JP2019510989A - 反射減少構造及びその製造方法、ディスプレイ装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
フレキシブルディスプレイ装置は、内部の金属配線等による外光の反射を減少させるために、表示パネルの外部に貼り付けた偏光板を反射減少構造として使用するのが一般的であるが、このような反射減少構造は厚さが大きく、例えば、一般的に使用される偏光板の厚さが100〜150μmであり、位相差フィルム(Phase Retardation Film)の厚さが20〜100μmであるため、両方で構成された反射減少構造の全厚さが120〜250μmになっている。明らかなように、当該構造の使用によって、フレキシブルディスプレイ装置の厚さが増大し、それによってフレキシブルディスプレイ装置が重くなってしまい、軽量・薄型の特徴を失い、フレキシブルディスプレイ装置に不適である。
本発明の少なくとも一実施例はさらに、アレイ基板と前記アレイ基板に対向して設置される対向基板を含む表示パネルと、前記アレイ基板と前記対向基板との間に設置され、又は前記対向基板における前記アレイ基板との反対側に位置する前記反射減少構造とを備えたディスプレイ装置を提供する。
本発明の少なくとも一実施例はさらに、互いに対向したアレイ基板及び対向基板を含む表示パネルを用意するステップと、反射減少構造を製造するステップとを含むディスプレイ装置の製造方法を提供する。
反射減少構造を製造するステップは、前記有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板、又は前記対向基板上には、位相差フィルム、第1配向層及び直線偏光板を形成するステップを含み、前記第1配向層は前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し、前記位相差フィルムと前記直線偏光板とは液晶を含む。
基板を準備するステップと、
前記基板上に位相差フィルム、第1配向層及び直線偏光板を形成するステップとを含み、
前記第1配向層は前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し、前記位相差フィルムと前記直線偏光板は液晶を含む反射減少構造の製造方法を提供する。
特に定義しない限り、使用される技術用語又は科学用語は、当業者が理解する一般的な意味である。本開示に使用される「第1」、「第2」及び類似する用語は順番、数又は重要性を示すのではなく、異なる構成要素を区別するものに過ぎない。同様に、「一つ」、「一」又は「当該」のような用語も数を制限するものではなく、少なくとも一つあることを意味する。「含む」又は「備える」のような用語は当該用語前に現れた素子又はデバイスが当該用語後に現れる素子又はデバイス及びその同等物を意味し、且つほかの素子又はデバイスを排除しない。「接続」又は「連結」のような用語は物理的又は機械的接続に限定されず、直接か間接に関わらず電気的接続を含む。「上方」、「下方」、「左方」、「右方」等は相対位置関係を示すものに過ぎず、説明する対象の絶対位置が変わると、当該相対位置関係も変わる。
本発明の少なくとも一実施例は、反射減少構造及びその製造方法、ディスプレイ装置及び当該ディスプレイ装置の製造方法を提供する。当該反射減少構造は順に、位相差フィルムと、当該位相差フィルムの透過側に設置された第1配向層と、当該第1配向層の透過側に設置された直線偏光板とを含み、前記位相差フィルムと前記直線偏光板は液晶を含む。フレキシブルディスプレイパネルの外部に貼り付けた従来の反射減少構造に比べて、本発明の実施例に係る反射減少構造は、厚さを大幅に減少させ、さらに当該反射減少構造を用いたディスプレイ装置は極薄ディスプレイを実現できる。更に、本発明の実施例では、反射減少構造を薄型化させると同時に、高偏光度を実現するために、本発明の実施例に係る反射減少構造はさらに、偏光度向上に悪影響を与える光を遮断する光遮断層を提供することによって、厚さを減少させる同時に、高偏光度が得られる。
以下、図面をもって本発明の実施例に係る反射減少構造及びその製造方法、ディスプレイ装置及び当該ディスプレイ装置の製造方法を詳細に説明し、本発明の技術案をより明瞭にする。
なお、透過側は表示光に対応するものであり、表示光の透過方向に位置する側を意味し、それに対して下記の入射側は表示光の入射方向に位置する側を意味し、図1に示すように、L1は表示光の透過方向をマークする。
例えば、直線偏光板104は1質量%〜20質量%の二色性染料、75質量%〜95質量%の重合性液晶7及び0.1質量%〜5質量%の光開始剤を含む。予備案として、二色性染料、重合性液晶及び光開始剤のそれぞれの含有量は、10%、87.5%及び2.5%である。
