JP2019503914A

JP2019503914A - 低腐食性太陽光制御積層体

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Publication number: JP2019503914A
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Abstract

複合積層体は、第１の基材層と、銀を含む機能層と、耐腐食性材料を含む第１の遮断層と、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含む第２の遮断層とを含み得る。第２の遮断層は、第１の遮断層に隣接し得る。複合積層体は、少なくとも約５０％のＶＬＴ、及び少なくとも約３０％のＴＳＥＲを更に有し得る。複合積層体はまた、または代替的に、約２０％以下の放射率を有し得る。【選択図】図１

Description

本開示は、複合積層体に関する。具体的には、本開示は、透明基材への適用のための複合積層体に関し、この複合積層体は、特定の太陽エネルギー及び放射率特性を有する。

薄膜層の複合積層体は、建物または車両の窓に適用される被覆として使用されて、太陽光制御の利点を提供することができる。例えば、望ましい太陽光制御の利点としては、高い可視光透過率、高い総太陽エネルギー阻止率、及びまたは低放射率が挙げられる。薄膜層のかかる複合積層体は、積層体の機能的な薄膜層を、保護用の光学的に透明なコーティング中に積層することによって従来保護され、次いでこのコーティングが、窓ガラスまたはプラスチック基材などの透明基材に接着され得る。この積層は、薄膜層の複合積層体の耐久性を改善するが、特定の波長における機能層の太陽光制御の利点を妨害する傾向もある。そのため、積層体を使用せず、並みはずれた望ましい太陽光制御の利点を依然として示しながら、高い耐久性を示す複合積層体が必要とされている。

一態様によれば、複合積層体は、第１の基材層と、銀を含み得る少なくとも１つの機能層と、耐腐食性材料を含み得る少なくとも１つの第１の遮断層と、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る少なくとも１つの第２の遮断層と、を含み得る。第２の遮断層は、第１の遮断層に隣接し得る。複合積層体は、少なくとも約５０％のＶＬＴを有し得る。複合積層体は、少なくとも約３０％のＴＳＥＲを更に有し得る。

更に別の態様によれば、複合積層体は、第１の基材層と、銀を含み得る少なくとも１つの機能層と、耐腐食性材料を含み得る少なくとも１つの第１の遮断層と、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る少なくとも１つの第２の遮断層と、を含み得る。第２の遮断層は、第１の遮断層に隣接し得る。複合積層体は、約２０％以下の放射率を更に有し得る。

更に別の態様によれば、複合積層体を形成する方法は、第１の基材層を提供することと、銀を含み得る少なくとも１つの機能層を形成することと、耐腐食性材料を含み得る少なくとも１つの第１の遮断層を形成することと、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る少なくとも１つの第２の遮断層を形成することと、を含み得る。第２の遮断層は、第１の遮断層に隣接して形成され得る。複合積層体は、少なくとも約５０％のＶＬＴを有し得る。複合積層体は、少なくとも約３０％のＴＳＥＲを更に有し得る。

実施形態が実施例として図示され、添付の図面に限定されるものではない。

本明細書に記載のある特定の実施形態に従った例示的な複合積層体の図を含む。本明細書に記載のある特定の実施形態に従った別の例示的な複合積層体の図を含む。本明細書に記載のある特定の実施形態に従った別の例示的な複合積層体の図を含む。本明細書に記載のある特定の実施形態に従った別の例示的な複合積層体の図を含む。本明細書に記載のある特定の実施形態に従った別の例示的な複合積層体の図を含む。本明細書に記載のある特定の実施形態に従った別の例示的な複合積層体の図を含む。本明細書に記載の実施形態に従った、例示的な複合積層体の１０日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。本明細書に記載の実施形態に従った、例示的な複合積層体の１０日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。本明細書に記載の実施形態に従った、例示的な複合積層体の１０日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。本明細書に記載の実施形態に従った、例示的な複合積層体の１０日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。本明細書に記載の実施形態に従った、例示的な複合積層体の１０日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。本明細書に記載の実施形態に従った、例示的な複合積層体の１０日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。本明細書に記載の実施形態に従った、例示的な複合積層体の２１日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。本明細書に記載の実施形態に従った、例示的な複合積層体の２１日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。本明細書に記載の実施形態に従った、例示的な複合積層体の２１日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。本明細書に記載の実施形態に従った、例示的な複合積層体の２１日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。本明細書に記載の実施形態に従った、例示的な複合積層体の２１日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。比較用の例示的な複合体積層体の、１０日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。比較用の例示的な複合体積層体の、１０日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。比較用の例示的な複合体積層体の、１０日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。比較用の例示的な複合体積層体の、１０日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。比較用の例示的な複合体積層体の、１０日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。比較用の例示的な複合体積層体の、１０日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。比較用の例示的な複合体積層体の、１０日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。比較用の例示的な複合体積層体の、１０日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。比較用の例示的な複合体積層体の、１０日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。比較用の例示的な複合体積層体の、２１日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。比較用の例示的な複合体積層体の、２１日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。比較用の例示的な複合体積層体の、２１日ＢＳＮ耐久性試験後の表面の顕微鏡画像を含む。

図中の要素は、簡潔性及び明確性のために図示されており、必ずしも縮尺通りではないことが、当業者には理解される。例えば、図中の要素のいくつかの寸法は、本発明の実施形態の理解の改善を助けるために、他の要素に対して誇張されている場合がある。更に、異なる図面中の同じ参照符号の使用は、類似または同一の品目を示す。

図と組み合わせた以下の説明は、本明細書に開示の教示の理解を補助するために提供される。以下の考察は、教示の特定の実施及び実施形態を重点的に取り扱う。この重点的な取扱いは、教示の説明を補助するために提供され、教示の範囲または用途に関する限定として解釈されるべきではない。しかしながら、他の実施形態は、本出願に開示の教示に基づいて使用されることができる。

本明細書で使用される場合、「可視光透過率」または「ＶＬＴ」という用語は、複合積層体／透明基材系を透過し、角度１０°でＤ６５光源を使用して計算され得る総可視光透過率を指す。

「総太陽エネルギー阻止率」または「ＴＳＥＲ」という用語は、総太陽エネルギー（熱）複合積層体／透明基材系を指し、ＩＳＯ９０５０に従って計算され得る。

「放射率」という用語は、複合積層体／透明基材系によって反射される放射熱（熱）エネルギーの割合を指し、ＡＳＴＭ規格ＮＦＲＣ３０１に従って計算され得る。

「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｈａｓ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」という用語、またはそれらの他の変形は、非排他的な包含を網羅することを意図する。例えば、特色の列挙を含む方法、物品、もしくは装置は、必ずしもそれらの特色のみに限定されないが、明確に列挙されていない、またはかかる方法、物品、もしくは装置に固有の他の特色を含み得る。更に、これとは対照的に、明確に記載されない限り、「または」とは包括的なまたはを指し、排他的なまたはを指さない。例えば、条件ＡまたはＢは、以下のうちのいずれか１つによって満たされる。Ａは真（または存在し）でありＢは偽（または存在しない）、Ａは偽（または存在し）でありＢは真（存在する）、及びＡ及びＢの両方が真である（または存在する）。

また、「ａ」または「ａｎ」の使用は、本明細書に記載の要素及び構成要素を説明するために用いられる。これは、単に便宜上、及び本発明の範囲の一般的な感覚を与えるために用いられる。この説明は、別の意図が明白でない限り、１つ、少なくとも１つ、または複数も含むものとしての単数、またはその逆も含む、と読まれるべきである。例えば、単一の品目が本明細書に記載されるときに、１つ超の品目が、単一の品目に置き換えて使用されてもよい。同様に、１つ超の品目が本明細書に記載されるときに、単一の品目が、１つ超の品目に置き換えられてもよい。

別段の定義がない限り、本明細書で使用される技術用語及び科学用語は全て、本発明が属する技術分野の当業者により一般的に理解されるものと同じ意味を有する。材料、方法、及び実施例は、例示のみであり、限定されることを意図しない。本明細書に記載されていない限り、特定の材料及び処理行為に関する多くの詳細は従来のものであり、太陽光制御技術の教材及び他の出典に見出され得る。

本明細書に記載の実施形態は、一般的に、少なくとも１つの基材層、少なくとも１つの機能性層、及び機能層に隣接する少なくとも１つの二重遮断積層体を有する多層構造を含む複合積層体に関し、この二重遮断積層体が、機能層の機能性を維持しながら高い耐腐食性を提供する。特定の実施形態によれば、二重遮断積層体は、耐腐食性材料を含み得る第１の遮断層、及び第１の遮断層に隣接しＴｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る第２の遮断層を含み得る。本明細書に記載の実施形態に従って形成された複合積層体は、特定の性能特徴、例えば、低い放射率、高い可視光透過率、高いＴＳＥＲ、またはそれらの組み合わせを有し得る。

これらの概念は、本開示の範囲を例証し限定しない、下記の実施形態を考慮して、より良好に理解される。

図１は、例示的な複合積層体１００の一部分の断面図の図解を含む。図１に示されるように、複合積層体１００は、第１の基材層１１０、機能層１２０、第１の遮断層１３２、及び第２の遮断層１３４を含み得る。第１の遮断層１３２は、耐腐食性材料を含み得る。第２の遮断層１３４は、第１の遮断層１３２に隣接し得、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る。

第１の遮断層１３２及び第２の遮断層１３４の組み合わせは、機能層１２０に隣接し得る第１の二重遮断積層体１３０と称され得る。特定の実施形態によれば、及び図１に示されるように、第１の二重遮断積層体１３０は、第１の基材層１１０と機能層１２０との間に位置し得る。

