JP4950019B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、液晶テレビやパソコン用モニタ，携帯電話やデジタルカメラなど、各種電子機器の表示部に広く用いられている。この液晶表示装置は、バックライトの光を透過させて表示する透過型と、外光を反射させて表示する反射型、透過と反射の両方の性質を有する半透過型に大別される。

反射型液晶表示装置で、屋内などの外光の弱い場所での視認性を向上させるため、特許文献１に記載の照明装置付の反射型液晶表示装置が提案されている。また、屋内外両方での視認性を向上させる方法として、特許文献２のような半透過型液晶表示装置も提案されている。半透過型液晶表示装置では、一画素内に透過表示部と反射表示部を有するため、屋内外の広範な環境下で良好な表示が得られる。

昭５３−５６０００号公報 特開２００２−３３３６２４号公報

しかし、特許文献１に記載の照明装置付の反射型液晶表示装置では、照明装置により屋内視認性を改善することはできるが、外光反射に対する考慮がなされていないため、屋外視認性に問題がある。また、特許文献２に記載の半透過型液晶表示装置では、一画素内に透過部と反射部を構成するため、それぞれの面積が小さく、反射，透過それぞれの表示で十分な輝度が得られないという問題がある。さらに、画素を分割するため、製造工程も非常に複雑である。

そこで、本発明の目的は、明所から暗所を含む屋内外の広範な環境下でも、良好な画質を有し、十分な輝度が得られる液晶表示装置を提供することにある。

本発明は、上記課題を解決すべく、第一基板と第二基板の間に狭持された液晶層と、前記第二基板と前記液晶層の間に狭持された屈折率マッチング層と、前記屈折率マッチング層と前記液晶層の間に狭持された内蔵偏光層と、前記第二基板に対して、前記液晶層が配置されて側とは反対側に配置された反射層とを有することを特徴とする液晶表示装置を提供することである。

明所から暗所を含む屋内外の広範な環境下でも、良好な画質を有し、十分な輝度が得られる液晶表示装置が得られる。

以下、図面を用いて、本発明の実施形態を説明する。

図１は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置の概略断面図である。この液晶表示装置では、ガラスやプラスチック等で構成された透明基板からなる第一基板１０１と、同様の透明基板からなる第二基板２０１とを有し、第一基板１０１と第二基板２０１とがシール材１０２を介して所定の間隔で貼り合わされ、両基板間に液晶１０３が封入された液晶パネルを構成している。本発明では特に限定されるものではないが、本発明実施形態では、第二基板２０１に対して、液晶層１０３が配置された側に、複数の配線、当該配線に導電接続されたＴＦＴ（薄膜トランジスタ）などのスイッチング素子、及び当該スイッチング素子に導電接続された画素電極２０８を有し、第一基板１０１に対して、液晶層１０３が配置された側に、対向電極（図示せず）を有するアクティブマトリクス方液晶表示装置が構成されている。さらに第二基板の端部に光源２０２が設けられている。この光源２０２は、ＬＥＤ（発光ダイオード），ＬＤ（レーザーダイオード），有機ＥＬ等の発光素子、もしくは蛍光灯で構成される。

次に、第二基板２０１の構造をより詳細に説明する。第二基板２０１に対して、液晶層１０３が配置された側とは反対側に、反射層２０３が形成されている。この反射層２０３は、アルミニウムなどの金属や白色樹脂などの反射性素材を基板上に形成したものである。この反射層２０３により、光源２０２から入射し、第二基板２０１を伝播する光を効率よく液晶層１０３側に出射するとともに、第一基板１０１側から入射してくる外光を反射させ表示することが可能となる。さらに、第二基板２０１に対して、液晶層１０３が配置された側に、透明材料、例えば、フッ化マグネシウム等で構成された屈折率マッチング層２０４が形成される。この屈折率マッチング層２０４は、蒸着法などで形成することができる。このように、屈折率マッチング層２０４を形成すると、第二基板２０１に光源２０２から入射した光は、第二基板２０１と屈折率マッチング層２０４の界面で反射しながら第二基板２０１内を進行するので、液晶層１０３に出射される光の照度を均一にすることがで、また、外光を効率よく取り入れることが可能となる。

屈折率マッチング層２０４に対して、液晶層１０３が配置された側には、内蔵偏光層２０５が形成されている。この内蔵偏光層２０５は、水溶性のリオトロピック液晶染料材料や二色染料を含有する高分子液晶材料などで構成することができる。また内蔵偏光層２０５として、ワイヤグリッド偏光子を採用することもできる。このワイヤグリッド偏光子は、細い導体線を光の波長よりも短い間隔で配列させたものである。