例えば、位相差フィルム102は75重量%〜99.5重量%の重合性液晶と0.5重量%〜25重量%の光開始剤とを含む。
例えば、第1配向層103は位相差フィルム102を配向するように構成される場合は、反射減少構造はさらに、直線偏光板104の透過側に設置され直線偏光板104を配向するように構成される第2配向層109を含む。予備案として、第1配向層103も直線偏光板104を配向するように構成されてもよく、この場合は、反射減少構造101は、位相差フィルム102の入射側に設置され位相差フィルム102を配向するように構成される第3配向層130を含む。
例えば、第1配向層103、第2配向層109、第3配向層130の厚さはそれぞれ0.05μm〜0.15μmの厚さ範囲内にあり、例えば、いずれも0.1μmとしてもよい。
例えば、直線偏光板104の厚さは2.5μm〜3.5μm、例えば、3μmである。
例えば、位相差フィルム102の厚さは1.5μm〜2.5μm、例えば、2μmである。
例えば、光遮断層108の厚さは0.06μm〜0.08μm、例えば、0.07μmである。
このように、光遮断層108を提供し、そのフィルタ作用により偏光度を大幅に向上させることによって、厚さを減少させると同時に、高偏光度を有する反射減少構造を実現するため、ディスプレイ装置によく適用され、極薄フレキシブルディスプレイを実現できる。
なお、本発明の実施例に係る位相差フィルムはλ/4波長板であってもよく、λは可視光波長の平均値を取り、又は当業者が必要に応じて設定すればよく、本発明の実施例ではそれについて限定されない。
なお、透過側は表示光に対応するものであり、表示光の透過方向に位置する側を意味し、それに対して下記入射側は表示光の入射方向に位置する側を意味し、図1に示すように、L1は表示光の透過方向をマークする。
例えば、直線偏光板104は1質量%〜20質量%の二色性染料、75質量%〜95質量%の重合性液晶7及び0.1質量%〜5質量%の光開始剤を含む。予備案として、二色性染料、重合性液晶及び光開始剤のそれぞれの含有量は、10%、87.5%及び2.5%である。
予備案として、本発明の実施例に係る反射減少構造はさらに、直線偏光板の透過側に設置され特定波長範囲の光を遮断するように構成される光遮断層を備える。予備案として、光遮断層108は第2配向層109の透過側に設置されてもよい。
例えば、直線偏光板104の厚さは2.5μm〜3.5μm、例えば、3μmである。
例えば、位相差フィルム102の厚さは1.5μm〜2.5μm、例えば、2μmである。
例えば、光遮断層108の厚さは0.06μm〜0.08μm、例えば、0.07μmである。
例えば、光遮断層108は特定波長範囲の光、例えば、波長範囲650nm〜780nmの光を遮断するように構成され、好ましくは、波長範囲700nm〜780nmの光を遮断するように構成される。このように、全ての赤外光ではなく一部の赤外光を遮光することによって、表示を損なわずに偏光度を大幅に向上できる。
例えば、当該高屈折率層は窒化ケイ素層であり、当該低屈折率層は酸化ケイ素層であり、つまり、光遮断層108は交互に設置された複数の窒化ケイ素層と複数の酸化ケイ素層を含む。例えば、プラズマ気相堆積(PECVD)方法を用いて窒化ケイ素層と酸化ケイ素層を交互に堆積する。ここで、窒化ケイ素層を堆積するための反応ガスをSiH4、NH3及びN2の混合ガスとしてもよく、例えば、当該混合ガスにおいて、SiH4、NH3及びN2の流量比は16:4:1であり、酸化ケイ素層を堆積する反応ガスをSiH4、NO2及びN2の混合ガスとしてもよく、例えば、当該混合ガスにおいて、SiH4、NH3及びN2の流量比は40:4:1である。実際に、反応時間を制御することで膜層の厚さを制御し、反応ガスのガス通路の開閉により複数の膜を交互に堆積できる。
本発明の実施例に係る反射減少構造では、直線偏光板と位相差フィルムとはいずれも液晶材料を用いて例えば塗布方法により形成されるものであり、このように、従来のディスプレイ装置用の反射減少構造に比べて、反射減少構造は厚さを大幅に減少させ、且つ波長範囲が650nm〜780nmの光を遮断する光遮断層をさらに備えることにより、反射減少構造の偏光度に悪影響を与える光の全部又は一部を遮断し、反射減少構造の偏光度を大幅に向上させ、例えば、反射減少構造の偏光度は60%から99.7%まで向上し、それによって、厚さを大幅に減少させるとともに偏光度を大幅に向上させる反射減少構造が実現され、この反射減少構造が極薄フレキシブルディスプレイに適用できる。
例えば、本実施例に係る反射減少構造の製造方法は、
基板を準備するステップと、
基板上に位相差フィルム、第1配向層及び直線偏光板を形成するステップとを含み、