代替実施形態によれば、機能層１２０は、第１の基材層１１０と第１の二重遮断積層体１３０との間に位置し得る（図１に示されない）。

なお他の特定の実施形態により、また図１に示されるように、第１の遮断層１３２及び第２の遮断層１３４は、第１の遮断層１３２が機能層１２０に隣接するように第１の二重遮断積層体１３０に配置され得る。

代替実施形態によれば、第１の遮断層１３２及び第２の遮断層１３４は、第２の遮断層１３４が機能層１２０に隣接するように第１の二重遮断積層体１３０に配置され得る（図１に示されない）。

特定の実施形態によれば、第１の基材層１１０は、ポリマー材料を含み得る。別の特定の実施形態によれば、第１の基材層１１０は、ポリマー材料からなり得る。なお他の実施形態によれば、第１の基材層１１０は、ポリマー基材層であり得る。特定の実施形態によれば、ポリマー基材層は、任意の望ましいポリマー材料を含み得る。

更に別の実施形態によれば、第１の基材層１１０は、ガラス材料を含み得る。更に別の実施形態によれば、第１の基材層１１０は、ガラス材料からなり得る。なお別の実施形態によれば、第１の基材層１１０は、ガラス基材層であり得る。なお他の実施形態によれば、ガラス材料は、任意の望ましいガラス材料を含み得る。

なお他の実施形態によれば、第１の基材層１１０がポリマー基材層である場合、層は特定の厚さを有し得る。例えば、第１の基材層１１０は、少なくとも約１５ミクロン、少なくとも約２０ミクロン、少なくとも約２５ミクロン、少なくとも約３０ミクロン、少なくとも約３５ミクロン、少なくとも約４０ミクロン、少なくとも約４５ミクロン、少なくとも約５０ミクロン、少なくとも約７５ミクロン、少なくとも約１００ミクロン、または更に少なくとも約１２５ミクロンなどの、少なくとも約１０ミクロンの厚さを有し得る。なお別の実施形態によれば、第１の基材層１１０は、約２４５ミクロン以下、約２４０ミクロン以下、約２３５ミクロン以下、約２３０ミクロン以下、約２２５ミクロン以下、約２２０ミクロン以下、約２１５ミクロン以下、約２１０ミクロン以下、約２０５ミクロン以下、約２００ミクロン以下、約１７５ミクロン以下、または更に約１５０ミクロン以下などの、約２５０ミクロン以下の厚さを有し得る。第１の基材層１１０は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内の厚さを有し得ることが、理解されよう。第１の基材層１１０は、上記の任意の最小値と最大値との間の任意の値の厚さを有し得ることが、更に理解されよう。

第１の基材層１１０がガラス基材層である場合、任意の所望の厚さを有し得ることが、更に理解されよう。

特定の実施形態によれば、機能層１２０は、銀を含み得る。更に別の実施形態によれば、機能層１２０は、基本的に銀からなり得る。なお別の実施形態によれば、機能層１２０は銀層であり得る。

なお他の実施形態によれば、機能層１２０は、特定の厚さを有し得る。例えば、機能層は、少なくとも約６ナノメートル、少なくとも約７ナノメートル、少なくとも約８ナノメートル、少なくとも約９ナノメートル、少なくとも約１０ナノメートル、少なくとも約１２ナノメートル、少なくとも約１４ナノメートル、少なくとも約１６ナノメートル、少なくとも約１８ナノメートル、少なくとも約２０ナノメートル、少なくとも約２５ナノメートル、少なくとも約３０ナノメートル、または更に少なくとも約３５ナノメートルなどの、少なくとも約５ナノメートルの厚さを有し得る。なお別の実施形態によれば、機能層１２０は、約３９ナノメートル以下、約３８ナノメートル以下、約３７ナノメートル以下、約３６ナノメートル以下、約３５ナノメートル以下、約３４ナノメートル以下、約３３ナノメートル以下、３２ナノメートル以下、または更に約３１ナノメートル以下などの、約４０ナノメートル以下の厚さを有し得る。機能層１２０は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内の厚さを有し得ることが、理解されよう。機能層１２０は、上記の任意の最小値と最大値との間の任意の値の厚さを有し得ることが、更に理解されよう。

本明細書で使用される場合、複合積層体内の「機能層」（すなわち、機能層１２０）は、機能層または遮断層が複合積層体内でその性能目的（すなわち、低放射率層、耐腐食性、または可視光透過率）を満たすことを可能にする特定の厚さに基づいて、複合積層体内の「遮断層」（すなわち、遮蔽層１３２または１３４）と区別され得ることが理解されよう。

別の実施形態によれば、第１の遮断層１３２は、耐腐食性材料を含み得る。なお別の実施形態によれば、第１の遮断層１３２は、基本的に耐腐食性材料からなり得る。更に別の実施形態によれば、第１の遮断層１３２は、耐腐食層であり得る。特定の実施形態によれば、第１の遮断層１３２の耐腐食性材料は、例えば、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウム、イリジウム、白金、または金などの、任意の貴金属（ｎｏｂｌｅｍｅｔａｌ）または貴金属（ｐｒｅｃｉｏｕｓｍｅｔａｌ）であり得る。特定の実施形態によれば、第１の遮断層１３２の耐腐食性材料は、例えば、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウム、イリジウム、白金、金、またはそれらの組み合わせの合金などの、任意の貴金属（ｎｏｂｌｅｍｅｔａｌ）または貴金属（ｐｒｅｃｉｏｕｓｍｅｔａｌ）の合金であり得る。なお他の実施形態によれば、第１の遮断層１３２は、金を含み得る。更に他の実施形態によれば、第１の遮断層１３２は、基本的に金からなり得る。他の実施形態によれば、第１の遮断層１３２は、金遮断層と称され得る。

なお別の実施形態によれば、第１の遮断層１３２は、特定の厚さを有し得る。例えば、第１の遮断層は、約９ナノメートル以下、約８ナノメートル以下、約７ナノメートル以下、約６ナノメートル以下、約５ナノメートル以下、約４．５ナノメートル以下、約４ナノメートル以下、約３．５ナノメートル以下、約３ナノメートル以下、約２．８ナノメートル以下、約２．６ナノメートル以下、約２．４ナノメートル以下、約２．２ナノメートル以下、約２．０ナノメートル以下、約１．８ナノメートル以下、約１．６ナノメートル以下、約１．４ナノメートル以下、約１．２ナノメートル以下、約１．０ナノメートル以下、約０．８ナノメートル以下、約０．６ナノメートル以下、約０．５ナノメートル以下、約０．４ナノメートル以下、約０．３ナノメートル以下、または更に約０．２ナノメートル以下などの、約１０ナノメートル以下の厚さを有し得る。更に別の実施形態によれば、第１の遮断層１３２は、少なくとも約０．２ナノメートル、少なくとも約０．３ナノメートル、少なくとも約０．４ナノメートルなどの、少なくとも約０．１ナノメートルの厚さを有し得る。第１の遮断層１３２は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内の厚さを有し得ることが、理解されよう。第１の遮断層は、上記の任意の最小値と最大値との間の任意の値の厚さを有し得ることが、更に理解されよう。

更に別の特定の実施形態によれば、第２の遮断層１３４は、銀よりも安定性に欠ける標準的な潜在性を有する任意の遮断材料を含み得る。例えば、第２の遮断層１３４は、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る。なお別の実施形態によれば、第２の遮断層１３４は、ＮｉＣｒを含み得る。なお他の実施形態によれば、第２の遮断層１３４は、基本的にＮｉＣｒからなり得る。更に別の実施形態によれば、第２の遮断層１３４は、ＮｉＣｒ層と称され得る。

なお別の実施形態によれば、第２の遮断層１３４は、特定の厚さを有し得る。例えば、第２の遮断層１３４は、約９ナノメートル以下、約８ナノメートル以下、約７ナノメートル以下、約６ナノメートル以下、約５ナノメートル以下、約４．５ナノメートル以下、約４ナノメートル以下、約３．５ナノメートル以下、約３ナノメートル以下、約２．８ナノメートル以下、約２．６ナノメートル以下、約２．４ナノメートル以下、約２．２ナノメートル以下、約２．０ナノメートル以下、約１．８ナノメートル以下、約１．６ナノメートル以下、約１．４ナノメートル以下、約１．２ナノメートル以下、約１．０ナノメートル以下、約０．８ナノメートル以下、約０．６ナノメートル以下、約０．５ナノメートル以下、約０．４ナノメートル以下、約０．３ナノメートル以下、または更に約０．２ナノメートル以下などの、約１０ナノメートル以下の厚さを有し得る。更に別の実施形態によれば、第２の遮断層は、少なくとも約０．２ナノメートル、少なくとも約０．３ナノメートル、または更に少なくとも約０．４ナノメートルなどの、少なくとも約０．１ナノメートルの厚さを有し得る。第２の遮断層１３４は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内の厚さを有し得ることが、理解されよう。第２の遮断層１３４は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内の任意の値の厚さを有し得ることが、更に理解されよう。

なお別の実施形態によれば、複合積層体１００は、特定の放射率を有し得る。例えば、複合積層体１００は、約１８％以下、約１５％以下、約１３％以下、約１３％以下、約１０％以下、約９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下、または更に約５％以下などの約２０％以下の放射率を有し得る。複合積層体１００は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内の放射率を有し得ることが、理解されよう。複合積層体１００は、上記の任意の最小値と最大値との間の任意の値の放射率を有し得ることが、更に理解されよう。