内蔵偏光層２０５に対して、液晶層１０３が配置された側には、絶縁保護層２０６が形成されている。絶縁保護層２０６には、ＳｉＮｘやＳｉＯｘなどの無機材料や、アクリル樹脂やカルド樹脂などの高分子材料などで構成することができる。さらに、絶縁保護層２０６上には、前記配線及びスイッチング素子が形成された導体層や層間絶縁膜で構成される配線素子構造２０７が形成される。さらに、この配線素子構造２０７上には、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）やＩＴＺＯ（インジウムスズ亜鉛酸化物），ＺｎＯ（亜鉛酸化物）などの透明導電体やアルミニウムやクロムなどの金属で構成される画素電極２０８が設けられる。この画素電極２０８は、前記スイッチング素子に導電接続される。この画素電極２０８上には、必要に応じてポリイミド樹脂等で構成される配向膜（図示せず）が形成される。

一方、第一基板１０１に対して、液晶層１０３が配置された側とは反対側には、偏光板１０４が貼り付けられる。この偏光板１０４と内蔵偏光層２０５の偏光軸の方位関係は、液晶層１０３の構成によって適宜に設定される。さらに、第一基板１０１に対して、液晶層１０３が配置された側には、対向電極（図示せず）が設けられる。

屈折率マッチング層２０４について、第二基板２０１，屈折率マッチング層２０４、及び内蔵偏光層２０５の波長λにおける屈折率をそれぞれ、Ｎｓ，Ｎｎ、及びＮｐとし、屈折率マッチング層２０４の膜厚をＬ，ｍを０以上の整数としたとき、
Ｎｎ²≒Ｎｓ×Ｎｐ （式１）
Ｌ＝（１／４＋ｍ／２）×λ／Ｎｎ （式２）
を満たせばよく、例えば、Ｎｓが１.５程度で、Ｎｐが１.４程度の場合、Ｎｎは１.４５程度であればよい。

また、式２について、外光を効率よく取り入れる場合は、ピーク波長が５００ｎｍ付近であるのに対して、光源２０２からの光を効率よく取り出す場合は５５０ｎｍ付近、緑のＬＥＤでは５２０ｎｍ程度であるので、工差も加味して、式２のλを５００〜５５０ｎｍとするのが望ましい。

さらに、屈折率マッチング層２０４を多層化し、４００〜７００ｎｍの範囲で、屈折率をマッチングさせても良い。特に、青，緑，赤に相当する波長である、４５０ｎｍ，５５０ｎｍ，６５０ｎｍの３波長で屈折率をマッチングさせることが望ましい。

次に、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。第二基板２０１上に屈折率マッチング層２０４，内蔵偏光層２０５，絶縁保護層２０６，配線素子構造２０７及び画素電極２０８を順次形成する。第一基板１０１上には、対向電極（図示せず）を形成する。その後、第一基板１０１，第二基板２０１上に配向膜（図示せず）を形成し、その配向膜に対して配向処理を行い、第一基板１０１と第二基板２０１を対向させて、シール１０２で貼りあわせる。次に、第二基板２０１に対して、液晶層１０３が配置された側とは反対側に、アルミニウムをスパッタすることにより、反射層２０３を形成する。この反射層２０３は、白色顔料入りの樹脂を塗布することにより形成してもよい。続いて、対向した第一基板１０１と第二基板２０１との間隙に、注入口より液晶１０３を注入し、注入口を封止する。これにより、液晶パネルが完成する。

次に、第二基板２０１の各配線を制御回路に接続し、さらに第二基板２０１端部に光源２０２を配置し、第一基板１０１に偏光板１０４を貼り付け、本実施形態に係る液晶表示装置が完成する。

図２は、本発明の他の実施形態に係る液晶表示装置の概略断面図、図３は、図２の液晶表示装置を矢印Ａの方向から見た、画素の拡大図である。本発明では特に限定されるものではないが、本実施形態では、第一基板１０１に対して、液晶層１０３が配置された側には、例えば青，緑，赤のような複数の着色層１０６，１０７，１０８を配列形成させ、さらに、それぞれの周辺を黒色壁１０９で囲み、好ましくはその上に透明な保護層（図示せず）を形成したカラーフィルタ層１０５を有する。黒色壁１０９で囲まれた領域を、画素と称する。本実施形態に係る液晶表示装置では、第二基板２０１の厚さＴが、この画素長辺の長さＬの２倍以下であればよいが、おおむね２倍以下であってもよい。これにより、外光を反射層２０３で反射させて表示に用いる際、表示の影が観察者に気にならない程度に抑制される。また、反射効率も向上することができる。