第1配向層は位相差フィルムと直線偏光板との間に位置し、位相差フィルムと直線偏光板とは液晶を含む。
予備案として、本実施例に係る反射減少構造の製造方法において、基板上に位相差フィルム、第1配向層及び直線偏光板を形成するステップは、基板上に直線偏光板を形成するステップと、直線偏光板上に第1配向層を形成するステップと、第1配向層上に位相差フィルムを形成するステップとを含む。
更に、上記の位相差フィルム、配向層、直線偏光板を形成する例示的なステップは下記の実施例5のディスプレイ装置の製造方法を参照すればよく、ここで詳細な説明を省略する。
当業者は、ここで説明した各部材の製造方法は各ステップの実施順番を変更すれば、実施例2の前記反射減少構造の製造にも適用でき、便宜上、詳細な説明を省略する。
なお、透過側は表示光に対応するものであり、表示光の透過方向に位置する側を意味し、それに対して下記の入射側は表示光の入射方向に位置する側を意味し、図2に示すように、L1は表示光の透過方向をマークする。
例えば、直線偏光板104は1質量%〜20質量%の二色性染料、75質量%〜95質量%の重合性液晶7及び0.1質量%〜5質量%の光開始剤を含む。予備案として、二色性染料、重合性液晶及び光開始剤のそれぞれの含有量は、10%、87.5%及び2.5%である。
例えば、液晶材料を含む直線偏光板104が一方向の偏光光を透過させ、これに直交する方向における偏光光を吸収するようにするために、形成過程において配向する必要があり、且つ液晶材料を含む位相差フィルム102も形成過程において配向する必要がある。予備案として、直線偏光板104と位相差フィルム102とは、両者の間における第1配向層103を用いて配向し、又は、直線偏光板104と位相差フィルム102とはそれぞれ異なる配向層を用いて配向してもよい。
例えば、直線偏光板104の厚さは2.5μm〜3.5μm、例えば、3μmである。
例えば、位相差フィルム102の厚さは1.5μm〜2.5μm、例えば、2μmである。
例えば、光遮断層108の厚さは0.06μm〜0.08μm、例えば、0.07μmである。
例えば、本発明の実施例に係る反射減少構造の一例では、例えば、当該反射減少構造は順に、位相差フィルム、第1配向層、直線偏光板、第2配向層及び光遮断層を含み、光遮断層108の厚さが例えば0.07μm、2つの配向層のいずれの厚さが例えば0.1μm、直線偏光板104の厚さが例えば3μm、位相差フィルム103の厚さが例えば2μmである場合は、反射減少構造の全厚さが5.27μmとなり、10μm未満である。厚さが約120〜250μmの従来の反射減少構造に比べて、厚さは大幅に減少し、且つ当該構造を備えた反射減少構造は、偏光度が99.7%まで向上でき、極薄ディスプレイの実現に役立つ。
図6には、反射減少構造の偏光度と入射光波長との関係が示され、図面において、横座標が入射光波長を示し、縦座標が偏光度(DOP)を示し、ラインLine1が測定された従来の表示パネルの外部に貼り付けた量産反射減少構造の偏光度と入射光波長との関係を示し、ラインLine2が測定された発明の実施例に係る光遮断層を備えていない反射減少構造の偏光度と入射光波長との関係を示す。図6から明なように、本発明の実施例に係る光遮断層を備えていない反射減少構造は、入射光の波長範囲が380nm〜780nmである時、平均偏光度が僅か60%となり、380nm〜650nm25である場合は、平均偏光度が1に近づき、約99.75%となり、入射光の波長が650nmより大きい場合は、偏光度が急激に降下する。以上から明らかなように、波長が650nm〜780nmの光は反射減少構造の偏光度を大きく損ない、従って、本発明の実施例に係る光遮断層108は650nm〜780nm範囲の光を遮断するように構成されることにより、偏光度を向上させる。
このように、光遮断層108を提供し、そのフィルタ作用により偏光度を大幅に向上させることによって、厚さを減少させると同時に、高偏光度を有する反射減少構造を実現するため、ディスプレイ装置によく適用され、極薄フレキシブルディスプレイを実現できる。
例えば、当該高屈折率層は窒化ケイ素層であり、当該低屈折率層は酸化ケイ素層であり、つまり、光遮断層108は交互に設置された複数の窒化ケイ素層と複数の酸化ケイ素層を含む。例えば、プラズマ気相堆積(PECVD)方法を用いて窒化ケイ素層と酸化ケイ素層を交互に堆積する。ここで、窒化ケイ素層を堆積するための反応ガスをSiH4、NH3及びN2の混合ガスとしてもよく、例えば、当該混合ガスにおいて、SiH4、NH3及びN2の流量比は16:4:1であり、酸化ケイ素層を堆積する反応ガスをSiH4、NO2及びN2の混合ガスとしてもよく、例えば、当該混合ガスにおいて、SiH4、NH3及びN2の流量比は40:4:1である。実際に、反応時間を制御することで膜層の厚さを制御し、反応ガスのガス通路の開閉により複数の膜を交互に堆積できる。