更に別の実施形態によれば、複合積層体１００は、特定のＶＬＴを有し得る。例えば、複合積層体１００は、少なくとも約２０％、少なくとも約３０％、少なくとも約４０％、少なくとも約５０％、少なくとも約６０％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約８０％、少なくとも約８５％、少なくとも約９０％、などの少なくとも約１０％のＶＬＴを有し得る。なお別の実施形態によれば、複合積層体１００は、約９９％以下のＶＬＴを有し得る。複合積層体１００は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内のＶＬＴを有し得ることが、理解されよう。複合積層体１００は、上記の任意の最小値と最大値との間の任意の値のＶＬＴを有することが、更に理解されよう。

なお別の実施形態によれば、複合積層体１００は、特定のＴＳＥＲを有し得る。例えば、複合積層体１００は、少なくとも約４０％、少なくとも約５０％、少なくとも約６０％、少なくとも約７０％、少なくとも約８０％、または更に少なくとも約８５％などの、少なくとも約３０％のＴＳＥＲを有し得る。更に別の実施形態によれば、複合積層体１００は、約９９％以下のＴＳＥＲを有し得る。複合積層体１００は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内のＴＳＥＲを有し得ることが、理解されよう。複合積層体１００は、上記の任意の最小値と最大値との間の任意の値のＴＳＥＲを有し得ることが、更に理解されよう。

更に別の実施形態によれば、複合積層体１００は、特定の厚さの比ＴＨ_ＢＬ１／ＴＨ_ＦＬを有し得、式中、ＴＨ_ＢＬ１が、第１の遮断層１３２の厚さであり、ＴＨ_ＦＬが、機能層１２０の厚さである。例えば、複合積層体１００は、約４以下、約３以下、約２以下、約１以下、約０．９以下、約０．８以下、約０．７以下、約０．６以下、約０．５以下、約０．４以下、約０．３以下、約０．３５以下、約０．３以下、約０．２５以下、約０．２以下、約０．１５以下、約０．１以下、約０．０５以下、約０．０４以下、約０．０３以下、約０．０２以下、更に約０．０１以下、または更に約０．００５以下などの約５以下の比ＴＨ_ＢＬ１／ＴＨ_ＦＬを有し得る。なお別の実施形態によれば、複合積層体１００は、少なくとも約０．００５、少なくとも約０．０１、少なくとも約０．０２、少なくとも約０．０３、少なくとも約０．０４、少なくとも約０．０５、少なくとも約０．０６、少なくとも約０．０７、少なくとも約０．０８、少なくとも約０．０９、少なくとも約０．１、少なくとも約０．２、約０．４で、少なくとも約０．５、などの少なくとも約．００２の比ＴＨ_ＢＬ１／ＴＨ_ＦＬを有し得る。複合積層体１００は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内の任意の値の比ＴＨ_ＢＬ１／ＴＨ_ＦＬを有し得ることが理解されよう。複合積層体１００は、上記の任意の最小値と最大値との間の任意の値の比ＴＨ_ＢＬ１／ＴＨ_ＦＬの有し得ることが、更に理解されよう。

更に別の実施形態によれば、複合積層体１００は、特定の厚さの比ＴＨ_ＢＬ２／ＴＨ_ＦＬを有し得、式中、ＴＨ_ＢＬ２が、第２の遮断層１３４の厚さであり、ＴＨ_ＦＬが、機能層１２０の厚さである。例えば、複合積層体１００は、約４以下、約３以下、約２以下、約１以下、約０．９以下、約０．８以下、約０．７以下、約０．６以下、約０．５以下、約０．４以下、約０．３以下、約０．３５以下、約０．３以下、約０．２５以下、約０．２以下、約０．１５以下、約０．１以下、約０．０５以下、約０．０４以下、約０．０３以下、約０．０２以下、更に約０．０１以下、または更に約０．００５以下などの約５以下の比ＴＨ_ＢＬ２／ＴＨ_ＦＬを有し得る。なお別の実施形態によれば、複合積層体１００は、少なくとも約０．００５、少なくとも約０．０１、少なくとも約０．０２、少なくとも約０．０３、少なくとも約０．０４、少なくとも約０．０５、少なくとも約０．０６、少なくとも約０．０７、少なくとも約０．０８、少なくとも約０．０９、少なくとも約０．１、少なくとも約０．２、約０．４で、少なくとも約０．５、などの少なくとも約．００２の比ＴＨ_ＢＬ２／ＴＨ_ＦＬを有し得る。複合積層体１００は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内の任意の値の比ＴＨ_ＢＬ２／ＴＨ_ＦＬを有し得ることが理解されよう。複合積層体１００は、上記の任意の最小値と最大値との間の任意の値の比ＴＨ_ＢＬ２／ＴＨ_ＦＬの有し得ることが、更に理解されよう。

図２は、例示的な複合積層体２００の一部分の断面図の図解を含む。図２に示されるように、複合積層体２００は、第１の基材層２１０、機能層２２０、第１の遮断層２３２、第２の遮断層２３４、及び第３の遮断層２３６を含み得る。第１の遮断層２３２は、耐腐食性材料を含み得る。第２の遮断層２３４は、第１の遮断層２３２に隣接し得、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る。

第１の遮断層２３２及び第２の遮断層２３４の組み合わせは、機能層２２０に隣接し得る第１の二重遮断積層体２３０と称され得る。特定の実施形態によれば、及び図２に示されるように、第１の二重遮断積層体２３０は、第１の基材層２１０と機能層２２０との間に位置され得、第３の遮断層２３６はまた、機能層２２０及び二重遮断積層体２３０が第３の遮断層２３６と第１の基材２１０との間にあり得るように、機能層２２０に隣接し得る。

なお別の特定の実施形態によれば、第３の遮断層２３６は、第１の基材層２１０と機能層２２０との間に位置され得、第１の二重遮断積層体２３０はまた、機能層２２０及び第３の遮断層２３６が第１の二重遮断積層体２３０と第１の基材２１０との間にあり得るように、機能層２２０に隣接し得る（図２に示されない）。

なお他の特定の実施形態により、また図２に示されるように、第１の遮断層２３２及び第２の遮断層２３４は、第１の遮断層２３２が機能層２２０に隣接するように第１の二重遮断積層体２３０に配置され得る。

なお他の実施形態によれば、第１の遮断層２３２及び第２の遮断層２３４は、第２の遮断層２３４が、機能層２２０に隣接するように第１の二重遮断積層体２３０に配置され得る（図２に示されない）。

複合積層体２００、第１の基材層２１０、機能層２２０、第１の遮断層２３２、第２の遮断層２３４、及び第１の二重遮断積層体２３０は、図１の対応する層を参照して本明細書に記載の特徴のうちのいずれかを有し得ることが理解されよう。

特定の実施形態によれば、第３の遮断層２３６は、耐腐食性材料を含み得る。なお別の実施形態によれば、第３の遮断層２３６は、基本的に耐腐食性材料からなり得る。更に別の実施形態によれば、第３の遮断層２３６は、耐腐食層であり得る。特定の実施形態によれば、第３の遮断層２３６の耐腐食性材料は、例えば、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウム、イリジウム、白金、または金などの、任意の貴金属（ｎｏｂｌｅｍｅｔａｌ）または貴金属（ｐｒｅｃｉｏｕｓｍｅｔａｌ）であり得る。なお他の実施形態によれば、第３の遮断層２３６は、金を含み得る。更に他の実施形態によれば、第３の遮断層２３６は、基本的に金からなり得る。他の実施形態によれば、第３の遮断層２３６は、金遮断層と称され得る。

更に別の特定の実施形態によれば、第３の遮断層２３６は、銀よりも安定性に欠ける標準的な潜在性を有する任意の遮断材料を含み得る。例えば、第３の遮断層２３６は、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る。なお別の実施形態によれば、第３の遮断層２３６は、ＮｉＣｒを含み得る。なお他の実施形態によれば、第３の遮断層２３６は、基本的にＮｉＣｒからなり得る。更に別の実施形態によれば、第３の遮断層２３６は、ＮｉＣｒ層と称され得る。

なお別の実施形態によれば、第３の遮断層２３６は、特定の厚さを有し得る。例えば、第３の遮断層２３６は、約９ナノメートル以下、約８ナノメートル以下、約７ナノメートル以下、約６ナノメートル以下、約５ナノメートル以下、約４．５ナノメートル以下、約４ナノメートル以下、約３．５ナノメートル以下、約３ナノメートル以下、約２．８ナノメートル以下、約２．６ナノメートル以下、約２．４ナノメートル以下、約２．２ナノメートル以下、約２．０ナノメートル以下、約１．８ナノメートル以下、約１．６ナノメートル以下、約１．４ナノメートル以下、約１．２ナノメートル以下、約１．０ナノメートル以下、約０．８ナノメートル以下、約０．６ナノメートル以下、約０．５ナノメートル以下、約０．４ナノメートル以下、約０．３ナノメートル以下、または更に約０．２ナノメートル以下などの、約１０ナノメートル以下の厚さを有し得る。更に別の実施形態によれば、第３の遮断層２３６は、少なくとも０．１ナノメートル、少なくとも約０．２ナノメートル、少なくとも約０．３ナノメートルなどの、少なくとも約０．４ナノメートルの厚さを有し得る。第３の遮断層２３６は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内の厚さを有し得ることが、理解されよう。第３の遮断層２３６は、上記の任意の最小値と最大値との間の任意の値の厚さを有し得ることが、更に理解されよう。

