μm−1〜6μm−1に含まれる、請求項6に記載のガラス基材の使用。
- ガラス基材の使用であって、前記ガラス基材は、機械的接触時の前記ガラス基材上の擦傷の可能性を低下させるために、
− 処理される前記ガラス基材の領域の温度を、前記ガラス基材のガラス転移温度以下である温度に維持するステップと、次に、
− 注入されるイオンをN、Ar、およびHeのイオンから選択するステップと、
− 前記イオンを抽出するための加速電圧を15kV〜60kVに含まれる値に設定するステップと、
− イオン線量を、前記注入されるイオンがNのイオンである場合には1014イオン/cm2〜1017イオン/cm2に含まれ、前記注入されるイオンがArのイオンである場合には7.5×1016イオン/cm2〜2.5×1017イオン/cm2に含まれ、前記注入されるイオンがHeのイオンである場合には1015イオン/cm2〜5×1016イオン/cm2に含まれる値に設定するステップと
により、一価および多価イオンが注入されている、ガラス基材の使用。 - 前記ガラス基材が、建築用窓ガラス、自動車用窓ガラス、家具、白物家電、シャワーパーティション、スクリーン、ディスプレイ、構造用グレージング、バーコードスキャナ、および時計のためのガラスである、請求項6〜10のいずれか一項に記載のガラス基材の使用。
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