なお、本発明の実施例に係る位相差フィルムはλ/4波長板であってもよく、λは可視光波長の平均値を取り、又は当業者が必要に応じて設定すればよく、本発明の実施例ではそれについて限定されない。
有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板、又は対向基板上には、位相差フィルムを形成するステップと、
位相差フィルム上に第1配向層を形成するステップと、
第1配向層上に直線偏光板を形成するステップとを含む。
更に、反射減少構造を製造するステップはさらに、直線偏光板上に光遮断層を形成するステップを含む。
予備案として、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板、又は対向基板上に、位相差フィルムを形成するステップは、
第2配向層上に重合性液晶と光開始剤とを含む第2材料層を塗布するステップと、
第2材料層を配向して硬化させるステップとを含む。
本発明の実施例によれば、反射減少構造を製造する際、第1配向層上に直線偏光板を形成するステップは、第1配向層上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第1材料層を塗布するステップと、第1材料層を配向して硬化させるステップとを含む。
更に、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板に反射減少構造を形成する際に、反射減少構造を製造する前に、本発明の実施例に係るディスプレイ装置の製造方法はさらに、前記有機発光ダイオードと前記薄膜トランジスタが形成されたベース基板上に平坦化層を形成し、続いて形成される反射減少構造を平坦化層に形成するステップを含んでもよい。
以下、図8a〜8eを参照して本実施例に係るディスプレイ装置の製造方法を例示的に説明し、ここで、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板上に反射減少構造が形成されることを例とし、図8a〜8eには、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板上に、反射減少構造を製造する各ステップを実施した断面図が示される。
図8aに示すように、反射減少構造が形成される予定のベース基板105上に、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとを含む複数の画素ユニット106を形成する。
図8bに示すように、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板105上に平坦化層110を形成するステップと、
続いて、図8cに示すように、平坦化層110上に、例えばポリイミド材料を用いて第2配向層109を形成し、当該第2配向層109に対し摩擦配向を行うステップと、
続いて、第2配向層109上に位相差フィルム102を形成するステップとを含んでもよい。
例えば、位相差フィルム102を形成するステップは、第2配向層109上に重合性液晶と光開始剤とを含む第2材料層を塗布し、当該第2材料層を配向して硬化させ、例えば、紫外線(UV光)で前記第2材料層を配向して硬化させるステップと、
次に、図8dに示すように、第1配向層103上に直線偏光板104を形成するステップとを含んでもよい。
例えば、直線偏光板104を形成するステップは、第1配向層103上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第1材料層を塗布し、当該第2材料層を配向して硬化させ、例えば、紫外線(UV光)で前記第2材料層を配向して硬化させるステップと、
例えば、第1材料層は、1質量%〜20質量%の二色性染料、75質量%〜95質量%の重合性液晶及び0.1質量%〜5質量%の光開始剤を含む。予備案として、二色性染料、重合性液晶及び光開始剤の含有量はそれぞれ10%、87.5%、2.5%である。
例えば、直線偏光板104上に光遮断層108を形成するステップは、プラズマ気相堆積(PECVD)を用いて複数の高屈折率層と複数の低屈折率層とを交互に堆積するステップを含んでもよく、例えば、当該高屈折率層は窒化ケイ素層であり、窒化ケイ素層を堆積するための反応ガスはSiH4、NH3及びN2の混合ガスであり、当該低屈折率層は酸化ケイ素層であり、酸化ケイ素層を堆積するための反応ガスはSiH4、NO2及びN2の混合ガスである。
ステップS71、有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板上に平坦化層を形成する。