更に別の実施形態によれば、複合積層体２００は、特定の厚さの比ＴＨ_ＢＬ３／ＴＨ_ＦＬを有し得、式中、ＴＨ_ＢＬ２が、第３の遮断層２３６の厚さであり、ＴＨ_ＦＬが、機能層２２０の厚さである。例えば、複合積層体２００は、約４以下、約３以下、約２以下、約１以下、約０．９以下、約０．８以下、約０．７以下、約０．６以下、約０．５以下、約０．４以下、約０．３以下、約０．３５以下、約０．３以下、約０．２５以下、約０．２以下、約０．１５以下、約０．１以下、約０．０５以下、約０．０４以下、約０．０３以下、約０．０２以下、更に約０．０１以下、または更に約０．００５以下などの約５以下の比ＴＨ_ＢＬ２／ＴＨ_ＦＬを有し得る。なお別の実施形態によれば、複合積層体２００は、少なくとも約０．００５、少なくとも約０．０１、少なくとも約０．０２、少なくとも約０．０３、少なくとも約０．０４、少なくとも約０．０５、少なくとも約０．０６、少なくとも約０．０７、少なくとも約０．０８、少なくとも約０．０９、少なくとも約０．１、少なくとも約０．２、約０．４で、少なくとも約０．５、などの少なくとも約．００２の比ＴＨ_ＢＬ３／ＴＨ_ＦＬを有し得る。複合積層体２００は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内の任意の値の比ＴＨ_ＢＬ２／ＴＨ_ＦＬを有し得ることが理解されよう。複合積層体２００は、上記の任意の最小値と最大値との間の任意の値の比ＴＨ_ＢＬ２／ＴＨ_ＦＬを有し得ることが、更に理解されよう。

図３は、例示的な複合積層体３００の一部分の断面図の図解を含む。図３に示されるように、複合積層体３００は、第１の基材層３１０、機能層３２０、第１の遮断層３３２、第２の遮断層３３４、第３の遮断層３３６、及び第４の遮断層３３８を含み得る。第１の遮断層３３２は、耐腐食性材料を含み得る。第２の遮断層３３４は、第１の遮断層３３２に隣接し得、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る。第３の遮断層３３６は、耐腐食性材料を含み得る。第４の遮断層３３８は、第３の遮断層３３６に隣接し得、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る。

第１の遮断層３３２及び第２の遮断層３３４の組み合わせは、機能層３２０に隣接し得る第１の二重遮断積層体３３０と称され得る。第３の遮断層３３６及び第４の遮断層３３８の組み合わせは、第２の二重遮断積層体３３５と称され得る。特定の実施形態によれば、及び図３に示されるように、第１の二重遮断積層体３３０は、第１の基材層３１０と機能層３２０との間に位置され得、第２の二重遮断積層体３３５はまた、機能層３２０及び二重遮断積層体３３０が第２の二重遮断積層体３３５と第１の基材３１０との間にあり得るように、機能層３２０に隣接し得る。

なお他の特定の実施形態により、また図３に示されるように、第１の遮断層３３２及び第２の遮断層３３４は、第１の遮断層３３２が機能層３２０に隣接するように第１の二重遮断積層体３３０に配置され得る。

なお他の実施形態によれば、第１の遮断層３３２及び第２の遮断層３３４は、第２の遮断層３３４が、機能層３２０に隣接するように第１の二重遮断積層体３３０に配置され得る（図３に示されない）。

なお他の特定の実施形態により、また図３に示されるように、第３の遮断層３３６及び第４の遮断層３３８は、第３の遮断層３３６が機能層３２０に隣接するように第２の二重遮断積層体３３５に配置され得る。

なお他の実施形態によれば、第３の遮断層３３６及び第４の遮断層３３８は、第４の遮断層３３８が、機能層３２０に隣接するように第２の二重遮断積層体３３５に配置され得る（図３に示されない）。

複合積層体３００、第１の基材層３１０、機能層３２０、第１の遮断層３３２、第２の遮断層３３４、及び第３の遮断層３３６は、図１または２の対応する層を参照して本明細書に記載の特徴のうちのいずれかを有し得ることが理解されよう。

特定の実施形態によれば、第３の遮断層３３６は、耐腐食性材料を含み得る。なお別の実施形態によれば、第３の遮断層３３６は、基本的に耐腐食性材料からなり得る。更に別の実施形態によれば、第３の遮断層３３６は、耐腐食層であり得る。特定の実施形態によれば、第３の遮断層３３６の耐腐食性材料は、例えば、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウム、イリジウム、白金、または金などの、任意の貴金属（ｎｏｂｌｅｍｅｔａｌ）または貴金属（ｐｒｅｃｉｏｕｓｍｅｔａｌ）であり得る。特定の実施形態によれば、第３の遮断層３３６の耐腐食性材料は、例えば、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウム、イリジウム、白金、またはそれらの組み合わせ等の、任意の貴金属（ｎｏｂｌｅｍｅｔａｌ）または貴金属（ｐｒｅｃｉｏｕｓｍｅｔａｌ）の合金であり得る。なお他の実施形態によれば、第３の遮断層３３６は、金を含み得る。更に他の実施形態によれば、第３の遮断層３３６は、基本的に金からなり得る。他の実施形態によれば、第３の遮断層３３６は、金遮断層と称され得る。

更に別の特定の実施形態によれば、第４の遮断層３３８は、銀よりも安定性に欠ける標準的な潜在性を有する任意の遮断材料を含み得る。例えば、第４の遮断層３３８は、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る。なお別の実施形態によれば、第４の遮断層３３８は、ＮｉＣｒを含み得る。なお他の実施形態によれば、第４の遮断層３３８は、基本的にＮｉＣｒからなり得る。更に別の実施形態によれば、第４の遮断層３３８は、ＮｉＣｒ層と称され得る。

なお別の実施形態によれば、第４の遮断層３３８は、特定の厚さを有し得る。例えば、第４の遮断層３３８は、約９ナノメートル以下、約８ナノメートル以下、約７ナノメートル以下、約６ナノメートル以下、約５ナノメートル以下、、約４．５ナノメートル以下、約４ナノメートル以下、約３．５ナノメートル以下、約３ナノメートル以下、約２．８ナノメートル以下、約２．６ナノメートル以下、約２．４ナノメートル以下、約２．２ナノメートル以下、約２．０ナノメートル以下、約１．８ナノメートル以下、約１．６ナノメートル以下、約１．４ナノメートル以下、約１．２ナノメートル以下、約１．０ナノメートル以下、約０．８ナノメートル以下、約０．６ナノメートル以下、約０．５ナノメートル以下、約０．４ナノメートル以下、約０．３ナノメートル以下、または更に約０．２ナノメートル以下などの、約１０ナノメートル以下の厚さを有し得る。更に別の実施形態によれば、第４の遮断層３３８は、少なくとも０．１ナノメートル、少なくとも約０．２ナノメートル、少なくとも約０．３ナノメートルなどの、少なくとも約０．４ナノメートルの厚さを有し得る。第４の遮断層３３８は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内の厚さを有し得ることが、理解されよう。第４の遮断層３３８は、上記の任意の最小値と最大値との間の任意の値の厚さを有し得ることが、更に理解されよう。

図４は、例示的な複合積層体４００の一部分の断面図の図解を含む。図４に示されるように、複合積層体４００は、第１の基材層４１０、機能層４２０、第１の遮断層４３２、第２の遮断層４３４、第３の遮断層４３６、第４の遮断層４３８、及び第１の誘電体層４４０を含み得る。第１の遮断層４３２は、耐腐食性材料を含み得る。第２の遮断層４３４は、第１の遮断層４３２に隣接し得、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る。第１の遮断層４３２及び第２の遮断層４３４の組み合わせは、機能層４２０に隣接し得る第１の二重遮断積層体４３０と称され得る。第３の遮断層４３６は、耐腐食性材料を含み得る。第４の遮断層４３８は、第３の遮断層４３６に隣接し得、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る。第３の遮断層４３６及び第４の遮断層４３８の組み合わせは、機能層４２０が第１の二重遮断積層体４３０と第２の二重遮断積層体４３５との間にあり得るように、機能層４２０に隣接し得る第２の二重遮断積層体４３５と称され得る。第１の誘電体層４４０は、第１の二重遮断積層体４３０と第１の基材層４１０との間に位置され得る。

複合積層体４００、第１の基材層４１０、機能層４２０、第１の遮断層４３２、第２の遮断層４３４、第１の二重遮断積層体４３０、第３の遮断層４３６、第４の遮断層４３８、及び第２の二重遮断積層体４３５は、図１、２または３の対応する層を参照して本明細書に記載の特徴のうちのいずれかを有し得ることが理解されよう。

代替実施形態によれば、第１の誘電体層４４０が、図１、２、または３に示される複合積層体のいずれかに含まれ得ることが更に理解されよう。

ある特定の実施形態によれば、第１の誘電体層４４０は、誘電体材料を含み得る。なお他の実施形態によれば、第１の誘電体層４４０は、基本的に誘電体材料からなり得る。第１の誘電体層４４０の誘電体材料は、任意の既知の透明誘電体材料であり得る。例えば、透明誘電体材料は、酸化インジウム（Ｉｎ）、酸化スズ（Ｓｎ）、または酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の任意の割合の混合物であり得る。なお他の実施形態によれば、誘電体材料は、場合によっては酸素の化学量論下での、及び場合によっては別の原子（例えばＳｂ）でドープされた、酸化インジウム、酸化スズ、または酸化インジウムスズのそれぞれの純粋な酸化物を含み得る。更に他の実施形態によれば、透明誘電体材料は、場合によっては酸素の化学量論下での、及び場合によっては２０％未満のドーパント重量含有量で、別の原子（例えば、Ｉｎ、Ｇａ、Ａｌ）でドープされた、純粋な酸化物を含む、Ｓｎ酸化物及びＺｎ酸化物（ＳｎＺｎＯ_ｘ）の任意の比率の任意の混合物を含み得る。なお他の実施形態によれば、透明誘電体材料は、Ｓｉ酸化物、Ｓｉ窒化物、またはＳｉ酸窒化物の任意の組成物を含み得る。更に他の実施形態によれば、誘電体材料は、化学量論的または化学量論形態下での任意のＴｉ酸化物（すなわち、ＴｉＯ_ｘ、１＜ｘ＜２）を含み得る。なお他の実施形態によれば、誘電体材料は、化学量論的または化学量論形態下での任意のＮｂ酸化物（すなわち、ＮｂＯ_ｘ、１＜ｘ＜２．５）を含み得る。更に他の実施形態によれば、誘電体材料は、ＩＴＯ、Ｓｎ_ｘＺｎ_ｙＯ_ｚ、ＳｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ_ｘ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＡＺＯ、またはそれらの組み合わせのうちのいずれか１つを含み得る。