次に、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。第二基板２０１上に屈折率マッチング層２０４，内蔵偏光層２０５，絶縁保護層２０６，配線素子構造２０７，画素電極２０８を順次形成する。第一基板１０１上には、カラーフィルタ層１０５，対向電極（図示せず）を順次形成する。その後、第一基板１０１，第二基板２０１上に配向膜（図示せず）を形成し、その配向膜に対して配向処理を行い、第一基板１０１と第二基板２０１を対向させてシール１０２で貼りあわせる。次に、第二基板２０１を０.２５mm厚まで研磨する。本実施形態に係る液晶表示装置では、画素の長辺Ｌが１５０μｍであるので、研磨後の第二基板２０１の厚さ０.２５mmは、Ｌの２倍（０.３mm）以下である。続いて、第二基板２０１に対して、液晶層１０３が配置された側とは反対側に、アルミニウムをスパッタすることにより反射層２０３を形成する。以下は、実施例１と同様の方法で、本実施形態に係る液晶表示装置が完成する。

図４は、本発明の他の実施形態に係る液晶表示装置の概略断面図である。本実施形態では、反射層２０３に対して、液晶層１０３が配置された側には、樹脂もしくは無機材料などから構成される保護層２０９を設ける。保護層２０９を設けることで、反射層２０３形成語の製造工程において、反射層２０３が損傷することを防止することができる。保護層２０９は、光透過部ではないため、かならずしも透明である必要はない。

次に、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。第二基板２０１上に屈折率マッチング層２０４，内蔵偏光層２０５，絶縁保護層２０６，配線素子構造２０７，画素電極２０８を順次形成する。第一基板１０１上には、対向電極（図示せず）を形成する。その後、第一基板１０１，第二基板２０１上に配向膜（図示せず）を形成し、その配向膜に対して配向処理を行い、第一基板１０１と第二基板２０１を対向させてシール１０２で貼りあわせる。次に、第二基板２０１の外側にアルミニウムをスパッタすることにより反射層２０３を形成する。続いて、ポリカーボネートフィルムを保護層２０９として反射層２０３上に貼り付ける。以下は、実施例１と同様の方法で、本実施形態に係る液晶表示装置が完成する。

図５は、本発明の他の実施形態に係る液晶表示装置の概略断面図である。本実施形態では、反射層２０３に微小な凹凸を形成し、光拡散性を付与している。これにより、液晶層へ反射して出射される光の均一化が図られる。

次に、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。第二基板２０１上に屈折率マッチング層２０４，内蔵偏光層２０５，絶縁保護層２０６，配線素子構造２０７画素電極２０８を順次形成する。第一基板１０１上には、対向電極（図示せず）を形成する。その後、第一基板１０１，第二基板２０１上に配向膜（図示せず）を形成し、その配向膜に対して配向処理を行い、第一基板１０１と第二基板２０１を対向させてシール１０２で貼りあわせる。次に、第二基板２０１に対して、液晶層１０３が配置された側とは反対側をフッ酸に接触させ、第二基板２０１表面に凹凸を形成する。酸素プラズマやサンドブラストなどの方法で凹凸を形成してもよい。次にその凹凸表面にアルミニウムをスパッタすることにより凹凸形状の反射層２０３を形成する。以下は、実施例１と同様の方法で、本実施形態に係る液晶表示装置が完成する。

図６は、本発明の他の実施形態に係る液晶表示装置の概略断面図である。本実施形態では、第二基板２０１の厚さが、光源から遠くなるにつれて小さくなる構成をとっている。これにより、光源２０２からの光を、より容易に第二基板２０１に導入でき、かつ導入した光をより効率よく液晶層１０３に出射することができる。