ステップS72、平坦化層が形成されたベース基板上に第2配向層を形成し、第2配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップS73、第2配向層上に重合性液晶と光開始剤とを含む第2材料層を塗布して、第2材料層を配向して硬化させ、位相差フィルムを得る。
ステップS74、位相差フィルム上に第1配向層を形成して、第1配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップS75、第1配向層上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第1材料層を塗布し、第1材料層を配向して硬化させて直線偏光板を形成する。
ステップS76、直線偏光板上に光遮断層を形成する。
なお、以上の例では、反射減少構造を前記ベース基板上に形成した後に、有機発光ダイオード、薄膜トランジスタ及び反射減少構造が形成されたベース基板と、その他の必要な部材が形成された対向基板とを組み合わせて、反射減少構造がアレイ基板と対向基板との間に位置する表示パネルを得る。
図11には、対向基板におけるアレイ基板との反対側に反射減少構造を形成するフローチャートが示され、下記のステップを含む。
ステップS81、対向基板上に第2配向層を形成し、第2配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップS82、第2配向層上に重合性液晶と光開始剤とを含む第2材料層を塗布し、第2材料層を配向して硬化させて、位相差フィルムを得る。
ステップS83、位相差フィルム上に第1配向層を形成して、第1配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップS84、第1配向層上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第1材料層を塗布し、第1材料層を配向して硬化させて直線偏光板を形成する。
ステップS85、直線偏光板上に光遮断層を形成する。当該光遮断層の形成過程は上記の例を参照すればよいため、ここで詳細な説明を省略する。
ステップS86、光遮断層上に保護層を形成する。
例えば、第1配向層103、位相差フィルム102、第2配向層109、光遮断層108、直線偏光板104の厚さ範囲、光遮断層108の具体的な形成方法は実施例2を参照すればよく、ここで詳細な説明を省略する。
対向基板上に直線偏光板を形成するステップと、
直線偏光板上に第1配向層を形成するステップと、
第1配向層上に位相差フィルムを形成するステップとを含む。
さらに、対向基板上に直線偏光板を形成するステップは、第2配向層上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第2材料層を塗布するステップと、第2材料層を配向して硬化させるステップとを含んでもよい。
さらに、第1配向層上に位相差フィルムを形成するステップは、第1配向層上に重合性液晶と光開始剤とを含む第1材料層を塗布するステップと、第1材料層に対し配向硬化を行うステップとを含んでもよい。
更に、対向基板上に直線偏光板を形成する前に、反射減少構造を製造するステップはさらに、対向基板上に光遮断層を形成するステップを含んでもよい。
例えば、当該光遮断層は第2配向層と対向基板との間又は直線偏光板と対向基板との間に位置する。
例えば、当該光遮断層108はプラズマ気相堆積法を用いて複数の高屈折率層と複数の低屈折率層を交互に堆積して形成される。例えば、当該高屈折率層は窒化ケイ素層であり、当該窒化ケイ素層を堆積するための反応ガスはSiH4、NH3及びN2の混合ガスであり、例えば、当該混合ガスにおいて、SiH4、NH3及びN2の流量比は16:4:1であり、当該低屈折率層は酸化ケイ素層であり、当該酸化ケイ素層を堆積するための反応ガスはSiH4、NO2及びN2の混合ガスであり、例えば、当該混合ガスにおいて、SiH4、NH3及びN2の流量比は40:4:1である。
なお、直線偏光板104を形成するステップの例、第1配向層103を形成するステップの例、位相差フィルム102を形成するステップの例は実施例2での対応する説明を参照すればよく、便宜上、詳細な説明を省略する。
ステップS91、対向基板上に光遮断層を形成する。
ステップS92、光遮断層が形成された対向基板上に第2配向層を形成し、第2配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップS93、第2配向層上に二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含む第2材料層を塗布して、第2材料層を配向して硬化させて直線偏光板を形成する。