更に別の実施形態によれば、第１の誘電体層４４０は、特定の厚さを有し得る。例えば、第１の誘電体層４４０は、約１９０ナノメートル以下、約１８０ナノメートル以下、約１７０ナノメートル以下、約１６０ナノメートル以下、約１５０ナノメートル以下、約１４０ナノメートル以下、約１３０ナノメートル以下、約１２０ナノメートル以下、約１１０ナノメートル以下、約１００ナノメートル以下、約９５ナノメートル以下、約９０ナノメートル以下、約８５ナノメートル以下、約８０ナノメートル以下、約７５ナノメートル以下、約７０ナノメートル以下、約６５ナノメートル以下、約６０ナノメートル以下、約５５ナノメートル以下、約５０ナノメートル以下、約４５ナノメートル以下、約４０ナノメートル以下、約３５ナノメートル以下、約３０ナノメートル以下、約３０ナノメートル以下、約２５ナノメートル以下、約２０ナノメートル以下、または更に約１５ナノメートル以下などの、約２００ナノメートル以下の厚さを有し得る。なお別の実施形態によれば、第１の誘電体層４４０は、少なくとも約５ナノメートル、少なくとも約８ナノメートル、少なくとも約１０ナノメートル、少なくとも約２０ナノメートル、少なくとも約２５ナノメートル、または更に少なくとも約３０ナノメートル、などの少なくとも約３ナノメートルの厚さを有し得る。第１の誘電体層４４０は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内の厚さを有し得ることが、理解されよう。第１の誘電体層４４０は、上記の任意の最小値と最大値との間の任意の値の厚さを有し得ることが、更に理解されよう。

図５は、例示的な複合積層体５００の一部分の断面図の図解を含む。図５に示されるように、複合積層体５００は、第１の基材層５１０、機能層５２０、第１の遮断層５３２、第２の遮断層５３４、第３の遮断層５３６、第４の遮断層５３８、第１の誘電体層５４０、及び第２の誘電体層５４５を含み得る。第１の遮断層５３２は、耐腐食性材料を含み得る。第２の遮断層５３４は、第１の遮断層５３２に隣接し得、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る。第１の遮断層５３２及び第２の遮断層５３４の組み合わせは、機能層５２０に隣接し得る第１の二重遮断積層体５３０と称され得る。第３の遮断層５３６は、耐腐食性材料を含み得る。第４の遮断層５３８は、第３の遮断層５３６に隣接し得、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る。第３の遮断層５３６及び第４の遮断層５３８の組み合わせは、機能層５２０が第１の二重遮断積層体５３０と第２の二重遮断積層体５３５との間にあり得るように、機能層５２０に隣接し得る第２の二重遮断積層体５３５と称され得る。第１の誘電体層５４０は、第１の二重遮断積層体５３０と第１の基材層５１０との間に位置され得る。第２の誘電体層５４５は、第２の二重遮断積層体５３５が第２の誘電体層５４５と機能層５２０との間にあるように、第２の二重遮断積層体５３５に隣接して位置され得る。

複合積層体５００、第１の基材層５１０、機能層５２０、第１の遮断層５３２、第２の遮断層５３４、第１の二重遮断積層体５３０、第３の遮断層５３６、第４の遮断層５３８、第２の二重遮断積層体５３５、及び第１の誘電体層５４０は、図１、２、３または４の対応する層を参照して本明細書に記載の特徴のうちのいずれかを有し得ることが理解されよう。

代替実施形態によれば、第２の誘電体層５４５が、図１、２、３、または４に示される複合積層体のいずれかに含まれ得ることが更に理解されよう。

ある特定の実施形態によれば、第２の誘電体層５４５は、誘電体材料を含み得る。なお他の実施形態によれば、第２の誘電体層５４５は、基本的に、誘電体材料からなり得る。第２の誘電体層５４５の誘電体材料は、任意の既知の透明誘電体材料であり得る。例えば、透明誘電体材料は、酸化インジウム（Ｉｎ）、酸化スズ（Ｓｎ）、または酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の任意の割合の混合物であり得る。なお他の実施形態によれば、誘電体材料は、場合によっては酸素の化学量論下での、及び場合によっては別の原子（例えばＳｂ）でドープされた、酸化インジウム、酸化スズ、または酸化インジウムスズのそれぞれの純粋な酸化物を含み得る。更に他の実施形態によれば、透明誘電体材料は、場合によっては酸素の化学量論下での、及び場合によっては２０％未満のドーパント重量含有量で、別の原子（例えば、Ｉｎ、Ｇａ、Ａｌ）でドープされた、純粋な酸化物を含む、Ｓｎ酸化物及びＺｎ酸化物（ＳｎＺｎＯ_ｘ）の任意の比率の任意の混合物を含み得る。なお他の実施形態によれば、透明誘電体材料は、Ｓｉ酸化物、Ｓｉ窒化物、またはＳｉ酸窒化物の任意の組成物を含み得る。更に他の実施形態によれば、誘電体材料は、化学量論的または化学量論形態下での任意のＴｉ酸化物（すなわち、ＴｉＯ_ｘ、１＜ｘ＜２）を含み得る。なお他の実施形態によれば、誘電体材料は、化学量論的または化学量論形態下での任意のＮｂ酸化物（すなわち、ＮｂＯ_ｘ、１＜ｘ＜２．５）を含み得る。更に他の実施形態によれば、誘電体材料は、ＩＴＯ、Ｓｎ_ｘＺｎ_ｙＯ_ｚ、ＳｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ_ｘ、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＡＺＯ、またはそれらの組み合わせのうちのいずれか１つを含み得る。

更に別の実施形態によれば、第２の誘電体層５４５は、特定の厚さを有し得る。例えば、第２の誘電体層は、約１９０ナノメートル以下、約１８０ナノメートル以下、約１７０ナノメートル以下、約１６０ナノメートル以下、約１５０ナノメートル以下、約１４０ナノメートル以下、約１３０ナノメートル以下、約１２０ナノメートル以下、約１１０ナノメートル以下、約１００ナノメートル以下、約９５ナノメートル以下、約９０ナノメートル以下、約８５ナノメートル以下、約８０ナノメートル以下、約７５ナノメートル以下、約７０ナノメートル以下、約６５ナノメートル以下、約６０ナノメートル以下、約５５ナノメートル以下、約５０ナノメートル以下、約４５ナノメートル以下、約４０ナノメートル以下、約３５ナノメートル以下、約３０ナノメートル以下、約３０ナノメートル以下、約２５ナノメートル以下、約２０ナノメートル以下、または更に約１５ナノメートル以下などの、約２００ナノメートル以下の厚さを有し得る。なお別の実施形態によれば、第２の誘電体層は、少なくとも約５ナノメートル、少なくとも約８ナノメートル、少なくとも約１０ナノメートル、少なくとも約２０ナノメートル、少なくとも約２５ナノメートル、または更に少なくとも約３０ナノメートル、などの少なくとも約３ナノメートルの厚さを有し得る。第２の誘電体層は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内の厚さを有し得ることが、理解されよう。第２の誘電体層は、上記の任意の最小値と最大値との間の範囲内の任意の値の厚さを有し得ることが、更に理解されよう。

図６は、例示的な複合積層体６００の一部分の断面図の図解を含む。図６に示されるように、複合積層体６００は、第１の基材層６１０、機能層６２０、第１の遮断層６３２、第２の遮断層６３４、第３の遮断層６３６、第４の遮断層６３８、第１の誘電体層６４０、第２の誘電体層６４５、及び第２の基材層６５０を含み得る。第１の遮断層６３２は、耐腐食性材料を含み得る。第２の遮断層６３４は、第１の遮断層６３２に隣接し得、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み得る。第１の遮断層６３２及び第２の遮断層６３４の組み合わせは、機能層６２０に隣接し得る第１の二重遮断積層体６３０と称され得る。第３の遮断層６３６は、耐腐食性材料を含み得る。第４の遮断層６３８は、第３の遮断層６３６に隣接し得る。第３の遮断層６３６及び第４の遮断層６３８の組み合わせは、機能層６２０が第１の二重遮断積層体６３０と第２の二重遮断積層体６３５との間にあり得るように、機能層６２０に隣接し得る第２の二重遮断積層体６３５と称され得る。第１の誘電体層６４０は、第１の二重遮断積層体６３０と第１の基材層６１０との間に位置され得る。第２の誘電体層６４５は、第２の二重遮断積層体６３５が第２の誘電体層６４５と機能層６２０との間にあるように、第２の二重遮断積層体６３５に隣接して位置され得る。

複合積層体６００、第１の基材層６１０、機能層６２０、第１の遮断層６３２、第２の遮断層６３４、第１の二重遮断積層体６３０、第３の遮断層６３６、第４の遮断層６３８、第２の二重遮断積層体６３５、第１の誘電体層６４０、及び第２の誘電体層６４５は、図１、２、３、４または５の対応する層を参照して本明細書に記載の特徴のうちのいずれかを有し得ることが理解されよう。