次に、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。第二基板２０１上に屈折率マッチング層２０４，内蔵偏光層２０５，絶縁保護層２０６，配線素子構造２０７，画素電極２０８を順次形成する。第一基板１０１上には、対向電極（図示せず）を形成する。その後、第一基板１０１，第二基板２０１上に配向膜（図示せず）を形成し、その配向膜に対して配向処理を行い、第一基板１０１と第二基板２０１を対向させてシール１０２で貼りあわせる。次に、第二基板２０１の厚さを、光源から遠くなるにつれて薄くなるように研磨する。続いて、第二基板２０１に対して、液晶層１０３が配置された側とは反対側に、アルミニウムをスパッタすることにより反射層２０３を形成する。さらに本発明では特に限定されるものではないが、実施例３と同様に保護層２０９を設ける。図７のように、反射層２０３を白色顔料入りの樹脂で形成し、保護層２０９を省略してもよい。また、図８のように、光源２０２を複数用いてもよい。以下は、実施例１と同様の方法で、光源２０２を厚い基板端部に設置し、本実施形態に係る液晶表示装置が完成する。

図９は、本発明の他の実施形態に係る液晶表示装置の概略断面図である。本実施形態では、反射層２０３上に突起２１０が設けられている。これにより、第二基板２０１の端面から入射した光源２０２からの光を、効率よく液晶層１０３側に出射することができる。この突起は、図１０に示すような突起でもよく、第二基板２０１の端面から入射した光源２０２の光が効率よく液晶層１０３に出射されるように配置されていればよい。

次に、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。第二基板２０１上に屈折率マッチング層２０４，内蔵偏光層２０５，絶縁保護層２０６，配線素子構造２０７，画素電極２０８を順次形成する。第一基板１０１上には、対向電極（図示せず）を形成する。その後、第一基板１０１，第二基板２０１上に配向膜（図示せず）を形成し、その配向膜に対して配向処理を行い、第一基板１０１と第二基板２０１を対向させてシール１０２で貼りあわせる。次に、第二基板２０１に対して、液晶層１０３が配置された側とは反対側に、図１１に示す凹凸構造を有する樹脂フィルム２１１を貼り付ける。なお、図１０の突起構造を形成する場合は、図１２に示すような凹凸構造を有する樹脂フィルム２１１を第二基板２０１に貼り付ける。また、第二基板２０１上に突起構造２１０を直接形成してもよい。本実施例において、第二基板２０１の屈折率よりも樹脂フィルム２１１の屈折率の方が大きいほうが好ましい。続いて、貼り付けた樹脂フィルム２１１に対して、第二基板２０１が配置された側とは反対側に、アルミニウムをスパッタすることにより反射層２０３を形成する。さらに本発明では、特に限定されるものではないが、実施例３と同様に保護層２０９を設ける。以下は、実施例１と同様の方法で、光源を厚い基板端部に設置し、本実施形態に係る液晶表示装置が完成する。

図１３は、本発明の他の実施形態に係る液晶表示装置の画素の拡大図である。本実施形態の液晶表示装置の概略断面図は、図２と同じである。本実施形態では、第一基板１０１に対して、液晶層１０３が配置された側に、例えば青，緑，赤のような複数の着色層１０６，１０７、及び１０８を配列形成させ、さらにそれぞれの周辺を黒色壁１０９で囲み、好ましくはその上に透明な保護層（図示せず）を形成したカラーフィルタ層１０５を有する。さらに本実施形態では、着色層１０６，１０７，１０８に、無着色領域１１０を有する。これにより、第一基板１０１側から入射した外光を、反射層２０３で反射する際の反射効率を、大きく向上することができる。

カラーフィルタ層１０５について、第二基板２０１，屈折率マッチング層２０４、及びカラーフィルタ層１０５の波長λにおける屈折率をそれぞれ、Ｎｓ，Ｎｎ、及びＮｃとし、屈折率マッチング層２０４の膜厚をＬ，ｍを０以上の整数としたとき、
Ｎｎ²≒Ｎｓ×Ｎｃ （式３）
Ｌ＝（１／４＋ｍ／２）×λ／Ｎｎ （式４）
を満たせばよく、例えば、Ｎｓが１.５程度で、Ｎｃが１.４程度の場合、Ｎｎは１.４５程度であればよい。

また、式４について、外光を効率よく取り入れる場合は、ピーク波長が５００ｎｍ付近であるのに対して、光源２０２からの光を効率よく取り出す場合は５５０ｎｍ付近、緑のＬＥＤでは５２０ｎｍ程度であるので、工差も加味して、式４のλを５００〜５５０ｎｍとするのが望ましい。

さらに、屈折率マッチング層２０４を多層化し、４００〜７００ｎｍの範囲で、屈折率をマッチングさせても良い。特に、青，緑，赤に相当する波長である、４５０ｎｍ，５５０ｎｍ，６５０ｎｍの３波長で屈折率をマッチングさせることが望ましい。