ステップS94、直線偏光板上に第1配向層を形成し、第1配向層に対し摩擦配向を行う。
ステップS95、第1配向層上に重合性液晶と光開始剤とを含む第1材料層を塗布し、第1材料層を配向して硬化させ、位相差フィルムを得る。
なお、反射減少構造を形成する前に、対向基板上にOELD表示パネルの一部の部材を形成してもよく、例えば、OLED表示パネルがWOLED〜COA(ホワイトOLED及びカラーフィルタアレイ)方式であれば、対向基板上に赤色と緑色と青色の三種類の色のカラーフィルタを形成し、予備案として、まずカラーフィルタを形成し、次に反射減少構造を形成し、又はまず反射減少構造を形成し、次にカラーフィルタ等を形成してもよく、本発明の実施例ではこれについて限定されない。
本発明の実施例に係る反射減少構造、ディスプレイ装置及びその製造方法によれば、本発明の実施例に係る外光反射軽減用の反射減少構造において、当該反射減少構造は液晶材料で製造された位相差フィルムと直線偏光板とを含み、このように塗布等の方法によって位相差フィルム、直線偏光板及び配向層を形成することができ、従って、従来の例えば貼り付けにより表示パネルの外部に設置された反射減少構造に比べて、本発明の実施例に係る反射減少構造は厚さを大幅に減少させ、さらに当該反射減少構造を用いたディスプレイ装置は極薄ディスプレイを実現できる。更に、本発明の実施例では、反射減少構造を薄型化させると同時に、高偏光度が得られ、さらに、偏光度向上に悪影響を及ぼす光を遮断する光遮断層を提供することにより、厚さを減少させると同時に、高偏光度を得る。従って、当該反射減少構造を用いたディスプレイ装置は、内部部材による外光の反射を効果的に減少させることによって、画像表示のコントラストを大幅に向上させ、且つ厚さを大幅に減少させると同時に、偏光度を向上させる。
本願は2016年1月28日に提出した中国特許出願第201610061301.4号に基づき優先権を主張し、ここで、当該中国特許出願の全内容を援用して本願の一部として組み込まれる。
102 位相差フィルム
103 第1配向層
104 直線偏光板
105 ベース基板
106 画素ユニット
107 対向基板
108 光遮断層
109 第2配向層
110 平坦化層
111 アレイ基板
120 保護層
130 第3配向層
Claims (21)
- 反射減少構造であって、
位相差フィルムと、
前記位相差フィルムの一側に設置される直線偏光板と、
前記位相差フィルム及び前記直線偏光板を配向するように構成される少なくとも一つの配向層とを備え、
前記位相差フィルムと前記直線偏光板とは液晶を含むことを特徴とする反射減少構造。 - 前記少なくとも一つの配向層は、前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し前記位相差フィルム及び前記直線偏光板を配向するように構成される第1配向層を含むことを特徴とする請求項1に記載の反射減少構造。
- 前記直線偏光板は二色性染料、重合性液晶及び光開始剤を含み、前記位相差フィルムは重合性液晶と光開始剤を含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の反射減少構造。
- 前記直線偏光板において、前記二色性染料の質量百分率が1%〜20%、前記重合性液晶の質量百分率が75%〜95%、前記光開始剤の質量百分率が0.1%〜5%であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射減少構造。
- 前記直線偏光板における前記位相差フィルムとの反対側に設置され且つ特定波長範囲の光を遮断するように構成される光遮断層をさらに備えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の反射減少構造。
- 前記光遮断層は波長範囲が650nm〜780nmの光を遮断するように構成されることを特徴とする請求項5に記載の反射減少構造。
- 前記光遮断層は波長範囲が700nm〜780nmの光を遮断するように構成されることを特徴とする請求項6に記載の反射減少構造。
- 前記少なくとも一つの配向層は、
前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し前記直線偏光板を配向するように構成される第1配向層と、
前記位相差フィルムにおける前記直線偏光板との反対側に位置し前記位相差フィルムを配向するように構成される第2配向層とを含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の反射減少構造。 - 前記少なくとも一つの配向層は、