代替実施形態によれば、第２の基材層６５０が、図１、２、３、４、または５に示される複合積層体のいずれかに含まれ得ることが更に理解されよう。

特定の実施形態によれば、第２の基材層６５０は、ポリマー材料を含み得る。別の特定の実施形態によれば、第２の基材層６５０は、ポリマー材料からなり得る。なお他の実施形態によれば、第２の基材層６５０は、ポリマー基材層であり得る。特定の実施形態によれば、ポリマー基材層は、任意の望ましいポリマー材料を含み得る。

更に別の実施形態によれば、第２の基材層６５０は、ガラス材料を含み得る。更に別の実施形態によれば、第２の基材層６５０は、ガラス材料からなり得る。なお別の実施形態によれば、第２の基材層６５０は、ガラス基材層であり得る。特定の実施形態によれば、ガラス基材層は、任意の望ましいガラス材料を含み得る。

なお他の実施形態によれば、第２の基材層６５０は、接着剤材料を使用して複合積層体６００の層の残りに接着され得る。なお他の実施形態によれば、接着剤材料は、任意の既知の接着剤材料であり得る。なお他の実施形態によれば、接着剤材料は、任意のアクリル系接着剤であり得る。更に別の実施形態によれば、接着剤材料は、任意のシリコーン系接着剤であり得る。

特定の実施形態によれば、本明細書に記載のように、第１の基材と第２の基材の上に、またはその間に形成される複合積層体の全ての層は、任意の好適な技法を使用して形成され得る。例えば、本明細書に記載のように、第１の基材と第２の基材の上に、またはその間に形成される複合積層体の全ての層は、マグネトロンスパッタリングを使用して形成され得る。なお他の実施形態によれば、本明細書に記載のように、第１の基材と第２の基材の上に、またはその間に形成される複合積層体の全ての層は、物理蒸着法を使用して形成され得る。

多くの異なる態様及び実施形態が、可能である。それらの態様及び実施形態のうちのいくつかは、本明細書に記載されている。本明細書を読んだ後、当業者は、それらの態様及び実施形態は例示のみであり、本発明の範囲を限定しないことを理解するであろう。実施形態は、下に列挙される実施形態のうちの任意の１つ以上に従ってもよい。

実施形態１．複合積層体であって、第１の基材層と、銀を含む機能層と、耐食性材料を含む第１の遮断層と、ＮｉＣｒを含む第２の遮断層と、を含み、第２の遮断層が、第１の遮断層に隣接し、複合積層体が、少なくとも約５０％のＶＬＴ、及び少なくとも約３０％のＴＳＥＲを有する、積層体。

実施形態２．複合積層体であって、第１の基材層と、銀を含む機能層と、耐食性材料を含む第１の遮断層と、ＮｉＣｒを含む第２の遮断層と、を含み、第２の遮断層が、第１の遮断層に隣接し、複合積層体が、約２０％以下の放射率を有する、積層体。

実施形態３．複合積層体の形成方法であって、第１の基材層を提供することと、銀を含む機能層を形成することと、耐食性材料を含む第１の遮断層を形成することと、ＮｉＣｒを含む第２の遮断層を形成することと、を含み、第２の遮断層が、第１の遮断層に隣接し、複合積層体が、少なくとも約５０％のＶＬＴ、及び少なくとも約３０％のＴＳＥＲを有する、方法。

実施形態４．第１の基材がポリマー材料を含み、第１の基材がガラス基材を含み、第１の基材が、ポリマー材料からなり、第１の基材が、ガラス基材からなる、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態５．耐腐食性材料が、任意の貴金属（ｎｏｂｌｅｍｅｔａｌ）または貴金属（ｐｒｅｃｉｏｕｓｍｅｔａｌ）のうちのいずれか１つを含み、腐食性材料がルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウム、イリジウム、白金、または金を含む、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態６．第１の遮断層が、金からなる、白金からなる、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態７．複合積層体が、少なくとも約１０％、少なくとも約２０％、少なくとも約３０％、少なくとも約４０％、少なくとも約５０％、少なくとも約６０％、少なくとも約７０％、少なくとも約７５％、少なくとも約８０％、少なくとも約８５％、及び少なくとも約９０％のＶＬＴを含む、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態８．複合積層体が、約９９％以下のＶＬＴを含む、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態９．複合積層体が、少なくとも約少なくとも約３０％、少なくとも約４０％、少なくとも約５０％、少なくとも約６０％、少なくとも約７０％、少なくとも約８０％、及び少なくとも約８５％のＴＳＥＲを含む、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態１０．機能層が銀を含む、銀からなる、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態１１．機能層が、少なくとも約５ナノメートル、少なくとも約６ナノメートル、少なくとも約７ナノメートル、少なくとも約８ナノメートル、少なくとも約９ナノメートル、少なくとも約１０ナノメートル、少なくとも約１２ナノメートル、少なくとも約１４ナノメートル、少なくとも約１６ナノメートル、少なくとも約１８ナノメートル、少なくとも約２０ナノメートル、少なくとも約２５ナノメートル、少なくとも約３０ナノメートル、及び少なくとも約３５ナノメートルの厚さを有する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態１２．機能層が、約４０ナノメートル以下、約３９ナノメートル以下、約３８ナノメートル以下、約３７ナノメートル以下、約３６ナノメートル以下、約３５ナノメートル以下、約３４ナノメートル以下、約３３ナノメートル以下、３２ナノメートル以下、及び約３１ナノメートル以下の厚さを有する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態１３．機能層が、約２０％以下、約１８％以下、約１５％以下、約１３％以下、約１３％以下、約１０％以下、約９％以下、約８％以下、約７％以下、約６％以下、及び約５％以下の放射率を有する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態１４．第１の遮断層が、約１０ナノメートル以下、約９ナノメートル以下、約８ナノメートル以下、約７ナノメートル以下、約６ナノメートル以下、約５ナノメートル以下、約４．５ナノメートル以下、約４ナノメートル以下、約３．５ナノメートル以下、約３ナノメートル以下、約２．８ナノメートル以下、約２．６ナノメートル以下、約２．４ナノメートル以下、約２．２ナノメートル以下、約２．０ナノメートル以下、約１．８ナノメートル以下、約１．６ナノメートル以下、約１．４ナノメートル以下、約１．２ナノメートル以下、約１．０ナノメートル以下、約０．８ナノメートル以下、約０．６ナノメートル以下、約０．５ナノメートル以下、約０．４ナノメートル以下、約０．３ナノメートル以下、及び約０．２ナノメートル以下の厚さを有する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態１５．第１の遮断層が、少なくとも約０．１ナノメートル、少なくとも約０．２ナノメートル、少なくとも約０．３ナノメートル、及び少なくとも約０．４ナノメートルの厚さを有する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態１６．複合積層体が、約５以下、約４以下、約３以下、約２以下、約１以下、約０．９以下、約０．８以下、約０．７以下、約０．６以下、約０．５以下、約０．４以下、約０．３以下、約０．３５以下、約０．３以下、約０．２５以下、約０．２以下、約０．１５以下、約０．１以下、約０．０５以下、約０．０４以下、約０．０３以下、約０．０２以下、約０．０１以下、及び約０．００５以下の厚さの比ＴＨ_ＢＬ１／ＴＨ_ＦＬを更に含み、式中、ＴＨ_ＢＬ１が第１の遮断層の厚さであり、ＴＨ_ＦＬが機能層の厚さである、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態１７．複合積層体が、少なくとも約０．００２、少なくとも約０．００５、少なくとも約０．０１、少なくとも約０．０２、少なくとも約０．０３、少なくとも約０．０４、少なくとも約０．０５、少なくとも約０．０６、少なくとも約０．０７、少なくとも約０．０８、少なくとも約０．０９、少なくとも約０．１、少なくとも約０．２、約０．４で、及び少なくとも約０．５の厚さの比ＴＨ_ＢＬ１／ＴＨ_ＦＬを更に含み、式中、ＴＨ_ＢＬ１が第１の遮断層の厚さであり、ＴＨ_ＦＬが機能層の厚さである、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態１８．第１の遮断層が、機能層に隣接し、第１の遮断層が、機能層と第１の基材層との間にある、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態１９．第２の遮断層が、銀よりも安定性に欠ける標準的な潜在性を有する材料を含み、第２の遮断層が、ＮｉＣｒを含む、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態２０．第２の遮断層が、約１０ナノメートル以下、約９ナノメートル以下、約８ナノメートル以下、約７ナノメートル以下、約６ナノメートル以下、約５ナノメートル以下、約４．５ナノメートル以下、約４ナノメートル以下、約３．５ナノメートル以下、約３ナノメートル以下、約２．８ナノメートル以下、約２．６ナノメートル以下、約２．４ナノメートル以下、約２．２ナノメートル以下、約２．０ナノメートル以下、約１．８ナノメートル以下、約１．６ナノメートル以下、約１．４ナノメートル以下、約１．２ナノメートル以下、約１．０ナノメートル以下、約０．８ナノメートル以下、約０．６ナノメートル以下、約０．５ナノメートル以下、約０．４ナノメートル以下、約０．３ナノメートル以下、及び約０．２ナノメートル以下の厚さを有する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態２１．第２の遮断層が、少なくとも約０．１ナノメートル、少なくとも約０．２ナノメートル、少なくとも約０．３ナノメートル、及び少なくとも約０．４ナノメートルの厚さを有する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態２２．複合積層体が、約５以下、約４以下、約３以下、約２以下、約１以下、約０．９以下、約０．８以下、約０．７以下、約０．６以下、約０．５以下、約０．４以下、約０．３以下、約０．３５以下、約０．３以下、約０．２５以下、約０．２以下、約０．１５以下、約０．１以下、約０．０５以下、約０．０４以下、約０．０３以下、約０．０２以下、更に約０．０１以下、及び約０．００５以下の厚さの比ＴＨ_ＢＬ２／ＴＨ_ＦＬを更に含み、式中、ＴＨ_ＢＬ２が第２の遮断層の厚さであり、ＴＨ_ＦＬが機能層の厚さである、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態２３．複合積層体が、少なくとも約０．００２、少なくとも約０．００５、少なくとも約０．０１、少なくとも約０．０２、少なくとも約０．０３、少なくとも約０．０４、少なくとも約０．０５、少なくとも約０．０６、少なくとも約０．０７、少なくとも約０．０８、少なくとも約０．０９、少なくとも約０．１、少なくとも約０．２、約０．４で、及び少なくとも約０．５の厚さの比ＴＨ_ＢＬ２／ＴＨ_ＦＬを更に含み、式中、ＴＨ_ＢＬ２が第２の遮断層の厚さであり、ＴＨ_ＦＬが機能層の厚さである、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態２４．第２の遮断層が、機能層に隣接し、第２の遮断層が、機能層と第１のポリマー基材層との間にある、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態２５．第３の遮断層が、任意の貴金属（ｎｏｂｌｅｍｅｔａｌ）または貴金属（ｐｒｅｃｉｏｕｓｍｅｔａｌ）、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウム、イリジウム、白金、金を含む、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態２６．第３の遮断層が、約１０ナノメートル以下、約９ナノメートル以下、約８ナノメートル以下、約７ナノメートル以下、約６ナノメートル以下、約５ナノメートル以下、約４．５ナノメートル以下、約４ナノメートル以下、約３．５ナノメートル以下、約３ナノメートル以下、約２．８ナノメートル以下、約２．６ナノメートル以下、約２．４ナノメートル以下、約２．２ナノメートル以下、約２．０ナノメートル以下、約１．８ナノメートル以下、約１．６ナノメートル以下、約１．４ナノメートル以下、約１．２ナノメートル以下、約１．０ナノメートル以下、約０．８ナノメートル以下、約０．６ナノメートル以下、約０．５ナノメートル以下、約０．４ナノメートル以下、約０．３ナノメートル以下、及び約０．２ナノメートル以下の厚さを有する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態２７．第３の遮断層が、少なくとも約０．１ナノメートル、少なくとも約０．２ナノメートル、少なくとも約０．３ナノメートル、及び少なくとも約０．４ナノメートルの厚さを有する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態２８．複合積層体が、約５以下の厚さの比ＴＨ_ＢＬ３／ＴＨ_ＦＬを更に含み、式中、ＴＨ_ＢＬ３が第３の遮断層の厚さであり、ＴＨ_ＦＬが機能層の厚さである、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態２９．複合積層体が、少なくとも約０．００２の厚さの比ＴＨ_ＢＬ３／ＴＨ_ＦＬを更に含み、式中、ＴＨ_ＢＬ３が第３の遮断層の厚さであり、ＴＨ_ＦＬが機能層の厚さである、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態３０．第３の遮断層が、機能層に隣接する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態３１．第４の遮断層が、任意の貴金属（ｎｏｂｌｅｍｅｔａｌ）または貴金属（ｐｒｅｃｉｏｕｓｍｅｔａｌ）、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウム、イリジウム、白金、金を含む、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態３２．第４の遮断層が、約１０ナノメートル以下、約９ナノメートル以下、約８ナノメートル以下、約７ナノメートル以下、約６ナノメートル以下、約５ナノメートル以下、約４．５ナノメートル以下、約４ナノメートル以下、約３．５ナノメートル以下、約３ナノメートル以下、約２．８ナノメートル以下、約２．６ナノメートル以下、約２．４ナノメートル以下、約２．２ナノメートル以下、約２．０ナノメートル以下、約１．８ナノメートル以下、約１．６ナノメートル以下、約１．４ナノメートル以下、約１．２ナノメートル以下、約１．０ナノメートル以下、約０．８ナノメートル以下、約０．６ナノメートル以下、約０．５ナノメートル以下、約０．４ナノメートル以下、約０．３ナノメートル以下、及び約０．２ナノメートル以下の厚さを有する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態３３．第４の遮断層が、少なくとも約０．１ナノメートル、少なくとも約０．２ナノメートル、少なくとも約０．３ナノメートル、及び少なくとも約０．４ナノメートルの厚さを有する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態３４．複合積層体が、約５以下の厚さの比ＴＨ_ＢＬ４／ＴＨ_ＦＬを更に含み、式中、ＴＨ_ＢＬ４が第４の遮断層の厚さであり、ＴＨ_ＦＬが機能層の厚さである、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態３５．複合積層体が、少なくとも約０．００２の厚さの比ＴＨ_ＢＬ４／ＴＨ_ＦＬを更に含み、式中、ＴＨ_ＢＬ４が第４の遮断層の厚さであり、ＴＨ_ＦＬが機能層の厚さである、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態３６．第４の遮断層が、第３の遮断層に隣接し、機能層に隣接する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態３７．複合積層体が、第１の誘電体層を更に含む、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態３８．第１の誘電体層が、ＩＴＯ、ＳｎＺｎＯ、ＳｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ_ｘ、Ｉｎ_２Ｏ_３またはＡＺＯを含む、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態３９．第１の誘電体層が、約１００ナノメートル以下の厚さを有する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態４０．第１の誘電体層が、少なくとも約３ナノメートルの厚さを有する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態４１．第１の誘電体層が、第２の遮断層と第１のポリマー基材との間にある、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態４２．複合積層体が、第２の誘電体層を更に含む、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態４３．第２の誘電体層が、ＩＴＯ、ＳｎＺｎＯ、ＳｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ_ｘ、Ｉｎ_２Ｏ_３またはＡＺＯを含む、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態４４．第２の誘電体層が、約１００ナノメートル以下の厚さを有する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態４５．第２の誘電体層が、少なくとも約３ナノメートルの厚さを有する、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態４６．第２の誘電体層が、第２の遮断層と第１のポリマー基材との間にある、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態４７．第１の基材層がＰＥＴを含む、ＰＥＴからなる、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態４８．複合積層体が、第２の基材層を更に含み、第２の基材層が、ガラス層であり、第２の基材層が、ポリマー基材層である、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