次に、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。第二基板２０１上に屈折率マッチング層２０４，内蔵偏光層２０５，絶縁保護層２０６，配線素子構造２０７，画素電極２０８を順次形成する。第一基板１０１上には、カラーフィルタ層１０５，対向電極（図示せず）を順次形成する。その際、カラーフィルタ層１０５には、図１３に示すように画素内に無着色領域１１０を設ける。無着色領域１１０は、着色層１０６，１０７、及び１０８をフォトレジストなどの方法でパターニングする際に、形成することができる。以下は、実施例１と同様の方法で、本実施形態に係る液晶表示装置が完成する。

図１４は、本発明の他の実施形態に係る液晶表示装置の概略断面図である。本実施形態では、本発明では特に限定されるものではないが、カラーフィルタ層１０５が、内蔵偏光層２０５に対して、液晶層１０３が配置された側に形成されている。また、図１５のように、内蔵偏光層２０５と屈折率マッチング層２０４との間に形成してもよい。このようにカラーフィルタ層１０５を第二基板２０１に対して、液晶層１０３が配置された側に設けることで、第一基板１０１側から入射した外光と、反射層２０３で反射した光が異なる着色層から出射する確率を低減することができ、反射効率を大きく向上することができる。

次に、図１４に示す本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。第二基板２０１上に屈折率マッチング層２０４，内蔵偏光層２０５，カラーフィルタ層１０５，配線素子構造２０７，画素電極２０８を順次形成する。以下は、実施例１と同様の方法で、本実施形態に係る液晶表示装置が完成する。図１５に示す本実施形態に係る液晶表示装置を製造する場合は、第二基板２０１上に屈折率マッチング層２０４，カラーフィルタ層１０５，内蔵偏光層２０５，絶縁保護層２０６，配線素子構造２０７画素電極２０８を順次形成する。以下は、実施例１と同様の方法で、本実施形態に係る液晶表示装置が完成する。

図１６は、本発明の他の実施形態に係る液晶表示装置の概略断面図である。本実施形態では、第二基板２０１と反射層２０３との間に蛍光体層２１１が設けられている。この蛍光体層２１１を設けることにより、例えば第一基板１０１を通過し、カラーフィルタ層１０５の各着色画素から入射した外光を、蛍光体層２１１で色変換、例えば白色化することで、入射した着色画素とは異なる画素から出射することが可能となり、反射効率を向上させることができる。

蛍光体層２１１には、ＺｎＳやイットリウム酸化物などの無機材料や、ペリレン，ルブレンなどの多環芳香族炭化水素化合物，オキサジアゾール誘導体，ピラゾロキノリン誘導体などの複素環芳香族化合物，スチリルベンゼン系芳香族化合物，アルミキノリノール誘導体に代表される有機金属錯体化合物，ローダミンなどのキサンテン系色素，ポリメチン系色素，ポルフィリン系色素などの低分子有機材料や、ポリパラフェニレンビニレン誘導体やポリチオフェン誘導体，ポリフルオレン誘導体などの高分子有機材料を単独もしくは適宜組み合わせて用いてもよい。これらの材料を、スパッタ，蒸着、もしくは塗布により、第二基板２０１上に形成することができる。

次に、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。第二基板２０１上に屈折率マッチング層２０４，内蔵偏光層２０５，絶縁保護層２０６，配線素子構造２０７，画素電極２０８を順次形成する。第一基板１０１上には、カラーフィルタ層１０５，対向電極（図示せず）を順次形成する。その後、第一基板１０１，第二基板２０１上に配向膜（図示せず）を形成し、その配向膜に対して配向処理を行い、両基板１０１と２０１を対向させてシール１０２で貼りあわせる。次に、第二基板２０１の外面に蒸着によって前記低分子有機材料により、蛍光体層２１１を設ける。続いて、蛍光体層２１１に対して、第二基板２０１が配置された側とは反対側に、アルミニウムをスパッタすることにより反射層２０３を形成する。以下は、実施例１と同様の方法で、本実施形態に係る液晶表示装置が完成する。

図１７は、本発明の他の実施形態に係る液晶表示装置の概略断面図である。本実施形態では、第一基板１０１上に配線素子構造２０７，画素電極２０８を形成し、第二基板２０１上に屈折率マッチング層２０４，カラーフィルタ層１０５，内蔵偏光層２０５，絶縁保護層２０６，対向電極（図示せず）が設けられている。この構成においても、実施例１に記載の液晶表示装置と同様の効果が得られる液晶表示装置を得ることができる。