前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し前記位相差フィルムを配向するように構成される第1配向層と、
前記直線偏光板における前記位相差フィルムとの反対側に位置し前記直線偏光板を配向するように構成される第2配向層とを含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の反射減少構造。 - 前記少なくとも一つの配向層は、
前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し前記位相差フィルムを配向するように構成される第1配向層と、
前記直線偏光板と前記光遮断層との間に設置され前記直線偏光板を配向するように構成される第2配向層とを含むことを特徴とする請求項5〜7のいずれか1項に記載の反射減少構造。 - 前記光遮断層は交互に設置された複数の高屈折率層と複数の低屈折率層とを含むことを特徴とする請求項5〜10のいずれか1項に記載の反射減少構造。
- 前記複数の高屈折率層のそれぞれは窒化ケイ素層であり、前記複数の低屈折率層のそれぞれは酸化ケイ素層であることを特徴とする請求項11に記載の反射減少構造。
- 前記複数の高屈折率層のそれぞれは厚さが同じでも異なってもよく、前記複数の低屈折率層のそれぞれは厚さが同じでも異なってもよいことを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の反射減少構造。
- 前記少なくとも一つの配向層は、
前記位相差フィルムにおける前記直線偏光板との反対側に設置され前記位相差フィルムを配向するように構成される第1配向層と、
前記直線偏光板における前記位相差フィルムとの反対側に設置され前記直線偏光板を配向するように構成される第2配向層とを含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の反射減少構造。 - 前記第2配向層における前記直線偏光板との反対側に設置され特定波長範囲の光を遮断するように構成される光遮断層をさらに備えることを特徴とする請求項14に記載の反射減少構造。
- 前記光遮断層は波長範囲が650nm〜780nmの光を遮断するように構成されることを特徴とする請求項15に記載の反射減少構造。
- ディスプレイ装置であって、
表示パネルと、
請求項1〜16のいずれか1項に記載の反射減少構造と、を備え、
前記表示パネルは、アレイ基板と、前記アレイ基板に対向して設置された対向基板とを含み、
前記反射減少構造は前記アレイ基板と前記対向基板との間に設置され、又は
前記反射減少構造は前記対向基板における前記アレイ基板との反対側に位置することを特徴とするディスプレイ装置。 - 前記アレイ基板は、
ベース基板と、
前記ベース基板上に形成され且つそれぞれに有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成された複数の画素ユニットとを含むことを特徴とする請求項17に記載のディスプレイ装置。 - 前記反射減少構造は前記アレイ基板と前記対向基板との間に設置され、且つ、前記反射減少構造と、前記有機発光ダイオードと前記薄膜トランジスタとが形成された前記ベース基板との間にさらに平坦化層が形成されることを特徴とする請求項18に記載のディスプレイ装置。
- ディスプレイ装置の製造方法であって、
互いに対向したアレイ基板及び対向基板を含む表示パネルを用意するステップと、
反射減少構造を製造するステップと、を含み、
前記アレイ基板は、ベース基板と、前記ベース基板上に形成され且つそれぞれに有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成された複数の画素ユニットとを含み、前記複数の画素ユニットは前記対向基板と前記ベース基板との間に位置し、
反射減少構造を製造するステップは、前記有機発光ダイオードと薄膜トランジスタとが形成されたベース基板、又は前記対向基板上に、位相差フィルム、第1配向層及び直線偏光板を形成するステップを含み、
前記第1配向層は前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し、前記位相差フィルムと前記直線偏光板とは液晶を含むことを特徴とするディスプレイ装置の製造方法。 - 反射減少構造の製造方法であって、
基板を用意するステップと、
前記基板上に位相差フィルム、第1配向層及び直線偏光板を形成するステップとを含み、
前記第1配向層は前記位相差フィルムと前記直線偏光板との間に位置し、前記位相差フィルムと前記直線偏光板とは液晶を含むことを特徴とする反射減少構造の製造方法。
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