実施形態４９．第２の基材層が、ＰＥＴを含む、ＰＥＴからなる、先行の実施形態のうちのいずれかの複合積層体または方法。

本明細書に記載の概念は、請求項に記載の本発明の範囲を限定しない以下の実施例に、更に記載されよう。

試料複合積層体
６つの試料複合積層体（Ｓ１〜Ｓ６）を、本明細書に記載のある特定の実施形態に従って構成及び形成した。６つ全ての試料複合積層体（Ｓ１〜Ｓ６）は、第１の基材層、第１の（すなわち底部）誘電体層、及び第２の（すなわち上部）誘電体層を含む。一般的な層の組成、配置、及び厚さを含む、底部と上部誘電体層との間に位置する各積層体の層の構成は、下記の表１に要約されている。表１に列挙される層の順序は、表の下列が複合積層体の底部層に対応する複合積層体の層の順序を示すことが理解されよう。

１０日ＢＳＮ試験を使用して、及び２１日ＢＳＮ試験を使用して、各試料複合積層体の性能を評価した。規格ＥＮ１０９６２に従って、ＢＳＮ試験を行った。具体的には、ＢＳＮ持続期間試験は、コーティングされた層を、一定温度で湿気及び塩分を含んだ（中性）雰囲気に曝露することからなる。試験されるコーティングされた層は、柔軟なＰＥＴ基材上に堆積され、この基材は、持続期間試験中常にガラス支持体に積層されている。試料（寸法１００ｍｍ×１００ｍｍ）を、垂直軸に対して１５°＋／−５°の傾斜を伴って、２０ｍｍ≦（各試料間）距離≦４０ｍｍで均一に広げて、チャンバの内部に配置する。コーティングされた層を有する側面は、上向きに、またはチャンバのドアに向かって面するべきである。この試験のために設計された機械は、０．４ｍ３に勝る総容積を有するチャンバを有するべきである。チャンバ内側の塩分レベルは、持続期間試験中常に５０ｇ／ｌ＋／−５ｇ／ｌの塩分濃度、及び２５℃＋／−２℃の温度で均一性を保証するために自動的に制御されなければならない。温度は、チャンバの壁から少なくとも１００ｍｍで測定されるべきである。塩分噴霧のｐＨは、中性であるべきである。チャンバは、試料導入の少なくとも２４時間前に始動され、試験の平衡状態に調節されなければならない。中性の塩水（典型的には、機械の縁部及び側壁に沿って蓄積される）は、試料表面の上に直接滴下されるべきではない。

各試料複合積層体（Ｓ１〜Ｓ６）の層の全体的な厚さを、各試料複合積層体に７０％のＶＬＴを生成するように構成した。各試料複合積層体における機能層及び遮断層の相対的な厚さは、複合積層体が約１０％〜約９９％の範囲内の任意の所望のＶＬＴを達成し得るように、本明細書に記載のように調整され得ることが理解されよう。

記録された性能測定値は、シート抵抗の進展（ΔＲＳｑ）及び可視光反射率の進展（ΔＲＬ）を含む。結果を、下記の表２に提供する。

表２に示されるように、試料Ｓ１〜Ｓ６は、１０日後のシート抵抗または可視光反射率の進展の増加を示さなかった。表２に更に示されるように、試料Ｓ１〜Ｓ６は、２１日後のシート抵抗または可視光反射率の進展に、限られた増加のみを示した。