次に、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。第二基板２０１上に屈折率マッチング層２０４，カラーフィルタ層１０５，内蔵偏光層２０５，絶縁保護層２０６，対向電極（図示せず）を順次形成する。第一基板１０１上には、配線素子構造２０７，画素電極２０８を形成する。以下は、実施例１と同様の方法で、本実施形態に係る液晶表示装置が完成する。

なお、本発明の液晶表示装置は、図示例の構成に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、変更を加えたり、組み合わせたりすることが可能である。例えば、図５で示した反射層２０３への光拡散性の付与と、図６に示した構造とを組み合わせたり、同じく反射層２０３への光拡散性の付与を、図９もしくは図１０で示した反射層状の突起構造２１０と組み合わせたりすることも可能である。

また、本発明は、ＴＮ（ツイストネマティック）モード，ＶＡ（バーティカルアライメント）モードなどの表示方式や、片側の基板だけに電極を設けたＩＰＳ（インプレーンスイッチング）モードなどに適用することが可能である。

実施例１の液晶表示装置の概略断面図。 実施例２の液晶表示装置の概略断面図。 実施例２の液晶表示装置の画素拡大図。 実施例３の液晶表示装置の概略断面図。 実施例４の液晶表示装置の概略断面図。 実施例５の液晶表示装置の概略断面図。 実施例５の液晶表示装置の概略断面図。 実施例５の液晶表示装置の概略断面図。 実施例６の液晶表示装置の概略断面図。 実施例６の液晶表示装置の概略断面図。 実施例６の液晶表示装置図９の製造工程における、突起構造を形成するための樹脂フィルムを基板に貼り付けた図。 実施例６の液晶表示装置図１０の製造工程における、突起構造を形成するための樹脂フィルムを基板に貼り付けた図。 実施例７の液晶表示装置の画素拡大図。 実施例８の液晶表示装置の概略断面図。 実施例８の液晶表示装置の概略断面図。 実施例９の液晶表示装置の概略断面図。 実施例１０の液晶表示装置の概略断面図。

符号の説明

１０１ 第一基板
１０２ シール
１０３ 液晶層
１０４ 偏光板
１０５ カラーフィルタ層
１０６，１０７，１０８ 着色層
１０９ 黒色壁
１１０ 無着色領域
２０１ 第二基板
２０２ 光源
２０３ 反射層
２０４ 屈折率マッチング層
２０５ 内蔵偏光層
２０６ 絶縁保護層
２０７ 配線素子層
２０８ 画素電極
２０９ 保護層
２１０ 突起構造
２１１ 蛍光体層

Claims (6)

1. 第一基板と第二基板の間に挟持された液晶層と、
   前記第二基板と前記液晶層の間に挟持された屈折率マッチング層と、
   前記屈折率マッチング層と前記液晶層の間に挟持された内蔵偏光層と、
   前記内蔵偏光層と前記液晶層の間に挟持されたカラーフィルタ層と、
   前記第二基板に対して、前記液晶層が配置された側とは反対側に配置された反射層とを有することを特徴とする液晶表示装置。
2. 請求項１に記載の液晶表示装置において、
   前記第二基板，前記屈折率マッチング層、及び前記カラーフィルタ層の波長λにおける屈折率をそれぞれ、Ｎｓ，Ｎｎ、及びＮｃとし、屈折率マッチング層の膜厚をＬ，ｍを０以上の整数としたとき、
   Ｎｎ ² ≒Ｎｓ×Ｎｃ
   Ｌ＝（１／４＋ｍ／２）×λ／Ｎｎ
   であることを特徴とする液晶表示装置。
3. 請求項１または２に記載の液晶表示装置において、
   前記第一基板と前記第二基板の間に挟持された着色層を有し、
   前記着色層の一部が着色されていることを特徴とする液晶表示装置。
4. 請求項１乃至３のいずれかに記載の液晶表示装置において、
   前記カラーフィルタ層は、前記屈折率マッチング層及び前記内蔵偏光層の間に挟持されていることを特徴とする液晶表示装置。
5. 請求項１乃至４のいずれかに記載の液晶表示装置において、
   前記第二基板と前記反射層の間に蛍光体層が挟持されていることを特徴とする液晶表示装置。
6. 請求項１乃至５のいずれかに記載の液晶表示装置において、
   前記第一基板と前記液晶層の間に配線素子層が挟持されていることを特徴とする液晶表示装置。

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