各試料複合積層体の性能を、各試料複合積層体の表面の光学顕微鏡画像の視覚的評価を通してもまた、評価した。

図７ａは、１０日ＢＳＮ試験後の試料Ｓ１の表面画像を含む。図７ｂは、１０日ＢＳＮ試験後の試料Ｓ２の表面画像を含む。図７ｃは、１０日ＢＳＮ試験後の試料Ｓ３の表面画像を含む。図７ｄは、１０日ＢＳＮ試験後の試料Ｓ４の表面画像を含む。図７ｅは、１０日ＢＳＮ試験後の試料Ｓ５の表面画像を含む。図７ｆは、１０日ＢＳＮ試験後の試料Ｓ６の表面画像を含む。

図７ａ〜７ｆに示されるように、試料Ｓ１〜Ｓ６は、光学画像上で、亀裂の兆候、剥離、及び視覚的な腐食箇所を全く示さなかった。

図８ａは、２１日ＢＳＮ試験後の試料Ｓ１の表面画像を含む。図８ｂは、２１日ＢＳＮ試験後の試料Ｓ２の表面画像を含む。図８ｃは、２１日ＢＳＮ試験後の試料Ｓ３の表面画像を含む。図８ｄは、２１日ＢＳＮ試験後の試料Ｓ４の表面画像を含む。図８ｅは、２１日ＢＳＮ試験後の試料Ｓ５の表面画像を含む。

図８ａ〜８ｅに示されるように、試料Ｓ１〜Ｓ５は、再び、亀裂の兆候、剥離を全く示さなかったが、光学画像上で小さな腐食箇所のみを示した。

比較試料複合積層体
９つの比較試料複合積層体積層体（ＣＳ１〜ＣＳ９）を、上述の方法に従って作製した。９つ全ての試料比較試料複合積層体（ＣＳ１〜ＣＳ９）は、第１の基材層、第１の（すなわち底部）誘電体層、及び第２の（すなわち上部）誘電体層を含む。一般的な層の組成、配置、及び厚さを含む、底部と上部誘電体層との間に位置する各積層体の層の構成は、下記の表３に要約されている。表に列挙される層の順序は、表の下列が比較複合積層体の底部層に対応する比較複合積層体の層の順序を示すことが理解されよう。

１０日ＢＳＮ試験を使用して、及び２１日ＢＳＮ試験を使用して、各試料複合積層体の性能を評価した。ＢＳＮ試験は、規格ＥＮ１０９６２及び上述に従って行った。性能測定値は、シート抵抗（ΔＲＳｑ）及び可視光反射率の進展（ΔＲＬ）を含む。結果を、下記の表４に提供する。

ある特定の比較試料複合積層体積層体の性能を、比較試料複合積層体の表面の光学顕微鏡画像の視覚的評価を通してもまた、評価した。

図９ａは、１０日ＢＳＮ試験後の試料ＣＳ１の表面画像を含む。図９ｂは、１０日ＢＳＮ試験後の試料ＣＳ２の表面画像を含む。図９ｃは、１０日ＢＳＮ試験後の試料ＣＳ３の表面画像を含む。図９ｄは、１０日ＢＳＮ試験後の試料ＣＳ４の表面画像を含む。図９ｅは、１０日ＢＳＮ試験後の試料ＣＳ５の表面画像を含む。図９ｆは、１０日ＢＳＮ試験後の試料ＣＳ６の表面画像を含む。図９ｇは、１０日ＢＳＮ試験後の試料ＣＳ７の表面画像を含む。図９ｈは、１０日ＢＳＮ試験後の試料ＣＳ８の表面画像を含む。図９ｉは、１０日ＢＳＮ試験後の試料ＣＳ９の表面画像を含む。

図９ａ〜９ｉを図７ａ〜７ｆと比較した場合に示されるように、試料ＣＳ１〜ＣＳ９は、本明細書に記載の実施形態に従って形成された試料複合積層体（Ｓ１〜Ｓ６）と比較した場合、１０日後の光学画像上で、亀裂の増加兆候、剥離の増加、及び腐食箇所の増加を示した。

図１０ａは、２１日ＢＳＮ試験後の試料ＣＳ４の表面画像を含む。図１０ｂは、２１日ＢＳＮ試験後の試料ＣＳ５の表面画像を含む。図１０ｃは、２１日ＢＳＮ試験後の試料ＣＳ６の表面画像を含む。

図１０ａ〜１０ｃを図８ａ〜８ｅと比較した場合に再び示されるように、試料ＣＳ４〜ＣＳ６は、本明細書に記載の実施形態に従って形成された試料複合積層体（Ｓ１〜Ｓ６）と比較した場合、２１日後の光学画像上で、亀裂の増加兆候、剥離の増加、及び腐食箇所の増加を示した。

前述の実施形態は、最先端技術分野からの逸脱を表す。とりわけ、本明細書の実施形態の複合安全積層体は、当該技術分野で従来認識されていない特色の組み合わせを含み、性能改善を容易にする。かかる特色としては、これらに限定されないが、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｇ、ＮｉＣｒ、またはそれらの合金のうちのいずれか１つから選択される遮断材料を含み、耐腐食性遮断層に隣接する遮断層を含む二重遮断構造または積層体の使用を含む、複合積層体内の層の特定の構造を含むことができる。本明細書に記載の複合積層体実施形態は、最先端の複合積層体を上回る顕著かつ予想外の改善を実証した。具体的には、低放射率特徴と組み合わせて必要とされるＶＬＴ及びＴＳＥＲ透過率を満たしながら、改善された保護及び耐久性能を示した。

一般的な説明または実施例に上述の全ての機能が必要なのではなく、特定の機能の一部分が必要とされない場合があること、及び記述されたものに加えて１つ以上の更なる機能が実行される場合があることに留意されたい。なお更に、列挙される性能の順序は、実行される順序である必要はない。

利点、他の利益、及び問題の解決策が、特定の実施形態に関連して上述されている。しかしながら、利点、利益、問題の解決策、及びより明白に起こる、または明白になる任意の利点、利益、もしくは解決策を生じ得る任意の特色（複数可）は、任意のもしくは全ての特許請求の決定的な、必要な、または基本的な特色として解釈されるものではない。

本明細書に記載の実施形態の明細書及び図は、様々な実施形態の構造の一般的な理解を提供することを意図する。明細書及び図は、本明細書に記載の構造または方法を使用する装置及びシステムの全ての要素及び特色の包括的かつ総合的な説明として機能することを意図しない。別々の実施形態はまた、単一の実施形態に組み合わせて提供され得、逆に、単一の実施形態の文脈において簡潔に記載される様々な特色もまた、別々に、または任意の下位組み合わせで提供され得る。更に、範囲内に記載の値の参照は、その範囲内の各値及び全ての値を含む。多くの他の実施形態は、本明細書を読んだ後にのみ、当業者には明らかであり得る。本開示の範囲から逸脱することなく、構造的な置換、論理的な置換、または別の変更が行われ得るように、他の実施形態が使用され得、かつ本開示から導出され得る。したがって、本開示は、限定的ではなく例示的であるとみなされるものである。

Claims

複合積層体であって、
第１の基材層と、
銀を含む機能層と、
耐腐食性材料を含む第１の遮断層と、
ＮｉＣｒを含む第２の遮断層と、を含み、
前記第２の遮断層が、前記第１の遮断層に隣接し、
前記複合積層体が、少なくとも約５０％のＶＬＴ、及び少なくとも約３０％のＴＳＥＲを有する、複合積層体。
複合積層体であって、
第１の基材層と、
銀を含む機能層と、
耐腐食性材料を含む第１の遮断層と、
ＮｉＣｒを含む第２の遮断層と、を含み、
前記第２の遮断層が、前記第１の遮断層に隣接し、
前記複合積層体が、約２０％以下の放射率を有する、複合積層体。
複合積層体を形成する方法であって、
第１の基材層を提供することと、
銀を含む機能層を形成することと、
耐腐食性材料を含む第１の遮断層を形成することと、
ＮｉＣｒを含む第２の遮断層を形成することと、を含み、
前記第２の遮断層が、前記第１の遮断層に隣接し、
前記複合積層体が、少なくとも約５０％のＶＬＴ、及び少なくとも約３０％のＴＳＥＲを有する、方法。
前記第１の基材が、ポリマー材料を含む、請求項１、２、及び３のいずれか一項に記載の複合積層体または方法。
前記耐腐食性材料が、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、オスミウム、イリジウム、白金、または金を含む、請求項１、２、及び３のいずれか一項に記載の複合積層体または方法。
前記第１の遮断層が、金からなる、請求項１、２、及び３のいずれか一項に記載の複合積層体または方法。
前記複合積層体が、少なくとも約１０％のＶＬＴを含む、請求項２に記載の複合積層体。
前記複合積層体が、約９９％以下のＶＬＴを含む、請求項１、２、及び３のいずれか一項に記載の複合積層体または方法。
前記複合積層体が、少なくとも約少なくとも約４０％のＴＳＥＲを含む、請求項１、２、及び３のいずれか一項に記載の複合積層体または方法。
前記機能層が、銀からなる、請求項１、２、及び３のいずれか一項に記載の複合積層体または方法。
前記機能層が、少なくとも約５ナノメートルの厚さを有する、請求項１、２、及び３のいずれか一項に記載の複合積層体または方法。
前記機能層が、約４０ナノメートル以下の厚さを有する、請求項１、２、及び３のいずれか一項に記載の複合積層体または方法。
前記複合積層体が、約２０％以下の放射率を有する、請求項１及び３のいずれか一項に記載の複合積層体または方法。
前記第１の遮断層が、約１０ナノメートル以下の厚さを有する、請求項１、２、及び３のいずれか一項に記載の複合積層体または方法。
前記第１の遮断層が、少なくとも約０．１ナノメートルの厚さを有する、請求項１、２、及び３のいずれか一項に記載の複合積層体または方法。